JPH04324668A - リードフレーム - Google Patents

リードフレーム

Info

Publication number
JPH04324668A
JPH04324668A JP9447991A JP9447991A JPH04324668A JP H04324668 A JPH04324668 A JP H04324668A JP 9447991 A JP9447991 A JP 9447991A JP 9447991 A JP9447991 A JP 9447991A JP H04324668 A JPH04324668 A JP H04324668A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
lead frame
die pad
hole
resin
closing member
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP9447991A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2582683B2 (ja
Inventor
Yoshihiro Fujikawa
芳弘 藤川
Kazuhiko Umeda
和彦 梅田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsui High Tec Inc
Original Assignee
Mitsui High Tec Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Mitsui High Tec Inc filed Critical Mitsui High Tec Inc
Priority to JP3094479A priority Critical patent/JP2582683B2/ja
Publication of JPH04324668A publication Critical patent/JPH04324668A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP2582683B2 publication Critical patent/JP2582683B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Encapsulation Of And Coatings For Semiconductor Or Solid State Devices (AREA)
  • Lead Frames For Integrated Circuits (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、リ―ドフレ―ムに係り
、特に、ダイパッドの形状およびその形成に関する。
【0002】
【従来の技術】IC、LSI等の半導体装置の実装に際
して用いられるリ―ドフレ―ムは、鉄系あるいは銅系等
の金属材料からなる板状体をプレス加工又はエッチング
により所望のパタ―ンに成形することによって形成され
る。
【0003】通常、リ―ドフレ―ム1は、図6に示す如
く、半導体集積回路チップ(以下半導体チップ)を搭載
するダイパッド11と、ダイパッドを取り囲むように配
設せしめられた複数のインナ―リ―ド12とインナ―リ
―ド12を一体的に連結するタイバ―13と、各インナ
―リ―ドに連結せしめられタイバ―の外側に伸長するア
ウタ―リ―ド14と、タイバ―13を両サイドから支持
するサイドバ―15,16と、ダイパッド11を支持す
るサポ―トバ―17とから構成されている。
【0004】このようなリ―ドフレ―ムを用いて実装せ
しめられる半導体装置は図7に示す如くであり、リ―ド
フレ―ム1のダイパッド11上に、半導体チップ2を搭
載し、この半導体チップのボンディングパッドとリ―ド
フレ―ムのインナ―リ―ド12とを金線あるいはアルミ
線のボンディングワイヤ3によって結線し、更にこれら
を樹脂やセラミック等の封止材料4で封止した後、タイ
バ―やサイドバ―を切断し、アウタ―リ―ドを所望の形
状に折り曲げて完成せしめられる。
【0005】樹脂封止型の半導体装置の問題点の1つは
、モールド樹脂が吸湿性を有し、吸湿された水分が外部
リードの半田付けの際の熱等によって水蒸気化して膨脹
し、そのためにダイパッドとモールド樹脂との間が剥離
するとともに、ダイパッドのコーナー部分に応力が集中
してモールド樹脂にクラックが発生するという問題であ
る。
【0006】この問題を防止するために、図8(a) 
に示すように、ダイパッドの裏面側に凹部を形成してモ
ールド樹脂との密着性を高めるという方法が提案されて
いる。
【0007】このような凹部の形成方法としては、プレ
ス加工による方法とエッチングによる方法とがある。
【0008】プレス加工による方法では、図8(b) 
に示すように、円錐型の凹部となり、密着性が十分では
なく、また、パンチにより圧縮された素材余肉が解放さ
れないため、リードフレーム全体に歪が残留し変形を生
じることがあるという問題があった。
【0009】またハーフエッチングによって凹部を形成
する方法では図8(c) に示すように、理想的な形状
を得ることができるが、リードフレーム形状をプレス加
工により成形し、凹部のみをエッチングで成形すると、
製造工程が複雑となり製造コストが上昇することになる
【0010】
【発明が解決しようとする課題】このように、ダイパッ
ドの裏面側に凹部を形成しようとすると、エッチングに
よる方法では、製造工程が複雑となり製造コストが上昇
するという問題がある。またプレス加工による方法では
、円錐型の凹部となり、密着性が十分ではない上、パン
チにより圧縮された素材余肉が解放されないため、リー
ドフレーム全体に歪が残留し変形を生じることがある。
【0011】本発明は、前記実情に鑑みてなされたもの
で、製造が容易で、封止樹脂との密着性が高く、信頼性
の高いリ−ドフレ−ムを提供することを目的とする。
【0012】
【課題を解決するための手段】そこで本発明のリ−ドフ
レ−ムでは、ダイパッドに、貫通孔を形成し、この貫通
孔内に金属または樹脂等の閉塞部材を嵌合し、貫通孔を
閉塞することにより実質的な凹部を形成している。
【0013】望ましくは、この貫通孔の形状を周面(輪
郭)波型または断面テーパ状となるように形成している
【0014】また望ましくは、この貫通孔は複数個配設
するようにしている。
【0015】さらに望ましくは、この閉塞部材は、貫通
孔の深さよりも肉薄の材料で形成され、ダイパッドの裏
面側にこの貫通孔が開口するように、埋め込まれるよう
にしている。
【0016】
【作用】上記構造によれば、プレス加工によって貫通孔
を形成し、これに肉薄の充填物を嵌合すればよいため、
加工が容易で、かつ歪の発生のない良好な凹凸部を得る
ことが可能となる。
【0017】また、この貫通孔の形状を周面波型または
断面テーパ状となるように形成することにより、閉塞部
材の嵌合が容易である。また、閉塞部材が貫通孔よりも
浅く埋め込まれている場合には、実装に際し、貫通孔の
内側での樹脂との接触面積が増大し、密着性が向上する
【0018】さらにまた、貫通孔を複数個配設すること
により、さらに樹脂との密着性が向上する。
【0019】さらに、閉塞部材を、貫通孔の深さよりも
肉薄の材料で形成し、ダイパッドの裏面側にこの貫通孔
が開口するように、埋め込むようにすれば、ダイパッド
の裏面に良好な凹部が形成されることになり、理想的な
密着状態を得ることが可能となる。
【0020】
【実施例】以下、本発明の実施例について、図面を参照
しつつ詳細に説明する。
【0021】本発明実施例のリ―ドフレ―ムは、図1(
a) に平面図、図1(b) に断面図を示すように、
ダイパッドに表面側の開口面積が小さくなるように多数
個の貫通孔21を形成し、この貫通孔21内にリードフ
レーム形成素材と同一材料の閉塞部材22を裏面側から
充填し、嵌合させたことをたことを特徴とするものであ
る。 他の部分については、従来のリードフレームとまったく
同様に形成されている。すなわち、半導体チップを搭載
するダイパッド11と、ダイパッドを取り囲むように配
設せしめられた複数のインナ―リ―ド12とインナ―リ
―ド12を一体的に連結するタイバ―13と、各インナ
―リ―ドに連結せしめられタイバ―の外側に伸長するア
ウタ―リ―ド14と、タイバ―13を両サイドから支持
するサイドバ―15,16と、ダイパッド11を支持す
るサポ―トバ―17とから構成されている。このリード
フレーム形成素材および閉塞部材はいずれもアロイ42
と指称されている鉄−ニッケル合金から構成されており
、リードフレーム形成素材の肉厚は0.15mm、閉塞
部材の肉厚は0.08mmとする。
【0022】そして、図2にこのリードフレームを用い
て形成した半導体装置を示すように、閉塞部材22で閉
塞されて実質的に凹部となった貫通孔21内に、樹脂を
流し込むことができ、密着性が大幅に向上し、また断面
がテーパをなしているため樹脂が抜けにくい状態となっ
ている。
【0023】次に、このリ−ドフレ−ムの製造方法につ
いて説明する。
【0024】まず、帯状材料を順送り金型に設置し、リ
ード間領域の打ち抜きを行い、インナ―リ―ド12およ
びアウターリード14の側縁をパタ―ニングする。
【0025】次いで、インナーリード先端を互いに接続
する連結片を残してインナーリード先端とダイパッドの
間のキャビテイ領域の打ち抜きを行い、さらに、この金
型内において図3(a) に示すように、ダイDとパン
チPとの間のクリアランスCを大きくし、打ち抜きを行
うことによって断面がテーパ状をなる貫通孔21を形成
する。
【0026】続いて、インナーリード先端の連結片を除
去し、さらに必要に応じてメッキ工程等を経てリ−ドフ
レ−ム本体が形成される。
【0027】そして図3(b) に示すように、貫通孔
21内に板厚の薄い材料を打ち抜くことによってあらか
じめ形成された閉塞部材22をプッシュバックBにより
保持しておき、リードフレーム本体の貫通孔21内に閉
塞部材22を嵌合せしめる。なお、この図ではインナー
リード等のリード部を省略し、ダイパッドのみについて
示した。
【0028】このようにして図1に示したようなリード
フレームが完成する。
【0029】このリ―ドフレ―ムは、図2に示すように
リ―ドフレ―ム1のダイパッド11上に、半導体チップ
2を搭載し、この半導体チップのボンディングパッドと
リ―ドフレ―ムのインナ―リ―ド12とを金線あるいは
アルミ線のボンディングワイヤ3によって結線し、更に
これらを樹脂やセラミック等の封止材料4で封止した後
、タイバ―やサイドバ―を切断し、アウタ―リ―ドを所
望の形状に折り曲げて完成せしめられるが、樹脂封止に
際して、閉塞部材22によって実質的に凹部となった貫
通孔21内にも樹脂が充填されて硬化するため、密着性
が良好となり、またこの段面がテーパ状をなしているた
め、剥離しにくい状態となり信頼性の向上をはかること
ができる。
【0030】なお、実施例では、順送り金型を用いて、
プレスを行ったが、1つの金型で一度に全体の形状を形
成するようにしてもよい。
【0031】また、成型順序についても、実施例に限定
されることなく、リードフレームの形状加工の完了後貫
通孔の打ち抜きを行っても良いし、またキャビティ領域
の打ち抜き前に、適宜変更可能である。
【0032】加えて、前記実施例では、ダイパッドとリ
ード部とを一体的に形成したリードフレームについて説
明したが、ダイパッドとリード部とを別に成形し、後に
係合せしめるようにしてもよい。
【0033】さらに、この貫通孔の位置及び形状につい
ては、実施例に限定されることなく適宜変形可能である
。この貫通孔は断面テーパ状をなすように形成したが、
この方が閉塞部材の嵌合が容易であるが、断面垂直でも
よいことはいうまでもない。また、閉塞部材としては、
金属に限定されることなく、樹脂等他の材料を用いても
よいことはいうまでもない。
【0034】図4および図5に本発明の他の実施例を示
す。
【0035】図4は、貫通孔31の形状を周面波型とし
、閉塞部材32を貫通孔よりも浅く埋め込むようにした
ものである。なおここでは、ダイパッドの要部拡大断面
のみを示す。かかる構成により、実装に際し、貫通孔の
内側での樹脂との接触面積が増大し、密着性が向上する
図5は、貫通孔41よりも突出するように閉塞部材42
を埋め込むようにしたものである。
【0036】
【発明の効果】以上説明してきたように、本発明によれ
ば、リードフレームのダイパッドに貫通孔を形成し、こ
の孔に閉塞部材を充填し実質的に凹部(凹凸部)を形成
しているため、樹脂との密着性が良好となり、信頼性の
高い半導体装置を得ることが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明実施例のリードフレームを示す図
【図2
】本発明実施例のリードフレームを用いた半導体装置を
示す図
【図3】本発明実施例のリードフレームの製造工程を示
す図
【図4】本発明の他の実施例のリードフレームを示す図
【図5】本発明の他の実施例のリードフレームを示す図
【図6】従来例のリードフレームを示す図
【図7】従来
例のリードフレームを用いた半導体装置を示す図
【図8】従来例のリードフレームの製造工程の一部を示
す図
【符号の説明】
1  リードフレーム 2  半導体チップ 3  ワイヤ 4  封止材料、 11  ダイパッド 12  インナーリード 13  タイバー 14  アウターリード 15  サイドバー 16  サイドバー 17  サポートバー 21  貫通孔 22  閉塞部材 31  貫通孔 32  閉塞部材 41  貫通孔 42  閉塞部材

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】  半導体チップを搭載するダイパッドと
    、前記ダイパッドを取り囲むように形成された複数のリ
    −ドとを具備したリードフレームにおいて、前記ダイパ
    ッドが、少なくとも1つの貫通孔を有し、この貫通孔内
    に金属または樹脂等の閉塞部材が嵌合せしめられ、この
    貫通孔を閉塞することにより実質的な凹部を形成してい
    ることを特徴とするリードフレーム。
  2. 【請求項2】  前記貫通孔は、周面波型または断面テ
    ーパ状をなすように形成されていることを特徴とする請
    求項(1) 記載のリードフレーム。
  3. 【請求項3】  前記閉塞部材は、貫通孔の深さよりも
    肉薄の材料で形成され、ダイパッドの裏面側にこの貫通
    孔が開口するように、埋め込まれていることを特徴とす
    る請求項(1) または請求項(2) 記載のリードフ
    レーム。
JP3094479A 1991-04-24 1991-04-24 リードフレーム Expired - Fee Related JP2582683B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP3094479A JP2582683B2 (ja) 1991-04-24 1991-04-24 リードフレーム

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP3094479A JP2582683B2 (ja) 1991-04-24 1991-04-24 リードフレーム

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH04324668A true JPH04324668A (ja) 1992-11-13
JP2582683B2 JP2582683B2 (ja) 1997-02-19

Family

ID=14111416

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP3094479A Expired - Fee Related JP2582683B2 (ja) 1991-04-24 1991-04-24 リードフレーム

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2582683B2 (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7029256B2 (en) * 2001-10-02 2006-04-18 Micron Technology, Inc. Leadframe and method for removing cleaning compound flash from mold vents
US7264456B2 (en) 2001-10-10 2007-09-04 Micron Technology, Inc. Leadframe and method for reducing mold compound adhesion problems

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH01253926A (ja) * 1988-04-04 1989-10-11 Mitsui Toatsu Chem Inc 半導体装置のリードフレーム
JPH02246359A (ja) * 1989-03-20 1990-10-02 Fujitsu Ltd 半導体装置

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH01253926A (ja) * 1988-04-04 1989-10-11 Mitsui Toatsu Chem Inc 半導体装置のリードフレーム
JPH02246359A (ja) * 1989-03-20 1990-10-02 Fujitsu Ltd 半導体装置

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7029256B2 (en) * 2001-10-02 2006-04-18 Micron Technology, Inc. Leadframe and method for removing cleaning compound flash from mold vents
US7264456B2 (en) 2001-10-10 2007-09-04 Micron Technology, Inc. Leadframe and method for reducing mold compound adhesion problems

Also Published As

Publication number Publication date
JP2582683B2 (ja) 1997-02-19

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US7247931B2 (en) Semiconductor package and leadframe therefor having angled corners
JP2000294711A (ja) リードフレーム
JP4118353B2 (ja) 樹脂封止型半導体装置の製造方法およびモールド金型
JPH04324668A (ja) リードフレーム
JPH08318328A (ja) リード切断用金型
JPH0661401A (ja) リードフレームおよびその製造方法
JP2527503B2 (ja) リ―ドフレ―ムおよびその製造方法
JPH07335815A (ja) リードフレーム及びこれを用いた半導体装置
JP2582682B2 (ja) リードフレームおよびその製造方法
JP2648353B2 (ja) リードフレームの製造方法
JP2700902B2 (ja) リードフレームの製造方法
JPH0444255A (ja) リードフレームの製造方法
JPH10154784A (ja) リードフレームの製造方法
JPH03159163A (ja) リードフレーム
JP3062671B2 (ja) リードフレームおよびリードフレームの製造方法
JPS6223094Y2 (ja)
JPH0689960A (ja) 半導体素子用リードフレーム
JP2001127232A (ja) リードフレーム及びその製造方法
JPH02265721A (ja) 半導体装置用封入金型
JP2552139Y2 (ja) リードフレーム
JPH08264702A (ja) 半導体装置のリードフレーム及びこれを用いた半導体装置
JPH0236557A (ja) リードフレームおよびそれを用いた半導体装置
JP2001284517A (ja) 半導体装置用リードフレーム及びその製造方法
JPH01144661A (ja) リードフレームの製造方法
JPH06151681A (ja) 半導体装置の製造方法およびその製造において用いるリードフレーム

Legal Events

Date Code Title Description
R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20071121

Year of fee payment: 11

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20081121

Year of fee payment: 12

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20091121

Year of fee payment: 13

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20091121

Year of fee payment: 13

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20101121

Year of fee payment: 14

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees