JPH04308588A - コレステロール減少剤 - Google Patents

コレステロール減少剤

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JPH04308588A
JPH04308588A JP3361152A JP36115291A JPH04308588A JP H04308588 A JPH04308588 A JP H04308588A JP 3361152 A JP3361152 A JP 3361152A JP 36115291 A JP36115291 A JP 36115291A JP H04308588 A JPH04308588 A JP H04308588A
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JP
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methyl
hydrogen
lower alkyl
compound
cis
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JP3361152A
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English (en)
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Keith A M Walker
ケイス エイ.エム.ウオーカー
Pamela M Burton
パメラ エム.バートン
David C Swinney
デビッド シー.スウィニィ
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Syntex USA LLC
Original Assignee
Syntex USA LLC
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】発明の背景発明の分野本発明は、高コレス
テロール血症で特徴づけられる病的状態を有する哺乳動
物の処置に有用な、1,3−ジオキソラン誘導体に関す
る。
【0002】先行技術ケトコナゾールは、抗かび活性を
有する抗生物質として有用な1,3−ジオキソラン誘導
体であり、コレステロールの合成を阻害することが知ら
れている〔たとえば、J.Lipid.Res.29:
43〜51,1988;Am.J.Med.80:61
6〜621,1986;Eur.J.Clin.Pha
rmacol.29:241〜245,1985;J.
Pharmacol.Exp.Ther.238(3)
:905−911,1986参照〕。他の1,3−ジオ
キソラン誘導体であるエクタコナゾールの個々のエナン
チオーマーの抗かび活性が、Pesticide  C
hemistry,HumanWelfare  an
d  the  Environment,Pro.I
nt.Congr.Pestic.Chem.5th(
1983)、第1巻、303〜308頁に記載されてい
る。抗かび剤、抗細菌剤および抗癌剤として有用な様々
の1,3−ジオキソラン誘導体が、米国特許第4,07
8,071号(Syntex);4,144,346号
(Janssen);4,321,272号(Synt
ex);4,335,125号(Janssen);4
,359,475号(Syntex);4,375,4
74号(Syntex);4,490,540号(Ja
nssen);4,518,607号(Syntex)
;および欧州公告特許出願第0  052  905号
(Janssen)に開示されている。ある種の2−(
イミダゾール−1−イル)メチル−2−(2−フェニル
エチル)−4−(フェノキシメチル)−1,3−ジオキ
ソラン誘導体の殺精子活性が、J.Androl.8:
230〜237,1987およびMale  Cont
raception:Advances  and  
Future  Prospects(1985)、第
25章、271〜292頁に記載されている。類似の誘
導体の抗寄生虫活性がAm.J.Trop.Med.H
yg.37(2):308〜313,1987に開示さ
れている。これらの開示および本明細書に引用された他
のすべての文献の記載を、参考として全文を本明細書に
導入する。
【0003】発明の要約本発明は、その一態様として、
高コレステロール血症によって特徴づけられる病的状態
を有する哺乳動物を処置する方法において、その必要が
ある動物に、式(I)
【化13】 〔式中、nは2または3であり;pは0、1または2で
あり;qは0、1または2であり;xは酸素またはS(
O)t(tは0、1または2である)であり;R1はそ
れぞれ独立に、ハロ、低級アルキル、低級アルコキシ、
またはトリフルオロメチルであり;R2はそれぞれ独立
に、ハロまたは低級アルキルであり;R3はニトロまた
は−N(R5)R6(この場合、R5は水素もしくは低
級アルキルであり、R6は水素、低級アルキル、低級ア
ルキルスルホニルもしくは−C(Y)R7であり、Yは
酸素もしくは硫黄であり、R7は水素、低級アルキル、
低級アルコキシもしくは−N(R8)R9であり、R8
は水素もしくは低級アルキルで、R9は水素、低級アル
キルもしくは低級アルコキシカルボニルであるか、また
は、R5とR6は窒素原子とともに、ピロリジノ、ピペ
リジノ、モルホリノ、チオモルホリノもしくはピペラジ
ノであり、この場合ピペラジノはその4位が任意に−C
(O)R10で置換されていて、R10は水素、低級ア
ルキル、低級アルコキシもしくはアミノである)であり
;R4は水素または低級アルキルである〕で示される化
合物の治療的有効量を、単一の立体異性体もしくはそれ
らの混合物、またはそれらの医薬的に許容される塩とし
て投与することを特徴とする方法を提供する。
【0004】本発明は他の態様として、上に定義した式
(I)の化合物の治療的有効量を、単一の立体異性体も
しくはそれらの混合物、またはそれらの医薬的に許容さ
れる塩として、さらに医薬的に許容される賦形剤ととも
に含有することを特徴とする、高コレステロール血症で
特徴づけられる病的状態を有する哺乳動物の処置に有用
な医薬組成物を提供する。
【0005】本発明は他の態様として、式(I)におい
てn、p、q、R1、R2、R3およびR4は上に定義
した通りであり、XはS(O)t(tは0、1または2
である)である化合物を、単一の立体異性体もしくはそ
れらの混合物、またはそれらの医薬的に許容される塩と
して提供する。
【0006】本発明は他の態様として、式(I)におい
てn、p、q、R1、R2およびR4は上に定義した通
りであり、Xは酸素であり、R3はニトロまたは−N(
R5)R6であり、この場合R5は水素もしくは低級ア
ルキルであり;R6は水素、低級アルキル、低級アルキ
ルスルホニルもしくは−C(Y)R7であり、Yは酸素
もしくは硫黄であり、R7は水素、低級アルキルもしく
は−N(R8)R9であり、R8は水素もしくは低級ア
ルキルであり、R9は水素、低級アルキルもしくは低級
アルコキシカルボニルであるか;またはR5とR6は窒
素原子とともにモルホリノ、チオモルホリノもしくはピ
ペラジノであり、この場合ピペラジノはその4位が−C
(O)R10で任意に置換されていて、R10は水素、
低級アルキル、低級アルコキシもしくはアミノである化
合物を、単一の立体異性体もしくはそれらの混合物、ま
たはそれらの医薬的に許容される塩として提供する。
【0007】本発明は他の態様として、式(I)の化合
物を、単一の立体異性体もしくはそれらの混合物、また
はそれらの医薬的に許容される塩として製造する方法を
提供する。
【0008】 3、
【発明の詳細な説明】
定義本願明細書および特許請求の範囲において用いられ
る以下の語は、とくにそうでない旨の指示がない限り、
以下の意味を有する。「低級アルキル」の語は、炭素と
水素のみからなり、不飽和結合を含まず、炭素原子1〜
4個を有する直鎖状または分岐状の1価の基を意味し、
たとえばメチル、エチル、n−プロピル、1−メチルエ
チル、n−ブチル、1,1−ジメチルエチル、1−メチ
ルプロピル等である。
【0009】「低級アルコキシ」の語は、式ORa(R
aは上に定義した低級アルキルである)で示される基を
意味し、たとえばメトキシ、エトキシ、n−プロポキシ
、1−メチルエトキシ、n−ブトキシ等である。
【0010】「ハロ」の語は、ハロゲンラジカル、すな
わちフルオロ、クロロ、ブロモまたはヨードを意味する
【0011】「アミノ」の語は、基−NH2を意味する
。「低級モノアルキルアミノ」の語は、上に定義した低
級アルキル基1個で置換されている上に定義したアミノ
基を意味し、たとえばメチルアミノ、エチルアミノ、n
−プロピルアミノ、n−ブチルアミノ、2,2−ジメチ
ルエチルアミノ等である。「低級ジアルキルアミノ」の
語は、上に定義した低級アルキル基2個で置換されてい
る上に定義したアミノ基を意味し、たとえばジメチルア
ミノ、ジエチルアミノ、ジ−n−プロピルアミノ、ジ−
n−ブチルアミノ等である。
【0012】「アセチル」の語は、基−C(O)CH3
を意味する。「アセトアミド」の語は、基−NHC(O
)CH3を意味する。「アミノカルボニルアミノ」の語
は、基−NHC(O)NH2を意味する。「アミノチオ
カルボニルアミノ」の語は、基−NHC(S)NH2を
意味する。
【0013】「低級アルキルスルホニル」の語は、式−
S(O)2Rb(式中、Rbは上に定義した低級アルキ
ルである)で示される基を意味し、たとえばメチルスル
ホニル、エチルスルホニル、n−プロピルスルホニル、
n−ブチルスルホニル、2−メチルプロピルスルホニル
等である。
【0014】「低級アルコキシカルボニル」の語は、式
−C(O)Rc(式中、Rcは上に定義した低級アルコ
キシである)で示される基を意味し、たとえばメトキシ
カルボニル、エトキシカルボニル、n−プロポキシカル
ボニル、n−ブトキシカルボニル、2−メチルプロポキ
シカルボニル等である。
【0015】「低級アルコキシカルボニルアミノ」の語
は、式−NHRd(式中、Rdは上に定義した低級アル
コキシカルボニルである)で示される基を意味し、たと
えばメトキシカルボニルアミノ、エトキシカルボニルア
ミノ、n−プロポキシカルボニルアミノ、n−ブトキシ
カルボニルアミノ、2−メチルプロポキシカルボニルア
ミノ等である。
【0016】「低級アルキルスルホニルアミノ」の語は
、式−NHRe(式中、Reは上に定義した低級アルキ
ルスルホニルである)で示される基を意味し、たとえば
メチルスルホニルアミノ、エチルスルホニルアミノ、n
−プロピルスルホニルアミノ、n−ブチルスルホニルア
ミノ、2−メチルプロピルスルホニルアミノ等である。
【0017】「アルカノール」の語は、炭素原子1〜1
0個を有する分岐状または直鎖状の脂肪族炭化水素にお
いて1個のヒドロキシル基が結合している化合物を意味
する。
【0018】「立体異性体」の語は、同一の分子式およ
び結合の性質または配列を有するが、それらの原子の空
間的配置が異なる化合物を意味する。「エナンチオーマ
ー」の語は、互いに鏡像の関係にある立体異性体を意味
する。「ジアステレオーマー」の語は、互いに鏡像の関
係にない立体異性体を意味する。
【0019】「離脱基」の語は、求核反応において置換
可能な基を意味し、たとえば、ハロたとえばブロモ、ア
リールもしくはアルキルスルホネートエステルたとえば
メシルもしくはトシルエステルである。本発明の目的に
おいて好ましい離脱基はメシルおよびトシルエステルで
ある。
【0020】「任意に」の語は、以下の記述事項または
環境が起こっても起こらなくてもよいことを意味し、そ
の記述はその事項もしくは環境が起こった場合およびそ
れが起こらなかった場合の両者を包含する。
【0021】「医薬的に許容される塩」の語は、本発明
の遊離塩基の生物学的有効性および特性を維持し、しか
も生物学的にまたはその他の点で望ましくない性質をも
たない、それらの塩を意味する。これらの塩は、無機酸
たとえば塩酸、臭化水素酸、硫酸、硝酸、リン酸等、ま
たは有機酸たとえば酢酸、シュウ酸、プロピオン酸、グ
リコール酸、ピルビン酸、マロン酸、コハク酸、リンゴ
酸、マレイン酸、フマール酸、酒石酸、クエン酸、安息
香酸、桂皮酸、マンデル酸、メタンスルホン酸、エタン
スルホン酸、p−トルエンスルホン酸等のいずれからも
製造できる。
【0022】「哺乳動物」の語は、ヒトならびにすべて
の家畜もしくは愛頑動物および野性動物を包含する。た
とえば、ウシ、ウマ、ブタ、ヒツジ、ヤギ、イヌ、ネコ
等であるが、これらに限定されるものではない。
【0023】「高コレステロール血症」の語は、血中に
過剰量のコレステロールが存在する状態を意味する。
【0024】「治療的有効量」の語は、式(I)の化合
物を、それを必要とする哺乳動物に投与した場合、高コ
レステロール血症によって特徴づけられる病的状態に対
する以下に定義する処置の効果が十分に達成される式(
I)の化合物の量を意味する。「治療的有効量」となる
式(I)の化合物の量は、化合物、病的状態とその重症
度、処置される哺乳動物に依存して変動するが、本技術
分野の通常の熟練者には彼ら自身の知識および本明細書
の開示に基づいて定常的に決定できるものである。
【0025】本明細書において用いられる「処置」の語
は、哺乳動物とくにヒトにおける、高コレステロール血
症によって特徴づけられる病的状態の処置を意味し、(
i)この病的状態が予知されるがまだその病的状態にあ
るとは診断されていない哺乳動物におけるその病的状態
の発症の予防、(ii)その病的状態の阻止、すなわち
その進展の停止、または(iii)その病的状態の緩解
、すなわちその病的状態からの回復を包含する。
【0026】本明細書に記載した各反応の収率は理論量
に対する百分率として示す。
【0027】本明細書において使用する命名法は、基本
的に、IUPACの改良命名法によるものであり、本発
明の化合物は1,3−ジオキソランの誘導体として命名
されている。この化合物における位置には、次のように
番号が付されている。
【化14】
【0028】式(I)の化合物はその構造内に少なくと
も2個の不斉炭素原子を、すなわちジオキソラン環の2
−炭素および4−炭素にもっている。したがって、4種
の異なる立体異性体としてとくに2対のエナンチオーマ
ーとして存在する。式(I)においてXがS(O)tで
あり、tが1である化合物は、さらに硫黄原子に不斉中
心をもっている。これらの異性体のすべて、またはそれ
らの医薬的に許容される塩は、本発明の範囲内に包含さ
れるものである。
【0029】本発明の目的においては、式(I)の化合
物の異性体に関連して単独で用いられ場合の「混合物」
の語は、その異性体のラセミ、非ラセミおよびジアステ
レオーマー混合物を包含する。
【0030】C−4置換基およびC−2イミダゾリルメ
チル置換基がジオキソラン環の平面の同じ側にある一対
のエナンチオーマー、たとえば式(IC)および(If
【化15】 の化合物は、本明細書においては、式(I)の化合物の
シス−エナンチオーマーと呼ぶことにする。
【0031】C−4置換基とC−2イミダゾリルメチル
置換基が、ジオキソラン環の面に対して逆の側にあるエ
ナンチオーマー、たとえば式(Id)および(Ie)

化16】 の化合物は、本明細書においては、式(I)の化合物の
トランス−エナンチオーマーと呼ぶことにする。
【0032】絶対配置記号、RまたはSは、Cahn,
IngoldおよびPrelogの「順位則」に従って
、個々のエナンチオーマーにおけるキラル中心に帰属さ
せることができる。
【0033】本発明のために、式(I)のシス−エナン
チオーマーのラセミ混合物およびそれらの中間体は、本
明細書においては、記号(±)および単一の2S−シス
−エナンチオーマーの式で指示される。たとえば、式(
Ia)の化合物は、式(Ic)と(If)の化合物のラ
セミ混合物であり、本明細書においては(±)の記号お
よび式(Ic)(2S−シス−エナンチオーマーの式)
で指示される。同様に、式(I)のトランス−エナンチ
オーマーのラセミ混合物およびそれらの中間体は、本明
細書においては、記号(±)および単一の2S−トラン
ス−エナンチオーマーの式によって指示される。たとえ
ば、式(Ib)の化合物は、式(Id)と(Ie)の化
合物のラセミ混合物であり、本明細書においては、(±
)の記号および式(Ie)(2S−トランス−エナンチ
オーマーの式)によって指示される。たとえば、式(I
)においてnが2、pが1、qが0、Xが−S(O)t
でtが0、R1が4位のクロロ、R3が4位における−
NH2、R4が水素である化合物のシス−エナンチオー
マーのラセミ混合物は、本明細書においては、(±)−
シス−2−(2−(4−クロロフェニル)エチル)−2
−(イミダゾール−1−イル)メチル−4−(4−アミ
ノフェニルチオ)メチル−1,3−ジオキソランと命名
され、一方、個々のシス−エナンチオーマーは、(2S
,4S)−シス−2−(2−(4−クロロフエニル)エ
チル)−2−(イミダゾール−1−イル)メチル−4−
(4−アミノフェニルチオ)メチル−1,3−ジオキソ
ランおよび(2R,4R)−シス−2−(2−(4−ク
ロロフエニル)エチル)−2−(イミダゾール−1−イ
ル)メチル−4−(4−アミノフェニルチオ)メチル−
1,3−ジオキソランと呼ばれる。
【0034】4−炭素に対する絶対配置記号、Rおよび
Sの帰属は式(I)の「X」置換基に依存し、シスまた
はトランスコンフィギュレーションを反映するものでは
ないことに注意すべきである。
【0035】式(I)の(±)−シスラセミ体は、相当
する式(I)の(±)−トランスラセミ体から様々な方
法、たとえば選択的結晶化もしくはクロマトグラフィー
および/または本明細書に開示する方法によって分離で
きる。式(I)の個々のエナンチオーマーは、本技術分
野の通常の熟練者によく知られた慣用方法、たとえば式
(I)の化合物または適当な中間体の、光学活性な酸と
のジアステレオーマー塩の結晶化により分割できる。別
法として、式(I)の個々のエナンチオーマーは、本明
細書に記載するように、キラル試薬を用いて、または物
理的分離とキラル合成を組合せて製造できる。
【0036】有用性および投与A.有用性式(I)の化
合物はその医薬的に許容される塩を含めて、またそれら
を含有する組成物は、コレステロールの合成を阻害し、
したがって高コレステロール血症によって特徴づけられ
る病的状態の処置に有用である。とくに、式(I)の化
合物は、ラノステロール14α−デメチラーゼ、シトク
ロームP−450酵素を阻害することにより、コレステ
ロールの合成を阻害する。式(I)のある種の化合物、
とくに、ジオキソラン環の2−炭素がS−コンフィギュ
レーションをもつ化合物は、精巣および副腎のステロイ
ド合成およびコレステロール分解に寄与するとくに他の
シトクロームP−450酵素を阻害するよりも、ラノス
テロール14α−デメチラーゼの阻害作用が強い。した
がって、これらの化合物は、シトクロームP−450鍵
酵素の生理機能への作用は最小限に抑えて、高コレステ
ロール血症によって特徴づけられる病的状態を処置する
のに有用である。
【0037】B.試験式(I)の化合物の効果的なコレ
ステロール合成阻害能は、本技術分野の通常の熟練者に
はよく知られている様々なin  vitroアッセイ
で測定することができる(たとえばKraemerら、
J.Pharmacol.Exp.Ther.238:
905、1986参照)。さらに、式(I)のある種の
化合物、とくにジオキソラン環の2−炭素がnコンフィ
ギュレーションをもつ化合物が、他のシトクロームP−
450酵素たとえばコレステロール7α−ヒドロキシラ
ーゼ、プロゲステロン17α/20リアーゼ、デオキシ
コルチコステロン11β−ヒドロキシラーゼおよびエス
トロゲンシンターゼよりもラノステロール14αのデメ
チラーゼを有効に阻害することは、たとえば、Boss
ard,M.J.ら、Bioorg.Chem.17:
385〜399、1989;TrzaskoV,J.M
.ら、J.Biol.Chem.261:16937〜
16942、1986;Myant,N.B.ら、J.
Lipid  Res.18:135〜153,197
7;Hylemon,P.B.ら,Anal.Bioc
hem.182:212〜216,1989;Scha
tzman,G.L.ら,Anal.Biochem.
175:219〜226,1988;Nakajin,
S.ら,J.Biol.Chem.256:3871〜
3876,1981;Yanagibashi,K.ら
,J.Biol.Chem.261:3556〜356
2またはThompson,Jr.,E.A.ら,J.
Biol.Chem.249:5364〜5372,1
974に記載のアッセイ、あるいはそれらの改良法を用
いて測定することができる。
【0038】式(I)の化合物が効果的に血清コレステ
ロールを低下させる能力も、よく知られたin  vi
voアッセイ、とくにヒトにおけるコレステロール合成
および分解の生理学的経路をもつ動物モデルを使用する
in  vivoアッセイ(たとえばBurton,P
.M.ら,Comp.Biochem.Physiol
.92:667,1989参照)によって証明できる。 血清を採集し、コレステロール濃度を、とくに市販のた
とえばSigma  Cemical  Co.の診断
キットを用いて検定する。このようなキットは一般に、
血清コレステロールレベルを測定するために、Alla
in,C.A.ら,Clin.Chem.20:470
,1974に記載された方法の改良法を利用するもので
ある。
【0039】C.一般的投与法式(I)の化合物または
その医薬的に許容される塩の純粋な形またはそれらの適
当な医薬組成物としての投与は、類似の有用性を有する
薬剤の投与様式として許容されている任意の様式で行う
ことができる。すなわち、投与は、たとえば経口、経鼻
、非経口、局所、経皮または経直腸的に、固体、半固体
、凍結乾燥粉末または液体の剤形、たとえば錠剤、坐剤
、丸剤、軟質および硬質カプセル、散剤、液剤、懸濁剤
、エアゾル剤等として、好ましくは正確な投与量の簡単
な投与に適当な単位剤形として行われる。組成物には、
慣用の医薬用担体または賦形剤、および単独のまたは1
種の活性成分としての式(I)の化合物を含有させるが
、さらに他の薬剤、製剤用成分、担体、アジュバント等
を包含させることもできる
【0040】一般的には、意図された投与様式に応じて
、医薬として許容される組成物は、式(I)の化合物1
種もしくは2種以上またはその医薬的に許容される塩、
約1〜99重量%、および適当な医薬用賦形剤99〜1
重量%を含有する。組成物は好ましくは、式(I)の化
合物1種もしくは2種以上またはその医薬的に許容され
る塩約5〜75重量%を含有し、残部は適当な医薬用賦
形剤とする。
【0041】好ましい投与経路は経口であり、処置され
る高コレステロール血症の程度に応じて調整される簡便
な1日投与量基準が用いられる。このような経口投与用
には、式(I)の化合物1種もしくは2種以上またはそ
の医薬的に許容される塩を含有する医薬的に許容される
組成物は、任意の通常用いられる賦形剤たとえば医薬用
のマニトール、乳糖、デンプン、ゼラチン化デンプン、
ステアリン酸マグネシウム、サッカリンナトリウム、タ
ルク、セルロースエーテル誘導体、グルコース、ゼラチ
ン、スクロース、クエン酸塩、没食子酸プロピル等を加
えて形成させる。このような組成物は、液剤、懸濁剤、
錠剤、丸剤、カプセル剤、散剤、持続放出製剤等の形態
とする。
【0042】このような組成物は好ましくはカプセル剤
、カシュー剤または錠剤の形態とする。したがって、希
釈剤たとえば乳糖、スクロース、リン酸二カルシウム等
、崩壊剤たとえばクロスカルメロースナトリウムまたは
その誘導体、滑沢剤たとえばステアリン酸マグネシウム
等、結合剤たとえばデンプン、アラビアゴム、ポリビニ
ルピロリドン、ゼラチン、セルロースエーテル誘導体等
も含有させる。
【0043】式(I)の化合物またはその医薬的に許容
される塩は、たとえば体内で徐々に溶解する担体たとえ
ばポリオキシエチレングリコールおよびポリエチレング
リコール(PEG)、たとえばPGE1000(96%
)およびPEG4000(4%)に活性成分約0.5%
〜約50%を分散して用いる坐剤に製剤化することもで
きる。
【0044】医薬として投与できる液体組成物は、たと
えば、式(I)の化合物1種もしくは2種以上(約0.
5%〜約20%)、またはその医薬的に許容される塩、
および任意の医薬アジュバントを、担体たとえば水、食
塩水、デキストロース水溶液、グリセロール、エタノー
ル等中に、溶解、分散させるなどの処理を行い、溶液ま
たは懸濁液の形態とすることによって製造できる。
【0045】本発明の医薬組成物には、所望により少量
の補助物質、たとえば湿潤剤または乳化剤、pH緩衝剤
、抗酸化剤等、たとえばクエン酸、ソルビタンモノラウ
レート、トリエタノールアミンオレエート、ブチル化ヒ
ドロキシトルエン等を加えることもできる。
【0046】このような剤形の実際の製造方法は、本技
術分野の熟練者にはよく知られているか、または明らか
になろう(たとえば、Remington’s  Ph
armaceutical  Sciences,18
版,Mack  Publishing  Compa
ny,Easton,Pennsylvania,19
90参照)。投与される組成物は、いずれにしても、本
発明の教示に従って投与された場合、高コレステロール
血症の緩解の目的で治療的有効量の式(I)の化合物1
種もしくは2種以上、またはその医薬的に許容される塩
を含有する。
【0047】一般的に、式(I)の化合物またはその医
薬的に許容される塩は、個人および処置される高コレス
テロール血症によって特徴づけられる病的状態に依存し
て変動する治療有効量で投与される。通常、治療有効1
日用量は、体重1kgあたり、式(I)の化合物約0.
14mg〜約14.3mg/日であり、好ましくは体重
1kgあたり約0.7mg〜約10mg/日、最も好ま
しくは体重1kgあたり約1.4mg〜約7.2mg/
日である。たとえば、体重70kgのヒトに投与する場
合、式(I)の化合物またはその医薬的に許容される塩
の用量範囲は、1日約10mg〜約1.0g、好ましく
は1日約50mg〜約700mg、最も好ましくは1日
約100mg〜約500mgである。
【0048】好ましい実施態様本発明の一態様は、式(
I)
【化17】 〔式中、nは2または3であり;pは0、1または2で
あり;qは0、1または2であり;Xは酸素またはS(
O)t、(tは0、1または2である)であり;R1は
それぞれ独立に、ハロ、低級アルキル、低級アルコキシ
、またはトリフルオロメチルであり;R2はそれぞれ独
立に、ハロまたは低級アルキルであり;R3はニトロま
たは−N(R5)R6(この場合、R5は水素もしくは
低級アルキルであり、R6は水素、低級アルキル、低級
アルキルスルホニルもしくは−C(Y)R7であり、Y
は酸素もしくは硫黄であり、R7は水素、低級アルキル
、低級アルコキシもしくは−N(R8)R9であり、R
8は水素もしくは低級アルキルで、R9は水素、低級ア
ルキルもしくは低級アルコキシカルボニルであるか、ま
たは、R5とR6は窒素原子とともに、ピロリジノ、ピ
ペリジノ、モルホリノ、チオモルホリノもしくはピペラ
ジノであり、この場合ピペラジノはその4位が任意に−
C(O)R10で置換されていて、R10は水素、低級
アルキル、低級アルコキシもしくはアミノである)であ
り;R4は水素または低級アルキルである〕で示される
化合物群の、単一の立体異性体もしくはそれらの混合物
、またはそれらの医薬的に許容される塩である。
【0049】これらの化合物の好ましい亜群は、ジオキ
ソラン環の2−炭素がS−コンフィギュレーションを有
する。これらの化合物の好ましいクラスは、nが2、q
が0、R4が水素の化合物である。これらの化合物の好
ましいサブクラスは、4位にあるR3が−N(R5)R
6であり、R5は水素または低級アルキルであり、R6
は水素、低級アルキル、低級アルキルスルホニルまたは
C(Y)R7であり、この場合Yは酸素または硫黄であ
り、R7は水素、低級アルキル、低級アルコキシまたは
−N(R8)R9であり、R8は水素または低級アルキ
ルであり、R9は水素、低級アルキルまたは低級アルコ
キシカルボニルの化合物である。
【0050】これらの化合物の好ましい群は、R1がク
ロロ、フルオロ、メチルまたはメトキシの化合物である
。これらの化合物の好ましい亜群は、R5が水素、R6
が水素または−C(Y)R7で、Yは酸素、R7は水素
、低級アルキルまたは低級アルコキシの化合物である。 この亜群内でさらに好ましい化合物は、tが0、R1が
4位におけるクロロの化合物である。最も好ましい化合
物はR6が水素またはアセチルの各シス−エナンチオー
マーである。
【0051】本発明の他の態様は、
【化18】 〔式中、nは2または3であり;pは0、1または2で
あり;qは0、1または2であり;Xは酸素であり、R
1はそれぞれ独立に、ハロ、低級アルキル、低級アルコ
キシ、またはトリフルオロメチルであり;R2はそれぞ
れ独立に、ハロまたは低級アルキルであり;R3はニト
ロまたは−N(R5)R6(この場合、R5は水素もし
くは低級アルキルであり、R6は水素、低級アルキル、
低級アルキルスルホニルもしくは−C(Y)R7であり
、Yは酸素もしくは硫黄であり、R7は水素、低級アル
キル、もしくは−N(R8)R9であり、R8は水素も
しくは低級アルキルであり、R9は水素、低級アルキル
もしくは低級アルコキシカルボ低級アルコキシもしくは
−N(R8)R9であり、R8は水素もしくは低級アル
キルで、R9は水素、低級アルキルもしくは低級アルコ
キシカルボニルであるか、または、R5とR6は窒素原
子とともに、ピロリジノ、ピペリジノ、モルホリノ、チ
オモルホリノもしくはピペラジノであり、この場合ピペ
ラジノはその4位が任意に−C(O)R10で置換され
ていて、R10は水素、低級アルキル、低級アルコキシ
もしくはアミノであり、R4は水素または低級アルキル
である〕で示される化合物群の、単一の立体異性体もし
くはそれらの混合物、またはそれらの医薬的に許容され
る塩である。
【0052】これらの化合物の好ましい亜群は、ジオキ
ソラン環の2−炭素がS−コンフィギュレーションを有
する。これらの化合物の好ましいクラスは、nが2、q
が0、R4が水素の化合物である。これらの化合物の好
ましいサブクラスは、R3が4位にあって−N(R5)
R6であり、R5は水素または低級アルキルであり、R
6は水素、低級アルキル、低級アルキルスルホニルまた
はC(Y)R7であり、この場合Yは酸素または硫黄で
あり、R7は水素、低級アルキル、または−N(R8)
R9であり、R8は水素または低級アルキルであり、R
9は水素、低級アルキルまたは低級アルコキシカルボニ
ルの化合物である。
【0053】これらの化合物の好ましい群は、R1がク
ロロ、フルオロ、メチルまたはメトキシの化合物である
。これらの化合物の好ましい亜群は、R5が水素、R6
が水素または−C(Y)R7で、Yは酸素、R7は水素
または低級アルキルの化合物である。この亜群内でさら
に好ましい化合物は、R1が4位のクロロの化合物であ
る。最も好ましい化合物はR6が水素またはアセチルの
各シス−エナンチオーマーである。
【0054】本発明の現時点で最も好ましい化合物は、
(2S,4S)−シス−2−(2−(4−クロロフェニ
ル)エチル)−2−(イミダゾール−1−イル)メチル
−4−(4−アミノフェニルチオ)メチル−1,3−ジ
オキソラン、および(2S,4S)−シス−2−(2−
(4−クロロフェニル)エチル)−2−(イミダゾール
−1−イル)メチル−4−(4−アセトアミドフェニル
チオ)メチル−1,3−ジオキソラン、またはそれらの
医薬的に許容される塩である。
【0055】式(I)の化合物の製造式(I)の化合物
は、式(Ia)、(Ib)、(Ic)、(Id)、(I
e)および(If)の化合物であり、以下の操作で製造
される。
【0056】A.nが2または3、R4が水素である式
(A)の化合物の製造式(A)の化合物は、式(I)の
化合物の製造に使用される。nが2または3、R4が水
素である式(A)の化合物は、以下の反応式1に示すよ
うにして製造される。この反応式中、nは2または3、
mは1または2、pは0、1または2、R1はそれぞれ
独立にハロ、低級アルキル、低級アルコキシまたはトリ
フルオロメチル、R4は水素、Zはそれぞれ独立にクロ
ロ、ブロモまたはヨードである。
【化19】
【0057】イミダゾールと式(Aa)の化合物は、市
販品をたとえばAldrich  Chemical 
 Co.から入手できるか、または本技術分野の熟練者
にはよく知られた方法、たとえば適当なフェニル酢酸の
還元によって容易に製造できる。
【0058】式(Aa)の化合物を、ハロゲン化剤たと
えばN−ブロモコハク酸イミドとトリフェニルホスフィ
ンと、無水条件下たとえば乾燥テトラヒドロフラン中、
低温で処理して式(Ab)の化合物を生成させる。式(
Ac)のグリニヤル試薬はついで、通常の条件下、すな
わち、無水エーテル系溶媒中、約−20℃〜50℃の温
度、好ましくは約0℃〜20℃の温度で製造される。 ついでグリニヤル試薬をアリルハライド、たとえばアリ
ルブロミドで処理し、式(Ad)のアルケンを生成させ
る。これらの化合物のエポキシド化は、非プロトン性溶
媒たとえばジクロロメタン中、還流温度で過酸たとえば
過酢酸によって処理して行われ、式(Ae)の化合物が
得られる。
【0059】式(A)においてnが2または3、R4が
水素である化合物の製造は、式(Ae)の末端エポキシ
ドをイミダゾールで開裂することによって行われる。こ
の反応は一般に、少なくともエポキシドに対して1モル
、好ましくは過剰量のイミダゾールを用いて行われる。 反応は無溶媒でも実施できるが、好ましくは不活性有機
溶媒たとえばジメチルホルムアミド、ヘキサメチルリン
酸アミド、アセトニトリル等の存在下に行われる。 エポキシドの開裂は好ましくは、イミダゾールの金属塩
(好ましくはアルカリ金属塩)たとえばイミダゾールの
ナトリウム塩を用い、プロトン源としてイミダゾール遊
離塩基の存在下に接触的に行われる。好ましい溶媒はジ
メチルホルムアミドである。このエポキシド開裂に通常
用いられる温度は約−20℃〜約100℃の温度であり
、好ましくは約20°〜約85℃である。
【0060】B.R4が低級アルキルである式(B)の
化合物の製造R4が低級アルキルである式(B)の化合
物は、以下の反応式2に示すように、式(I)の化合物
の製造に用いられる。式中、nは2または3、pは0、
1または2、R1はそれぞれ独立にハロ、低級アルキル
、低級アルコキシまたはトリフルオロメチルであり、R
4は低級アルキルであり、Wは大きな保護基たとえばト
リフェニルメチルであり、Zはクロロ、ブロモまたはヨ
ードである。
【化20】
【0061】R4が低級アルキルである式(Ba)のイ
ミダゾールは市販品たとえばAldrich  Che
mical  Co.から入手できるか、または本技術
分野の熟練者にはよく知られた方法で容易に製造できる
【0062】式(Bc)の化合物は、たとえば米国特許
第4,375,474号に記載された方法、または本技
術分野の熟練者にはよく知られた方法たとえば相当する
アルコールのジョーンズ試薬による酸化で製造できる。 相当するアルコールはJ.Med.Chem.21:8
40,1978およびJ.Am.Chem.Soc.5
2:1164,1930に記載の方法で製造できる。
【0063】一般的に、R4が低級アルキルである式(
B)の化合物は、R4が低級アルキルである式(Ba)
のイミダゾールを最初、適当な大きなN−保護剤たとえ
ばトリフェニルメチルクロリドにより、非プロトン性溶
媒、好ましくはジメチルホルムアミド中で処理して式(
Bb)の化合物を生成させる。式(Bc)の化合物をつ
いで不活性有機溶媒たとえばアセトニトリルまたはジメ
チルホルムアミド中、式(Bb)の化合物で処理すると
、式(Bd)の中間イミダゾリウム塩が生成し、これを
ついでin  situでまたは別の工程で加水分解す
ると式(B)の化合物が生成する。
【0064】C.式(Ia)および(Ib)の化合物の
製造式(Ia)の化合物は、式(I)において、nが2
または3、pが0、1または2、qが0、1または2、
Xが酸素またはS(O)t(tは0である)、R1はそ
れぞれ独立にハロ、低級アルキル、低級アルコキシまた
はトリフルオロメチルであり、R2はそれぞれ独立にハ
ロまたは低級アルキルであり、R3はニトロまたは−N
(R5)R6であり、R5は水素または低級アルキルで
あり、R6は水素、低級アルキル、低級アルキルスルホ
ニルまたは−C(Y)R7であり、Yは酸素または硫黄
であり、R7は水素、低級アルキル、低級アルコキシま
たは−N(R8)R9であり、R8は水素または低級ア
ルキルであり、R9は水素、低級アルキルまたは低級ア
ルコキシカルボニルであるか、またはR5とR6は窒素
原子とともにピロリジノ、ピペリジノ、モルホリノ、チ
オモルホリノもしくはピペラジノであり、この場合ピペ
ラジノはその4位が−C(O)R10によって任意に置
換されていて、R10は水素、低級アルキル、低級アル
コキシまたはアミノであり、R4は水素または低級アル
キルである化合物のシス−エナンチオーマーのラセミ混
合物である。式(Ib)の化合物は、相当するトランス
−エナンチオーマーのラセミ混合物である。
【0065】式(Ia)および(Ib)の化合物は以下
の反応式3に示すようにして製造できる。式中、n、p
、q、R1、R2、R3およびR4は上に定義した通り
であり、Xaは酸素または硫黄、R11は離脱基である
【化21】
【化22】
【0066】式(A)においてnが2または3、R4が
水素である化合物は、米国特許第4,518,607号
および第4,078,071号(Syntex)に記載
された方法、またはJ.Med.Chem.21:84
0,1978およびJ.Am.Chem.Soc.52
:1164,1930に記載された方法もしくは上記A
項に記載の方法で製造できる。式(B)においてnが2
または3、R4が低級アルキルである化合物はまた、本
技術分野の熟練者によく知られている方法または上記B
項に記載の方法で製造できる。
【0067】式(E)のフェノールおよびチオフェノー
ルは、市販品をたとえばAldrich  Chemi
cal  Co.から入手できるか、またはColl.
Czech.Chem.Commun.6:211,1
934;J.Am.Chem.Soc.75:5281
,1953;Org.Prep.Procedures
l:87〜90,1969;Chem.Listy  
46:237−40,1952;もしくはColl.C
zech.Chem.Commum.51:937〜9
47,1986に記載された方法で製造できる。チオフ
ェノールはまた、たとえば適当な置換フェノールから、
J.Org.Chem.31:3980,1966に記
載された方法、すなわちチオンカルバメートの熱分解お
よび得られたチオールカルバメートの加水分解によって
製造できる。別法として、式(E)においてR3が−N
(R5)R6であり、R5が水素または低級アルキル、
R6が低級アルキルスルホニルまたは−C(Y)R7で
あり、Yは酸素または硫黄であり、R7は水素、低級ア
ルキル、低級アルコキシまたは−N(R8)R9であり
、R8は水素または低級アルキルであり、R9は水素、
低級アルキルまたは低級アルコキシカルボニルである化
合物は、以下に式(Ia)および(Ib)の化合物につ
いて記載したのと類似の方法で、式(E)においてR3
が−N(R5)R6であり、R5は水素または低級アル
キルであり、R6は水素である任意にOが保護された相
当する化合物から誘導し、ついで−OHまたは−SHを
適宜遊離されることによって製造できる。
【0068】一般的に、式(Ia)および(Ib)の化
合物は式(A)のアルコールをまず、たとえばシュウ酸
クロリドによって活性化されたジメチルスルホンを用い
るSwernの方法により酸化して式(B)においてR
4が水素であるケトンを得ることによって製造される(
たとえば米国特許第4,375,474号(Synte
x)およびJ.Org.Chem.44(23):41
48,1979参照)。一方、式(B)においてR4が
低級アルキルである化合物は上記B項に記載の方法で製
造できる。
【0069】式(B)の化合物またはその塩をついで、
当モルから2.0倍モルの酸またはルイス酸たとえばp
−トルエンスルホン酸、過クロル酸、発烟硫酸、三フツ
化ホウ素、塩化亜鉛等の存在下にグリセロールで処理し
てケタール化し、式(C)の化合物を生成させる。スル
ホン酸、とくにp−トルエンスルホン酸が最も好ましい
。式(B)の化合物の塩を使用する場合は、酸またはル
イス酸の所要量は触媒量のみでよい。反応は一般に、式
(B)の化合物1モルに対して1〜10モル、好ましく
は1〜5モルのグリセロールを用いて行われる。水は、
溶媒たとえばシクロヘキサンのような炭化水素またはベ
ンゼンもしくはトルエンのような芳香族炭化水素との共
沸混合物として、水の共沸除去が行われる十分な温度た
とえば約75℃〜約150℃で除去される。式(B)の
化合物は、過剰な単純アルコールたとえばメタノール、
エタノール、n−ブタノールまたはベンジルアルコール
中約1:1のモル比のグリセロールと、適当量(上述の
ような)酸またはルイス酸、たとえばp−トルエンスル
ホン酸、三フッ化ホウ素、塩化錫(IV)等の存在下に
反応させてケタール化し、式(C)の化合物を生成させ
てもよい。
【0070】式(C)の化合物はまた、本技術分野の熟
練者によく知られている他の方法、たとえば低沸点ケト
ンのケタールとの交換によっても製造できる。
【0071】式(C)の化合物はついで、本技術分野の
熟練者によく知られた手段でハライドまたはスルホン酸
エステルに変換される。たとえば、この化合物は、ハロ
ゲン化剤たとえば塩化チオニルまたは臭化チオニルを、
それのみでまたは不活性有機溶媒たとえばジクロロメタ
ンまたはクロロホルム中で用い、約0℃〜80℃の温度
、好ましくは約20℃〜80℃の温度でハロゲン化でき
る。ハロゲン化反応は、所望により、塩基(たとえばピ
リジン)、1モル当量または過剰量の存在下に行うこと
もできる。他のハロゲン化操作には、たとえば、四塩化
炭素もしくは四臭化炭素とトリフェニルホスフィン、ま
たはN−クロロ−もしくはN−ブロモコハク酸イミドの
使用が包含される。スルホンエステルは、アルコールを
少なくとも化学量論量から約100%過剰まで(好まし
くは10%〜20%過剰)のたとえばメシルクロリドま
たはトシルクロリド、好ましくはメシルクロリドで、塩
基たとえばピリジンまたはトリエチルアミンの存在下、
約−20℃〜約50℃、好ましくは約0℃〜約20℃の
温度で処理して式(D)の化合物を生成させることによ
って製造される。
【0072】式(D)の化合物をついで、式(D)のシ
ス−エナンチオーマーのラセミ混合物である式(Da)
の化合物と、式(D)のトランス−エナンチオーマーの
ラセミ混合物である式(Db)の化合物に分割する。こ
の分割は、たとえば分別結晶またはカラムクロマトグラ
フィーによって行われる。
【0073】式(C)の化合物はまた、アシルハライド
たとえばベンゾイルクロリドまたは4−フェニルベンゾ
イルクロリドで処理してエステル化することもできる。 得られた化合物をついでシス−およびトランス−エナン
チオーマーの各ラセミ混合物に分割し、ついでこれを含
水メタノールまたはジオキサン中アルカリ金属水酸化物
で処理して相当するアルコールに加水分解する。得られ
たアルコールを次に上述のようにしてメシルクロリドま
たはトシルクロリドで処理して、式(Da)および(D
b)の適当な化合物を生成させる。
【0074】式(Da)および(Db)の化合物はつい
で、式(E)の化合物と任意に塩基を存在させ、または
式(E)の化合物の塩と反応させて、相当する式(Ia
)および(Ib)の化合物を生成させる。式(E)にお
いてXaが硫黄である化合物の金属塩は、たとえば、そ
の化合物を適当な塩基たとえばアルカリ金属炭酸塩、水
酸化物もしくはアルコキシド、たとえば炭酸カリウムで
溶媒たとえばアセトンもしくはメタノールの存在下に処
理するか、または不活性溶媒中水素化アルカリ金属たと
えば水素化ナトリウムを用いて製造できる。式(E)に
おいてXaが酸素である化合物の塩は、化合物を塩基た
とえば水素化アルカリ金属たとえば水素化ナトリウムで
溶媒たとえばジメチルスルホキシド、ジメチルホルムア
ミド、テトラヒドロフラン等の存在下に処理して製造で
きる。
【0075】別法として、式(Da)及び(Db)の化
合物は、式(E)の化合物と相交換条件下、たとえば不
活性有機溶媒たとえば塩素化炭化水素(たとえばメチレ
ンクロリド)と水性塩基たとえばアルカリ金属水酸化物
水溶液(たとえば水酸化ナトリウム水溶液)との混合物
中、四級ホスホニウムまたはアンモニウム塩たとえばテ
トラブチルアンモニウム塩の存在下に反応させ、相当す
る式(Ia)および(Ib)の化合物を生成させること
ができる。
【0076】別法として、式(Ia)および(Ib)の
化合物は、式(C)の化合物の製造について上述したの
と類似の反応条件下、ただし酸は触媒量のみたとえば約
0.01〜約0.2モル当量を用いて、式(Bc)のα
−ハロケトンにまずケタール化することによっても製造
できる。得られたアルコールをついで上述のようにして
ハライドまたはスルホン酸エステルに変換する。得られ
た化合物を次に、塩基の存在下に式(E)のフェノール
もしくはチオフェノール、またはそれらの塩で、たとえ
ばジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、アセ
トン、メタノール等のような不活性有機溶媒中たとえば
アルカリ金属塩で、20℃〜120℃の温度において処
理し、次の式(G)
【化23】 (式中、n,p,q,R1,R2およびR3は式(Ia
)または(Ib)の化合物について上に定義した通りで
あり、Xaは酸素または硫黄であり、Zaはブロモまた
はヨードである)で示される化合物を生成させることも
できる。これらの化合物は慣用方法で、シス−およびト
ランス−エナンチオーマーの各ラセミ混合物に分割でき
る。これらの化合物をついでイミダゾールもしくは式(
Bb)の化合物、またはそれらの塩、好ましくはアルカ
リ金属塩たとえばイミダゾールのナトリウム塩で、不活
性有機溶媒たとえばジメチルホルムアミド、ジメチルア
セトアミド等の中で、温度25℃〜165℃において、
任意にヨウ化アルカリ金属たとえばヨウ化ナトリウムま
たはカリウムと存在させて、処理して、式(Ia)およ
び(Ib)の化合物を生成させる。イミダゾールのこの
アルキル化は一般的に、出発化合物1モルに対して1〜
5モルのイミダゾールおよび/または1〜2モルの金属
塩を用いて行われる。
【0077】式(Ia)および(Ib)においてR3が
−N(R5)R6であり、R5が水素または低級アルキ
ルであり、R6は−C(Y)R7であり、Yは硫黄であ
り、R7は−N(R8)R9であり、R8は水素であり
、R9は水素、低級アルキルまたは低級アルコキシカル
ボニルである化合物、たとえばR3がアミノチオカルボ
ニルアミノである化合物は、式(Ia)または(Ib)
においてR3がアミノまたは低級モノアルキルアミノで
ある化合物から、適当な溶媒たとえばテトラヒドロフラ
ン、ジオキサン、ベンゼンメチレンクロリド等の中で好
ましくは塩基たとえばトリエチルアミンの存在下に反応
させることにより製造できる。
【0078】式(Ia)および(Ib)において、R3
が−N(R5)R6であり、R5は水素または低級アル
キルであり、R6は−C(Y)R7であり、Yは酸素で
あり、R7は−N(R8)R9であり、R8は水素であ
り、R9は水素、低級アルキルまたは低級アルコキシカ
ルボニルである化合物、たとえばR3がアミノカルボニ
ルアミノである化合物は、式(Ia)または(Ib)に
おいてR3がアミノまたは低級モノアルキルアミノであ
る化合物を、低級アルキルまたは低級アルコキシカルボ
ニルイソシアネートまたはアルカリ金属イソシアネート
たとえばカリウムイソシアネートと、好ましくはトリエ
チルアミンのような塩基の存在下、適当な溶媒たとえば
テトラヒドロフラン、ジオキサン、ベンゼン、メチレン
クロリド等の中で反応させることによって製造できる。
【0079】上述の反応は、本技術分野でよく知られて
いる方法、たとえば反応原料を一緒に、好ましくは加熱
しながら、適当な反応不活性溶媒たとえば1,4−ジオ
キサン中、任意にトリエチルアミンのような塩基の存在
下に撹拌することによって行われる。水性溶媒中適当な
アルカリ金属シアネートを用い、これに適当な酸たとえ
ば酢酸を加えて酸を遊離させることも適当である。
【0080】式(Ia)および(Ib)においてR3が
−N(R5)R6であり、R5は水素または低級アルキ
ルであり、R6は低級アルキルスルホニルまたは−C(
Y)R7であり、Yは硫黄または酸素であり、R7は水
素、低級アルキルまたは低級アルコキシである化合物、
たとえばR3が低級アルキルスルホニルアミノである化
合物は、式(Ia)または(Ib)の適当なアミンを一
般的なN−アシル化またはN−スルホニル化操作に従い
、適当なアシル化またはスルホニル化剤でアシル化また
はスルホニル化することによって製造できる。使用でき
る適当なアシル化またはスルホニル化剤には、適当な相
当するカルボン酸、チオカルボン酸またはスルホン酸か
ら誘導されるアシルハライドおよび無水物またはスルホ
ニルハライド、たとえばホルミル化が所望の場合はギ酸
−酢酸無水物が包含される。R7が低級アルコキシであ
る化合物、すなわちR3が低級アルコキシカルボニルア
ミノまたは低級アルコキシ(チオカボニル)アミノであ
る化合物の製造には、適当なカーボンハライデート、好
ましくはカーボンクロリデート、たとえばクロロギ酸メ
チルまたはエトキシ(チオカボニル)クロリドが使用で
きる。
【0081】別法として、式(Ia)および(Ib)に
おいてYが硫黄である化合物は、相当するYが酸素の化
合物から、チアチオン試薬たとえばP4S10またはL
aWessonの試薬(2,4−ビス(4−メトキシフ
ェニル)−1,3−ジチア−2,4−ジホスフェタン−
2,4−ジスルフィド)での処理により製造できる。
【0082】式(Ia)および(Ib)においてR3が
−N(R5)R6であり、R5は水素または低級アルキ
ルであり、R6は−C(Y)R7であり、Yは酸素また
は硫黄であり、R7は−N(R8)R9であり、R8と
R9は独立に低級アルキルである化合物は、R3がアミ
ノまたは低級モノアルキルアミノである化合物から、不
活性有機溶媒たとえばTHF,CH2Cl2等の中で、
任意に塩基たとえばトリエチルアミンまたはピリジンを
存在させてジアルキルカルバモイルハライドまたはジア
ルキルチオカルバモイルハライドでアシル化することに
より製造できる。
【0083】別法して、式(Ia)または(Ib)にお
いてR3が−N(R5)R6であり、R5は水素または
低級アルキルであり、R6は−C(Y)R7であり、Y
は酸素または硫黄であり、R7は低級アルコキシまたは
−N(R8)R9であり、R8は水素または低級アルキ
ルであり、R9は低級アルキルである化合物は、式(I
a)および(Ib)においてR3がアミノまたは低級モ
ノアルキルアミノである化合物から、ホスゲンもしくは
チオホスゲンまたはその前駆体(たとえばトリホスゲン
)もしくは反応性誘導体(たとえば1,1−カルボニル
ジイミダゾール)で処理し、ついで低級ジアルキルアミ
ン、低級アルキルアミンまたはアルカノールと反応させ
ることによって製造できる。
【0084】式(Ia)および(Ib)においてR3が
−N(R5)R6であり、R5とR6は窒素原子ととも
ピペラジノを形成し、ピペラジノの4位が−C(O)R
10(式中R10は水素、低級アルキル、低級アルコキ
シまたはアミノである)で置換されている化合物は、相
当する非置換ピペラジノ化合物から上述の操作で製造で
きる。
【0085】式(Ia)および(Ib)においてR3が
アミノである化合物はまた、式(Ia)および(Ib)
においてR3がニトロである相当する化合物から、水素
化触媒たとえばパラジウム黒と水素ガス、または本技術
分野で既知の還元剤たとえば酢酸中亜鉛、水素化ホウ素
ナトリウムと遷移金属塩、または第一鉄塩等を用いた還
元により製造できる。
【0086】別法として、式(Ia)または(Ib)の
ニトロ化合物の、酸無水物の存在下、たとえば酢酸/無
水酢酸中亜鉛による還元は、式(Ia)または(Ib)
においてR3が−N(R5)R6であり、R5は水素で
あり、R6は−C(Y)R7であり、Yは酸素であり、
R7は水素または低級アルキルである化合物を生成する
【0087】式(Ia)および(Ib)においてXaが
硫黄である化合物はさらに酸化して、相当する式(I)
のスルフィニルおよびスルホニル化合物を生成させるこ
とができる。適当な酸化剤はたとえば過ヨウ素酸アルカ
リ金属たとえば過ヨウ素酸ナトリウムおよびカリウム、
過酸たとえば過酸化水素である。好ましい酸化剤はm−
クロロ過安息香酸である。
【0088】D.  式(Ic),(Id),(Ie)
および(If)の化合物の製造式(Ic),(Id),
(Ie)および(If)の化合物は、式(I)において
nが2または3、pが0,1または2、qが0,1また
は2、Xが酸素またはS(O)t(tは0である)、R
1はそれぞれ独立にハロ、低級アルキル、低級アルコキ
シまたはトリフルオロメチルであり、R2はそれぞれ独
立にハロまたは低級アルキルであり、R3はニトロまた
は−N(R5)R6であり、R5は水素または低級アル
キルであり、R6は水素、低級アルキル、低級アルキル
スルホニルまたは−C(Y)R7であり、Yは酸素また
は硫黄であり、R7は水素、低級アルキル、低級アルコ
キシまたは−N(R8)R9であり、R8は水素または
低級アルキルであり、R9は水素、低級アルキルまたは
低級アルコキシカルボニルであるか、またはR5とR6
は窒素原子とともにピロリジノ、ピペリジノ、モルホリ
ノ、チオモルホリノまたはピペラジノであり、この場合
ピペラジノの4位は任意に−C(O)R10で置換され
ていて、R10は水素、低級アルキル、低級アルコキシ
またはアミノであり、R4は水素または低級アルキルで
ある化合物、またはその医薬的に許容される塩の各立体
異性体である。
【0089】式(Ic)の化合物は(2S)−シス−エ
ナンチオーマー、式(Id)の化合物は(2R)−トラ
ンス−エナンチオーマー、式(Ie)の化合物は(2S
)−トランス−エナンチオーマー、式(If)の化合物
は(2R)−シス−エナンチオーマーである。これらの
化合物は以下の反応式4aおよび4bに示すようにして
製造される。式中、R3およびR4は上述の通りであり
、Xaは酸素または硫黄、R11は離脱基である。
【化24】
【化25】
【0090】式(Fa)および(Fb)においてR11
が離脱基たとえばそれぞれS−ソルケタールトシレート
およびR−ソルケタールトシレートである化合物は、市
販品をたとえばAldrich  Chemical 
 Co.,FlukaもしくはInternation
al  Bio−Synthetics(IBIS)か
ら入手できるか、または本技術分野の通常の熟練者によ
く知られた方法で製造できる。式(B)の化合物は上記
BおよびC項で製造される。
【0091】上記反応式4aに示すように、式(Ic)
および(Id)の化合物はまず、式(B)の化合物を式
(Fa)の化合物で処理することによって製造される。 この反応は一般的には、無水条件下、式(B)の化合物
1モルに対して式(Fa)の化合物1〜10モル、好ま
しくは約1〜約5モルを用いて行われる。反応は、式(
Fa)の化合物と単純なアルコールたとえばメタノール
、エタノールまたはn−ブタノールの不活性溶媒たとえ
ばベンゼンまたはトルエン中混合物を、式(B)の化合
物と有機酸たとえばp−トルエンスルホン酸の不活性溶
媒中混合物に徐々に添加して開始させる。得られた反応
混合物を、水を共沸混合物として除去しながら、約6〜
10時間、好ましくは6〜7時間還流させる。得られた
粗生成物をついで、式(Dc)の(2S)−シス−ジア
ステレオーマーおよび式(Dd)の(2R)−トランス
−ジアステレオーを得るために、慣用の分離方法に付す
。このような好ましい分離方法にはフラッシュおよびカ
ラムクロマトグラフィーが包含される。
【0092】別法として、反応式4bに示すように、式
(B)の化合物は、式(Fb)の化合物たとえばR−ソ
ルケタールトシレートで同様に処理して、式(De)の
(2S)−トランス−ジアステレオーマーおよび式(D
f)の(2R)−シス−ジアステレオーマーを生成させ
る。
【0093】別法として、式(B)の化合物を、式CH
2(OH)CH(OH)CH2R11(式中、R11は
離脱基である)で示されるキラルジオールで、式(Fa
)および(Fb)の化合物の処理について上述したのと
類似の条件下に、たとえば無水酸性条件下に処理し、式
(Dc),(Dd),(De)および(Df)の相当す
るジアステレオーマーを生成させる。上記式のキラルジ
オールはJ.Org.Chem.43:4876,19
78に記載の方法に従い、または本技術分野の熟練者に
よく知られている方法により製造できる。
【0094】式(Dd)の化合物は、無水有機酸たとえ
ばp−トルエンスルホン酸の存在下に再平衡化して、式
(Dc)および(Dd)の化合物の混合物を得ることが
できる。たとえば、この反応は、高沸点溶媒たとえばキ
シレン中、高沸点アルカノールたとえばn−ヘプタノー
ルの存在下に行うのが便利である。同様にして、式(D
c)の化合物は再平衡化して式(Dd)および(Dc)
の化合物の混合物に、式(De)の化合物は再平衡化し
て式(Df)と(De)の化合物の混合物に、式(Df
)の化合物は再平衡化して式(De)と(Df)の化合
物の混合物に導くことができる。
【0095】式(Ia)および(Ib)の化合物の製造
に関してC項に上述したのと類似の方法で、式(Dc)
,(Dd),(De)および(Df)の化合物は式(E
)の化合物で処理して、相当する式(Ic),(Id)
,(Ie)および(If)の化合物を生成させることが
できる。
【0096】別法として、式(Ia)および(Ib)の
化合物について上述したのと類似の方法で、式(Ic)
,(Id),(Ie)および(If)の化合物は、まず
式(Bc)のα−ハロケトンを式(Fa)または(Fb
)の化合物でケタール化することによって製造できる。 得られたハライドまたはスルホン酸エステルをついで式
(E)の化合物で処理して相当するフェノキシおよびフ
ェニルチオ化合物を生成させ、これを慣用方法で個々の
エナンチオーマーに分割する。個々のエナンチオーマー
を次にイミダゾールまたは式(Ba)のイミダゾールで
処理して、相当する式(Ic)、(Id)、(Ie)ま
たは(If)の化合物を生成させる。
【0097】別法として、式(B)の化合物を、式(F
a)の化合物または式(Fb)の化合物と、上述の条件
と類似の条件下に処理し、ついで式(E)の化合物で処
理して、個々のエナンチオーマーの相当するジアステレ
オーマー混合物を生成させることができる。ついでジア
ステレオーマーをそれぞれから、慣用のジアステレオー
マーの分離方法で分割し、相当する式(Ic),(Id
),(Ie)または(If)の化合物を生成させる。
【0098】上記方法のさらに他の変法においては、式
(B)の化合物またはその単純なアセタールを、式(F
a),(Fb)の化合物または式CH2(OH)CH(
OH)CH2R11のキラルジオールもしくはその単純
なアセタールで処理し〔(Fa),(Fb)またはジチ
オールにおけるR11は、式
【化26】 で示される基である〕、直接(Ic)+(Id)または
(Ie)+(If)の混合物を得る。
【0099】上述のジアステレオーマーの分離により、
それぞれ式(Ic)および(Id)または(Ie)およ
び(If)の化合物が得られる。この反応は、上述した
のと同様にして、ただしR3が塩基性(プロトン放出性
)基である場合にはさらに相当量の酸を使用して、行わ
れる。(Fa)+(Fb)のラセミ混合物またはCH2
(OH)CH(OH)CH2R11(式中R11は(F
a),(Fb)またはジオールについてこの段落におい
て定義した通りである)のラセミジオールを同様に使用
すると(Ia)と(Ib)の混合物が得られ、これらは
それぞれ上述のラセミシスおよびトランス異性体(Ia
)および(Ib)に分離できる。
【0100】式(Ic),(Id),(Ie)および(
If)においてXaが硫黄である化合物は、式(Ia)
および(Ib)の化合物について上述したようにさらに
酸化して、相当する式(I)のスルフィニルおよびスル
ホニル化合物を生成させることができる。
【0101】式(Ic),(Id),(Ie)および(
If)においてR3が−N(R5)R6であり、R5は
水素または低級アルキルであり、R6は水素である化合
物は、式(Ia)および(Ib)の化合物について上述
したようにさらに処理して、式(Ic),(Id),(
Ie)および(If)においてR6が低級アルキルスル
ホニルまたは−C(Y)R7であり、Yが酸素または硫
黄であり、R7は水素、低級アルキル、低級アルコキシ
または−N(R8)R9であり、R8は水素または低級
アルキルであり、R9は水素、低級アルキルまたは低級
アルコキシカルボニルである化合物を生成させるか、ま
たは式(Ic),(Id),(Ie)および(If)に
おいてR5とR6が窒素原子とともに4位が非置換のピ
ペラジノ基である化合物を生成させ、これを上述のよう
に、式(Ic),(Id),(Ie)および(If)に
おいてピペラジノの4位が−C(O)R10(式中、R
10は水素、低級アルキル、低級アルコキシまたはアミ
ノである)で置換された化合物に変換できる。
【0102】要約すると、式(Ia),(Ib),(I
c),(Id),(Ie)および(If)の化合物であ
る式(I)の化合物は、(I)式(D)においてnが2
または3、pが0,1または2であり、R4は水素また
は低級アルキルであり、R11は離脱基である化合物を
、式(E)においてXaが酸素または硫黄であり、qは
0,1または2であり、R2はそれぞれ独立にハロまた
は低級アルキルであり、R3はニトロまたは−N(R5
)R6であり、R5は水素または低級アルキルであり、
R6は水素、低級アルキル、低級アルキルスルホニルま
たは−C(Y)R7であり、Yは酸素または硫黄であり
、R7は水素、低級アルキル、低級アルコキシまたは−
N(R8)R9であり、R8は水素または低級アルキル
であり、R9は水素、低級アルキルまたは低級アルコキ
シカルボニルであるか、またはR5とR6は窒素原子と
ともにピロリジノ、ピペリジノ、モルホリノ、チオモル
ホリノまたはピペリジノであり、この場合ピペリジノの
4位は−C(O)R10で任意に置換されていてR10
は水素、低級アルキル、低級アルコキシまたはアミノで
ある化合物と反応させ、式(I)においてXは酸素また
はS(O)t(tは0である)であり、n,p,q,R
1,R2,R3およびR4は上に定義した通りである化
合物を生成させるか、
【0103】(2)イミダゾールまたは式(Bb)にお
いてR4が低級アルキルであるイミダゾールを式(G)
においてZaがブロモまたはヨードであり、Xaが酸素
または硫黄であり、n,p,q,R1,R2およびR3
は上に定義した通りである化合物と反応させて、式(I
)においてXが酸素またはS(O)t(tは0である)
であり、n,p,q,R1,R2,R3およびR4は上
に定義した通りである化合物を生成させるか、
【010
4】(3)式(B)の化合物またはその単純なアセター
ルを、式(Fa),(Fb)の化合物もしくはそれらの
混合物、または式CH2(OH)CH(OH)CH2R
11またはその単純なアセタール〔(Fa),(Fb)
またはジオール中のR11は
【化27】 で示される基である〕で処理して式(I)の化合物を生
成させるか、
【0105】(4)式(I)においてn,p,q,R1
,R2,R3およびR4は上に定義した通りであり、X
はS(O)t(tは0または1である)である化合物を
酸化剤で酸化して式(I)においてXがS(O)t〔t
は1(t=0から)または2(t=0または1から)で
ある〕であり、n,p,q,R1,R2,R3およびR
4は上に定義した通りである化合物を生成させるか
【0106】(5)式(I)においてn,p,q,R1
,R2,R3およびR4は上に定義した通りであり、X
はS(O)t(tは1または2である)である化合物を
還元剤で還元して、式(I)においてXがS(O)t〔
tは1(t=2から)または0(t=1または2から)
である〕であり、n,p,q,R1,R2,R3および
R4は上に定義した通りである化合物を生成させるか
【0107】(6)式(I)においてn,p,q,R1
,R2およびR4は上に定義した通りであり、Xは酸素
またはS(O)t(tは0,1または2である)であり
、R3はアミノまたは低級モノアルキルアミノである化
合物を、イソチオシアネートまたはチオシアン酸で処理
して、式(I)においてt,n,p,q,R1,R2お
よびR4は上に定義した通りであり、R3は−N(R5
)R6であり、R5は水素または低級アルキルであり、
R6は−C(Y)R7であり、Yは硫黄であり、R7は
−N(R8)R9であり、R8は水素であり、R9は水
素、低級アルキルまたは低級アルコキシカルボニルであ
る化合物を生成させ
【0108】(7)式(I)においてn,p,q,X,
R1,R2およびR4は上に定義した通りであり、Xは
酸素またはS(O)t(tは0,1または2である)で
あり、R3はアミノまたは低級モノアルキルアミノであ
る化合物を、低級アルキルもしくは低級アルコキシカル
ボニルイソシアネートまたはイソシアネート塩もしくは
シアン酸で処理して、t,n,p,q,X,R1,R2
およびR4が先に定義した通りであり、R3は−N(R
5)R6であり、R5は水素または低級アルキルであり
、R6は−C(Y)R7であり、Yは酸素であり、R7
は−N(R8)R9であり、R8は水素であり、R9は
水素、低級アルキルまたは低級アルコキシカルボニルで
ある化合物を生成させるか、
【0109】(8)式(I)においてn,p,q,X,
R1,R2およびR4は上に定義した通りであり、Xは
酸素またはS(O)t(tは0,1または2である)で
あり、R3はアミノまたは低級モノアルキルアミノであ
る化合物を、アシル化剤またはスルホニル化剤で処理し
て、式(I)において、t,n,p,q,X,R1,R
2およびR4は上に定義した通りであり、R3は−N(
R5)R6であり、R5は水素または低級アルキルであ
り、R6は低級アルキルスルホニルまたは−C(Y)R
7であり、Yは硫黄または酸素であり、R7は水素、低
級アルキル、低級アルコキシまたは−N(R8)R9で
あり、R8およびR9は独立に低級アルキルである化合
物を生成させるか
【0110】(9)式(I)においてn,p,q,X,
R1,R2およびR4は上に定義した通りであり、Xは
酸素またはS(O)t(tは0,1または2である)で
あり、R3はアミノまたは低級モノアルキルアミノであ
る化合物をホスゲンもしくはチオホスゲンまたはそれら
の前駆体もしくは誘導体で前処置したのち、低級ジアル
キルアミン、低級アルキルアミンまたはアルカノールで
処理して、式(I)においてt,n,p,q,X,R1
,R2およびR4は上に定義した通りであり、R3は−
N(R5)R6であり、R5は水素または低級アルキル
であり、R6は−C(Y)R7であり、Yは酸素または
硫黄であり、R7は低級アルコキシまたは−N(R8)
R9であり、R8は水素または低級アルキルであり、R
9は水素または低級アルキルである化合物を生成させる
か、
【0111】(10)式(I)においてt,n,p,q
,X,R1,R2およびR4は上に定義した通りであり
、R3は−N(R5)R6であり、R5とR6は窒素原
子とともに4位が非置換のピペラジノである化合物を、
アシル化剤、イソシアネートまたはイソシアン酸で処理
し、式(I)においてt,n,p,q,X,R1,R2
およびR4は上に定義した通りであり、R3は−N(R
5)R6であり、R5とR6は窒素原子とともに4位が
−C(O)R10で置換されたピペラジノであり、R1
0は水素、低級アルキル、低級アルコキシまたはアミノ
である化合物を生成させるか、
【0112】(11)式(I)においてt,n,p,q
,R1,R2およびR4は上に定義した通りであり、R
3は−N(R5)R6であり、R5は水素であり、R6
は−C(Y)R7であり、Yは酸素または硫黄であり、
R7は−N(R8)R9であり、R8は水素であり、R
9は低級アルコキシカルボニルである化合物を加水分解
して、式(I)においてt,n,p,q,R1,R2お
よびR4は上に定義した通りであり、R3は−N(R5
)R6であり、R5は水素であり、R6は−C(Y)R
7であり、Yは酸素または硫黄であり、R7は−N(R
8)R9であり、R8およびR9はいずれも水素である
化合物を生成させるか、
【0113】(12)式(I)においてt,n,p,q
,X,R1,R2およびR4は上に定義した通りであり
、R3はニトロである化合物を適当な還元剤で還元して
、式(I)においてt,n,p,q,X,R1,R2お
よびR4が上に定義した通りであり、R3は−N(R5
)R6であり、R5は水素であり、R6は−C(Y)R
7であり、Yは酸素であり、R7は水素または低級アル
キルである化合物を生成させるか、
【0114】(13)式(I)においてt,n,p,q
,X,R1,R2,R3およびR4は上に定義した通り
であり、Yは酸素である化合物をチアチオン試薬で処理
して、式(I)においてt,n,p,q,X,R1,R
2,R3およびR4は上に定義した通りであり、Yは硫
黄である化合物を生成させるか、
【0115】(14)式(I)の化合物の混合物を分割
して個々の立体異性体を得るか、または
【0116】(
15)式(I)の化合物の混合物を分離してシス−また
はトランス立体異性体を得ることによって製造される。
【0117】さらに、遊離塩基の形で存在する式(I)
の化合物はすべて、適当な無機酸または有機酸で処理し
て、それらの医薬的に許容される塩に変換することがで
きる。式(I)の化合物の塩はまた、その遊離塩基また
は他の塩に変換することができる。
【0118】以下の特定の準備例および実施例は、本発
明を実施を助けるガイドとして提供するものであり、本
発明の範囲を限定するものではない。
【0119】製造例1式(Ab)の化合物A.  4−
クロロフェネチルアルコール(131g)およびトリフ
ェニルホスフィン(241.3g)を乾燥THF(50
0ml)中溶液を0℃で撹拌しながら、30分を要して
N−ブロモコハク酸イミド(163.75g)を滴下し
た。得られた黒色の溶液を一夜室温で撹拌したのち、T
HFを蒸発させ、残留物をエーテルと撹拌した。溶液を
濾過してトリフェニルホスフィンオキシドを除去し、濾
液を蒸発させて、ヘキサンで処理した。混合物を撹拌し
ながら濾過し、蒸発させ、残留物を減圧蒸留すると、4
−クロロフェネチルブロミド100gが無色の液体とし
て得られた。沸点85℃(3mmHg)。
【0120】B.  4−クロロフェネチルアルコール
の代わりに他の適当に置換された一級アルコールを用い
るほかは同様にして、以下の化合物が作成される。4−
フルオロフェネチルブロミド4−メトキシフェネチルブ
ロミド4−メチルフェネチルブロミド2,4−ジクロロ
フェネチルブロミド4−エトキシフェネチルブロミド4
−エチルフェネチルブロミド4−トリフルオロメチルフ
ェネチルブロミド
【0121】製造例2式(Ad)の化合物A.  焔で
乾燥したフラスコに、エーテル中マグネシウム屑7.7
5gを取り、無水エーテル(250ml)中4−クロロ
フェネチルブロミド(70g)を穏やかな還流が維持さ
れるような速度で加えた。添加完了後、混合物をさらに
1時間還流下に加熱し、ついでエーテル(75ml)中
アリルブロミド(38.6g)を1時間を要して、穏や
かな還流が維持されるように滴下した。得られた混合物
を一夜室温で撹拌して、ついで氷冷希硫酸600ml上
に注いだ。生成物を酢酸エチルで抽出し、抽出液を合し
て、希炭酸カリウム水溶液で洗浄し、乾燥し(MgSO
4)、蒸発させた。得られた褐色の油状物を減圧下に蒸
留すると、5−(4−クロロフェニル)ペンタ−1−エ
ン43g、沸点74〜80°(2mmHg)が無色の液
体として得られた。
【0122】B.  4−クロロフェネチルブロミドの
代わりに他の適当に置換された式(Ab)の化合物を用
いるほかは同様にして、以下の式(Ad)の化合物が製
造される。5−(4−フルオロフェニル)ペンタ−1−
エン5−(4−メトキシフェニル)ペンタ−1−エン5
−(4−メチルフェニル)ペンタ−1−エン5−(2,
4−ジクロロフェニル)ペンタ−1−エン5−(2,4
−ジエチルフェニル)ペンタ−1−エン5−(3,5−
ジ−n−1−プロポキシフェニル)ペンタ−1−エン5
−(4−エトキシフェニル)ペンタ−1−エン5−(4
−エチルフェニル)ペンタ−1−エン5−(4−トリフ
ルオロメチルフェニル)ペンタ−1−エン4−(4−ク
ロロフェニル)ブタ−1−エン4−(4−フルオロフェ
ニル)ブタ−1−エン4−(4−メトキシフェニル)ブ
タ−1−エン4−(4−メチルフェニル)ブタ−1−エ
ン4−(2,4−ジクロロフェニル)ブタ−1−エン4
−(2,4−ジエチルフェニル)ブタ−1−エン4−(
3,5−ジ−n−プロポキシフェニル)ブタ−1−エン
4−(4−エトキシフェニル)ブタ−1−エン4−(4
−エチルフェニル)ブタ−1−エン4−(4−トリフル
オロメチルフェニル)ブタ−1−エン
【0123】製造
例3式(Ae)の化合物A.  ジクロロメタン(40
0ml)中5−(4−クロロフェニル)ペンタ−1−エ
ン(43.2g)の溶液に、撹拌しながら、40%過酢
酸(200ml)と酢酸ナトリウム(6.5g)の混合
物を滴下した。得られた混合物を還流下に2時間加熱し
、冷却し、水(400ml)と撹拌した。ジクロロメタ
ン層を分離し、希炭酸カリウム水溶液で中性になるまで
洗浄し、水洗し、乾燥し(MgSO4)、蒸発させると
5−(4−クロロフェニル)−1,2−エポキシペンタ
ン46.7gが無色の液体として得られた。
【0124】B.  5−(4−クロロフェニル)ペン
タ−1−エンの代わりに他の適当に置換された式(Ad
)の化合物を用いるほかは同様にして、以下の化合物が
製造される。5−(4−フルオロフェニル)−1,2−
エポキシペンタン5−(4−メトキシフェニル)−1,
2−エポキシペンタン5−(4−メチルフェニル)−1
,2−エポキシペンタン5−(2,4−ジクロロフェニ
ル)−1,2−エポキシペンタン5−(2,4−ジエチ
ルフェニル)−1,2−エポキシペンタン5−(3,5
−ジ−n−プロポキシフェニル)−1,2−エポキシペ
ンタン5−(4−エトキシフェニル)−1,2−エポキ
シペンタン5−(4−エチルフェニル)−1,2−エポ
キシペンタン5−(4−トリフルオロメチルフェニル)
−1,2−エポキシペンタン4−(4−クロロフェニル
)−1,2−エポキシブタン4−(4−フルオロフェニ
ル)−1,2−エポキシブタン4−(4−メトキシフェ
ニル)−1,2−エポキシブタン4−(4−メチルフェ
ニル)−1,2−エポキシブタン4−(2,4−ジクロ
ロフェニル)−1,2−エポキシブタン4−(2,4−
ジエチルフェニル)−1,2−エポキシブタン4−(3
,5−ジ−n−プロポキシフェニル)−1,2−エポキ
シブタン4−(4−エトキシフェニル)−1,2−エポ
キシブタン4−(4−エチルフェニル)−1,2−エポ
キシブタン4−(4−トリフルオロメチルフェニル)−
1,2−エポキシブタン
【0125】製造例4nが2または3、R4が水素であ
る式(A)の化合物A.  水素化ナトリウム(鉱油中
50%分散液13.44g)の乾燥DMF(50ml)
中懸濁液に窒素気流下、乾燥DMF(50ml)中イミ
ダゾール(20.62g)を温度が65℃以下に保持さ
れるような速度で(氷浴)撹拌しながら加えた。気体の
発生が止んだならば、5−(4−クロロフェニル)−1
,2−エポキシペンタンを滴下し、混合物を一夜室温で
撹拌した。得られた褐色の溶液を2.5リットルの水に
加え、酢酸エチルで抽出し(3×400ml)、抽出液
を合して水で3回洗浄し、乾燥し(MgSO4)、蒸発
させると橙色の油状物(52g)が得られ、結晶化した
。 固体をエーテルで洗浄し、濾過すると、1−(5−(4
−クロロフェニル)−2−ヒドロキシペンチル)イミダ
ゾール37.2gが得られた。融点84〜85℃
【01
26】B.  5−(4−クロロフェニル)−1,2−
エポキシペンタンの代わりに他の適当に置換された式(
Ae)の化合物を用いるほかは同様にして、式(A)に
おいてnが3である以下の化合物が製造される。1−(
5−(4−メトキシフェニル)−2−ヒドロキシペンチ
ル)イミダゾール1−(5−(4−フルオロフェニル)
−2−ヒドロキシペンチル)イミダゾール1−(5−(
4−メチルフェニル)−2−ヒドロキシペンチル)イミ
ダゾール1−(5−(2,4−ジクロロフェニル)−2
−ヒドロキシペンチル)イミダゾール1−(5−(2,
4−ジメチルフェニル)−2−ヒドロキシペンチル)イ
ミダゾール1−(5−(3,5−ジ−n−プロポキシフ
ェニル)−2−ヒドロキシペンチル)イミダゾール1−
(5−(3,5−ジフルオロフェニル)−2−ヒドロキ
シペンチル)イミダゾール1−(5−(4−エトキシフ
ェニル)−2−ヒドロキシペンチル)イミダゾール1−
(5−(4−トリフルオロメチルフェニル)−2−ヒド
ロキシペンチル)イミダゾール1−(4−(4−メトキ
シフェニル)−2−ヒドロキシブチル)イミダゾール1
−(4−(4−クロロフェニル)−2−ヒドロキシブチ
ル)イミダゾール1−(4−(4−フルオロフェニル)
−2−ヒドロキシブチル)イミダゾール1−(4−(4
−メチルフェニル)−2−ヒドロキシブチル)イミダゾ
ール1−(4−(2,4−ジクロロフェニル)−2−ヒ
ドロキシブチル)イミダゾール1−(4−(2,4−ジ
メチルフェニル)−2−ヒドロキシブチル)イミダゾー
ル1−(4−(3,5−n−プロポキシフェニル)−2
−ヒドロキシブチル)イミダゾール1−(4−(3,5
−ジフルオロフェニル)−2−ヒドロキシブチル)イミ
ダゾール1−(4−(4−エトキシフェニル)−2−ヒ
ドロキシブチル)イミダゾール1−(4−(4−トリフ
ルオロメチルフェニル)−2−ヒドロキシブチル)イミ
ダゾール
【0127】製造例54−メチル−1−トリチルイミダ
ゾールA.  乾燥DMF(30ml)中4(5)メチ
ルイミダゾール(9.00)gの混合物を0℃で撹拌し
ながら、固体のトリチルクロリド(5.6g)を少量ず
つ加えた。一夜撹拌後、生成物を濾過し、少量のDMF
ついでアセトニトリルで洗浄し、乾燥すると、静電気を
帯びた白色固体(5.00g)が得られた。メチレンク
ロリド/アセトンから再結晶すると、標記の化合物、4
−メチル−1−トリチルイミダゾ−ル4.28gが得ら
れた。融点218〜220℃
【0128】B.  4(5)−メチルイミダゾールの
代わりに、他の適当に置換されたイミダゾールを用いる
ほかは同様にして、以下の化合物が得られる。4−エチ
ル−1−トリチルイミダゾール4−n−プロピル−1−
トリチルイミダゾール4−n−ブチル−1−トリチルイ
ミダゾール4−(1−メチルエチル)−1−トリチルイ
ミダゾール
【0129】製造例6式(B)においてR4が低級アル
キルである化合物A.  4−メチル−1−トリチルイ
ミダゾール(12.7g、39.8ミリモル)と1−ブ
ロモ−4−(4−クロロフェニル)ブタン−2−オン(
12.5g、47.8ミルミモ、1.2当量)のCH3
CN(約200ml)中混合物を16時間還流下に加熱
した。反応混合物をついで室温に冷却し、2N  HC
l(30ml)を加えた。反応混合物を30分間還流下
に加熱し、室温に冷却し、水(約500ml)を加えた
。 得られた混合物をついでエーテル(約1×100ml)
で洗浄し、pHを2N−NaOHで9〜10に調整した
。水層を酢酸エチルで抽出し(3×100ml)、抽出
液を合して食塩水で乾燥し、Na2SO4上で乾燥した
。濾過し、濃縮したのち、得られた粗生成物(8.5g
)をシリカゲルクロマトグラフィーにより、メチレンク
ロリド中1〜8%メタノールで溶出して精製すると、8
.2gの4−(4−クロロフェニル)−1−(5−メチ
ルイミダゾール−1−イル)ブタン−2−オン(収率7
0%)が得られた。塩酸塩はメタノール/酢酸エチルか
ら再結晶した。融点227〜228℃
【0130】B.
  4−メチル−1−トリチルイミダゾールの代わりに
他の適当な4−低級アルキル置換イミダゾールと、1−
ブロモ−4−(4−クロロフェニル)ブタン−2−オン
の代わりに他の適当に置換されたα−ハロケトンを用い
るほかは同様にして、以下の化合物が得られる。4−(
4−クロロフェニル)−1−(5−エチルイミダゾール
−1−イル)ブタン−2−オン4−(4−クロロフェニ
ル)−1−(5−n−ブチルイミダゾール−1−イル)
ブタン−2−オン4−(4−クロロフェニル)−1−(
5−n−プロピルイミダゾール−1−イル)ブタン−2
−オン4−(4−メトキシフェニル)−1−(5−エチ
ルイミダゾール−1−イル)ブタン−2−オン4−(4
−メトキシフェニル)−1−(5−n−ブチルイミダゾ
ール−1−イル)ブタン−2−オン4−(4−メトキシ
フェニル)−1−(5−n−プロピルイミダゾール−1
−イル)ブタン−2−オン4−(4−メチルフェニル)
−1−(5−エチルイミゾリル−1−イル)ブタン−2
−オン4−(4−メチルフェニル)−1−(5−n−ブ
チルイミゾール−1−イル)ブタン−2−オン4−(4
−メチルフェニル)−1−(5−n−プロピルイミダゾ
ール−1−イル)ブタン−2−オン5−(4−クロロフ
ェニル)−1−(5−エチルイミゾール−1−イル)ペ
ンタン−2−オン5−(4−クロロフェニル)−1−(
5−n−ブチルイミダゾール−1−イル)ペンタン−2
−オン5−(4−クロロフェニル)−1−(5−n−プ
ロピルイミダゾール−1−イル)ペンタン−2−オン5
−(4−メトキシフェニル)−1−(5−エチルイミゾ
ール−1−イル)ペンタン−2−オン5−(4−メトキ
シフェニル)−1−(5−n−ブチルイミダゾール−1
−イル)ペンタン−2−オン5−(4−メトキシフェニ
ル)−1−(5−n−プロピルイミダゾール−1−イル
)ペンタン−2−オン5−(メチルフェニル)−1−(
5−エチルイミダゾール−1−イル)ペンタン−2−オ
ン5−(4−メチルフェニル)−1−(5−n−ブチル
イミダゾール−1−イル)ペンタン−2−オン5−(4
−メチルフェニル)−1−(5−n−プロピルイミダゾ
ール−1−イル)ペンタン−2−オン4−(2,4−ジ
クロロフェニル)−1−(5−エチルイミダゾール−1
−イル)ブタン−2−オン4−(2,4−ジクロロフェ
ニル)−1−(5−n−ブチルイミダゾール−1−イル
)ブタン−2−オン4−(2,4−ジクロロフェニル)
−1−(5−n−プロピルイミダゾール−1−イル)ブ
タン−2−オン
【0131】製造例7式(B)において
R4が水素の化合物A.  乾燥ジクロロメタン(13
50ml)中シュウ酸クロリド(74.8g)の溶液に
−70℃以下で窒素気流下に、メチレンクロリド(27
0ml)中乾燥ジメチルスルホキシド(91.5ml)
を15〜20分を要して滴下し、この間反応混合物の温
度を−50℃以下に保持した。さらに5分後、ジメチル
スルホキシド(50ml)とメチレンクロリド(200
ml)の混合物中(±)−1−(4−(4−クロロフェ
ニル)−2−ヒドロキシブチル)イミダゾール(128
.3g)の溶液を20分を要して加え、この間反応温度
は−65℃以下に保持した。さらに15分後、乾燥トリ
エチルアミン(300ml)を急速に加え、15分後に
反応混合物を放置して温度を0℃まで上昇させた。次に
水(20ml)を反応混合物に加え、ついでメチレンク
ロリドを蒸留して除去し、得られたスラリーに水を加え
て濾過した。濾塊を氷水、冷酢酸エチルで洗浄し、風乾
すると、4−(4−クロロフェニル)−1−(イミダゾ
ール−1−イル)ブタン−2−オン118.0gが生成
した。メタノール/アセトンから結晶化した塩酸塩は融
点172.5〜174.0℃を示した。
【0132】B.  (±)−1−(4−(4−クロロ
フェニル)−2−ヒドロキシブチル)イミダゾールの代
わりに他の適当に置換された式(A)の化合物を用い同
様に操作して、以下の式(B)の化合物が製造された。 4−フェニル−1−(イミダゾール−1−イル)ブタン
−2−オン4−(4−メトキシフェニル)−1−(イミ
ダゾール−1−イル)ブタン−2−オン4−(2,4−
ジクロロフェニル)−1−(イミダゾール−1−イル)
ブタン−2−オン4−(4−メチルフェニル)−1−(
イミダゾール−1−イル)ブタン−2−オン4−(4−
フルオロフェニル)−1−(イミダゾール−1−イル)
ブタン−2−オン
【0133】C.  同様にして以下の式(B)の化合
物が製造される。4−(4−エトキシフェニル)−1−
(イミダゾール−1−イル)ブタン−2−オン4−(3
,5−ジクロロフェニル)−1−(イミダゾール−1−
イル)ブタン−2−オン4−(3,5−ジ−n−プロポ
キシフェニル)−1−(イミダゾール−1−イル)ブタ
ン−2−オン4−(4−エチルフェニル)−1−(イミ
ダゾール−1−イル)ブタン−2−オン4−(4−トリ
フルオロメチルフェニル)−1−(イミダゾール−1−
イル)ブタン−2−オン5−フェニル−1−(イミダゾ
ール−1−イル)ペンタン−2−オン5−(4−メトキ
シフェニル)−1−(イミダゾール−1−イル)ペンタ
ン−2−オン5−(2,4−ジクロロフェニル)−1−
(イミダゾール−1−イル)ペンタン−2−オン5−(
4−メチルフェニル)−1−(イミダゾール−1−イル
)ペンタン−2−オン5−(4−フルオロフェニル)−
1−(イミダゾール−1−イル)ブタンペンタン−2−
オン5−(4−クロロフェニル)−1−(イミダゾール
−1−イル)ペンタン−2−オン5−(4−エトキシフ
ェニル)−1−(イミダゾール−1−イル)ペンタン−
2−オン5−(3,5−ジクロロフェニル)−1−(イ
ミダゾール−1−イル)ペンタン−2−オン5−(3,
5−ジ−n−プロポキシフェニル)−1−(イミダゾー
ル−1−イル)ペンタン−2−オン5−(4−エチルフ
ェニル)−1−(イミダゾール−1−イル)ペンタン−
2−オン5−(4−トリフメルオロメチルフェニル)−
1−(イミダゾール−1−イル)ペンタン−2−オン
【0134】製造例8式(C)の化合物A.4−(4−
クロロフェニル)−1−(イミダゾール−1−イル)ブ
タン−2−オン(50g)、p−トルエンスルホン酸一
水和物(42.07g)およびグリセロール(37g)
をトルエン(200ml)中に取り、この混合物をDe
an−Starkトラップを付して、攪拌しながら6時
間、還流下に加熱した。2層を分離させ、熱トルエン(
上層)を傾瀉して捨てた。下層は2N水酸化ナトリウム
(500ml)中に注ぎ、フラスコはlN水酸化ナトリ
ウムおよびメチレンクロリドで洗浄して完全に内容物を
移し、生成物をメチレンクロリド(4×200ml)で
洗浄した。抽出液を乾燥し(MgSO4)、蒸発させ、
残留物をトルエンから再結晶すると、61.4gの(シ
ス/トランス)−2−(2−(4−クロロフェニル)エ
チル)−2−(イミダゾール−1−イル)メチル−4−
ヒドロキシメチル−1,3−ジオキソラン、融点96〜
110℃が得られた。
【0135】B.4−(4−クロロフェニル)−1−(
イミダゾール−1−イル)ブタン−2−オンの代わりに
適当に置換された式(B)の化合物を用いるほかは同様
にして、以下の式(C)の化合物が製造された。(シス
/トランス)−2−(2−(4−メトキシフェニル)エ
チル)−2−(イミダゾール−1−イル)メチル−4−
ヒドロキシメチル−1,3−ジオキソラン(シス/トラ
ンス)−2−(2−(4−フルオロフェニル)エチル)
−2−(イミダゾール−1−イル)メチル−4−ヒドロ
キシメチル−1,3−ジオキソラン(シス/トランス)
−2−(2−フェニルエチル)−2−(イミダゾール−
1−イル)メチル−4−ヒドロキシメチル−1,3−ジ
オキソラン(シス/トランス)−2−(2−(2,4−
ジクロロフェニル)エチル)−2−(イミダゾール−1
−イル)メチル−4−ヒドロキシメチル−1,3−ジオ
キソラン(シス/トランス)−2−(2−(4−クロロ
フェニル)エチル)−2−(5−メチルイミダゾール−
1−イル)メチル−4−ヒドロキシメチル−1,3−ジ
オキソラン
【0136】C.同様にして、以下の式(C)の化合物
が製造される。(シス/トランス)−2−(2−(4−
メチルフェニル)エチル)−2−(イミダゾール−1−
イル)メチル−4−ヒドロキシメチル−1,3−ジオキ
ソラン(シス/トランス)−2−(2−(4−エチルフ
ェニル)エチル)−2−(イミダゾール−1−イル)メ
チル−4−ヒドロキシメチル−1,3−ジオキソラン(
シス/トランス)−2−(2−(3,5−ジクロロフェ
ニル)エチル)−2−(イミダゾール−1−イル)メチ
ル−4−ヒドロキシメチル−1,3−ジオキソラン(シ
ス/トランス)−2−(2−(3,5−ジメチルフェニ
ル)エチル)−2−(イミダゾール−1−イル)メチル
−4−ヒドロキシメチル−1,3−ジオキソラン(シス
/トランス)−2−(2−(4−エトキシフェニル)エ
チル)−2−(イミダゾール−1−イル)メチル−4−
ヒドロキシメチル−1,3−ジオキソラン(シス/トラ
ンス)−2−(2−(トリフルオロメチルフェニル)エ
チル)−2−(イミダゾール−1−イル)メチル−4−
ヒドロキシメチル−1,3−ジオキソラン(シス/トラ
ンス)−2−(2−(4−クロロフェニル)エチル)−
2−(5−エチルイミダゾール−1−イル)−4−ヒド
ロキシメチル−1,3−ジオキソラン(シス/トランス
)−2−(2−(4−クロロフェニル)エチル)−2−
(5−n−ブチルイミダゾール−1−イル)−4−ヒド
ロキシメチル−1,3−ジオキソラン(シス/トランス
)−2−(2−(2−(4−クロロフェニル)エチル)
−2−(5−n−プロピルイミダゾール−1−イル)−
4−ヒドロキシメチル−1,3−ジオキソラン(シス/
トランス)−2−(2−(4−メトキシフェニル)エチ
ル)−2−(5−エチルイミダゾール−1−イル)−4
−ヒドロキシメチル−1,3−ジオキソラン(シス/ト
ランス)−2−(2−(4−メトキシフェニル)エチル
)−2−(5−n−ブチルイミダゾール−1−イル)−
4−ヒドロキシメチル−1,3−ジオキソラン(シス/
トランス)−2−(2−(4−メトキシフェニル)エチ
ル)−2−(5−n−プロピルイミダゾール−1−イル
)−4−ヒドロキシメチル−1,3−ジオキソラン(シ
ス/トランス)−2−(2−(4−メチルフェニル)エ
チル)−2−(5−エチルイミダゾール−1−イル)−
4−ヒドロキシメチル−1,3−ジオキソラン(シス/
トランス)−2−(2−(4−メチルフェニル)エチル
)−2−(5−n−ブチルイミダゾール−1−イル)−
4−ヒドロキシメチル−1,3−ジオキソラン(シス/
トランス)−2−(2−(4−メチルフェニル)エチル
)−2−(5−n−プロピルイミダゾール−1−イル)
−4−ヒドロキシメチル−1,3−ジオキソラン(シス
/トランス)−2−(3−(4−クロロフェニル)プロ
ピル)−2−(イミダゾール−1−イル)メチル−4−
ヒドロキシメチル−1,3−ジオキソラン(シス/トラ
ンス)−2−(3−(4−メトキシフェニル)プロピル
)−2−(イミダゾール−1−イル)メチル−4−ヒド
ロキシメチル−1,3−ジオキソラン(シス/トランス
)−2−(3−(4−フルオロフェニル)プロピル)−
2−(イミダゾール−1−イル)メチル−4−ヒドロキ
シメチル−1,3−ジオキソラン(シス/トランス)−
2−(3−フェニルプロピル)−2−(イミダゾール−
1−イル)メチル−4−ヒドロキシメチル−1,3−ジ
オキソラン(シス/トランス)−2−(3−(2,4−
ジクロロフェニル)プロピル)−2−(イミダゾール−
1−イル)メチル−4−ヒドロキシメチル−1,3−ジ
オキソラン(シス/トランス)−2−(3−(4−クロ
ロフェニル)プロピル)−2−(5−メチルイミダゾー
ル−1−イル)メチル−4−ヒドロキシメチル−1,3
−ジオキソラン(シス/トランス)−2−(3−(4−
メチルフェニル)プロピル)−2−(イミダゾール−1
−イル)メチル−4−ヒドロキシメチル−1,3−ジオ
キソラン(シス/トランス)−2−(3−(4−エチル
フェニル)プロピル)−2−(イミダゾール−1−イル
)メチル−4−ヒドロキシメチル−1,3−ジオキソラ
ン(シス/トランス)−2−(3−(3,5−ジクロロ
フェニル)プロピル)−2−(イミダゾール−1−イル
)メチル−4−ヒドロキシメチル−1,3−ジオキソラ
ン(シス/トランス)−2−(3−(3,5−ジメチル
フェニル)プロピル)−2−(イミダゾール−1−イル
)メチル−4−ヒドロキシメチル−1,3−ジオキソラ
ン(シス/トランス)−2−(3−(4−エトキシフェ
ニル)プロピル)−2−(イミダゾール−1−イル)メ
チル−4−ヒドロキシメチル−1,3−ジオキソラン(
シス/トランス)−2−(3−(トリフルオロメチルフ
ェニル)プロピル)−2−(イミダゾール−1−イル)
メチル−4−ヒドロキシメチル−1,3−ジオキソラン
(シス/トランス)−2−(3−(4−クロロフェニル
)プロピル)−2−(5−エチルイミダゾール−1−イ
ル)−4−ヒドロキシメチル−1,3−ジオキソラン(
シス/トランス)−2−(3−(4−クロロフェニル)
プロピル)−2−(5−n−ブチルイミダゾール−1−
イル)−4−ヒドロキシメチル−1,3−ジオキソラン
(シス/トランス)−2−(3−(4−クロロフェニル
)プロピル)−2−(5−n−プロピルイミダゾール−
1−イル)−4−ヒドロキシメチル−1,3−ジオキソ
ラン(シス/トランス)−2−(3−(4−メトキシフ
ェニル)プロピル)−2−(5−エチルイミダゾール−
1−イル)−4−ヒドロキシメチル−1,3−ジオキソ
ラン(シス/トランス)−2−(3−(4−メトキシフ
ェニル)プロピル)−2−(5−n−ブチルイミダゾー
ル−1−イル)−4−ヒドロキシメチル−1,3−ジオ
キソラン(シス/トランス)−2−(3−(4−メトキ
シフェニル)プロピル)−2−(5−n−プロピルイミ
ダゾール−1−イル)−4−ヒドロキシメチル−1,3
−ジオキソラン(シス/トランス)−2−(3−(4−
メチルフェニル)プロピル)−2−(5−エチルイミダ
ゾール−1−イル)−4−ヒドロキシメチル−1,3−
ジオキソラン(シス/トランス)−2−(3−(4−メ
チルフェニル)プロピル)−2−(5−n−ブチルイミ
ダゾール−1−イル)−4−ヒドロキシメチル−1,3
−ジオキソラン(シス/トランス)−2−(3−(4−
メチルフェニル)プロピル)−2−(5−n−プロピル
イミダゾール−1−イル)−4−ヒドロキシメチル−1
,3−ジオキソラン
【0137】製造例9式(D)、(Da)および(Db
)の化合物A.(シスおよびトランス)−2−(2−(
4−クロロフェニル)エチル)−2−(イミダゾール−
1−イル)メチル−4−ヒドロキシメチル−1,3−ジ
オキソラン(39.7g)をピリジン(150ml)中
に取り0℃で攪拌しながらメタンスルホニルクロリド(
10.6ml)を滴下し、混合物を一夜攪拌した。得ら
れた固体塊をエーテル(500ml)と攪拌して固体を
粉砕し、濾過し、エーテルでよく洗浄すると、(シス/
トランス)−2−(2−(4−クロロフェニル)エチル
)−2−(イミダゾール−1−イル)メチル−4−(メ
チルスルホニルオキシ)メチル−1,3−ジオキソラン
塩酸塩が得られた。そのサンプルをジクロロメタン/イ
ソプロパノールから再結晶すると融点107〜111℃
(炭化)を示した。
【0138】B.(シス/トランス)−2−(2−(4
−クロロフェニル)エチル)−2−(イミダゾール−1
−イル)メチル−4−ヒドロキシメチル−1,3−ジオ
キソランの代わりに他の式(C)の化合物を用いるほか
は同様に操作し、得られた塩を中和すると、以下の式(
D)の化合物が製造された。(シス/トランス)−2−
(2−(4−フルオロフェニル)エチル)−2−(イミ
ダゾール−1−イル)メチル−4−(メチルスルホニル
オキシ)メチル−1,3−ジオキソラン(シス/トラン
ス)−2−(2−(2,4−ジクロロフェニル)エチル
)−2−(イミダゾール−1−イル)メチル−4−(メ
チルスルホニルオキシ)メチル−1,3−ジオキソラン
(シス/トランス)−2−(2−フェニルエチル)−2
−(イミダゾール−1−イル)メチル−4−(メチルス
ルホニルオキシ)メチル−1,3−ジオキソラン
【01
39】同様にして、以下の式(D)の化合物が製造され
る。(シス/トランス)−2−(2−(4−メチルフェ
ニル)エチル)−2−(イミダゾール−1−イル)メチ
ル−4−(メチルスルホニルオキシ)メチル−1,3−
ジオキソラン(シス/トランス)−2−(2−(3,5
−ジ−n−プロポキシフェニル)エチル)−2−(イミ
ダゾール−1−イル)メチル−4−(メチルスルホニル
オキシ)メチル−1,3−ジオキソラン(シス/トラン
ス)−2−(2−フェニルエチル)−2−(イミダゾー
ル−1−イル)メチル−4−(メチルスルホニルオキシ
)メチル−1,3−ジオキソラン(シス/トランス)−
2−(2−(4−メチルフェニル)エチル)−2−(5
−メチルイミダゾール−1−イル)メチル−4−(メチ
ルスルホニルオキシ)メチル−1,3−ジオキソラン(
シス/トランス)−2−(2−(3,5−ジ−n−プロ
ポキシフェニル)エチル)−2−(5−エチルイミダゾ
ール−1−イル)メチル−4−(メチルスルホニルオキ
シ)メチル−1,3−ジオキソラン(シス/トランス)
−2−(3−(4−メチルフェニル)プロピル)−2−
(イミダゾール−1−イル)メチル−4−(メチルスル
ホニルオキシ)メチル−1,3−ジオキソラン(シス/
トランス)−2−(3−(3,5−ジ−n−プロポキシ
フェニル)プロピル)−2−(イミダゾール−1−イル
)メチル−4−(メチルスルホニルオキシ)メチル−1
,3−ジオキソラン(シス/トランス)−2−(3−フ
ェニルプロピル)−2−(イミダゾール−2−イル)メ
チル−4−(メチルスルホニルオキシ)メチル−1,3
−ジオキソラン(シス/トランス)−2−(3−(4−
メチルフェニル)プロピル)−2−(5−メチルイミダ
ゾール−1−イル)メチル−4−(メチルスルホニルオ
キシ)メチル−1,3−ジオキソラン(シス/トランス
)−2−(3−(3,5−ジ−n−プロポキシフェニル
)プロピル)−2−(5−エチルイミダゾール−1−イ
ル)メチル−4−(メチルスルホニルオキシ)メチル−
1,3−ジオキソラン
【0140】D.上記(A)の部
における残りの固体を炭酸カリウム水溶液で塩基性にし
、酢酸エチル(2×400ml)で抽出し、抽出液を洗
浄し、乾燥し(MgSO4)、蒸発させた。得られた半
結晶塊を、シリカゲル(900g)上クロマトグラフィ
ーに付し、最初はジクロロメタンで、ついで含水酢酸エ
チル(水2.2%)で溶出すると、(±)−シス−2−
(2−(4−クロロフェニル)エチル)−2−(イミダ
ゾール−1−イル)メチル−4−(メチルスルホニル)
メチル−1,3−ジオキソラン25.4gが雪白色の固
体として得られた。融点93.5〜96℃。さらに溶出
を続けると、少量の混合分画ののちに、純粋な(±)−
トランス−2−(2−(4−クロロフェニル)エチル)
−2−(イミダゾール−1−イル)メチル−4−(メチ
ルスルホニルオキシ)メチル−1,3−ジオキソランが
、融点93〜95℃の白色固体として得られた(両異性
体はそれらのNMRスペクトルによって、またシリカゲ
ル薄層クロマトグラフィーにおいて水飽和酢酸エチルで
溶出した場合の挙動によって、容易に識別できる)。
【0141】E.(シス/トランス−2−(2−(4−
クロロフェニル)エチル)−2−(イミダゾール−1−
イル)メチル−4−(メチルスルホニルオキシ)メチル
−1,3−ジオキソランの代わりに他の式(D)の化合
物を使用するほかは同様に操作して、以下の式(Da)
および(Db)の化合物が製造された。(±)−シス−
2−(2−(4−フルオロフェニル)エチル)−2−(
イミダゾール−1−イル)メチル−4−(メチルスルホ
ニルオキシ)メチル−1,3−ジオキソラン(±)−シ
ス−2−(2−(2,4−ジクロロフェニル)エチル)
−2−(イミダゾール−1−イル)メチル−4−(メチ
ルスルホニルオキシ)メチル−1,3−ジオキソラン(
±)−シス−2−(2−フェニルエチル)−2−(イミ
ダゾール−1−イル)メチル−4−(メチルスルホニル
オキシ)メチル−1,3−ジオキソラン(±)−トラン
ス−2−(2−(4−フルオロフェニル)エチル)−2
−(イミダゾール−1−イル)メチル−4−(メチルス
ルホニルオキシ)メチル−1,3−ジオキソラン(±)
−トランス−2−(2−(2,4−ジクロロフェニル)
エチル)−2−(イミダゾール−1−イル)メチル−4
−(メチルスルホニルオキシ)メチル−1,3−ジオキ
ソラン(±)−トランス−2−(2−フェニルエチル)
−2−(イミダゾール−1−イル)メチル−4−(メチ
ルスルホニルオキシ)メチル−1,3−ジオキソラン
【0142】F.また、上記(A)の部と同様に操作す
るが、(シス/トランス)−2−(2−(4−クロロフ
ェニル)エチル)−2−(イミダゾール−1−イル)メ
チル−4−ヒドロキシメチル−1,3−ジオキソランの
代わりに、下記の製造例10において製造される(±)
−シス−2−(2−(4−クロロフェニル)エチル)−
2−(イミダゾール−1−イル)メチル−4−ヒドロキ
シメチル−1,3−ジオキソランまたは(±)−トラン
ス−2−(2−(4−クロロフェニルエチル)−2−(
イミダゾール−1−イル)メチル−4−ヒドロキシメチ
ル−1,3−ジオキソランを用い、得られた塩を中和す
ると、(±)−シス−2−(2−(4−クロロフェニル
)エチル)−2−(イミダゾール−1−イル)メチル−
4−(メチルスルホニルオキシ)メチル−1,3−ジオ
キソラン、融点93.5〜96℃、および(±)−トラ
ンス−2−(2−(4−クロロフェニル)エチル−2−
(イミダゾール−1−イル)メチル−4−(メチルスル
ホニルオキシ)メチル−1,3−ジオキソラン、融点9
3〜95℃が製造された。
【0143】製造例10式(C)で示される化合物の各
ラセミ体混合物A.ピリジン(40ml)中の(シス/
トランス)−2−(2−(4−クロロフェニル)エチル
)−2−(イミダゾール−1−イル)メチル−4−ヒド
ロキシメチル−1,3−ジオキソラン(10.0g)を
、0〜5℃において攪拌しながら5分間にわたり、ベン
ゾイルクロライド4.2mlで処理する。一夜にわたり
攪拌した後に、この固形の塊状物をエーテル(250m
l)で処理し、生成する粗製の(シス/トランス)−2
−(2−(4−クロロフェニル)エチル)−2−(イミ
ダゾール−1−イル)メチル−4−(ベンゾイルオキシ
)メチル−1,3−ジオキソランの塩酸塩を濾別し、次
いでエーテルにより充分に洗浄する。
【0144】この固形物を沸とうアセトン(200ml
)で2回抽出し、生成する固形物を、メタノール/アセ
トンから再結晶させ、(±)−トランス−2−(2−(
4−クロロフェニル)エチル)−2−(イミダゾール−
1−イル)メチル−4−(ベンゾイルオキシ)メチル−
1,3−ジオキソラン塩酸塩を雪白色固形物(4.38
g)として得る、融点:198.5〜202℃。上記か
らのアセトン抽出液を室温で放置すると、(±)−シス
−2−(2−(4−クロロフェニル)エチル)−2−(
イミダゾール−1−イル)メチル−4−(ベンゾイルオ
キシメチル)−1,3−ジオキソラン塩酸塩が沈殿する
。この生成物をアセトンから再結晶させる、融点:15
4.5〜158℃。追加の生成物を得るために、上記か
らの混合フラクションおよび母液を蒸発させ、炭酸カリ
ウム水溶液および酢酸エチルとともに攪拌することによ
って塩基性にし、次いでシリカゲル上でクロマトグラフ
ィを行ない、2.2%の水を含有する酢酸エチルで溶出
する。
【0145】初めのフラクションは、純粋な(±)−シ
ス−2−(2−(4−クロロフェニル)エチル)−2−
(イミダゾール−1−イル)メチル−4−(ベンゾイル
オキシ)メチル−1,3−ジオキソランの油状物からな
る。小量の混合フラクションの後の、引続く溶出液から
、純粋な(±)−トランス−2−(2−(4−クロロフ
ェニル)エチル)−2−(イミダゾール−1−イル)メ
チル−4−(ベンゾイルオキシ)メチル−1,3−ジオ
キソランが油状物として得られる。この油状物は放置す
ると、結晶化する。
【0146】B.メタノール(50ml)中の(±)−
シス−2−(2−(4−クロロフェニル)エチル)−2
−(イミダゾール−1−イル)メチル−4−ベンゾイル
オキシメチル−1,3−ジオキソラン(2.3g)の溶
液を、水(15ml)中の水酸化ナトリウム(2.0g
)で処理し、この混合物を室温において、反応が完了す
るまで攪拌する。メタノールを蒸発させると、油状物が
得られる。この油状物はこの水性混合物の冷却によって
自発的に結晶化する。濾過し、次いで酢酸エチルから再
結晶させ、(±)−シス−2−(2−(4−クロロフェ
ニル)エチル)−2−(イミダゾール−1−イル)メチ
ル−4−ヒドロキシメチル−1,3−ジオキソラン1.
56gを得る、融点:116〜117.5℃。
【0147】(±)−トランス−2−(2−(4−クロ
ロフェニル)エチル)−2−(イミダゾール−1−イル
)メチル−4−ベンゾイルオキシメチル−1,3−ジオ
キソラン塩酸塩(3.04g)を、同様に加水分解し、
(±)−トランス−2−(2−(4−クロロフェニル)
エチル)−2−(イミダゾール−1−イル)メチル−4
−ヒドロキシメチル−1,3−ジオキソラン1.96g
を得る、融点:121〜122.5℃
【0148】C.
別様に、ベンゾイルクロライドの代りに、4−フェニル
ベンゾイルクロライドを使用し、((±)−シスおよび
(±)−トランス)−2−(2−(4−クロロフェニル
)エチル)−2−(イミダゾール−1−イル)メチル−
4−(4−フェニルベンゾイルオキシ)メチル−1,3
−ジオキソランを得る。この生成物は、上記のとおりの
、シリカゲル上でクロマトグラフィで処理すると、下記
の異性体の各混合物が得られる:(±)−シス−2−(
2−(4−クロロフェニル)エチル)−2−(イミダゾ
ール−1−イル)メチル−4−(4−フェニルベンゾイ
ルオキシ)メチル−1,3−ジオキソラン;塩酸塩とし
て、融点:180〜182.5℃;および±)−トラン
ス−2−(2−(4−クロロフェニル)エチル)−2−
(イミダゾール−1−イル)メチル−4−(4−フェニ
ルベンゾイルオキシ)メチル−1,3−ジオキソラン;
塩酸塩として、融点:135.5〜140℃。
【0149】D.上記(C)で製造されたエステル化合
物を、上記(B)に記載の方法で加水分解し、上記(B
)の相当する4−ヒドロキシメチルラセミ体混合物を得
る。
【0150】製造例11式(E)で示される化合物A.
アセトン(150ml)中の4−アセトキシ安息香酸(
5.0g)およびトリエチルアミン(3.0g)の混合
物を、0℃において攪拌しながら5分間にわたり、エチ
ルクロロホーメートで処理する。さらに10分後に、水
(10ml)中のナトリウムアジド(21.5g)を加
え、この混合物を5℃に0.5時間、保持する。この混
合物を次いで、減圧の下に45℃で濃縮し、残留物をト
ルエン(200ml)中に溶解し、次いで水で洗浄し、
次いで乾燥する(Na2SO4)。
【0151】減圧の下にトルエン100mlを蒸発させ
た後に、この溶液を1時間、加熱還流させ、次いで5℃
に冷却した後に、n−プロピルアミン(3ml)を加え
る。さらに15分後に、この混合物を蒸発乾燥し、残留
物をメタノール(50ml)中に溶解し、次いで10%
水性NaOH(10ml)とともに、60℃で15分間
加温する。メタノールを蒸発させ、次いで水および6N
HClを添加し、固形物を得る。この固形物を濾別し、
水で洗浄し、次いでアセトン−エーテルから結晶化させ
、4−n−プロピルアミノカルボニルアミノフェノール
(3.1g)を得る。
【0152】B.ヨードブタン(50g)中の4−メト
キシアニリン(10.5g)を一夜にわたり、加熱還流
させる。過剰のヨードブタンを留去し、最後の痕跡量は
減圧で除去する。この残留物をDMF(ジメチルホルム
アミド)(50ml)中に入れ、DABCO(1,4−
ジアゾビシクロ〔2.2.2〕オクタン)(20g)で
処理し、この混合物を減圧の下に2時間、加熱還流させ
る。大部分のDMFを次いで蒸発させ、残留物を酢酸エ
チル中に取り、水で充分に洗浄し、次いで乾燥する(N
a2SO4)。溶媒を蒸発させた後に、上記処理を、ヨ
ードブタン(50ml)(一夜)を使用し、次いでDA
BCO(10g)で処理することによって反復する。仕
上げ処理した後に、生成する油状物をシリカゲル上でク
ロマトグラフィにより処理し、ヘキサン中の10%酢酸
エチルにより溶出し、4−メトキシ−N,N−ジブチル
アニリン(9.2g)を得る。
【0153】C.48%臭化水素酸(50ml)中の4
−メトキシ−N,N−ジブチルアニリン(9.2g)を
、2.5時間加熱還流させ、次いでこの酸を減圧の下に
除去する。水を加え、固形重炭酸ナトリウムで中和した
後に、得られた沈殿を濾別し、水で洗浄し、次いでメタ
ノール−エーテルから再結晶させ、4−ヒドロキシ−N
,N−ジブチルアニリンを得る。
【0154】製造例12式(Dc)および(Dd)で示
される化合物A.トルエン(100ml)中の乾燥4−
(4−クロロフェニル)−1−(イミダゾール−1−イ
ル)ブタン−2−オン(4.08g、17.6ミリモル
)およびp−トルエンスルホン酸1水和物(5.37g
、28.2ミリモル)をディーン−スタークトラップを
通して、1.5時間還流させ、次いで水の分離を完全に
判別する。別に、トルエン(40ml)中のS−ソルケ
タールトシレート(6.06g、21.2ミリモル)の
溶液を、同様の共沸蒸留によって乾燥させ、冷却した後
に、n−ブタノール(1.95ml、21.2ミリモル
)を加える。このブタノンの冷却溶液を、4オングスト
ロームの分子篩を充填したディーン−スタークヘッドを
頂上に有するコンデンサーを付けた新しい装置で再度、
還流させ、次いでS−ソルケタールトシレート/ブタノ
ール溶液を1時間にわたり、少しづつ加える。
【0155】この反応混合物を、さらに7時間、加熱還
流し、次いで減圧の下に蒸発させ、生成する油状残留物
を酢酸エチル(200ml)中に溶解する。生成する溶
液を次いで、水性炭酸ナトリウムにより1回、水により
2回、洗浄し、Na2SO4上で乾燥させ、次いで減圧
の下に蒸発させる。生成する粗生成物混合物(固形物8
.25g)を10インチ×3インチO.D.シリカゲル
カラムでフラッシュクロマトグラフィにより処理する。 溶出は、酢酸エチル、塩化メチレンおよびヘキサンの3
:3:2混合物中の0.1%NH4OHおよび5%メタ
ノールを用いて開始し、次いで同一溶剤混合物中の0.
2%NH4OHおよび10%メタノールの溶液まで徐々
に変えて行なう。初めに溶出された生成物を再結晶させ
、純粋な立体異性体、(2S,4S)−シス−2−(2
−(4−クロロフェニル)エチル)−2−(イミダゾー
ル−1−イル)メチル−4−(p−トルエンスルホニル
オキシ)メチル−1,3−ジオキソラン(29%)を得
る、融点:120〜122℃。極性の強い方の生成物は
、(2R,4S)−トランス−2−(2−(4−クロロ
フェニル)エチル)−2−(イミダゾール−1−イル)
メチル−4−(P−トルエンスルホニルオキシ)メチル
−1,3−ジオキソラン(3.67g、47%)であっ
た、融点:154〜155℃。
【0156】B.同様の方法を用いるが、4−(4−ク
ロロフェニル)−1−(イミダゾール−1ーイル)ブタ
ン−2−オンの代りに、式(B)で示される別の化合物
を使用し、下記の式(Dc)および式(Dd)で示され
る化合物を製造する:(2S,4S)−シス−2−(2
−(4−メトキシフェニル)エチル)−2−(イミダゾ
ール−1−イル)メチル−4−(p−トルエンスルホニ
ルオキシ)メチル−1,3−ジオキソラン;(2R,4
S)−トランス−2−(2−(4−メトキシフェニル)
エチル)−2−(イミダゾール−1−イル)メチル−4
−(p−トルエンスルホニルオキシ)メチル−1,3,
ジオキソラン;(2S,4S)−シス−2−(2−(2
,4−ジクロロフェニル)エチル)−2−(イミダゾー
ル−1−イル)メチル−4−(p−トルエンスルホニル
オキシ)メチル−1,3−ジオキソラン;(2R,4S
)−トランス−2−(2−(2,4−ジクロロフェニル
)エチル)−2−(イミダゾール−1−イル)メチル−
4−(p−トルエンスルホニルオキシ)メチル−1,3
−ジオキソラン;(2S,4S)−シス−2−(2−(
4−フルオロフェニル)エチル)−2−(イミダゾール
−1−イル)メチル−4−(p−トルエンスルホニルオ
キシ)メチル−1,3−ジオキソラン;および(2R,
4S)−トランス−2−(2−(4−フルオロフェニル
)エチル)−2−(イミダゾール−1−イル)メチル−
4−(p−トルエンスルホニルオキシ)メチル−1,3
−ジオキソラン。
【0157】C.同様の方法で、下記の式(Dc)およ
び式(Dd)で示される化合物を製造する:(2S,4
S)−シス−2−(2−(4−メトキシフェニル)エチ
ル)−2−(5−メチルイミダゾール−1−イル)メチ
ル−4−(p−トルエンスルホニルオキシ)メチル−1
,3−ジオキソラン;(2R,4S)−トランス−2−
(2−(4−メトキシフェニル)エチル)−2−(5−
メチルイミダゾール−1−イル)メチル−4−(p−ト
ルエンスルホニルオキシ)メチル−1,3−ジオキソラ
ン;(2S,4S)−シス−2−(2−(2,4−ジク
ロロフェニル)エチル)−2−(5−エチルイミダゾー
ル−1ーイル)メチル−4−(p−トルエンスルホニル
オキシ)メチル−1,3−ジオキソラン;(2R,4S
)−トランス−2−(2−(2,4−ジクロロフェニル
)エチル)−2−(5−エチルイミダゾール−1−イル
)メチル−4−(p−トルエンスルホニルオキシ)メチ
ル−1,3−ジオキソラン;(2S,4S)−シス−2
−(2−(3,5−ジ−n−プロポキシフェニル)エチ
ル)−2−(イミダゾール−1−イル)メチル−4−(
p−トルエンスルホニルオキシ)メチル−1,3−ジオ
キソラン;
【0158】(2R,4S)−トランス−2−(2−(
3,5−ジ−n−プロポキシフェニル)エチル)−2−
(イミダゾール−1−イル)メチル−4−(p−トルエ
ンスルホニルオキシ)メチル−1,3−ジオキソラン;
(2S,4S)−シス−2−(2−(4−エトキシフェ
ニル)エチル)−2−(イミダゾール−1−イル)メチ
ル−4−(p−トルエンスルホニルオキシ)メチル−1
,3−ジオキソラン;(2R,4S)−トランス−2−
(2−(4−エトキシフェニル)エチル)−2−(イミ
ダゾール−1ーイル)メチル−4−(p−トルエンスル
ホニルオキシ)メチル−1,3−ジオキソラン;(2S
,4S)−シス−2−(2−(3,5−ジメチルフェニ
ル)エチル)−2−(イミダゾール−1−イル)メチル
−4−(p−トルエンスルホニルオキシ)メチル−1,
3−ジオキソラン;(2R,4S)−トランス−2−(
2−(3,5−ジメチルフェニル)エチル)−2−(イ
ミダゾール−1−イル)メチル−4−(p−トルエンス
ルホニルオキシ)メチル−1,3−ジオキソラン;(2
S,4S)−シス−2−(2−フェニルエチル)−2−
(イミダゾール−1−イル)メチル−4−(p−トルエ
ンスルホニルオキシ)メチル−1,3−ジオキソラン;
【0159】(2R,4S)−トランス−2−(2−フ
ェニルエチル)−2−(イミダゾール−1−イル)メチ
ル−4−(p−トルエンスルホニルオキシ)メチル−1
,3−ジオキソラン;(2S,4S)−シス−2−(3
−(4−クロロフェニル)プロピル)−2−(イミダゾ
ール−1−イル)メチル−4−(p−トルエンスルホニ
ルオキシ)メチル−1,3−ジオキソラン;(2R,4
S)−トランス−2−(3−(4−クロロフェニル)プ
ロピル)−2−(イミダゾール−1−イル)メチル−4
−(p−トルエンスルホニルオキシ)メチル−1,3−
ジオキソラン;(2S,4S)−シス−2−(3−(4
−メトキシフェニル)プロピル)−2−(イミダゾール
−1−イル)メチル−4−(p−トルエンスルホニルオ
キシ)メチル−1,3−ジオキソラン;(2R,4S)
−トランス−2−(3−(4−メトキシフェニル)プロ
ピル)−2−(イミダゾール−1−イル)メチル−4−
(p−トルエンスルホニルオキシ)メチル−1,3−ジ
オキソラン;(2S,4S)−シス−2−(3−(2,
4−ジクロロフェニル)プロピル)−2−(イミダゾー
ル−1−イル)メチル−4−(p−トルエンスルホニル
オキシ)メチル−1,3−ジオキソラン;
【0160】
(2R,4S)−トランス−2−(3−(2,4−ジク
ロロフェニル)プロピル)−2−(イミダゾール−1−
イル)メチル−4−(p−トルエンスルホニルオキシ)
メチル−1,3−ジオキソラン;(2S,4S)−シス
−2−(3−(4−フルオロフェニル)プロピル)−2
−(イミダゾール−1−イル)メチル−4−(p−トル
エンスルホニルオキシ)メチル−1,3−ジオキソラン
;(2R,4S)−トランス−2−(3−(4−フルオ
ロフェニル)プロピル)−2−(イミダゾール−1−イ
ル)メチル−4−(p−トルエンスルホニルオキシ)メ
チル−1,3−ジオキソラン;(2S,4S)−シス−
2−(3−(3,5−ジ−n−プロポキシフェニル)プ
ロピル)−2−(イミダゾール−1−イル)メチル−4
−(p−トルエンスルホニルオキシ)メチル−1,3−
ジオキソラン;(2R,4S)−トランス−2−(3−
(3,5−ジ−n−プロポキシフェニル)プロピル)−
2−(イミダゾール−1−イル)メチル−4−(p−ト
ルエンスルホニルオキシ)メチル−1,3−ジオキソラ
ン;
【0161】(2S,4S)−シス−2−(3−(4−
エトキシフェニル)プロピル)−2−(イミダゾール−
1−イル)メチル−4−(p−トルエンスルホニルオキ
シ)メチル−1,3−ジオキソラン;(2R,4S)−
トランス−2−(3−(4−エトキシフェニル)プロピ
ル)−2−(イミダゾール−1−イル)メチル−4−(
p−トルエンスルホニルオキシ)メチル−1,3−ジオ
キソラン;(2S,4S)−シス−2−(3−(3,5
−ジメチルフェニル)プロピル)−2−(イミダゾール
−1−イル)メチル−4−(p−トルエンスルホニルオ
キシ)メチル−1,3−ジオキソラン;(2R,4S)
−トランス−2−(3−(3,5−ジメチルフェニル)
プロピル)−2−(イミダゾール−1−イル)メチル−
4−(p−トルエンスルホニルオキシ)メチル−1,3
−ジオキソラン;(2S,4S)−シス−2−(2−フ
ェニルエチル)−2−(イミダゾール−1−イル)メチ
ル−4−(p−トルエンスルホニルオキシ)メチル−1
,3−ジオキソラン;および(2R,4S)−トランス
−2−(2−フェニルエチル)−2−(イミダゾール−
1−イル)メチル−4−(p−トルエンスルホニルオキ
シ)メチル−1,3−ジオキソラン。
【0162】D.同様の方法に従うが、S−ソルケター
ルトシレートの代りに、R−ソルケタールトシレートを
使用し、下記の式(De)および式(Df)で示される
化合物を製造する:(2R,4R)−シス−2−(2−
(4−クロロフェニル)エチル)−2−(イミダゾール
−1−イル)メチル−4−(p−トルエンスルホニルオ
キシ)メチル−1,3−ジオキソラン;(2S,4R)
−トランス−2−(2−(4−クロロフェニル)エチル
)−2−(イミダゾール−1−イル)メチル−4−(p
−トルエンスルホニルオキシ)メチル−1,3−ジオキ
ソラン;(2R,4R)−シス−2−(2−(4−メト
キシフェニル)エチル)−2−(イミダゾール−1−イ
ル)メチル−4−(p−トルエンスルホニルオキシ)メ
チル−1,3−ジオキソラン;(2R,4R)−トラン
ス−2−(2−(4−メトキシフェニル)エチル)−2
−(イミダゾール−1−イル)メチル−4−(p−トル
エンスルホニルオキシ)メチル−1,3−ジオキソラン
;(2R,4R)−シス−2−(2−(2,4−ジクロ
ロフェニル)エチル)−2−(イミダゾール−1−イル
)メチル−4−(p−トルエンスルホニルオキシ)メチ
ル−1,3−ジオキソラン;
【0163】(2S,4R
)−トランス−2−(2−(2,4−ジクロロフェニル
)エチル)−2−(イミダゾール−1−イル)メチル−
4−(p−トルエンスルホニルオキシ)メチル−1,3
−ジオキソラン;(2R,4R)−シス−2−(2−(
4−フルオロフェニル)エチル)−2−(イミダゾール
−1−イル)メチル−4−(p−トルエンスルホニルオ
キシ)メチル−1,3−ジオキソラン;および(2S,
4R)−トランス−2−(2−(4−フルオロフェニル
)エチル)−2−(イミダゾール−1−イル)メチル−
4−(p−トルエンスルホニルオキシ)メチル−1,3
−ジオキソラン。
【0164】E.同様の方法で、下記の式(De)およ
び式(Df)で示される化合物を製造する:(2R,4
R)−シス−2−(2−(4−メトキシフェニル)エチ
ル)−2−(5−メチルイミダゾール−1−イル)メチ
ル−4−(p−トルエンスルホニルオキシ)メチル−1
,3−ジオキソラン;(2S,4R)−トランス−2−
(2−(4−メトキシフェニル)エチル)−2−(5−
メチルイミダゾール−1−イル)メチル−4−(p−ト
ルエンスルホニルオキシ)メチル−1,3−ジオキソラ
ン;(2R,4R)−シス−2−(2−(2,4−ジク
ロロフェニル)エチル)−2−(5−エチルイミダゾー
ル−1−イル)メチル−4−(p−トルエンスルホニル
オキシ)メチル−1,3−ジオキソラン;(2S,4R
)−トランス−2−(2−(2,4−ジクロロフェニル
)エチル)−2−(5−エチルイミダゾール−1−イル
)メチル−4−(p−トルエンスルホニルオキシ)メチ
ル−1,3−ジオキソラン;(2R,4R)−シス−2
−(2−(3,5−ジ−n−プロポキシフェニル)エチ
ル)−2−(イミダゾール−1−イル)メチル−4−(
p−トルエンスルホニルオキシ)メチル−1,3−ジオ
キソラン;
【0165】(2S,4R)−トランス−2−(2−(
3,5−ジ−n−プロポキシフェニル)エチル)−2−
(イミダゾール−1−イル)メチル−4−(p−トルエ
ンスルホニルオキシ)メチル−1,3−ジオキソラン;
(2R,4R)−シス−2−(2−(4−エトキシフェ
ニル)エチル)−2−(イミダゾール−1−イル)メチ
ル−4−(p−トルエンスルホニルオキシ)メチル−1
,3−ジオキソラン;(2S,4R)−トランス−2−
(2−(4−エトキシフェニル)エチル)−2−(イミ
ダゾール−1−イル)メチル−4−(p−トルエンスル
ホニルオキシ)メチル−1,3−ジオキソラン;(2R
,4R)−シス−2−(2−(3,5−ジメチルフェニ
ル)エチル)−2−(イミダゾール−1−イル)メチル
−4−(p−トルエンスルホニルオキシ)メチル−1,
3−ジオキソラン;(2S,4R)−トランス−2−(
2−(3,5−ジメチルフェニル)エチル)−2−(イ
ミダゾール−1−イル)メチル−4−(p−トルエンス
ルホニルオキシ)メチル−1,3−ジオキソラン;
【0166】(2R,4R)−シス−2−(2−フェニ
ルエチル)−2−(イミダゾール−1−イル)メチル−
4−(p−トルエンスルホニルオキシ)メチル−1,3
−ジオキソラン;(2S,4R)−トランス−2−(2
−フェニルエチル)−2−(イミダゾール−1ーイル)
メチル−4−(p−トルエンスルホニルオキシ)メチル
−1,3−ジオキソラン;(2R,4R)−シス−2−
(3−(4−クロロフェニル)プロピル)−2−(イミ
ダゾール−1−イル)メチル−4−(p−トルエンスル
ホニルオキシ)メチル−1,3−ジオキソラン;(2S
,4R)−トランス−2−(3−(4−クロロフェニル
)プロピル)−2−(イミダゾール−1−イル)メチル
−4−(p−トルエンスルホニルオキシ)メチル−1,
3−ジオキソラン;(2R,4R)−シス−2−(3−
(4−メトキシフェニル)プロピル)−2−(イミダゾ
ール−1−イル)メチル−4−(p−トルエンスルホニ
ルオキシ)メチル−1,3−ジオキソラン;
【0167
】(2S,4R)−トランス−2−(3−(4−メトキ
シフェニル)プロピル)−2−(イミダゾール−1−イ
ル)メチル−4−(p−トルエンスルホニルオキシ)メ
チル−1,3−ジオキソラン;(2R,4R)−シス−
2−(3−(2,4−ジクロロフェニル)プロピル)−
2−(イミダゾール−1−イル)メチル−4−(p−ト
ルエンスルホニルオキシ)メチル−1,3−ジオキソラ
ン;(2S,4R)−トランス−2−(3−(2,4−
ジクロロフェニル)プロピル)−2−(イミダゾール−
1−イル)メチル−4−(p−トルエンスルホニルオキ
シ)メチル−1,3−ジオキソラン;(2R,4R)−
シス−2−(3−(4−フルオロフェニル)プロピル)
−2−(イミダゾール−1−イル)メチル−4−(p−
トルエンスルホニルオキシ)メチル−1,3−ジオキソ
ラン;(2S,4R)−トランス−2−(3−(4−フ
ルオロフェニル)プロピル)−2−(イミダゾール−1
−イル)メチル−4−(p−トルエンスルホニルオキシ
)メチル−1,3−ジオキソラン;
【0168】(2R
,4R)−シス−2−(3−(3,5−ジ−n−プロポ
キシフェニル)プロピル)−2−(イミダゾール−1ー
イル)メチル−4−(p−トルエンスルホニルオキシ)
メチル−1,3−ジオキソラン;(2S,4R)−トラ
ンス−2−(3−(3,5−ジ−n−プロポキシフェニ
ル)プロピル)−2−(イミダゾール−1−イル)メチ
ル−4−(p−トルエンスルホニルオキシ)メチル−1
,3−ジオキソラン;(2R,4R)−シス−2−(3
−(4−エトキシフェニル)プロピル)−2−(イミダ
ゾール−1−イル)メチル−4−(p−トルエンスルホ
ニルオキシ)メチル−1,3−ジオキソラン;(2S,
4R)−トランス−2−(3−(4−エトキシフェニル
)プロピル)−2−(イミダゾール−1−イル)メチル
−4−(p−トルエンスルホニルオキシ)メチル−1,
3−ジオキソラン;
【0169】(2R,4R)−シス
−2−(3−(3,5−ジメチルフェニル)プロピル)
−2−(イミダゾール−1−イル)メチル−4−(p−
トルエンスルホニルオキシ)メチル−1,3−ジオキソ
ラン;(2S,4R)−トランス−2−(3−(3,5
−ジメチルフェニル)プロピル)−2−(イミダゾール
−1−イル)メチル−4−(p−トルエンスルホニルオ
キシ)メチル−1,3−ジオキソラン;(2R,4R)
−シス−2−(2−フェニルエチル)−2−(イミダゾ
ール−1−イル)メチル−4−(p−トルエンスルホニ
ルオキシ)メチル−1,3−ジオキソラン;および(2
S,4R)−トランス−2−(2−フェニルエチル)−
2−(イミダゾール−1−イル)メチル−4−(p−ト
ルエンスルホニルオキシ)メチル−1,3−ジオキソラ
ン。
【0170】製造例13式(Dc)および式(Dd)で
示される化合物の別法による合成A.S−ソルケタール
トシレート(7.0g、2.45ミリモル)、アセトン
(5ml)および1NHCl(水性、15ml)の混合
物を、40分間、加熱還流させる。この反応混合物を冷
却させ、次いで蒸発乾燥させる。残留物をCH2Cl2
中に溶解し、乾燥し(Na2SO4)、次いで溶剤を蒸
発させる。この残留物を次いで減圧の下に乾燥し、2S
−ジオール6.0gを得る。
【0171】B.乾燥4−(4−クロロフェニル)−1
−(イミダゾール−1−イル)ブタン−2−オン(2.
0g、8.04ミリモル)およびp−トルエンスルホン
酸1水和物(2.29g、12.06ミリモル)のトル
エン(100ml)中の混合物を、ディーン−スターク
トラップを通して、1.5時間還流させ、その後で水の
分離を完全に見極める。この反応混合物を冷却させ、次
いでディーン−スタークトラップの代りに、4オングス
トローム分子篩を充填した新しいディーン−スタークト
ラップを頂上に有するコンデンサーを付け、次いでトル
エン(〜30ml)中の2S−ジオール(上記で製造さ
れた化合物)(2.38g、9.65ミリモル)のエマ
ルジョンを加える。
【0172】この反応混合物を4時間、加熱還流させ、
次いで減圧の下に蒸発させる。この残留物を酢酸エチル
と水性炭酸ナトリウムとに分配する。この有機層を水で
3回洗浄し、乾燥させ(Na2SO4)、次いで減圧の
下に蒸発させる。生成する油状残留物(3.73g)を
、10インチ×52mmシリカゲルカラムにおけるフラ
ッシュクロマトグラフィにより分離する。溶出は酢酸エ
チル:ジクロロメタン:ヘキサンの3:3:2混合物中
の5.5%MeOH溶液(この溶液はNH4OH2.0
%を含有する)で開始し、次いで同一溶剤系中の8.0
%MeOHの溶液(この溶液はNH4OH2.0%を含
有する)まで、徐々に変える。初めに溶出した生成物を
蒸発させ、純粋な立体異性体、(2S,4S)−シス−
2−(2−(4−クロロフェニル)エチル)−2−(イ
ミダゾール−1−イル)メチル−4−(p−トルエンス
ルホニルオキシ)メチル−1,3−ジオキソラン(25
.5%)を得る、融点:120〜122℃。極性の大き
い方の未反応ジオールが次いで溶出され、その後で(2
R,4S)−トランス−立体異性体が溶出される(1.
313g、34.2%)、融点:154〜155℃。
【0173】製造例14式(Dc)で示される化合物に
対する式(Dd)で示される化合物の再平衡化キシレン
(沸点:137〜141°、80ml)中のp−トルエ
ンスルホン酸1水和物(1.90g、10ミリモル)の
溶液をディーン−スタークトラップを通して、45分間
還流させ、その後に水の分離を完全に見極める。この溶
液を次いで、冷却させ、(2R,4S)−トランス−2
−(2−(4−クロロフェニル)エチル)−2−(イミ
ダゾール−1−イル)メチル−4−(p−トルエンスル
ホニルオキシ)メチル−1,3−ジオキソラン(2.3
9g、5ミリモル)および乾燥n−ヘプタノール(3.
5ml、25ミリモル)を加える。生成する混合物を、
4オングストローム分子篩を充填した新しいディーン−
スタークトラップを用いる装置で、加熱還流させる。5
時間還流させた後に、この混合物を減圧の下に蒸発乾燥
させる。
【0174】この残留物を次いで、酢酸エチル(100
ml)に溶解し、次いでこの溶液にトリエチルアミン(
3ml)を加える。この溶液を次いで、炭酸ナトリウム
水溶液で1回、水で2回、洗浄し、Na2SO4上で乾
燥させ、次いで蒸発乾燥させる。生成する粗生成物混合
物を次いで、上記製造例12に記載の条件と同一条件の
下に、フラッシュクロマトグラフィによって分離する。 初めに溶出した生成物を再結晶させ、純粋なシス−エナ
ンチオマー、(2S,4S)−シス−2−(2−(4−
クロロフェニル)エチル)−2−(イミダゾール−1−
イル)メチル−4−(p−トルエンスルホニルオキシ)
メチル−1,3−ジオキソラン0.75gを得る(31
%)。回収された極性の大きい方の生成物は、未変化の
トランス−エナンチオマーである、1.11g(46%
)。
【0175】例1式(Ia)および式(Ib)において
、Xaがイオウである化合物A.アセトン(250ml
)中の(±)−シス−2−〔2−(4−クロロフェニル
)エチル〕−2−(イミダゾール−1−イル)メチル−
4−(メチルスルホニルオキシ)メチル−1,3−ジオ
キソラン(31.0g)、4−アミノチオフェノール(
12.6g)および無水炭酸カリウム(23.1g)の
混合物を、窒素雰囲気の下に、還流させながら、一夜に
わたり攪拌する。この反応混合物を次いで、蒸発乾燥さ
せ、生成する残留物を塩化メチレン(300ml)で抽
出し、次いで濾過する。この固形フィルターケーキを次
いで、塩化メチレン(200ml)により洗浄する。
【0176】塩化メチレン抽出液を次いで集め、濃縮し
、次いでシリカゲル上でクロマトグラフィにより処理し
、塩化メチレンにより、次いで塩化メチレン中の30%
アセトンにより、溶出する。目に視えるチオール/ジス
ルフィドバンドの分離の後に、このカラムを、水2.2
%含有酢酸エチルによりさらに溶出し、純粋な生成物を
得る。この純粋な生成物を最小量の熱い酢酸エチル(〜
125ml)中に溶解し、この溶液を等量の熱いヘキサ
ンで稀釈し、次いで結晶種を接種し、(±)−シス−2
−(2−(4−クロロフェニル)エチル)−2−(イミ
ダゾール−1−イル)メチル−4−(4−アミノフェニ
ルチオ)メチル−1,3−ジオキソラン30.3gを得
る、融点:121.5°〜122.5℃。
【0177】B.同様の方法に従うが、(±)−シス−
2−(2−(4−クロロフェニル)エチル)−2−(イ
ミダゾール−1−イル)メチル−4−(メチルスルホニ
ルオキシ)メチル−1,3−ジオキソランの代りに、式
(Da)および式(Db)で示される別種の化合物を使
用し、そしてまた4−アミノチオフェノールの代りに、
別種の相当する置換チオフェノール化合物を使用し、式
(Ia)および式(Ib)において、Xaがイオウであ
る下記の化合物、またはその塩を製造する:
【0178
】(±)−シス−2−(2−(4−メトキシフェニル)
エチル)−2−(イミダゾール−1−イル)メチル−4
−(4−アミノフェニルチオ)メチル−1,3−ジオキ
ソラン2塩酸塩、融点:194〜198℃;(±)−シ
ス−2−(2−(4−クロロフェニル)エチル)−2−
(イミダゾール−1−イル)メチル−4−(2−アミノ
フェニルチオ)メチル−1,3−ジオキソランビス(硝
酸塩);融点127〜138℃;(±)−シス−2−(
2−(4−クロロフェニル)エチル)−2−(イミダゾ
ール−1−イル)メチル−4−(4−アセトアミドフェ
ニルチオ)メチル−1,3−ジオキソラン、融点:12
8〜129℃;(±)−シス−2−(2−(4−クロロ
フェニル)エチル)−2−(イミダゾール−1−イル)
メチル−4−(3−アミノフェニルチオ)メチル−1,
3−ジオキソラン、融点:94.5〜98℃;(±)−
シス−2−(2−(4−クロロフェニル)エチル)−2
−(イミダゾール−1−イル)メチル−4−(4−ピロ
リジノフェニルチオ)メチル−1,3−ジオキソラン1
.5シュウ酸塩、融点:152.5〜155.5℃;お
よび(±)−トランス−2−(2−(4−クロロフェニ
ル)エチル)−2−(イミダゾール−1−イル)メチル
−4−(4−アミノフェニルチオ)メチル−1,3−ジ
オキソラン、融点:146〜147℃。
【0179】C.同様の方法で、式(Ia)および式(
Ib)において、Xaがイオウである、下記の化合物を
製造する:(±)−シス−2−(2−(2,4−ジクロ
ロフェニル)エチル)−2−(イミダゾール−1−イル
)メチル−4−(4−アミノフェニルチオ)メチル−1
,3−ジオキソラン;(±)−シス−2−(2−(4−
クロロフェニル)エチル)−2−(イミダゾール−1−
イル)メチル−4−(4−アミノ−2,6−ジクロロフ
ェニルチオ)メチル−1,3−ジオキソラン;(±)−
シス−2−(2−(4−クロロフェニル)エチル)−2
−(イミダゾール−1−イル)メチル−4−(4−アミ
ノ−2−メチルフェニルチオ)メチル−1,3−ジオキ
ソラン;および(±)−シス−2−(2−(4−クロロ
フェニル)エチル)−2−(5−エチルイミダゾール−
1−イル)メチル−4−(4−アミノ−2−メチルフェ
ニルチオ)メチル−1,3−ジオキソラン。
【0180】例2(Ia)および(Ib)において、X
aが酸素である化合物A.乾燥DMSO(30ml)中
の4−アセトアミドフェノール(1.36g)および水
素化ナトリウム(鉱油中の50%分散液440mg)の
混合物を窒素雰囲気の下に85℃において、清明な溶液
が得られるまで攪拌する。(±)−シス−2−(2−(
4−クロロフェニル)エチル)−2−(イミダゾール−
1−イル)メチル−4−(メチルスルホニルオキシ)メ
チル−1,3−ジオキソラン(3.0g)を次いで加え
、この混合物を85℃で一夜にわたり攪拌する。生成す
る混合物を次いで、室温まで冷却し、ほとんど濁るまで
、水で稀釈し、結晶種を接種し、結晶化が完了するまで
攪拌し、次いで濾過する。生成する固形物を水で洗浄し
、空気乾燥させ、次いでメタノール−アセトンから2回
、再結晶させ、(±)−シス−2−(2−(4−クロロ
フェニル)エチル)−2−(イミダゾール−1−イル)
メチル−4−(4−アセトアミドフェノキシ)メチル−
1,3−ジオキソラン2.08gを得る、融点:179
〜180℃。
【0181】B.同様の方法に従うが、4−アセトアミ
ドフェノールの代りに、別種の相当する置換フェノール
化合物を使用し、式(Ia)および式(Ib)において
、Xaが酸素である、下記の化合物またはその塩を製造
する:(±)−シス−2−(2−(4−メトキシフェニ
ル)エチル)−2−(イミダゾール−1−イル)メチル
−4−(4−アミノフェノキシ)メチル−1,3−ジオ
キソラン、融点:143〜147℃;(±)−シス−2
−(2−(4−クロロフェニル)エチル)−2−(イミ
ダゾール−1−イル)メチル−4−(4−アミノフェノ
キシ)メチル−1,3−ジオキソラン、融点:118〜
119℃;(±)−シス−2−(3−(4−クロロフェ
ニル)プロピル)−2−(イミダゾール−1−イル)メ
チル−4−(4−(4−アセチルピペラジノ)フェノキ
シ)メチル−1,3−ジオキソラン2塩酸塩、融点:1
44〜146℃;
【0182】(±)−シス−2−(2−(4−メトキシ
フェニル)エチル)−2−(イミダゾール−1−イル)
メチル−4−(4−アセトアミドフェノキシ)メチル−
1,3−ジオキソラン、融点:163.5〜166℃;
(±)−シス−2−(2−(4−メトキシフェニル)エ
チル)−2−(イミダゾール−1−イル)メチル−4−
(4−(4−アセチルピペラジノ)フェノキシ)メチル
−1,3−ジオキソラン、融点:137〜140℃;(
±)−シス−2−(2−(4−クロロフェニル)エチル
)−2−(イミダゾール−1−イル)メチル−4−(2
−アセトアミドフェノキシ)メチル−1,3−ジオキソ
ラン  塩酸塩、融点:82.5〜87.5℃;(±)
−トランス−2−(2−(4−クロロフェニル)エチル
)−2−(イミダゾール−1−イル)メチル−4−(2
−アセトアミドフェノキシ)メチル−1,3−ジオキソ
ラン、融点:138〜139℃;
【0183】(±)−
シス−2−(2−(4−クロロフェニル)エチル)−2
−(イミダゾール−1−イル)メチル−4−(2−ピロ
リジノフェノキシ)メチル−1,3−ジオキソラン、融
点:120〜123℃;(±)−シス−2−(2−(4
−クロロフェニル)エチル)−2−(イミダゾール−1
−イル)メチル−4−(2−ピペリジノフェノキシ)メ
チル−1,3−ジオキソラン、融点:113〜116℃
;(±)−シス−2−(2−(4−クロロフェニル)エ
チル)−2−(イミダゾール−1−イル)メチル−4−
(3−アセトアミドフェノキシ)メチル−1,3−ジオ
キソラン  塩酸塩、融点:190〜193℃;(±)
−トランス−2−(2−(4−クロロフェニル)エチル
)−2−(イミダゾール−1−イル)メチル−4−(3
−アセトアミドフェノキシ)メチル−1,3−ジオキソ
ラン  シュウ酸水素塩、融点:122〜124℃;
【0184】(±)−シス−2−(2−(4−クロロフ
ェニル)エチル)−2−(イミダゾール−1−イル)メ
チル−4−(3−ピロリジノフェノキシ)メチル−1,
3−ジオキソラン、融点:81.5〜83℃;(±)−
シス−2−(2−(4−クロロフェニル)エチル)−2
−(イミダゾール−1−イル)メチル−4−(3−ピペ
リジノフェノキシ)メチル−1,3−ジオキソラン、融
点:82〜87℃;(±)−シス−2−(2−(4−ク
ロロフェニル)エチル)−2−(イミダゾール−1−イ
ル)メチル−4−(4−ニトロフェノキシ)メチル−1
,3−ジオキソラン  硝酸塩、融点:159.5〜1
61.5℃;(±)−トランス−2−(2−(4−クロ
ロフェニル)エチル)−2−(イミダゾール−1ーイル
)メチル−4−(4−アセトアミドフェノキシ)メチル
−1,3−ジオキソラン、融点:151〜153℃;

0185】(±)−シス−2−(2−(4−クロロフェ
ニル)エチル)−2−(イミダゾール−1−イル)メチ
ル−4−(4−プロピルアミノカルボニルアミノフェノ
キシ)メチル−1,3−ジオキソラン、融点:126〜
128℃;(±)−シス−2−(2−(4−クロロフェ
ニル)エチル)−2−(イミダゾール−1−イル)メチ
ル−4−(4−メチルアミノフェノキシ)メチル−1,
3−ジオキソラン、融点:107〜109℃;(±)−
シス−2−(2−(4−クロロフェニル)エチル)−2
−(イミダゾール−1−イル)メチル−4−(4−ジメ
チルアミノフェノキシ)メチル−1,3−ジオキソラン
、融点:115〜116℃;(±)−シス−2−(2−
(4−クロロフェニル)エチル)−2−(イミダゾール
−1−イル)メチル−4−(4−ジブチルアミノフェノ
キシ)メチル−1,3−ジオキソラン、融点:60〜6
2℃;
【0186】(±)−シス−2−(2−(4−クロロフ
ェニル)エチル)−2−(イミダゾール−1−イル)メ
チル−4−(4−ピロリジノフェノキシ)メチル−1,
3−ジオキソラン、融点:117〜118℃;(±)−
シス−2−(2−(4−クロロフェニル)エチル)−2
−(イミダゾール−1−イル)メチル−4−(4−ピロ
リジノフェノキシ)メチル−1,3−ジオキソラン  
シュウ酸水素塩、融点:155〜159℃;(±)−シ
ス−2−(2−(4−クロロフェニル)エチル)−2−
(イミダゾール−1−イル)メチル−4−(4−ピペリ
ジノフェノキシ)メチル−1,3−ジオキソラン、融点
:106〜107℃;(±)−シス−2−(2−(4−
クロロフェニル)エチル)−2−(イミダゾール−1−
イル)メチル−4−(4−ピペリジノフェノキシ)メチ
ル−1,3−ジオキソラン  2塩酸塩、融点:120
〜125℃(分解)(Et2O・H2O);
【0187
】(±)−トランス−2−(2−(4−クロロフェニル
)エチル)−2−(イミダゾール−1−イル)メチル−
4−(4−ピペリジノフェノキシ)メチル−1,3−ジ
オキソラン、融点:77〜78℃;(±)−シス−2−
(2−(4−クロロフェニル)エチル)−2−(イミダ
ゾール−1−イル)メチル−4−(4−ピペラジノフェ
ノキシ)メチル−1,3−ジオキソラン、融点:132
〜135℃;(±)−シス−2−(2−(4−クロロフ
ェニル)エチル)−2−(イミダゾール−1−イル)メ
チル−4−(4−ピペラジノフェノキシ)メチル−1,
3−ジオキソラン  3塩酸塩、融点:244〜255
℃;(±)−シス−2−(2−(4−クロロフェニル)
エチル)−2−(イミダゾール−1−イル)メチル−4
−(4−(4−ホルミルピペラジノ)フェノキシ)メチ
ル−1,3−ジオキソラン、融点:120〜123℃;
【0188】(±)−シス−2−(2−(4−クロロフ
ェニル)エチル)−2−(イミダゾール−1−イル)メ
チル−4−(4−(4−アセチルピペラジノ)フェノキ
シ)メチル−1,3−ジオキサン、融点:144〜14
5℃;(±)−シス−2−(2−(4−クロロフェニル
)エチル)−2−(イミダゾール−1−イル)メチル−
4−(4−(4−プロピオニルカルボニルピペラジノ)
フェノキシ)メチル−1,3−ジオキソラン  硝酸塩
、融点:108〜116℃;および(±)−シス−2−
(2−(4−クロロフェニル)エチル)−2−(イミダ
ゾール−1−イル)メチル−4−(4−ピロリジノフェ
ノキシ)メチル−1,3−ジオキソラン  1.5シュ
ウ酸塩、融点:159〜163℃。
【0189】C.同様の方法で、式(Ia)および式(
Ib)においてXが酸素である、下記の化合物を製造す
る:(±)−シス−2−(2−(2,4−ジメチルフェ
ニル)エチル)−2−(イミダゾール−1−イル)メチ
ル−4−(4−アミノフェノキシ)メチル−1,3−ジ
オキソラン;(±)−シス−2−(2−(4−メトキシ
フェニル)エチル)−2−(イミダゾール−1−イル)
メチル−4−(4−アミノ−2,6−ジメチルフェノキ
シ)メチル−1,3−ジオキソラン;(±)−シス−2
−(2−(4−クロロフェニル)エチル)−2−(イミ
ダゾール−1−イル)メチル−4−(4−アミノ−2−
フルオロフェノキシ)メチル−1,3−ジオキソラン;
および(±)−シス−2−(2−(4−トリフルオロメ
チルフェニル)エチル)−2−(5−n−プロピルイミ
ダゾール−1−イル)メチル−4−(4−アミノ−2−
メチルフェノキシ)メチル−1,3−ジオキソラン。
【0190】例3式(Ic)、(Id)、(Ie)およ
び(If)において、XがS(O)tであり、そしてt
が0である化合物A.アセトン(40ml)中の(2S
,4S)−シス−2−(2−(4−クロロフェニル)エ
チル)−2−(イミダゾール−1−イル)メチル−4−
(p−トルエンスルホニルオキシ)メチル−1,3−ジ
オキソラン(1.00g、2.1ミリモル)、4−アミ
ノチオフェノール(0.53g、4.2ミリモル)およ
び炭酸カリウム(0.58g、4.2ミリモル)の混合
物を、N2雰囲気の下に、4時間加熱還流させ、その後
で、減圧下における蒸発により濃縮する。この混合物を
酢酸エチルで稀釈し、水で3回洗浄し、Na2SO4上
で乾燥させ、次いで減圧の下に蒸発乾燥させる。
【0191】生成する油状物を、7インチ×45mm 
 O.Dシリカゲルカラムにおいて、溶出剤として、酢
酸エチル、塩化メチレンおよびヘキサンの3:3:2混
合物中の0.1%NH4OHおよび6%メタノールの溶
液を使用するフラッシュクロマトグラフィによって精製
する。採取した生成物を酢酸エチルおよびヘキサンから
再結晶させ、(2S,4S)−シス−2−(2−(4−
クロロフェニル)エチル)−2−(イミダゾール−1−
イル)メチル−4−(4−アミノフェニルチオ)メチル
−1,3−ジオキソラン  0.76g(84%)を得
る、融点:121〜121.5℃;〔α〕D+16.1
°(c=0.5,CHCl3)。
【0192】B.同様の方法に従うが、(2S,4S)
−シス−2−(2−(4−クロロフェニル)エチル)−
2−(イミダゾール−1−イル)メチル−4−(p−ト
ルエンスルホニルオキシ)メチル−1,3−ジオキソラ
ンの代りに、式(Dc)および式(Dd)で示される、
別の化合物を使用し、そしてまた4−アミノチオフェノ
ールの代りに、相当する置換チオフェノールを使用し、
式(Ic)および式(Id)で示される、下記の化合物
、またはその塩を製造する:
【0193】(2S,4S)−シス−2−(2−(4−
メトキシフェニル)エチル)−2−(イミダゾール−1
−イル)メチル−4−(4−アミノフェニルチオ)メチ
ル−1,3−ジオキサン、融点:94.9〜95.5℃
、〔α〕D+15.2°(c=0.4,CHCl3);
(2S,4S)−シス−2−(2−(2,4−ジクロロ
フェニル)エチル)−2−(イミダゾール−1−イル)
メチル−4−(4−アミノフェニルチオ)メチル−1,
3−ジオキソラン、融点:105.5〜107.5℃、
〔α〕D+17.4°(c=0.4,CHCl3);(
2S,4S)−シス−2−(2−(4−クロロフェニル
)エチル)−2−(5−メチルイミダゾール−1−イル
)メチル−4−(4−アミノフェニルチオ)メチル−1
,3−ジオキソラン  シュウ酸塩、融点:153.5
〜154.5℃、〔α〕D+27°(c=0.4,Me
OH);(2S,4S)−シス−2−(2−(4−フル
オロフェニル)エチル)−2−(イミダゾール−1−イ
ル)メチル−4−(4−アミノフェニルチオ)メチル−
1,3−ジオキソラン  ビス(シュウ酸水素)塩、融
点:174〜176℃、〔α〕D+13.0°(c=0
.4,MeOH);(2R,4S)−トランス−2−(
2−(4−クロロフェニル)エチル)−2−(イミダゾ
ール−1−イル)メチル−4−(4−アミノフェニルチ
オ)メチル−1,3−ジオキソラン、融点:165.5
〜166.5℃、〔α〕D+13.6°(c=0.5,
CHCl3);(2S,4S)−シス−2−(2−フェ
ニルエチル)−2−(イミダゾール−1−イル)メチル
−4−(アミノフェニルチオ)メチル−1,3−ジオキ
ソランビス(シュウ酸水素)塩、融点:158.5〜1
60.5℃(分解)、〔α〕D+11.8°(c=0.
4,MeOH);および(2S,4S)−シス−2−(
2−(4−クロロフェニル)エチル)−2−(イミダゾ
ール−1−イル)メチル−4−(2−アミノフェニルチ
オ)メチル−1,3−ジオキソラン  1.5シュウ酸
塩、融点:102〜105℃、〔α〕D+10.3°(
c=0.46,MeOH);
【0194】C.同様の方
法に従うが、(2S,4S)−シス−2−(2−(4−
クロロフェニル)エチル)−2−(イミダゾール−1−
イル)メチル−4−(p−トルエンスルホニルオキシ)
メチル−1,3−ジオキソランの代りに、式(De)お
よび式(Df)で示される、別の化合物を使用し、下記
の式(Ie)および式(If)で示される化合物、また
はその塩を製造する:
【0195】(2R,4R)−シ
ス−2−(2−(4−クロロフェニル)エチル)−2−
(イミダゾール−1−イル)メチル−4−(4−アミノ
フェニルチオ)メチル−1,3−ジオキソラン、融点:
120〜121℃、〔α〕D−27.9°(c=0.4
,MeOH);(2R,4R)−シス−2−(2−(4
−メトキシフェニル)エチル)−2−(イミダゾール−
1−イル)メチル−4−(4−アミノフェニルチオ)メ
チル−1,3−ジオキソラン、融点:94〜95.6℃
、〔α〕D−16.1°(c=0.4,CHCl3);
(2R,4R)−シス−2−(2−(2,4−ジクロロ
フェニル)エチル)−2−(イミダゾール−1−イル)
メチル−4−(4−アミノフェニルチオ)メチル−1,
3−ジオキソラン、融点:109.5〜110.5℃、
〔α〕D−16.8°(c=0.4,CHCl3);(
2R,4R)−シス−2−(2−(4−フルオロフェニ
ル)エチル)−2−(イミダゾール−1−イル)メチル
−4−(4−アミノフェニルチオ)メチル−1,3−ジ
オキソラン  ビス(シュウ酸水素)塩、融点:175
〜176.5℃、〔α〕D−10.4°(c=0.4,
MeOH);
【0196】(2R,4R)−シス−2−
(2−フェニルエチル)−2−(イミダゾール−1−イ
ル)メチル−4−(4−アミノフェニルチオ)メチル−
1,3−ジオキソラン  ビス(シュウ酸水素)塩、融
点:165〜167℃(泡状物);(2S,4R)−ト
ランス−2−(2−(4−クロロフェニル)エチル)−
2−(イミダゾール−1−イル)メチル−4−(4−ア
ミノフェニルチオ)メチル−1,3−ジオキソラン、融
点:164〜167℃、〔α〕D−18.7°(c=0
.7,CHCl3);および(2R,4R)−シス−2
−(2−(4−クロロフェニル)エチル)−2−(5−
メチルイミダゾール−1−イル)メチル−4−(4−ア
ミノフェニルチオ)メチル−1,3−ジオキソラン  
シュウ酸塩、融点:155〜157℃、〔α〕D−27
.9°(c=0.4,MeOH);
【0197】D.同様の方法に従い、下記の式(Ic)
、(Id)、(Ie)および(If)で示される化合物
を製造する:(2S,4S)−シス−2−(2−(2,
4−ジクロロフェニル)エチル)−2−(イミダゾール
−1−イル)メチル−4−(4−アミノフェニルチオ)
メチル−1,3−ジオキソラン;(2S,4S)−シス
−2−(2−(4−クロロフェニル)エチル)−2−(
イミダゾール−1−イル)メチル−4−(4−アミノ−
2,6−ジクロロフェニルチオ)メチル−1,3−ジオ
キソラン;(2S,4S)−シス−2−(2−(4−ク
ロロフェニル)エチル)−2−(イミダゾール−1−イ
ル)メチル−4−(4−アミノ−2−メチルフェニルチ
オ)メチル−1,3−ジオキソラン;
【0198】(2
S,4S)−シス−2−(2−(4−クロロフェニル)
エチル)−2−(5−エチルイミダゾール−1−イル)
メチル−4−(4−アミノ−2−メチルフェニルチオ)
メチル−1,3−ジオキソラン;(2R,4R)−シス
−2−(2−(2,4−ジクロロフェニル)エチル)−
2−(イミダゾール−1−イル)メチル−4−(4−ア
ミノフェニルチオ)メチル−1,3−ジオキソラン;(
2R,4R)−シス−2−(2−(4−クロロフェニル
)エチル)−2−(イミダゾール−1−イル)メチル−
4−(4−アミノ−2,6−ジクロロフェニルチオ)メ
チル−1,3−ジオキソラン;(2R,4R)−シス−
2−(2−(4−クロロフェニル)エチル)−2−(イ
ミダゾール−1−イル)メチル−4−(4−アミノ−2
−メチルフェニルチオ)メチル−1,3−ジオキソラン
【0199】(2R,4R)−シス−2−(2−(4−
クロロフェニル)エチル)−2−(5−エチルイミダゾ
ール−1−イル)メチル−4−(4−アミノ−2−メチ
ルフェニルチオ)メチル−1,3−ジオキソラン;(2
S,4R)−トランス−2−(2−(2,4−ジクロロ
フェニル)エチル)−2−(イミダゾール−1−イル)
メチル−4−(4−アミノフェニルチオ)メチル−1,
3−ジオキソラン;(2S,4R)−トランス−2−(
2−(4−クロロフェニル)エチル)−2−(イミダゾ
ール−1−イル)メチル−4−(4−アミノ−2,6−
ジクロロフェニルチオ)メチル−1,3−ジオキソラン
;(2S,4R)−トランス−2−(2−(4−クロロ
フェニル)エチル)−2−(イミダゾール−1−イル)
メチル−4−(4−アミノ−2−メチルフェニルチオ)
メチル−1,3−ジオキソラン;
【0200】(2S,4R)−トランス−2−(2−(
4−クロロフェニル)エチル)−2−(5−エチルイミ
ダゾール−1−イル)メチル−4−(4−アミノ−2−
メチルフェニルチオ)メチル−1,3−ジオキソラン;
(2R,4S)−トランス−2−(2−(2,4−ジク
ロロフェニル)エチル)−2−(イミダゾール−1−イ
ル)メチル−4−(4−アミノフェニルチオ)メチル−
1,3−ジオキソラン;(2R,4S)−トランス−2
−(2−(4−クロロフェニル)エチル)−2−(イミ
ダゾール−1−イル)メチル−4−(4−アミノ−2,
6−ジクロロフェニルチオ)メチル−1,3−ジオキソ
ラン;(2R,4S)−トランス−2−(2−(4−ク
ロロフェニル)エチル)−2−(イミダゾール−1−イ
ル)メチル−4−(4−アミノ−2−メチルフェニルチ
オ)メチル−1,3−ジオキソラン;および(2R,4
S)−トランス−2−(2−(4−クロロフェニル)エ
チル)−2−(5−エチルイミダゾール−1−イル)メ
チル−4−(4−アミノ−2−メチルフェニルチオ)メ
チル−1,3−ジオキソラン。
【0201】例4式(IC)、(Id)、(Ie)およ
び(If)において、Xが酸素である化合物A.例2に
上記した方法と同様の方法に従うが、4−アセトアミド
フェノールの代りに、他の相当する置換フェノール化合
物を使用し、式(IC)、(Id)、(Ie)および(
If)で示される下記の化合物、またはその塩を製造す
る:(2S,4R)−シス−2−(2−(4−クロロフ
ェニル)エチル)−2−(イミダゾール−1−イル)メ
チル−4−(4−アミノフェノキシ)メチル−1,3−
ジオキソラン、融点:128〜128.5℃、〔α〕D
+2.8°(c=0.4,CHCl3);(2S,4R
)−シス−2−(2−(4−クロロフェニル)エチル)
−2−(イミダゾール−1−イル)メチル−4−(4−
アセトアミドフェノキシ)メチル−1,3−ジオキソラ
ン、融点:148〜149.5℃、〔α〕D+5.2°
(c=0.4,CHCl3);
【0202】(2R,4
S)−シス−2−(2−(4−クロロフェニル)エチル
)−2−(イミダゾール−1−イル)メチル−4−(4
−アセトアミドフェノキシ)メチル−1,3−ジオキソ
ラン、融点:149〜151℃、〔α〕D−9.4°(
c=0.4,CHCl3);および(2R,4S)−シ
ス−2−(2−(4−クロロフェニル)エチル)−2−
(イミダゾール−1−イル)メチル−4−(4−アミノ
フェノキシ)メチル−1,3−ジオキソラン、融点:1
27〜128.5℃、〔α〕D−5.1°(c=0.4
,CHCl3)。
【0203】B.同様の方法で、式(Ic)、(Id)
、(Ie)および(If)において、Xが酸素である、
下記の化合物を製造する:(2S,4R)−シス−2−
(2−(2,4−ジメチルフェニル)エチル)−2−(
イミダゾール−1−イル)メチル−4−(4−アミノフ
ェノキシ)メチル−1,3−ジオキソラン;(2S,4
R)−シス−2−(2−(4−メトキシフェニル)エチ
ル)−2−(イミダゾール−1−イル)メチル−4−(
4−アミノ−2,6−ジメチルフェノキシ)メチル−1
,3−ジオキソラン;(2S,4R)−シス−2−(2
−(4−クロロフェニル)エチル)−2−(イミダゾー
ル−1−イル)メチル−4−(4−アミノ−2−フルオ
ロフェノキシ)メチル−1,3−ジオキソラン;
【0204】(2S,4R)−シス−2−(2−(4−
トリフルオロメチルフェニル)エチル)−2−(5−n
−プロピルイミダゾール−1−イル)メチル−4−(4
−アミノ−2−メチルフェノキシ)メチル−1,3−ジ
オキソラン;(2R,4S)−シス−2−(2−(2,
4−ジメチルフェニル)エチル)−2−(イミダゾール
−1−イル)メチル−4−(4−アミノフェノキシ)メ
チル−1,3−ジオキソラン;(2R,4S)−シス−
2−(2−(4−メトキシフェニル)エチル)−2−(
イミダゾール−1−イル)メチル−4−(4−アミノ−
2,6−ジメチルフェノキシ)メチル−1,3−ジオキ
ソラン;(2R,4S)−シス−2−(2−(4−クロ
ロフェニル)エチル)−2−(イミダゾール−1−イル
)メチル−4−(4−アミノ−2−フルオロフェノキシ
)メチル−1,3−ジオキソラン;
【0205】(2R,4S)−シス−2−(2−(4−
トリフルオロメチルフェニル)エチル)−2−(5−n
−プロピルイミダゾール−1−イル)メチル−4−(4
−アミノ−2−メチルフェノキシ)メチル−1,3−ジ
オキソラン;(2S,4S)−トランス−2−(2−(
2,4−ジメチルフェニル)エチル)−2−(イミダゾ
ール−1−イル)メチル−4−(4−アミノフェノキシ
)メチル−1,3−ジオキソラン;(2S,4S)−ト
ランス−2−(2−(4−メトキシフェニル)エチル)
−2−(イミダゾール−1−イル)メチル−4−(4−
アミノ−2,6−ジメチルフェノキシ)メチル−1,3
−ジオキソラン;(2S,4S)−トランス−2−(2
−(4−クロロフェニル)エチル)−2−(イミダゾー
ル−1−イル)メチル−4−(4−アミノ−2−フルオ
ロフェノキシ)メチル−1,3−ジオキソラン;(2S
,4S)−トランス−2−(2−(4−トリフルオロメ
チルフェニル)エチル)−2−(5−n−プロピルイミ
ダゾール−1−イル)メチル−4−(4−アミノ−2−
メチルフェノキシ)メチル−1,3−ジオキソラン;
【0206】(2R,4R)−トランス−2−(2−(
2,4−ジメチルフェニル)エチル)−2−(イミダゾ
ール−1−イル)メチル−4−(4−アミノフェノキシ
)メチル−1,3−ジオキソラン;(2R,4R)−ト
ランス−2−(2−(4−メトキシフェニル)エチル)
−2−(イミダゾール−1−イル)メチル−4−(4−
アミノ−2,6−ジメチルフェノキシ)メチル−1,3
−ジオキソラン;(2R,4R)−トランス−2−(2
−(4−クロロフェニル)エチル)−2−(イミダゾー
ル−1−イル)メチル−4−(4−アミノ−2−フルオ
ロフェノキシ)メチル−1,3−ジオキソラン;および
(2R,4R)−トランス−2−(2−(4−トリフル
オロメチルフェニル)エチル)−2−(5−n−プロピ
ルイミダゾール−1−イル)メチル−4−(4−アミノ
−2−メチルフェノキシ)メチル−1,3−ジオキソラ
ン。
【0207】例5式(I)において、R3がN(R5)
R6であり、R5は水素または低級アルキルであり、そ
してR6は−C(Y)R7であり、Yが酸素であり、そ
してR7が低級アルキルである化合物A.(2S,4S
)−シス−2−(2−(4−クロロフェニル)エチル)
−2−(イミダゾール−1−イル)メチル−4−(4−
アミノフェニルチオ)メチル−1,3−ジオキソラン(
300mg)と無水酢酸(5ml)との混合物を、窒素
雰囲気の下に室温で2.5時間、攪拌する。この混合物
を次いで、エーテルで稀釈し、生成物(309mg)を
濾別し、酢酸エチル/ヘキサンから再結晶させ、(2S
,4S)−シス−2−(2−(4−クロロフェニル)エ
チル)−2−(イミダゾール−1−イル)メチル−4−
(4−アセトアミドフェニルチオ)メチル−1,3−ジ
オキソランを白色ペレット状物として得る、融点:14
7〜148℃、〔α〕D+6.7°(c=0.2,CH
Cl3)。
【0208】B.同様の方法に従うが、(2S,4S)
−シス−2−(2−(4−クロロフェニル)エチル)−
2−(イミダゾール−1−イル)メチル−4−(4−ア
ミノフェニルチオ)メチル−1,3−ジオキソランの代
りに、式(I)で示される相当する置換化合物を使用し
、下記の化合物を製造する:(±)−シス−2−(2−
(4−クロロフェニル)エチル)−2−(イミダゾール
−1−イル)メチル−4−(4−(N−メチルアセトア
ミド)フェノキシ)メチル−1,3−ジオキソラン、融
点:135〜137℃;(±)−シス−2−(2−(4
−クロロフェニル)エチル)−2−(イミダゾール−1
−イル)メチル−4−(2−アセトアミドフェニルチオ
)メチル−1,3−ジオキソラン  シュウ酸水素塩、
融点:118〜121℃;
【0209】(±)−シス−2−(2−(4−クロロフ
ェニル)エチル)−2−(イミダゾール−1−イル)メ
チル−4−(3−アセトアミドフェニルチオ)メチル−
1,3−ジオキソラン、融点:122〜125℃;(±
)−トランス−2−(2−(4−クロロフェニル)エチ
ル)−2−(イミダゾール−1−イル)メチル−4−(
4−アセトアミドフェニルチオ)メチル−1,3−ジオ
キソラン、融点:146〜147℃;(2S,4S)−
シス−2−(2−(4−メトキシフェニル)エチル)−
2−(イミダゾール−1−イル)メチル−4−(4−ア
セトアミドフェニルチオ)メチル−1,3−ジオキソラ
ン、融点:118〜120℃、〔α〕D+7.2°(c
=0.4,CHCl3);
【0210】(2R,4R)−シス−2−(2−(4−
メトキシフェニル)エチル)−2−(イミダゾール−1
−イル)メチル−4−(4−アセトアミドフェニルチオ
)メチル−1,3−ジオキソラン、融点:117〜11
8℃、〔α〕D−16.8°(c=0.4,CHCl3
);(2S,4S)−シス−2−(2−(2,4−ジク
ロロフェニル)エチル)−2−(イミダゾール−1−イ
ル)メチル−4−(4−アセトアミドフェニルチオ)メ
チル−1,3−ジオキソラン、融点:150.5〜15
1℃;(2R,4R)−シス−2−(2−(2,4−ジ
クロロフェニル)エチル)−2−(イミダゾール−1−
イル)メチル−4−(4−アセトアミドフェニルチオ)
メチル−1,3−ジオキソラン、融点:152.5〜1
53℃;
【0211】(2R,4R)−シス−2−(2−(4−
クロロフェニル)エチル)−2−(イミダゾール−1−
イル)メチル−4−(4−アセトアミドフェニルチオ)
メチル−1,3−ジオキソラン、融点:146〜147
℃、〔α〕D−13.8°(c=0.4,CHCl3)
;(2S,4S)−シス−2−(2−フェニルエチル)
−2−(イミダゾール−1−イル)メチル−4−(4−
アセトアミドフェニルチオ)メチル−1,3−ジオキソ
ラン、融点:135.5〜137.5℃、〔α〕D+1
4.9°(c=0.4,MeOH);(2R,4R)−
シス−2−(2−フェニルエチル)−2−(イミダゾー
ル−1−イル)メチル−4−(4−アセトアミドフェニ
ルチオ)メチル−1,3−ジオキソラン、融点:130
〜131℃、〔α〕D−13.4°(c=4,MeOH
);
【0212】(2S,4S)−シス−2−(2−(4−
クロロフェニル)エチル)−2−(5−メチルイミダゾ
ール−1−イル)メチル−4−(4−アセトアミドフェ
ニルチオ)メチル−1,3−ジオキソラン  シュウ酸
水素塩、融点:121.5〜125.5℃、〔α〕D+
26.9°(c=0.4,MeOH);および(2R,
4R)−シス−2−(2−(4−クロロフェニル)エチ
ル)−2−(5−メチルイミダゾール−1−イル)メチ
ル−4−(4−アセトアミドフェニルチオ)メチル−1
,3−ジオキソラン  シュウ酸水素塩、融点:121
〜125℃、〔α〕D−28.9°(c=0.4,Me
OH)。
【0213】C.同様の方法に従うが、(2S,4S)
−シス−2−(2−(4−クロロフェニル)エチル)−
2−(イミダゾール−1−イル)メチル−4−(4−ア
ミノフェニルチオ)メチル−1,3−ジオキソランの代
りに、(±)−シス−2−(2−(4−クロロフェニル
)エチル)−2−(イミダゾール−1−イル)メチル−
4−(4−アミノフェノキシ)メチル−1,3−ジオキ
ソランを使用し、そしてまた無水酢酸の代りに、ギ酸−
酢酸混合無水物を使用し、下記の化合物を製造する:

0214】(±)−シス−2−(2−(4−クロロフェ
ニル)エチル)−2−(イミダゾール−1−イル)メチ
ル−4−(4−ホルムアミドフェノキシ)メチル−1,
3−ジオキソラン、融点:157〜158℃;(2S,
4S)−(±)−シス−2−(2−(4−クロロフェニ
ル)エチル)−2−(イミダゾール−1−イル)メチル
−4−(4−ホルムアミドフェニルチオ)メチル−1,
3−ジオキソラン、融点:108〜112℃、〔α〕D
+19°(c=0.4,MeOH);および(2R,4
R)−(±)−シス−2−(2−(4−クロロフェニル
)エチル)−2−(イミダゾール−1−イル)メチル−
4−(4−ホルムアミドフェニルチオ)メチル−1,3
−ジオキソラン、融点:110〜112℃、〔α〕D−
25.4°(c=0.4,MeOH)。
【0215】例6式(I)において、R3が−N(R5
)R6であり、R5が水素または低級アルキルであり、
そしてR6が低級アルキルスルホニルまたは−C(Y)
R7であり、Yは酸素であり、そしてR7は低級アルコ
キシであるか、あるいはR5とR6とはNと一緒になっ
て、ピペラジノを形成しており、このピペラジノは、そ
の4位置が−C(O)R10によって置換されており、
ここでR10は低級アルコキシである、化合物
【021
6】A.無水ピリジン(10ml)中の(±)−シス−
2−(2−(4−クロロフェニル)エチル)−2−(イ
ミダゾール−1−イル)メチル−4−(4−アミノフェ
ニルチオ)メチル−1,3−ジオキソラン(800mg
)の溶液を、攪拌しながら−40℃まで冷却し、次いで
メチルクロロホーメート(0.5ml)により処理する
。この温度を30分間維持し、この反応混合物を次いで
一夜にわたって、室温まで温める。ピリジンを減圧蒸発
させ、残留物を次いで、水(30ml)およびエーテル
(20ml)とともに攪拌する。生成する多量の白色沈
殿物を濾別し、エーテル、水により洗浄し、次いで空気
乾燥させる。酢酸エチル/エーテルから再結晶させ、(
±)−シス−2−(2−(4−クロロフェニル)エチル
)−2−(イミダゾール−1−イル)メチル−4−(4
−メトキシカルボニルアミノフェニルチオ)メチル−1
,3−ジオキソラン(710mg)を、オフホワイト色
の固形物として得る、融点:127〜128℃。
【0217】B.同様の方法に従うが、(±)−シス−
2−(2−(4−クロロフェニル)エチル)−2−(イ
ミダゾール−1−イル)メチル−4−(4−アミノフェ
ニルチオ)メチル−1,3−ジオキソランの代りに、相
当して置換されている式(I)で示される化合物を使用
し、下記の化合物を製造する:(±)−シス−2−(2
−(2−(4−クロロフェニル)エチル)−2−(イミ
ダゾール−1−イル)メチル−4−(4−(4−メトキ
シカルボニルピペラジノ)フェノキシ)メチル−1,3
−ジオキソラン、融点:122〜124℃;(±)−シ
ス−2−(2−(4−クロロフェニル)エチル)−2−
(イミダゾール−1−イル)メチル−4−(4−エトキ
シカルボニルアミノフェノキシ)メチル−1,3−ジオ
キソラン、融点:124〜125℃;
【0218】(±)−シス−2−(2−(4−クロロフ
ェニル)エチル)−2−(イミダゾール−1−イル)メ
チル−4−(4−エトキシカルボニルアミノフェノキシ
)メチル−1,3−ジオキソラン  シュウ酸水素塩、
融点:122〜124℃;(2S,4S)−(±)−シ
ス−2−(2−(4−クロロフェニル)エチル)−2−
(イミダゾール−1−イル)メチル−4−(4−メトキ
シカルボニルアミノフェニルチオ)メチル−1,3−ジ
オキソラン、融点:122〜122.5℃、〔α〕D+
16.1゜(c=0.4,MeOH);(2R,4R)
−(±)−シス−2−(2−(4−クロロフェニル)エ
チル)−2−(イミダゾール−1−イル)メチル−4−
(4−メトキシカルボニルアミノフェニルチオ)メチル
−1,3−ジオキソラン、融点:121〜122℃、〔
α〕D−20.8°(c=0.4,MeOH);
【02
19】(±)−シス−2−(2−(4−クロロフェニル
)エチル)−2−(イミダゾール−1−イル)メチル−
4−(4−エトキシカルボニルアミノフェニルチオ)メ
チル−1,3−ジオキソラン  シュウ酸水素塩、融点
:135〜137℃;(2S,4S)−(±)−シス−
2−(2−(4−クロロフェニル)エチル)−2−(イ
ミダゾール−1−イル)メチル−4−(4−エトキシカ
ルボニルアミノフェニルチオ)メチル−1,3−ジオキ
ソラン、融点:133〜134.5℃、〔α〕D+13
.5°(c=0.5,MeOH);および(2R,4R
)−(±)−シス−2−(2−(4−クロロフェニル)
エチル)−2−(イミダゾール−1−イル)メチル−4
−(4−エトキシカルボニルアミノフェニルチオ)メチ
ル−1,3−ジオキソラン、融点:132〜133℃、
〔α〕D−11.6°(c=0.5,MeOH)。
【0220】C.同様の方法に従うが、メチルクロロホ
ーメートの代りに、メシルクロライドを使用し、下記の
化合物を製造する:(±)−シス−2−(2−(4−ク
ロロフェニル)エチル)−2−(イミダゾール−1−イ
ル)メチル−4−(4−メチルスルホニルアミノフェニ
ルチオ)メチル−1,3−ジオキソラン、融点:175
〜176℃;(2S,4S)−(±)−シス−2−(2
−(4−クロロフェニル)エチル)−2−(イミダゾー
ル−1−イル)メチル−4−(4−メチルスルホニルア
ミノフェニルチオ)メチル−1,3−ジオキソラン、融
点:185.5〜187.5℃、〔α〕D+12.3°
(c=0.4,2:1  CH2Cl2/MeOH);
および(2R,4R)−(±)−シス−2−(2−(4
−クロロフェニル)エチル)−2−(イミダゾール−1
−イル)メチル−4−(4−メチルスルホニルアミノフ
ェニルチオ)メチル−1,3−ジオキソラン、融点:1
82〜185℃、〔α〕D−13.0°(c=0.35
,2:1  CH2Cl2/MeOH)。
【0221】例7式(I)において、R3が−N(R5
)R6であり、R5が水素または低級アルキルであり、
そしてR6が−C(Y)R7であり、Yは酸素であり、
そしてR7は−N(R8)R9であり、ここでR8およ
びR9は水素であり、あるいはR5とR6とはNと一緒
になってピペラジノを形成しており、このピペラジノは
、−C(O)R10により4位が置換されており、ここ
でR10はアミノである、化合物
【0222】A.水(
20ml)中の(±)−シス−2−(2−(4−クロロ
フェニル)エチル)−2−(イミダゾール−1−イル)
メチル−4−(4−アミノフェニルチオ)メチル−1,
3−ジオキソラン(800mg)および1N  HCl
(2ml)の混合物を、シアン酸カリウム(170mg
)で処理し、そして室温で一夜にわたり攪拌する。生成
する混合物を次いで、炭酸カリウム水溶液により塩基性
にし、次いで酢酸エチル(2×50ml)により抽出す
る。この抽出液を洗浄し、乾燥させ(MgSO4)、蒸
発させ、残留物をシリカゲルでクロマトグラフィにより
処理し、酢酸エチル中の2.2%水により溶出する。純
粋な生成物を酢酸エチルから結晶化し、次いで同一溶剤
から再結晶させ、(±)−シス−2−(2−(4−クロ
ロフェニル)エチル)−2−(イミダゾール−1−イル
)メチル−4−(4−アミノカルボニルアミノフェニル
チオ)メチル−1,3−ジオキソラン(400mg)を
得る、融点:120〜121℃。
【0223】B.同様の方法に従うが、(±)−シス−
2−(2−(4−クロロフェニル)エチル)−2−(イ
ミダゾール−1−イル)メチル−4−(4−アミノフェ
ニルチオ)メチル−1,3−ジオキソランの代りに、他
の相当する、式(I)で示される置換化合物を使用し、
下記の化合物を製造する:(±)−シス−2−(2−(
4−クロロフェニル)エチル)−2−(イミダゾール−
1−イル)メチル−4−(4−アミノカルボニルアミノ
フェノキシ)メチル−1,3−ジオキソラン、融点:1
83〜184℃;および(±)−シス−2−(2−(4
−クロロフェニル)エチル)−2−(イミダゾール−1
−イル)メチル−4−(4−(4−アミノカルボニル)
ピペラジノ)フェノキシ)メチル−1,3−ジオキソラ
ン、融点:193〜195℃。
【0224】例8式(I)において、R3が−N(R5
)R6であり、ここでR5が水素または低級アルキルで
あり、そしてR6が−C(Y)R7であり、Yは酸素ま
たは硫黄であり、そしてR7は−N(R8)R9であり
、ここでR8は水素であり、そしてR9は低級アルキル
または低級アルコキシカルボニルである化合物
【022
5】A.無水テトラヒドロフラン(20ml)中の(±
)−シス−2−(2−(4−クロロフェニル)エチル)
−2−(イミダゾール−1−イル)メチル−4−(4−
アミノフェニルチオ)メチル−1,3−ジオキソラン(
800mg)およびエチルイソチオシアネート(1ml
)の混合物を、2日間、おだやかに加熱還流させる。溶
媒を蒸発させ、得られた油状物を酢酸エチル/ヘキサン
の添加により結晶化させる。濾取し、酢酸エチルから再
結晶させ、(±)−シス−2−(2−(4−クロロフェ
ニル)エチル)−2−(イミダゾール−1−イル)メチ
ル−4−(4−(エチルアミノ(チオカルボニル)アミ
ノ)フェニルチオ)メチル−1,3−ジオキソラン(8
20mg)を得る、融点:126〜127.5℃。
【0226】B.同様の方法に従うが、(±)−シス−
2−(2−(4−クロロフェニル)エチル)−2−(イ
ミダゾール−1−イル)メチル−4−(4−アミノフェ
ニルチオ)メチル−1,3−ジオキソランの代りに、相
当する、式(I)で示される置換化合物を使用し、下記
の化合物を製造する:
【0227】(±)−シス−2−(2−(2−(4−ク
ロロフェニル)エチル)−2−(イミダゾール−1−イ
ル)メチル−4−(4−(エチルアミノ(チオカルボニ
ル)アミノ)フェノキシ)メチル−1,3−ジオキソラ
ン、融点:118〜120℃;(2S,4S)−(±)
−シス−2−(2−(4−クロロフェニル)エチル)−
2−(イミダゾール−1−イル)メチル−4−(4−(
エチルアミノ(チオカルボニル)アミノ)フェニルチオ
)メチル−1,3−ジオキソラン、融点:104〜10
7℃、〔α〕D+14.8°(c=0.4,MeOH)
;および(2R,4R)−(±)−シス−2−(2−(
4−クロロフェニル)エチル)−2−(イミダゾール−
1−イル)メチル−4−(4−(エチルアミノ(チオカ
ルボニル)アミノ)フェニルチオ)メチル−1,3−ジ
オキソラン、融点:102〜106℃、〔α〕D−15
.0゜(c=0.4,MeOH)。
【0228】C.同様の方法に従うが、エチルイソチオ
シアネートの代りに、相当するイソチオシアネートまた
はイソシアネートを使用し、下記の化合物を製造する:
(±)−シス−2−(2−(4−クロロフェニル)エチ
ル)−2−(イミダゾール−1−イル)メチル−4−(
4−(メチルアミノ(カルボニル)アミノ)フェニルチ
オ)メチル−1,3−ジオキソラン、融点:140〜1
41℃;および(±)−シス−2−(2−(4−クロロ
フェニル)エチル)−2−(イミダゾール−1−イル)
メチル−4−(4−エトキシカルボニルアミノ(チオカ
ルボニル)アミノフェノキシ)メチル−1,3−ジオキ
ソラン、融点:185〜186℃。
【0229】例9A.水(15ml)中の水酸化ナトリ
ウム(1.5g)を、(±)−シス−2−(2−(4−
クロロフェニル)エチル)−2−(イミダゾール−1−
イル)メチル−4−(4−エトキシカルボニルアミノ(
チオカルボニル)アミノフェノキシ)メチル−1,3−
ジオキソラン(550mg)のメタノール(100ml
)中の懸濁液に加え、生成する溶液を、75℃で1時間
、加熱する。メタノールの大部分を次いで、減圧の下に
蒸発させ、生成物を水の添加により結晶化させる。メタ
ノール/塩化メチレン/エーテルから再結晶させ、(±
)−シス−2−(2−(4−クロロフェニル)エチル)
−2−(イミダゾール−1−イル)メチル−4−(4−
アミノ(チオカルボニル)アミノフェノキシ)メチル−
1,3−ジオキソラン(350mg)を得る、二重融点
:163〜165℃、171〜172℃。
【0230】例10式(I)において、XがS(O)t
であり、そしてtが1である化合物A.ジクロロメタン
(50ml)中のm−クロロ過安息香酸(80〜85%
)(1.42g)の溶液を、攪拌しながら、ジクロロメ
タン(50ml)中の(2S,4S)−シス−2−(2
−(4−クロロフェニル)エチル)−2−(イミダゾー
ル−1−イル)メチル−4−(4−アミノフェニルチオ
)メチル−1,3−ジオキソラン(3.00g)の0℃
の溶液に、30分間にわたって滴下して加える。さらに
30分後に、飽和炭酸カリウム水溶液(50ml)を加
え、この混合物を攪拌し、次いで分離させる。この水性
層をジクロロメタン(50ml)により抽出し、抽出液
を集め、乾燥させ(Na2SO4)、次いで蒸発乾燥さ
せる。
【0231】生成する固形物を少量のジクロロメタン/
メタノール中に溶解し、フラシュクロマトグラフィ(カ
ラムサイズ  3インチ×10インチ)により精製し、
ジクロロメタン中の1〜8%メタノールにより溶出する
。 若干の出発物質および小量の副生成物が溶出された後に
、(2S,4S)−シス−2−(2−(4−クロロフェ
ニル)エチル)−2−(イミダゾール−1−イル)メチ
ル−4−(4−アミノフェニルスルフィニル)メチル−
1,3−ジオキソラン(0.85g)が得られる、融点
:186〜187.8℃、〔α〕D+152.6°(c
=0.4,MeOH)。その後、極性の高い方のジアス
テレオマー(0.89g)が得られる、融点:169.
5〜171.0℃、〔α〕D+4.7°(c=0.4,
MeOH)。
【0232】B.同様の方法に従うが、(2S,4S)
−シス−2−(2−(4−クロロフェニル)エチル)−
2−(イミダゾール−1−イル)メチル−4−(4−ア
ミノフェニルチオ)メチル−1,3−ジオキソランの代
りに、他の式(I)において、Xが−S(O)tであり
、そしてtが1である化合物を使用し、下記の化合物を
製造する:(2S,4S)−シス−2−(2−(2−(
4−メトキシフェニル)エチル)−2−(イミダゾール
−1−イル)メチル−4−(4−アミノフェニルスルフ
ィニル)メチル−1,3−ジオキソラン;(2S,4S
)−シス−2−(2−(2,4−ジクロロフェニル)エ
チル)−2−(イミダゾール−1−イル)メチル−4−
(4−アミノフェニルスルフィニル)メチル−1,3−
ジオキソラン;
【0233】(2S,4S)−シス−2−(2−(4−
クロロフェニル)エチル)−2−(5−メチルイミダゾ
ール−1−イル)メチル−4−(4−アミノフェニルス
ルフィニル)メチル−1,3−ジオキソラン;(2S,
4S)−シス−2−(2−(4−フルオロフェニル)エ
チル)−2−(イミダゾール−1−イル)メチル−4−
(4−アミノフェニルスルフィニル)メチル−1,3−
ジオキソラン;(2R,4S)−トランス−2−(2−
(4−クロロフェニル)エチル)−2−(イミダゾール
−1−イル)メチル−4−(4−アミノフェニルスルフ
ィニル)メチル−1,3−ジオキソラン;
【0234】
(2S,4S)−シス−2−(2−フェニルエチル)−
2−(5−メチルイミダゾール−1−イル)メチル−4
−(アミノフェニルスルフィニル)メチル−1,3−ジ
オキソラン;(2R,4R)−シス−2−(2−(4−
クロロフェニル)エチル)−2−(イミダゾール−1−
イル)メチル−4−(4−アミノフェニルスルフィニル
)メチル−1,3−ジオキソラン;および(2R,4R
)−シス−2−(2−(4−メトキシフェニル)エチル
)−2−(イミダゾール−1−イル)メチル−4−(4
−アミノフェニルスルフィニル)メチル−1,3−ジオ
キソラン。
【0235】例11式(I)において、XがS(O)t
であり、そしてtが2である化合物A.ジクロロメタン
中の(2S,4S)−シス−2−(2−(4−クロロフ
ェニル)エチル)−2−(イミダゾール−1−イル)メ
チル−4−(4−アミノフェニルチオ)メチル−1,3
−ジオキソラン(1.00g)の攪拌溶液に、0℃にお
いて、ジクロロメタン(30ml)中のm−クロロ過安
息香酸(0.94g)の溶液を30分間にわたって滴下
して加える。さらに30分後に、追加のm−クロロ過安
息香酸(0.25g)を加える。さらに30分間攪拌し
た後に、この反応混合物を飽和炭酸カリウム水溶液で処
理し、攪拌し、次いで層を分離させる
【0236】この水性相を酢酸エチルで抽出し、有機フ
ラクションを集め、濃縮し、次いでフラッシュクロマト
グラフィカラム(シリカゲル、2.5インチ×12イン
チ)に通す。ジクロロメタン中の1〜5%メタノールに
より溶出し、純粋な生成物、(2S,4S)−シス−2
−(2−(4−クロロフェニル)エチル)−2−(イミ
ダゾール−1−イル)メチル−4−(4−アミノフェニ
ルスルホニル)メチル−1,3−ジオキソランを得る。 この生成物をメタノール中に溶解し、エーテルを加え、
次いでエーテル性シュウ酸(無水)を沈殿が完了するま
で加え、水素シュウ酸塩に変換する。この固形物を濾取
し、メタノール−酢酸エチルから再結晶させ、モノ(シ
ュウ酸水素)塩(0.9g)を得る、融点:181〜1
82℃。
【0237】B.同様の方法に従うが、(2S,4S)
−シス−2−(2−(4−クロロフェニル)エチル)−
2−(イミダゾール−1−イル)メチル−4−(4−ア
ミノフェニルチオ)メチル−1,3−ジオキソランの代
りに、他の式(I)において、XがS(O)tであり、
そしてtが2である化合物を使用し、下記の化合物を製
造する:
【0238】(2S,4S)−シス−2−(2−(4−
メトキシフェニル)エチル)−2−(イミダゾール−1
−イル)メチル−4−(4−アミノフェニルスルホニル
)メチル−1,3−ジオキソラン;(2S,4S)−シ
ス−2−(2−(2,4−ジクロロフェニル)エチル)
−2−(イミダゾール−1−イル)メチル−4−(4−
アミノフェニルスルホニル)メチル−1,3−ジオキソ
ラン;(2S,4S)−シス−2−(2−(4−クロロ
フェニル)エチル)−2−(5−メチルイミダゾール−
1−イル)メチル−4−(4−アミノフェニルスルホニ
ル)メチル−1,3−ジオキソラン;
【0239】(2
S,4S)−シス−2−(2−(4−フルオロフェニル
)エチル)−2−(イミダゾール−1−イル)メチル−
4−(4−アミノフェニルスルホニル)メチル−1,3
−ジオキソラン;(2R,4S)−トランス−2−(2
−(4−クロロフェニル)エチル)−2−(イミダゾー
ル−1−イル)メチル−4−(4−アミノフェニルスル
ホニル)メチル−1,3−ジオキソラン;(2S,4S
)−シス−2−(2−フェニルエチル)−2−(5−メ
チルイミダゾール−1−イル)メチル−4−(アミノフ
ェニルスルホニル)メチル−1,3−ジオキソラン;
【0240】(2R,4R)−シス−2−(2−(4−
クロロフェニル)エチル)−2−(イミダゾール−1−
イル)メチル−4−(4−アミノフェニルスルホニル)
メチル−1,3−ジオキソラン;および(2R,4R)
−シス−2−(2−(4−メトキシフェニル)エチル)
−2−(イミダゾール−1−イル)メチル−4−(4−
アミノフェニルスルホニル)メチル−1,3−ジオキソ
ラン。
【0241】例12式(I)で示される化合物の塩類A
.イソプロパノール(25ml)中の(2S,4S)−
シス−2−(2−(4−クロロフェニル)エチル)−2
−(イミダゾール−1−イル)メチル−4−(4−アミ
ノフェニルチオ)メチル−1,3−ジオキソラン(70
0mg)を攪拌しながら温め、溶解させる。イソプロパ
ノール中に溶解した濃硫酸の溶液を、もはやそれ以上の
沈殿が生じなくなるまで、滴下して加える。ここで、こ
のフラスコを氷浴中に入れ、次いで酢酸エチル(全量が
50mlになる量)を加える。
【0242】この冷却した混合物を濾過し、生成する白
色固形物を酢酸エチルにより洗浄し、次いで空気乾燥さ
せる。水(25ml)から再結晶させ、この混合物を氷
浴中で冷却し、濾過し、固形物を氷水により洗浄し、次
いで乾燥させ、(2S,4S)−シス−2−(2−(4
−クロロフェニル)エチル)−2−(イミダゾール−1
−イル)メチル−4−(4−アミノフェニルチオ)メチ
ル−1,3−ジオキソランのモノ(硫酸水素塩)を細か
い白色の微結晶として得る(733mg)、融点:19
8〜200℃。
【0243】B.マレイン酸(116mg)を酢酸エチ
ル(7ml)中に温めながら溶解する。この溶液を次い
で、酢酸エチル(7ml)中の(2S,4S)−シス−
2−(2−(4−クロロフェニル)エチル)−2−(イ
ミダゾール−1−イル)メチル−4−(4−アミノフェ
ニルチオ)メチル−1,3−ジオキサンの溶液(この溶
液はまた、温めることによって調製される)に加える。 生成する溶液を非常に短時間、加温すると、若干の僅か
な混濁物が分散する。この溶液に結晶種を接種し、こす
りまぜた後に、この溶液を冷却し、固形物を濾取し、次
いで酢酸エチルにより洗浄し、(2S,4S)−シス−
2−(2−(4−クロロフェニル)エチル)−2−(イ
ミダゾール−1−イル)メチル−4−(4−アミノフェ
ニルチオ)メチル−1,3−ジオキソランのモノ(マレ
イン酸水素)塩を硫黄黄色の粉末として得る(370m
g)、融点:101〜103℃。
【0244】C.酢酸エチル(7ml)中のマレイン酸
(233mg)の温かい溶液を、上記のとおりに、酢酸
エチル(7ml)中の(2S,4S)−シス−2−(2
−(4−クロロフェニル)エチル)−2−(イミダゾー
ル−1−イル)メチル−4−(4−アミノフェニルチオ
)メチル−1,3−ジオキソラン(430mg)の温か
い溶液に加える。生成するミルク状物を、短時間加熱し
ながら、アセトン数滴の添加によって、清明にする。 結晶種を接種し、次いでこすりまぜ、次いで冷却および
濾過を行ない、(2S,4S)−シス−2−(2−(4
−クロロフェニル)エチル)−2−(イミダゾール−1
−イル)メチル−4−(4−アミノフェニルチオ)メチ
ル−1,3−ジオキソランのビス(マレイン酸水素塩)
を、黄色固形物として得る(523mg)、融点:90
〜92℃。母液をゆっくり蒸発させると、同一組成の雪
白色針状物(50mg)が得られる、融点:112〜1
14℃(70℃から分解)。
【0245】D.酢酸エチル(18ml)中の(2S,
4S)−シス−2−(2−(4−クロロフェニル)エチ
ル)−2−(イミダゾール−1−イル)メチル−4−(
4−アミノフェニルチオ)メチル−1,3−ジオキサン
(430mg)の溶液に、そのメシレート塩を接種し、
酢酸エチル(2ml)中のメタンスルホン酸(>98%
、93mg)を攪拌しながら滴下して処理し、次いで沈
殿が結晶化するまで攪拌する。この生成物をN2雰囲気
の下に濾取し、酢酸エチルにより洗浄し、次いでメタノ
ール−酢酸エチルから再結晶させ、(2S,4S)−シ
ス−2−(2−(4−クロロフェニル)エチル)−2−
(イミダゾール−1−イル)メチル−4−(4−アミノ
フェニルチオ)メチル−1,3−ジオキソランのメタン
スルホン酸塩(315mg)を得る、融点:152〜1
54℃。
【0246】E.MeOH(35ml)中の(2S,4
S)−シス−2−(2−(4−クロロフェニル)エチル
)−2−(イミダゾール−1−イル)メチル−4−(4
−アミノフェニルチオ)メチル−1,3−ジオキソラン
(3.225g)の懸濁液を、攪拌しながら、86.2
%H3PO4(1.71g、2当量)の滴下により処理
する。生成する溶液を減圧の下に蒸発させる。この残留
物を次いで温かい水(15ml)中に溶解し、濾過し、
濾液を次いで、濁が生じはじめるまで、イソプロパノー
ルを滴下することによって処理する。結晶種を接種し、
こすり混ぜると、若干の結晶が得られる。次いで、イソ
プロパノールをこすり混ぜながら滴下して加え(最終容
量75ml)、結晶化を誘発させ、完了させる。追加の
25mlのイソプロパノールを次いで加え、この混合物
を氷中に冷却し、N2雰囲気の下に濾過し、この固形物
を氷冷イソプロパノールにより洗浄し、次いで減圧で乾
燥させ、(2S,4S)−シス−2−(2−(4−クロ
ロフェニル)エチル)−2−(イミダゾール−1−イル
)メチル−4−(4−アミノフェニルチオ)メチル−1
,3−ジオキソランのリン酸塩4.27gを明白色の粉
末として得る、融点:198〜200℃(部分的融解:
112〜130℃、130〜190℃)。
【0247】F.メタノール50m1中の(2S,4S
)−シス−2−(2−(4−クロロフェニル)エチル)
−2−(イミダゾール−1−イル)メチル−4−(4−
アミノフェニルチオ)メチル−1,3−ジオキソラン(
4.00g)の懸濁液を、エーテル中の1N  HCl
(気体)25ml(Ardrich)(>2当量)によ
り処理する。生成する溶液を次いで、減圧の下に蒸発乾
燥させ、次いでアセトニトリル(100ml)および水
2〜3mlにより処理し、白色針状物の塊を得る。 これを濾取し(N2雰囲気の下に)、含水アセトニトリ
ルにより、次いでアセトニトリルにより洗浄し、次いで
減圧の下に乾燥させ、(2S,4S)−シス−2−(2
−(4−クロロフェニル)エチル)−2−(イミダゾー
ル−1−イル)メチル−4−(4−アミノフェニルチオ
)メチル−1,3−ジオキソランの2塩酸塩3.89g
を得る、融点:130〜138℃(泡状物、112〜1
30℃で部分的に融解)。この塩を、1〜2%水含有酢
酸エチル/イソプロピルアルコールから結晶化させ、融
点〜126℃(分解)を有する生成物を得る。
【0248】例13式(I)で示される化合物の塩の、
遊離塩基への変換水(10ml)中の(2S,4S)−
シス−2−(2−(4−クロロフェニル)エチル)−2
−(イミダゾール−1−イル)メチル−4−(4−アミ
ノフェニルチオ)メチル−1,3−ジオキソランの2塩
酸塩(1.0g)の溶液を、過剰量のK2CO3水溶液
により処理し、この混合物を塩化メチレン(2×20m
l)により抽出する。抽出液を集め、洗浄し、乾燥させ
(MgSO4)、次いで蒸発乾燥させる。酢酸エチル/
ヘキサンから再結晶させると、遊離塩基、(2S,4S
)−シス−2−(2−(4−クロロフェニル)エチル)
−2−(イミダゾール−1−イル)メチル−4−(4−
アミノフェニルチオ)メチル−1,3−ジオキサンが得
られる、融点:121〜121.5℃。
【0249】例14この例は、式(I)で示される化合
物またはその医薬上で許容される塩、たとえば(2S,
4S)−シス−2−(2−(4−クロロフェニル)エチ
ル)−2−(イミダゾール−1−イル)メチル−4−(
4−アミノフェニルチオ)メチル−1,3−ジオキサン
を含有する、代表的医薬製剤の調製を例示するものであ
る。
【0250】成    分式(I)で示される化合物 
                   200mg乳
糖(噴霧乾燥したもの)              
      148mgステアリン酸マグネシウム  
                      2mg
上記諸成分を混合し、硬殻ゼラチンカプセル中に装入す
る。別様に、この混合物は、軟質弾性のカプセル中に装
入することもできる。式(I)で示される、他の化合物
、たとえば例1〜6に従って製造される化合物を、本例
の経口投与用製剤の調製に、上記化合物として使用する
こともできる。
【0251】例15この例では、式(I)で示される化
合物またはその医薬上で許容される塩、たとえば(2S
,4S)−シス−2−(2−(4−クロロフェニル)エ
チル)−2−(イミダゾール−1−イル)メチル−4−
(4−アセトアミノフェニルチオ)メチル−1,3−ジ
オキソランを含有する、代表的医薬製剤の調製を例示す
る。
【0252】下記の組成を有する注射製剤を調製する:
成    分式(I)で示される化合物       
             1.0%マンニトール  
                    4.0%H
Cl(1N)                   
     pHを3にする適量注射用水全量を100.
0%にする適量この例の注射製剤の調製に、上記化合物
として、式(I)で示される他の化合物、たとえば例1
〜6に従い製造される化合物を使用することもできる。
【0253】例16本例では、式(I)で示される化合
物またはその医薬上で許容される塩、たとえば(2S,
4R)−シス−2−(2−(4−クロロフェニル)エチ
ル)−2−(イミダゾール−1−イル)メチル−4−(
4−アミノフェノキシ)メチル−1,3−ジオキソラン
を含有する代表的医薬製剤の調製を例示する。
【0254】下記の組成を有する、総量2.5gの坐薬
を調製する:式(I)で示される化合物       
             500mgWitepso
l  H−15  残りの量(Witepsol  H
−15は、飽和植物脂肪酸のトリグリセライドであり、
Riches−Nelson,Inc.New  Yo
rk,N.Y.の製品である)この例の坐薬製剤の調製
において、活性化合物として、式(I)で示される他の
化合物、たとえば例1〜6に従い製造される化合物を使
用することもできる。
【0255】例17インビトロ試験下記の試験において
、ミクロソームおよびミトコンドリアは、Arch.B
iochem.Biophys.(1986),248
巻、658〜676頁およびArch.Biochem
.Biophys.(1966),117巻、660〜
673頁に記載の方法によって調製した;ラノステロー
ル  14α−デメチラーゼおよびコレステロール  
7α−ヒドロキシラーゼ用のラットミクロソームは、動
物の肝臓をコレスチラミンで処理することによって得た
。 タンパク質は、J.Biol.Chem.(1951)
,193巻、265〜275頁に記載のLowery法
によって測定した。
【0256】A.ラノステロール  14α−デメチラ
ーゼミクロソームインキュベーションは、リン酸カリウ
ム緩衝液(0.02M,pH7.0)、ジチオスレイト
ール(0.3nM)、EDTA(0.01mM)、塩化
マグネシウム(3mM)、Tween−20(0.00
5%)、グリセロール(20%)、G−6−P(5mM
)、G−6−Pデヒドロゲナーゼ(1単位)、ミクロソ
ームタンパク質(0.187nmol  チトクローム
P450を含有、247μg)、被験化合物(20μl
メタノール中)、および14−メチル−〔3H〕−ジヒ
ドロラノステロール(20μlメタノール中の40.8
nmol)を含有するものを用いて行なった。この混合
物を渦巻状に攪拌し、反応がNADPH(0.01M)
によって開始されるまで、4℃に維持した。試験管は3
7℃で30分間、インキュベートした。
【0257】このインキュベーションは、40%TCA
溶液250μlを用いて停止した。Bond−Elut
抽出カラムをメタノール(1×1ml)により、次いで
脱イオン化水(2×1ml)により活性化した。反応生
成物である〔3H〕−水を、活性化Bond−Elut
カラムに保有されている未反応14−メチル−3H−ジ
ヒドロラノステロールから分離した。一対の400μl
定量の溶出液を10ml  Beta−Blend液体
シンチレーション液と混合し、放射能含有量を分析した
【0258】B.コレステロール  7α−ヒドロキシ
ラーゼインキュベーションは、全量1ml中に、肝ミク
ロソーム(2mgタンパク質、0.140μmol内生
コレステロール基質)、NADPH(1.0μmol)
、塩化マグネシウム(3μmol)、EDTA(0.1
μmol)、システアミン塩酸塩(20μmol)およ
びリン酸カリウム緩衝液、pH7.4(100μmol
)を含有する混合物で行ない、37℃で10分間、かき
まぜ、次いでNADPHを添加した。被験化合物(メタ
ノール20μl中)をインキュベーション管に加え、溶
剤を蒸発させた後に、他の成分を加えた。10分のイン
キュベーション時間の後に、NADPH依存性反応を、
ナトリウムコレート(5mg)を添加して、膜を可溶化
させることによって停止させ、次いでコレステロールオ
キシダーゼ(20%グリセロールおよび1mMジチオス
レイトール含有10mMリン酸カリウム緩衝液中に溶解
した0.23単位)の添加および37℃における20分
間の攪拌によって、この生成物をそれらの各4−コレス
テン−3−オンにそれぞれ変換した。
【0259】全ての反応を、メタノール1ml、次いで
石油エーテル5mlの添加により止めた。各試料を混合
し、遠心処理した後に、有機相を窒素流の下に、蒸発さ
せ、この残留物をイソプロパノール100μlに溶解し
、次いでHPLCにより分析した。この代謝反応のHP
LC分析は、Wisp  710B  オートサンプラ
ーおよびKratos  SF769UV検出機(24
0nm)を備えたVarian5000液体クロマトグ
ラフで行なった。
【0260】生成物の分離は、シリカ充填した3cmガ
ードカラムを先に有する、2個の5μm、25cmシリ
カカラム(Dupont  Zorbax  Silま
たはBeckman  Ultrasphere  S
il)を用いて達成した。これらのカラムは、下記の条
件の下に、ヘキサン/イソプロパノールを用いて溶出し
た:95/5で均等に12分間;70/30までの線状
勾配で5分間;次いで70/30で均等に23分間。ク
ロマトグラフィ分離はいづれも、室温で行なった。
【0261】C.コレステロール側鎖開裂酵素WR−1
339(1:75W/W比)中の26−〔3H〕コレス
テロール(10μmol)を、総量1ml中のウシ副腎
ミトコンドリア(1mg)、ウシ副腎シトソール(1m
g)、ウシ血清アルブミン(0.25mg)、リン酸カ
リウム、pH7.4(20μmol)、CaCl2(0
,5μmol)、MgCl2(4μmol)、EDTA
(0.5μmol)、グルコース−6−ホスフェートデ
ヒドロゲナーゼ(2単位)、グルコース−6−ホスフェ
ート(5μmol)、被験化合物(20μlMeOH中
)およびNADPH(1.0μmol)とともにインキ
ュベートした。反応は、2mlメタノールにより止め、
次いでMeOH(1×3ml)および水(2×1ml)
で予め活性化した3ml  C18  Bond  E
lut抽出カラムに適用した。生成された〔14C〕−
イソカプロン酸の量を、この水性溶出液中の放射能から
測定した。
【0262】結果式(I)で示される化合物によるシト
クロームP450酵素の阻害に係る力価および選択性を
、臨床的に使用されているコレステロール低下剤である
ケトコナゾール(ketoconazole)と比較し
た。結果を次表にまとめて示す:
【表1】 化合物A:(2S,4S)−シス−2−(2−(4−ク
ロロフェニル)エチル)−2−(イミダゾール−1−イ
ル)メチル−4−(4−アミノフェニルチオ)メチル−
1,3−ジオキソラン
【0263】試験した式(I)で示される化合物は、他
の被験シトクロームP450酵素類に対する場合に比較
して、ラノステロールデメチラーゼの阻害に関して選択
性であることが見い出された。試験した式(I)で示さ
れる化合物はまた、ケトコナゾールに比較して、ラノス
テロール  デメチラーゼに対してさらに効果的かつま
た選択的な阻害剤であることが見い出された。上記のデ
ータはまた、式(I)で示される化合物が、インビボに
おいて、他のシトクロームP450との相互作用に係り
最低の能力を示す、コレステロール低下効果を有するも
のであることを示唆している。
【0264】例18インビトロ試験細胞内コレステロー
ル合成の抑制に係る、式(I)で示される化合物の能力
を、ヒト皮膚繊維芽細胞を用いて、Kraemer等に
よって、前述の刊行物に記載された方法の変法によって
試験した。ヒト皮膚繊維芽細胞は、生後1週間〜1ケ月
の2人の女児および2人の男児から得られた貯蔵品であ
り、American  Type  Culture
  Collection(Rockville,MD
)から購入した。これらの繊維芽細胞は、60mM培養
皿内で10%ウシ胎児血清(FBS  Gibco)中
で約90%の集密度にまで培養した。これらを37℃で
24時間インキュベートし、その後、リポタンパク質−
欠失培地(この培地は、FBSの濃度をKBrにより1
.21g/mlに調整し、次いで5℃において16時間
、100,000xgの超遠心処理によってリポタンパ
ク質を除去することによって調製される)中で試験した
【0265】上記繊維芽細胞を、血清を含有していない
培地(ModifiedEagleの培地、Gibco
)により2回、洗浄し、次いで10−6〜10−12M
の最終濃度に、エタノール中に溶解した被験化合物とと
もにインキュベートした。ナトリウム  2−〔−14
C〕アセテート(NewEngland  Nucle
ar、比重50Ci/mol)を次いで加え、これらの
細胞を37℃で2時間インキュベートした。これらを次
いで氷上に置き、リン酸塩緩衝した塩類溶液、pH7.
4(PBS)により3回洗浄し、プレートから、こすり
取り、0.5ml  PBS中に分散した。
【0266】タンパク質測定用に一定量づつ分離した後
に、キャリヤ  コレステロール(250μg)、ラノ
ステロール(250μg)および〔3H〕コレステロー
ル(New  England  Nuclear、2
0,000dpm、52Ci/mmole)を加えた。 この懸濁液を、等量の90%エタノール中15%KOH
(エタノール:水90:10の100ml中の15g 
 KOH)の添加によってケン化し、次いで80℃で2
時間、インキュベートした。このケン化生成物を次いで
2容積の石油エーテルにより4回抽出し、抽出液をN2
雰囲気の下に蒸発乾燥させ、ヘキサン200μl中に溶
解し、次いで25%酢酸エチル−75%ヘキサン溶剤混
合物中の250μシリカゲルHプレートにおけるTLC
によって、120μlを分別した。
【0267】これらのプレートを乾燥させ、I2蒸気に
さらし、次いでコレステロール、ラノステロール、スク
アレン−オキサイドおよびスクアレンの真正試料に相当
する領域をプレートからこすり取り、その放射能を、B
eckmanLS−5000TA液体シンチレーション
分光光度計によって測定した。活性はdpm/細胞タン
パク質mg/時間で表わし、そしてIC50値はグラフ
により決定した。
【0268】結果上記方法に従い、(2S,4S)−シ
ス−2−(2−(4−クロロフェニル)エチル)−2−
(イミダゾール−1−イル)メチル−4−(4−アミノ
フェニルチオ)メチル−1,3−ジオキソランおよびそ
の2塩酸塩を、10−12〜10−6Mの濃度で(三重
測定による)、コレステロール合成に対する効力に関し
て試験した。これらの化合物は両方ともに、ラノステロ
ールおよび(または)ジヒドロラノステロールの脱メチ
ル化を阻害することによって、ヒト皮膚繊維芽細胞を用
いて、2−〔14C〕アセテートからのコレステロール
の合成を阻害した。上記遊離塩基化合物および2塩酸塩
化合物のIC50値はそれぞれ、0.09nMおよび0
.2nMであることが見い出された。これらの化合物は
また、両方ともに、コレステロール合成の抑制に関して
、ケトコナゾール(IC50=48nM)よりも、さら
に有効であることが見い出された。
【0269】例19インビボ試験体重90〜110gの
8匹の雄のLak:LVG(SYR)ハムスターに、0
.5mlプロピレングリコール中の被験化合物を1日1
回の投与で、3日または14日の間投与した。動物は犠
牲にする前夜、食餌を与え、ネムブタール麻酔の下に心
臓穿刺によるか、または軽いエーテル麻酔の下に、眼窩
後方洞から、血液を採取した。血清を集め、分析時まで
、−20℃で保存した。
【0270】(a)Sigma  Chemical 
 Companyから得られる酵素性検定キット(Pr
ocedure  No.352)を使用し、試料+試
薬を96のくぼみを有するELIZAプレート中で混合
し、光学濃度を、Molecular  Device
sから得られたプレートの読み取り機(変化係数=2%
)により490nMで測定するか、あるいは(b)Ph
armacia  Diagnosticsから得られ
る酵素性キット試薬を使用し、Geminiミニチュア
遠心分離分析機(変化係数=3.5%)により、総血清
コレステロールレベルを測定した。
【0271】結果ハムスターにおいて3日間試験した場
合には、(2S,4S)−シス−2−(2−(4−クロ
ロフェニル)エチル)−2−(イミダゾール−1−イル
)メチル−4−(4−アミノフェニルチオ)メチル−1
,3−ジオキソランは、100mg/kg/日の投与量
でコレステロールレベルを63%低下させた。14日間
の試験の場合には、同一化合物は、試験された全部の投
与量(たとえば、5、10、25、50、75および1
00mg/kg/日)でコレステロールレベルを有意に
低下させた。
【0272】(2S,4S)−シス−2−(2−(4−
クロロフェニル)エチル)−2−(イミダゾール−1−
イル)メチル−4−(4−アミノフェニルチオ)メチル
−1,3−ジオキソランの2塩酸塩は、14日間試験に
おいて、遊離塩基化合物と比較して、5〜100mg/
kg/日の全投与量において、均等な活性を有すること
が見い出された。塩化合物はまた、ケトコナゾールに比
較して、少なくとも3倍の力価を有することが見い出さ
れた。
【0273】例20毒性静脈投与5匹の雌および5匹の
雄のマウスに、(2S,4S)−シス−2−(2−(4
−クロロフェニル)エチル)−2−(イミダゾール−1
−イル)メチル−4−(4−アミノフェニルチオ)メチ
ル−1,3−ジオキソラン2塩酸塩を30mg/kgの
単次投与量で投与した。死亡は見い出されず、そしてま
た処置に関連する変化は、体重または検死において見ら
れなかった。
【0274】経口投与5匹の雌および5匹の雄のマウス
に、(2S,4S)−シス−2−(2−(4−クロロフ
ェニル)エチル)−2−(イミダゾール−1−イル)メ
チル−4−(4−アミノフェニルチオ)メチル−1,3
−ジオキソラン2塩酸塩を500mg/kgの単次投与
量で投与した。死亡は見られず、そしてまた処置に関連
する変化は、体重または検死において存在しなかった。
【0275】本発明をその特定の態様に関して説明した
が、本発明の真の精神および範囲から逸脱することなく
、種々の変化がなしうることおよびまた均等な置き換え
が可能であることが、当業者に理解されるべきである。 さらにまた、本発明の目的、精神および範囲に対して、
特定の状況、材料、組成、方法処理工程(1つまたは2
つ以上)を適合させるために、多くの修正がなされうる
。このような修正はいづれも、本明細書中の特許請求の
範囲内にあるものと解釈されるべきである。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 【請求項1】  コレステロール過剰血症を特徴とする
    病的状態を有する哺乳動物を処置する方法であって、治
    療を要する哺乳動物に、治療有効量の下記式Iで示され
    る、一つの立体異性体またはその混合物の形態の化合物
    、またはその医薬的に許容される塩を投与することから
    なる処置方法: 【化1】 式中、nは、2または3であり、pは、0、1または2
    であり、qは、0、1または2であり、Xは、酸素また
    はS(O)tであり、そしてtは、0、1または2であ
    り、R1はそれぞれ、独立して、ハロ、低級アルキル、
    低級アルコキシまたはトリフルオロメチルであり、R2
    はそれぞれ、独立して、ハロまたは低級アルキルであり
    、R3は、ニトロまたは−N(R5)R6であり、ここ
    でR5は、水素または低級アルキルであり、そしてR6
    は水素、低級アルキル、低級アルキルスルホニルまたは
    −C(Y)R7であり、ここでYは酸素または硫黄であ
    り、そしてR7は、水素、低級アルキル、低級アルコキ
    シまたは−N(R8)R9であり、ここでR8は水素ま
    たは低級アルキルであり、そしてR9は、水素、低級ア
    ルキルまたは低級アルコキシカルボニルであり、あるい
    はR5とR6とはNと一緒になって、ピロリジノ、ピペ
    リジノ、モルホリノ、チオモルホリノまたはピペラジノ
    を形成しており、このピペラジノはその4位置が−C(
    O)R10により置換されていてもよく、ここでR10
    は、水素、低級アルキル、低級アルコキシまたはアミノ
    であり、そして、R4は、水素または低級アルキルであ
    る。 【請求項2】  コレステロール過剰血症を特徴とする
    病的状態を有する哺乳動物の処置に有用な医薬組成物で
    あって、医薬的に許容される賦形剤および治療有効量の
    下記式Iで示される、一つの立体異性体またはその混合
    物の形態の化合物、あるいはその医薬的に許容される塩
    を含有する医薬組成物: 【化2】 式中、nは、2または3であり、pは、0、1または2
    であり、qは、0、1または2であり、Xは、酸素また
    はS(O)tであり、そしてtは、0、1または2であ
    り、R1はそれぞれ、独立して、ハロ、低級アルキル、
    低級アルコキシまたはトリフルオロメチルであり、R2
    はそれぞれ、独立して、ハロまたは低級アルキルであり
    、R3は、ニトロまたは−N(R5)R6であり、ここ
    でR5は、水素または低級アルキルであり、そしてR6
    は水素、低級アルキル、低級アルキルスルホニルまたは
    −C(Y)R7であり、ここでYは、酸素または硫黄で
    あり、そしてR7は、水素、低級アルキル、低級アルコ
    キシまたは−N(R8)R9であり、ここでR8は水素
    または低級アルキルであり、そしてR9は、水素、低級
    アルキルまたは低級アルコキシカルボニルであり、ある
    いはR5とR6とはNと一緒になって、ピロリジノ、ピ
    ペリジノ、モルホリノ、チオモルホリノまたはピペラジ
    ノを形成しており、このピペラジノは、その4位置が−
    C(O)R10により置換されていてもよく、ここでR
    10は、水素、低級アルキル、低級アルコキシまたはア
    ミノであり、そしてR4は、水素または低級アルキルで
    ある。 【請求項3】  一つの立体異性体またはその混合物と
    しての、下記式Iで示される化合物あるいはその医薬的
    に許容される塩: 【化3】 式中、nは、2または3であり、pは、0、1または2
    であり、qは、0、1または2であり、Xは、S(O)
    tであり、そしてtは、0、1または2であり、R1は
    それぞれ、独立して、ハロ、低級アルキル、低級アルコ
    キシまたはトリフルオロメチルであり、R2はそれぞれ
    、独立して、ハロまたは低級アルキルであり、R3は、
    ニトロまたは−N(R5)R6であり、ここでR5は、
    水素または低級アルキルであり、R6は水素、低級アル
    キル、低級アルキルスルホニルまたは−C(Y)R7で
    あり、ここでYは、酸素または硫黄であり、そしてR7
    は、水素、低級アルキル、低級アルコキシまたは−N(
    R8)R9であり、ここでR8は水素または低級アルキ
    ルであり、そしてR9は、水素、低級アルキルまたは低
    級アルコキシカルボニルであり、あるいはR5とR6と
    はNと一緒になって、ピロリジノ、ピペリジノ、モルホ
    リノ、チオモルホリノまたはピペラジノを形成しており
    、このピペラジノは、その4位置が−C(O)R10に
    より置換されていてもよく、ここでR10は、水素、低
    級アルキル、低級アルコキシまたはアミノであり、そし
    て、R4は、水素または低級アルキルである。 【請求項4】  ジオキソラン環の2−炭素がS−配置
    を有する、請求項3の化合物。 【請求項5】  nが2であり、qが0であり、そして
    R4が水素である、請求項4の化合物。 【請求項6】  R3が4位に存在しており、そしてN
    −(R5)R6を表わし、ここでR5は、水素または低
    級アルキルであり、そしてR6は、水素、低級アルキル
    、低級アルキルスルホニルまたは−C(Y)R7であり
    、Yは酸素または硫黄であり、そしてR7は、水素、低
    級アルキル、低級アルコキシまたは−N(R8)R9で
    あり、R8は水素または低級アルキルであり、そしてR
    9は、水素、低級アルキルまたは低級アルコキシカルボ
    ニルである、請求項5の化合物。 【請求項7】  R1がクロロ、フルオロ、メチルまた
    はメトキシである、請求項6の化合物。 【請求項8】  R5が水素であり、そしてR6が水素
    または−C(Y)R7であり、ここでYは酸素であり、
    そしてR7は水素、低級アルキルまたは低級アルコキシ
    である、請求項7の化合物。 【請求項9】  pが1であり、tが0であり、そして
    R1が4位置に存在するクロロである、請求項8の化合
    物。 【請求項10】  R6が水素である請求項9の化合物
    のシス−エナンチオマー、すなわち(2S,4S)−シ
    ス−2−(2−(4−クロロフエニル)エチル)−2−
    (イミダゾール−1−イル)メチル−4−(4−アミノ
    フェニルチオ)メチル−1,3−ジオキソラン、または
    その医薬的に許容される塩、特にその二塩酸塩。 【請求項11】  その相当する(2R,4R)−シス
    −エナンチオマーと一緒になった、請求項10の化合物
    、すなわち(±)−シス−2−(2−(4−クロロフエ
    ニル)エチル)−2−(イミダゾール−1−イル)メチ
    ル−4−(4−アミノフェニルチオ)メチル−1,3−
    ジオキソラン、またはその医薬的に許容される塩。 【請求項12】  R6が水素である請求項9の化合物
    のトランス−エナンチオマー、すなわち(2S,4R)
    −トランス−2−(2−(4−クロロフエニル)エチル
    )−2−(イミダゾール−1−イル)メチル−4−(4
    −アミノフェニルチオ)メチル−1,3−ジオキソラン
    、またはその医薬的に許容される塩。 【請求項13】  その相当する(2R,4S)−トラ
    ンス−エナンチオマーと一緒になった請求項12の化合
    物、すなわち(±)−トランス−2−(2−(4−クロ
    ロフエニル)エチル)−2−(イミダゾール−1−イル
    )メチル−4−(4−アミノフェニルチオ)メチル−1
    ,3−ジオキソラン、またはその医薬的に許容される塩
    。 【請求項14】  R6がアセチルである請求項9の化
    合物のシス−エナンチオマー、すなわち(2S,4S)
    −シス−2−(2−(4−クロロフエニル)エチル)−
    2−(イミダゾール−1−イル)メチル−4−(4−ア
    セトアミドフェニルチオ)メチル−1,3−ジオキソラ
    ン、またはその医薬的に許容される塩。 【請求項15】  その相当する(2R,4R)−シス
    −エナンチオマーと一緒になった請求項14の化合物、
    すなわち(±)−シス−2−(2−(4−クロロフエニ
    ル)エチル)−2−(イミダゾール−1−イル)メチル
    −4−(4−アセトアミドフェニルチオ)メチル−1,
    3−ジオキソラン、またはその医薬的に許容される塩【
    請求項16】  R6がアセチルである請求項9のトラ
    ンス−エナンチオマー、すなわち(2S,4R)−トラ
    ンス−2−(2−(4−クロロフエニル)エチル)−2
    −(イミダゾール−1−イル)メチル−4−(4−アセ
    トアミドフェニルチオ)メチル−1,3−ジオキソラン
    、またはその医薬的に許容される塩。 【請求項17】  その相当する(2R,4S)−トラ
    ンス−エナンチオマーと一緒になった請求項16の化合
    物、すなわち(±)卜ランス−2−(2−(4−クロロ
    フエニル)エチル)−2−(イミダゾール−1−イル)
    メチル−4−(4−アセトアミドフェニルチオ)メチル
    −1,3−ジオキソラン、またはその医薬的に許容され
    る塩。 【請求項18】  pが1であり、tが0であり、そし
    てR1が4位置に存在するメトキシである、請求項8の
    化合物。 【請求項19】  R6が水素である請求項18の化合
    物のシス−エナンチオマー、すなわち(2S,4S)−
    シス−2−(2−(4−メトキシフエニル)エチル)−
    2−(イミダゾール−1−イル)メチル−4−(4−ア
    ミノフェニルチオ)メチル−1,3−ジオキソラン、ま
    たはその医薬的に許容される塩。 【請求項20】  その相当する(2R,4R)−シス
    −エナンチオマーと一緒になった請求項19の化合物、
    すなわち(±)−シス−2−(2−(4−メトキシフエ
    ニル)エチル)−2−(イミダゾール−1−イル)メチ
    ル−4−(4−アミノフェニルチオ)メチル−1,3−
    ジオキソラン、またはその医薬的に許容される塩。 【請求項21】  pが1であり、tが0であり、そし
    てR1が4位置に存在するフルオロである、請求項8の
    化合物。 【請求項22】  R6が水素である請求項21の化合
    物のシス−エナンチオマー、すなわち(2S,4S)−
    シス−2−(2−(4−フルオロフエニル)エチル)−
    2−(イミダゾール−1−イル)メチル−4−(4−ア
    ミノフェニルチオ)メチル−1,3−ジオキソラン、ま
    たはその医薬的に許容される塩。 【請求項23】  pが0であり、そしてtが0である
    、請求項8の化合物。 【請求項24】  R6が水素である請求項23の化合
    物のシス−エナンチオマー、すなわち(2S,4S)−
    シス−2−(2−フエニルエチル)−2−(イミダゾー
    ル−1−イル)メチル−4−(4−アミノフェニルチオ
    )メチル−1,3−ジオキソラン、またはその医薬的に
    許容される塩。 【請求項25】  pが2であり、tが0であり、そし
    てR1の一つが2位置に存在するクロロであり、R1の
    他の一つが4位置に存在するクロロである、請求項8の
    化合物。 【請求項26】  R6が水素である請求項25の化合
    物のシス−エナンチオマー、すなわち(2S,4S)−
    シス−2−(2−(2,4−ジクロロフエニル)エチル
    )−2−(イミダゾール−1−イル)メチル−4−(4
    −アミノフェニルチオ)メチル−1,3−ジオキソラン
    、またはその医薬的に許容される塩。 【請求項27】  nが2であり、pが1であり、qが
    0であり、tが1であり、R1が4位置に存在するクロ
    ロであり、R3が4位置に存在する−N(R5)R6で
    あり、そしてR5およびR6は両方ともに水素であり、
    そしてR4が水素である、請求項3の化合物のシス−エ
    ナンチオマー、すなわち(2S,4S)−シス−2−(
    2−(4−クロロフエニル)エチル)−2−(イミダゾ
    ール−1−イル)メチル−4−(4−アミノフェニルス
    ルフィニル)メチル−1,3−ジオキソラン、またはそ
    の医薬的に許容される塩。 【請求項28】  硫黄原子の部位でS配置またはR配
    置を有する異性体である、請求項27の化合物。 【請求項29】  nが2であり、pが1であり、qが
    0であり、tが2であり、R1が4位置に存在するクロ
    ロであり、R3が4位置に存在する−N(R5)R6で
    あり、そしてR5およびR6は両方ともに、水素であり
    、そしてR4が水素である請求項3の化合物のシス−エ
    ナンチオマー、すなわち(2S,4S)−シス−2−(
    2−(4−クロロフエニル)エチル)−2−(イミダゾ
    ール−1−イル)メチル−4−(4−アミノフェニルス
    ルホニル)メチル−1,3−ジオキソラン、またはその
    医薬的に許容される塩。 【請求項30】  その相当する(2R,4R)−シス
    −エナンチオマーと一緒になった請求項29の化合物、
    すなわち(±)−シス−2−(2−(4−クロロフエニ
    ル)エチル)−2−(イミダゾール−1−イル)メチル
    −4−(4−アミノフェニルスルホニル)メチル−1,
    3−ジオキソラン、またはその医薬的に許容される塩。 【請求項31】  nが2であり、pが1であり、qが
    0であり、tが1であり、R1が4位置に存在するクロ
    ロであり、R3が4位置に存在する−N(R5)R6で
    あり、R5は水素であり、そしてR6は−C(Y)R7
    であり、R9はメチルであり、そしてYは酸素であり、
    そしてR4が水素である請求項3の化合物のシス−エナ
    ンチオマー、すなわち(2S,4S)−シス−2−(2
    −(4−クロロフエニル)エチル)−2−(イミダゾー
    ル−1−イル)メチル−4−(4−アセトアミドフェニ
    ルスルフィニル)メチル−1,3−ジオキソラン、また
    はその医薬的に許容される塩。 【請求項32】  硫黄原子の部位でS配置またはR配
    置を有する異性体である、請求項31の化合物。 【請求項33】  nが2であり、pが1であり、qが
    0であり、tが0であり、R1が4位置に存在するクロ
    ロであり、R3が4位置に存在する−N(R5)R6で
    あり、R5およびR6は両方ともに水素であり、そして
    R4がメチルである請求項3の化合物のシスーエナンチ
    オマー、すなわち(2S,4S)−シス−2−(2−(
    4−クロロフエニル)エチル)−2−(5−メチルイミ
    ダゾール−1−イル)メチル−4−(4−アミノフェニ
    ルチオ)メチル−1,3−ジオキソラン、またはその医
    薬的に許容される塩。 【請求項34】  その相当する(2R,4R)−シス
    −エナンチオマーと一緒になった請求項33の化合物、
    すなわち(±)−シス−2−(2−(4−クロロフエニ
    ル)エチル)−2−(5−メチルイミダゾール−1−イ
    ル)メチル−4−(4−アミノフェニルチオ)メチル−
    1,3−ジオキソラン、またはその医薬的に許容される
    塩。 【請求項35】  一つの立体異性体またはその混合物
    としての、下記式Iで示される化合物またはその医薬的
    に許容される塩: 【化4】 式中、nは、2または3であり、pは、0、1または2
    であり、qは、0、1または2であり、Xは、酸素であ
    り、R1はそれぞれ、独立して、ハロ、低級アルキル、
    低級アルコキシまたはトリフルオロメチルであり、R2
    はそれぞれ、独立して、ハロまたは低級アルキルであり
    、R3は、ニトロまたは−N(R5)R6であり、ここ
    でR5は水素または低級アルキルであり、そしてR6は
    、水素、低級アルキル、低級アルキルスルホニルまたは
    −C(Y)R7であり、ここでYは酸素または硫黄であ
    り、そしてR7は水素、低級アルキルまたは−N(R8
    )R9であり、ここでR8は水素または低級アルキルで
    あり、そしてR9は、水素、低級アルキルまたは低級ア
    ルコキシカルボニルであり、あるいはR5とR6とはN
    と一緒になって、モルホリノ、チオモルホリノまたはピ
    ペラジノを形成しており、このピペラジノは、その4位
    置が−C(O)R10により置換されていてもよく、こ
    こでR10は、水素、低級アルキル、低級アルコキシま
    たはアミノであり、そしてR4は、水素または低級アル
    キルである。 【請求項36】  ジオキソラン環の2−炭素がS−配
    置を有する、請求項35の化合物。 【請求項37】  nが2であり、qが0であり、そし
    てR4が水素である、請求項36の化合物。 【請求項38】  R3が4位置に存在する−N(R5
    )R6であり、R5は、水素または低級アルキルであり
    、そしてR6は、水素、低級アルキル、低級アルキルス
    ルホニルまたは−C(Y)R7であり、Yは酸素または
    硫黄であり、そしてR7は、水素、低級アルキルまたは
    −N(R8)R9であり、R8は、水素または低級アル
    キルであり、そしてR9は、水素、低級アルキルまたは
    低級アルコキシカルボニルである、請求項37の化合物
    。 【請求項39】  R1がクロロ、フルオロ、メチルま
    たはメトキシである、請求項38の化合物。 【請求項40】  R5が水素であり、そしてR6が水
    素または−C(Y)R7であり、Yは酸素であり、そし
    てR7は水素または低級アルキルである、請求項39の
    化合物。 【請求項41】  pが1であり、R1が4位置に存在
    するクロロであり、そしてR6が水素である請求項40
    の化合物のシス−エナンチオマー、すなわち(2S,4
    R)−シス−2−(2−(4−クロロフエニル)エチル
    )−2−(イミダゾール−1−イル)メチル−4−(4
    −アミノフェノキシ)メチル−1,3−ジオキソラン、
    またはその医薬的に許容される塩。 【請求項42】  その相当する(2R,4S)−シス
    −エナンチオマーと一緒になった請求項41の化合物、
    すなわち(±)−シス−2−(2−(4−クロロフエニ
    ル)エチル)−2−(イミダゾール−1−イル)メチル
    −4−(4−アミノフェノキシ)メチル−1,3−ジオ
    キソラン、またはその医薬的に許容される塩。 【請求項43】  pが1であり、R1が4位置に存在
    するクロロであり、そしてR6がアセチルである請求項
    40の化合物のシス−エナンチオマー、すなわち(2S
    ,4R)−シス−2−(2−(4−クロロフエニル)エ
    チル)−2−(イミダゾール−1−イル)メチル−4−
    (4−アセトアミドフェノキシ)メチル−1,3−ジオ
    キソラン。 【請求項44】  その相当する(2R,4S)−エナ
    ンチオマーと一緒になった請求項43の化合物、すなわ
    ち(±)−シス−2−(2−(4−クロロフエニル)エ
    チル)−2−(イミダゾール−1−イル)メチル−4−
    (4−アセトアミドフェノキシ)メチル−1,3−ジオ
    キソラン。 【請求項45】  一つの立体異性体またはその混合物
    としての、下記式Iで示される化合物またはその医薬的
    に許容される塩の製造方法であって、 【化5】 式中、nは、2または3であり、pは、0、1または2
    であり、qは、0、1または2であり、Xは、酸素また
    はS(O)tであり、そしてtは、0、1または2であ
    り、R1はそれぞれ、独立して、ハロ、低級アルキル、
    低級アルコキシまたはトリフルオロメチルであり、R2
    はそれぞれ、独立して、ハロまたは低級アルキルであり
    、R3は、ニトロまたは−N(R5)R6であり、ここ
    でR5は、水素または低級アルキルであり、R6は、水
    素、低級アルキル、低級アルキルスルホニルまたは−C
    (Y)R7であり、ここでYは酸素または硫黄であり、
    そしてR7は水素、低級アルキル、低級アルコキシまた
    は−N(R8)R9であり、ここでR8は水素または低
    級アルキルであり、そしてR9は水素、低級アルキルま
    たは低級アルコキシカルボニルであり、あるいはR5と
    R6とはNと一緒になって、ピロリジノ、ピペリジノ、
    モルホリノ、チオモルホリノまたはピペラジノを形成し
    ており、このピペラジノは、その4位置が−C(O)R
    10により置換されていてもよく、ここでR10は、水
    素、低級アルキル、低級アルコキシまたはアミノであり
    、そしてR4は、水素または低級アルキルである。(a
    )式(D): 【化6】 式中、nは、2または3であり、pは、0、1または2
    であり、R4は、水素または低級アルキルであり、そし
    てR11は脱離しうる基である、で示される化合物を、
    式(E): 【化7】 式中、qは、0、1または2であり、Xaは、酸素また
    は硫黄であり、R2は、それぞれ、独立して、ハロまた
    は低級アルキルであり、そしてR3は、ニトロまたは−
    N(R5)R6であり、ここでR5は、水素または低級
    アルキルであり、R6は水素、低級アルキル、低級アル
    キルスルホニルまたは−C(Y)R7であり、ここでY
    は酸素または硫黄であり、そしてR7は水素、低級アル
    キル、低級アルコキシまたは−N(R8)R9であり、
    ここでR8は、水素または低級アルキルであり、そして
    R9は、水素、低級アルキルまたは低級アルコキシカル
    ボニルであり、あるいはR5とR6とはNと一緒になっ
    て、ピロリジノ、ピペリジノ、モルホリノ、チオモルホ
    リノまたはピペラジノを形成しており、このピペラジノ
    は、その4位置が−C(O)R10により置換されてい
    てもよく、ここでR10は、水素、低級アルキル、低級
    アルコキシまたはアミノである、で示される化合物と反
    応させ、式(I)において、Xが酸素またはS(O)t
    であり、tは0であり、そしてn、p、q、R1、R2
    、R3およびR4が前記定義のとおりである化合物を生
    成させる;あるいは(b)イミダゾールまたは式(Bb
    ): 【化8】 式中、R4は低級アルキルであり、そしてWは保護基で
    ある、で示されるイミダゾール化合物を、式(G):【
    化9】 式中、Zaはブロモまたはヨードであり、Xaは、酸素
    または硫黄であり、そしてn、p、q、R1、R2およ
    びR3は前記定義のとおりである、で示される化合物と
    反応させ、式(I)において、Xが酸素またはS(O)
    tであり、tは0、1または2であり、そしてn、p、
    q、R1、R2、R3およびR4が前記定義のとおりで
    ある化合物を生成させる;あるいは(c)式(B):【
    化10】 式中、n、p、R1およびR4は、前記定義のとおりで
    ある、で示される化合物またはその単純アセタールを、
    式 【化11】 で示される化合物または式CH2(OH)CH(OH)
    CH2R11  上記各式中、R11は下記の基である
    :【化12】 式中、X、R2、R3およびqは前記定義のとおりであ
    る、で示されるジオールあるいはその単純アセタールで
    処理し、式(I)で示される化合物を生成させる;ある
    いは(d)式(I)において、n、p、q、R1、R2
    、R3およびR4が前記定義のとおりであり、XがS(
    O)tであり、ここでtが0または1である化合物を、
    酸化剤により酸化し、式(I)において、XがS(O)
    tであり、そしてtが1(tが0の化合物から)、また
    はtが2(tが0または1である化合物から)であり、
    そしてn、p、q、R1、R2、R3およびR4が前記
    定義のとおりである化合物を生成させる;あるいは(e
    )式(I)において、n、p、q、R1、R2、R3お
    よびR4が前記定義のとおりであり、XがS(O)tで
    あり、ここでtが1または2である化合物を、還元剤に
    より還元し、式(I)において、XがS(O)tであり
    、ここでtが1であり(tが2である化合物から)また
    はtが0であり(tが1または2である化合物から)、
    そしてn、p、q、R1、R2、R3およびR4が上記
    定義のとおりである化合物を生成させる;あるいは(f
    )式(I)において、n、p、q、R1、R2およびR
    4が前記定義のとおりであり、Xが酸素またはS(O)
    tであり、ここでtが0、1または2であり、そしてR
    3がアミノまたは低級モノアルキルアミノである化合物
    を、イソチオシアネートまたはチオシアン酸により処理
    し、式(I)において、t、n、p、q、X、R1、R
    2およびR4が上記定義のとおりであり、そしてR3が
    −N(R5)R6であり、ここでR5は水素または低級
    アルキルであり、そしてR6は−C(Y)R7であり、
    ここでYは硫黄であり、そしてR7は−N(R8)R9
    であり、ここでR8は水素であり、そしてR9は水素、
    低級アルキルまたは低級アルコキシカルボニルである化
    合物を生成させる;あるいは(g)式(I)において、
    n、p、q、X、R1、R2およびR4が前記定義のと
    おりであり、Xが酸素またはS(O)tであり、ここで
    tは0、1または2であり、そしてR3がアミノまたは
    低級モノアルキルアミノである化合物を、低級アルキル
    または低級アルコキシカルボニルイソシアネートにより
    、あるいはイソシアネート塩またはシアン酸により処理
    し、式(I)において、t、n、p、q、X、R1、R
    2およびR4が上記定義のとおりであり、そしてR3が
    −N(R5)R6であり、ここでR5は水素または低級
    アルキルであり、そしてR6は−C(Y)R7であり、
    ここでYは酸素であり、そしてR7は−N(R8)R9
    であり、ここでR8は水素であり、そしてR9は水素、
    低級アルキルまたは低級アルコキシカルボニルである化
    合物を生成させる;あるいは(h)式(I)において、
    n、p、q、X、R1、R2およびR4が前記定義のと
    おりであり、Xが酸素またはS(O)tであり、ここで
    tは0、1または2であり、そしてR3がアミノまたは
    低級モノアルキルアミノである化合物を、アシル化剤ま
    たはスルホニル化剤により処理し、式(I)において、
    t、n、p、q、X、R1、R2およびR4が上記定義
    のとおりであり、そしてR3が−N(R5)R6であり
    、ここでR5は水素または低級アルキルであり、そして
    R6は低級アルキルスルホニルまたは−C(Y)R7で
    あり、Yは硫黄または酸素であり、そしてR7は水素、
    低級アルキル、低級アルコキシまたは−N(R8)R9
    であり、ここでR8およびR9は独立して、低級アルキ
    ルである化合物を生成させる;あるいは(i)式(I)
    において、n、p、q、X、R1、R2およびR4が前
    記定義のとおりであり、Xが酸素またはS(O)tであ
    り、ここでtは0、1または2であり、そしてR3がア
    ミノまたは低級モノアルキルアミノである化合物を、ホ
    スゲンまたはチオホスゲン、あるいはそれらの前駆化合
    物または誘導体により処理し、次いで低級ジアルキルア
    ミン、低級アルキルアミンまたはアルカノールにより処
    理し、式(I)において、t、n、p、q、X、R1、
    R2およびR4が上記定義のとおりであり、そしてR3
    が−N(R5)R6であり、ここでR5は水素または低
    級アルキルであり、そしてR6は−C(Y)R7であり
    、Yは酸素または硫黄であり、そしてR7は低級アルコ
    キシまたは−N(R8)R9であり、R8は水素または
    低級アルキルであり、そしてR9は水素または低級アル
    キルである化合物を生成させる;あるいは(j)式(I
    )において、t、n、p、q、X、R1、R2およびR
    4が前記定義のとおりであり、そしてR3が−N(R5
    )R6であり、ここでR5およびR6はNと一緒になっ
    て、その4位置が非置換のピペラジノを形成している化
    合物を、アシル化剤、イソシアネートまたはイソシアン
    酸により処理し、式(I)において、t、n、p、q、
    X、R1、R2およびR4が上記定義のとおりであり、
    そしてR3が−N(R5)R6であり、ここでR5とR
    6とはNと一緒になって、その4位置が−C(O)R1
    0で置換されているピペラジノを形成しており、ここで
    R10は水素、低級アルキル、低級アルコキシまたはア
    ミノである化合物を生成させる;あるいは(k)式(I
    )において、t、n、p、q、X、R1、R2およびR
    4が前記定義のとおりであり、そしてR3が−N(R5
    )R6であり、ここでR5は水素であり、そしてR6は
    −C(Y)R7であり、ここでYは酸素または硫黄であ
    り、そしてR7は−N(R8)R9であり、ここでR8
    は水素であり、そしてR9は低級アルコキシカルボニル
    である化合物を加水分解し、式(I)において、t、n
    、p、q、X、R1、R2およびR4が上記定義のとお
    りであり、そしてR3が−N(R5)R6であり、ここ
    でR5は水素であり、そしてR6は−C(Y)R7であ
    り、Yは酸素または硫黄であり、そしてR7は−N(R
    8)R9であり、ここでR8およびR9は両方ともに、
    水素である化合物を生成させる;あるいは(1)式(I
    )において、t、n、p、q、X、R1、R2およびR
    4が前記定義のとおりであり、そしてR3がニトロであ
    る化合物を、適当な還元剤により還元し、式(I)にお
    いて、t、n、p、q、X、R1、R2およびR4が上
    記定義のとおりであり、そしてR3が−N(R5)R6
    であり、ここでR5は水素であり、そしてR6は水素ま
    たは−C(Y)R7であり、ここでYは酸素であり、そ
    してR7は水素または低級アルキルである化合物を生成
    させる;あるいは(m)式(I)において、t、n、p
    、q、X、R1、R2、R3およびR4が前記定義のと
    おりであり、そしてYが酸素である化合物を、チエート
    化剤により処理し、式(I)において、t、n、p、q
    、X、R1、R2、R3およびR4が上記定義のとおり
    であり、そしてYが硫黄である化合物を生成させる;あ
    るいは(n)式(I)で示される化合物の混合物を分割
    し、各立体異性体を得る;あるいは(o)式(I)で示
    される化合物の混合物を分離し、シスまたはトランス立
    体異性体を得る;あるいは(p)式(I)で示される化
    合物の遊離塩基を有機酸または無機酸により処理し、そ
    の医薬的に許容される塩を生成させる;あるいは(q)
    式(I)で示される化合物の塩を、その遊離の塩基に、
    または別種の塩に変換する、ことからなる製造方法。
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