JPH0429220B2 - - Google Patents

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JPH0429220B2
JPH0429220B2 JP56150618A JP15061881A JPH0429220B2 JP H0429220 B2 JPH0429220 B2 JP H0429220B2 JP 56150618 A JP56150618 A JP 56150618A JP 15061881 A JP15061881 A JP 15061881A JP H0429220 B2 JPH0429220 B2 JP H0429220B2
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ultraviolet
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JPH0429220B2 true JPH0429220B2 (OSRAM) 1992-05-18

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JPS6048236U (ja) * 1983-09-09 1985-04-04 ウシオ電機株式会社 紫外線洗浄装置の開閉扉
JPS6048237U (ja) * 1983-09-09 1985-04-04 ウシオ電機株式会社 紫外線洗浄装置
JPS6057937A (ja) * 1983-09-09 1985-04-03 Ushio Inc 紫外線洗浄方法
JPS62273732A (ja) * 1986-05-21 1987-11-27 Toshiba Corp 光励起ガス処理装置
IL115931A0 (en) 1995-11-09 1996-01-31 Oramir Semiconductor Ltd Laser stripping improvement by modified gas composition

Family Cites Families (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4260649A (en) * 1979-05-07 1981-04-07 The Perkin-Elmer Corporation Laser induced dissociative chemical gas phase processing of workpieces
JPS56105480A (en) * 1980-01-25 1981-08-21 Mitsubishi Electric Corp Plasma etching method

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