JPS5852827A - ドライエツチング方法および装置 - Google Patents
ドライエツチング方法および装置Info
- Publication number
- JPS5852827A JPS5852827A JP56150618A JP15061881A JPS5852827A JP S5852827 A JPS5852827 A JP S5852827A JP 56150618 A JP56150618 A JP 56150618A JP 15061881 A JP15061881 A JP 15061881A JP S5852827 A JPS5852827 A JP S5852827A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- dry etching
- gas
- reaction tank
- reaction
- ultraviolet rays
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
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Classifications
-
- H10P50/287—
-
- H10P32/30—
Landscapes
- Drying Of Semiconductors (AREA)
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP56150618A JPS5852827A (ja) | 1981-09-25 | 1981-09-25 | ドライエツチング方法および装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP56150618A JPS5852827A (ja) | 1981-09-25 | 1981-09-25 | ドライエツチング方法および装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5852827A true JPS5852827A (ja) | 1983-03-29 |
| JPH0429220B2 JPH0429220B2 (OSRAM) | 1992-05-18 |
Family
ID=15500802
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP56150618A Granted JPS5852827A (ja) | 1981-09-25 | 1981-09-25 | ドライエツチング方法および装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5852827A (OSRAM) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6057937A (ja) * | 1983-09-09 | 1985-04-03 | Ushio Inc | 紫外線洗浄方法 |
| JPS6048237U (ja) * | 1983-09-09 | 1985-04-04 | ウシオ電機株式会社 | 紫外線洗浄装置 |
| JPS6048236U (ja) * | 1983-09-09 | 1985-04-04 | ウシオ電機株式会社 | 紫外線洗浄装置の開閉扉 |
| JPS62273732A (ja) * | 1986-05-21 | 1987-11-27 | Toshiba Corp | 光励起ガス処理装置 |
| US6350391B1 (en) | 1995-11-09 | 2002-02-26 | Oramir Semiconductor Equipment Ltd. | Laser stripping improvement by modified gas composition |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS55149643A (en) * | 1979-05-07 | 1980-11-21 | Perkin Elmer Corp | Method and device for chemically treating material to be treated |
| JPS56105480A (en) * | 1980-01-25 | 1981-08-21 | Mitsubishi Electric Corp | Plasma etching method |
-
1981
- 1981-09-25 JP JP56150618A patent/JPS5852827A/ja active Granted
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS55149643A (en) * | 1979-05-07 | 1980-11-21 | Perkin Elmer Corp | Method and device for chemically treating material to be treated |
| JPS56105480A (en) * | 1980-01-25 | 1981-08-21 | Mitsubishi Electric Corp | Plasma etching method |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6057937A (ja) * | 1983-09-09 | 1985-04-03 | Ushio Inc | 紫外線洗浄方法 |
| JPS6048237U (ja) * | 1983-09-09 | 1985-04-04 | ウシオ電機株式会社 | 紫外線洗浄装置 |
| JPS6048236U (ja) * | 1983-09-09 | 1985-04-04 | ウシオ電機株式会社 | 紫外線洗浄装置の開閉扉 |
| JPS62273732A (ja) * | 1986-05-21 | 1987-11-27 | Toshiba Corp | 光励起ガス処理装置 |
| US6350391B1 (en) | 1995-11-09 | 2002-02-26 | Oramir Semiconductor Equipment Ltd. | Laser stripping improvement by modified gas composition |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0429220B2 (OSRAM) | 1992-05-18 |
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