JPH04283582A - スピロオルトカーボナート化合物 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、新規なスピロオルトカ
ーボナート化合物に関する。本発明の化合物は重合性新
規化合物であって、成形材料、複合材料、注型材料、封
止材料、医用材料、歯科材料、塗料および接着剤等の原
料として有用である。

【０００２】

【従来の技術】アクリロニトリル、酢酸ビニル、メチル
メタクリレート、スチレン、エチレンオキシド、エピク
ロロヒドリン等の重合性モノマーが重合する際に大きな
収縮を伴うことはよく知られている。また、エポキシ樹
脂やフェノール樹脂のような熱硬化性樹脂が硬化する際
の体積収縮は、注型材料、封止材料、接着材料等の分野
で大きな問題となっている。

【０００３】もし、重合時に非収縮性を示す材料が出来
れば、寸法精度の向上やそり、歪、隙間発生の低減によ
る精密な成形、内部応力の減少による材料強度や接着力
の向上等が期待できる。

【０００４】従来、スピロオルトカーボナート化合物の
数種のものについては、開環異性化重合に伴う体積減少
が非常に小さいまたは体積が増大するという現象が報告
され、前記の各種用途への応用が注目されている。

【０００５】スピロオルトカーボナート化合物の開環異
性化重合法としては、三フッ化ホウ素・エ−テル錯体等
のルイス酸および／またはトリフルオロメタンスルホン
酸等のブレンステッド酸を重合開始剤に用いるカチオン
重合による方法、アゾビスイソブチロニトリル等のアゾ
ビス系化合物および／または過酸化ベンゾイル等の有機
過酸化物を用いるラジカル重合による方法等が知られて
いる。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】ルイス酸および／また
はブレンステッド酸を重合開始剤に用いるカチオン重合
によるスピロオルトカーボナート化合物の開環異性化重
合法は、ルイス酸やブレンステッド酸が通常強酸である
ため取り扱いが困難で、重合への水分の影響が大であり
、得られた重合体の着色、重合体に残存する酸成分の腐
食性および有毒性等の問題があった。

【０００７】一方、アゾビス系化合物および／または有
機過酸化物を重合開始剤に用いるラジカル重合によるス
ピロオルトカーボナート化合物の開環異性化重合法は、
ルイス酸および／またはブレンステッド酸を用いるカチ
オン重合による方法に見られる問題は通常見受けられな
いものの、ラジカル重合により開環異性化し、重合膨張
を示すモノマーはごく一部に限られており、かつ、開環
異性化率が小であり、その結果重合膨張率が小であると
いう問題があった。

【０００８】本発明の目的は、ラジカル重合により開環
異性化重合し、重合膨張率が大であるスピロオルトカー
ボナート化合物を提供することにある。

【０００９】

【課題を解決するための手段】本発明者等は前記の問題
点を解決するために、ラジカル重合により開環異性化重
合し、重合膨張率が大であるスピロオルトカーボナート
化合物について鋭意検討した結果、ある特定の構造を有
するスピロオルトカーボナート化合物がラジカル重合に
より開環異性化重合し、重合膨張率が大であることを見
い出し、本発明を完成するに至った。

【００１０】即ち、本発明は下記の化１

【００１１】

【化１】（式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６
、Ｒ７、Ｒ８、Ｒ９およびＲ１０はそれぞれ水素原子ま
たは低級アルキル基を、Ｒ１１、Ｒ１２、Ｒ１３および
Ｒ１４はそれぞれ水素原子、低級アルキル基、アルキル
オキシ基、ハロゲン基、ニトロ基、シアノ基、アミノ基
、アミド基、水酸基またはエステル基を表す。）で示さ
れるスピロオルトカーボナート化合物に関するものであ
る。

【００１２】前記の化１中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、
Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８、Ｒ９およびＲ１０がそれぞれ
表す低級アルキル基としては、炭素数８以下のアルキル
基、例えばメチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−
プロピル基、ｎ−ブチル基、ｉ−ブチル基、ｔｅｒｔ−
ブチル基、ｎ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基、ｎ−ヘプ
チル基、ｎ−オクチル基等が挙げられ、Ｒ１１、Ｒ１２
、Ｒ１３およびＲ１４がそれぞれ表す低級アルキル基と
しては炭素数８以下のアルキル基、例えばメチル基、エ
チル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、ｎ−ブチル
基、ｉ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル
基、ｎ−ヘキシル基、ｎ−ヘプチル基、ｎ−オクチル基
等が挙げられ、アルキルオキシ基としては例えばメチル
オキシ基、エチルオキシ基、ｎ−プロピルオキシ基、ｉ
−プロピルオキシ基、ｎ−ブチルオキシ基、ｎ−ペンチ
ルオキシ基等が挙げられ、ハロゲン基としては例えばク
ロロ基、ブロモ基等が挙げられ、アミノ基としては例え
ばＮ−メチルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ基等が
挙げられ、アミド基としては例えばアミノカルボニル基
、フォルミルアミノ基等が挙げられ、エステル基として
は例えばメトキシカルボニル基、アセチルオキシ基等が
挙げられる。

【００１３】本発明のスピロオルトカーボナート化合物
の好ましい例として次の化合物が挙げられる。

【００１４】

【化２】

【００１５】なお、本発明のスピロオルトカーボナート
化合物は一種の化合物だけでなく、二種以上の化合物の
混合物として用いても良い。

【００１６】本発明のスピロオルトカーボナート化合物
は他の重合性モノマーとの混合物として用いても良い。 他の重合性モノマーとしては、ラジカル重合性を有する
ものであれば良く、好ましい例としてアクリル酸、メタ
クリル酸、メチルメタクリレート、エチルアクリレート
、アクリロニトリル、アクリルアミド、塩化ビニル、酢
酸ビニル、スチレン等が挙げられる。

【００１７】前記の化１で示されるスピロオルトカーボ
ナート化合物の製造方法は特に限定されない。工業的に
有利な製造方法を例示すれば以下の通りである。

【００１８】即ち、下記の化３

【００１９】

【化３】

【００２０】（式中、Ａｒは芳香族基、Ｘはハロゲン基
を表す。）で示されるジハロジアリロキシメタン化合物
と、下記の化４

【００２１】

【化４】

【００２２】（式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５お
よびＲ６はそれぞれ水素原子または低級アルキル基を表
す。）で示されるジオール化合物とを脱ハロゲン化水素
させることにより下記の化５

【００２３】

【化５】

【００２４】（式中、Ａｒは芳香族基、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ
３、Ｒ４、Ｒ５およびＲ６はそれぞれ水素原子または低
級アルキル基を表す。）で示されるジオキソラン化合物
を製造し、化５で示されるジオキソラン化合物と下記の
化６

【００２５】

【化６】

【００２６】（式中、Ｒ７、Ｒ８、Ｒ９およびＲ１０は
それぞれ水素原子または低級アルキル基を表し、Ｒ１１
、Ｒ１２、Ｒ１３およびＲ１４はそれぞれ水素原子、低
級アルキル基、アルキルオキシ基、ハロゲン基、ニトロ
基、シアノ基、アミノ基、アミド基、水酸基またはエス
テル基を表す。）で示されるジオール化合物とを脱アリ
ロールさせることにより化１で示されるスピロオルトカ
ーボナート化合物を製造する方法、あるいは化３で示さ
れるジハロジアリロキシメタン化合物と、化６で示され
るジオール化合物とを脱ハロゲン化水素させることによ
り下記の化７

【００２７】

【化７】

【００２８】（式中、Ａｒは芳香族基、Ｒ７、Ｒ８、Ｒ
９およびＲ１０はそれぞれ水素原子または低級アルキル
基を表し、Ｒ１１、Ｒ１２、Ｒ１３およびＲ１４はそれ
ぞれ水素原子、低級アルキル基、アルキルオキシ基、ハ
ロゲン基、ニトロ基、シアノ基、アミノ基、アミド基、
水酸基またはエステル基を表す。）で示されるジオキソ
ラン化合物を製造し、化７で示されるジオキソラン化合
物と化４で示されるジオール化合物とを脱アリロールさ
せることにより化１で示されるスピロオルトカーボナー
ト化合物を製造する方法が好ましい。

【００２９】前記の化３で示されるジハロジアリロキシ
メタン化合物中、Ａｒが表す芳香族基としては、例えば
フェニル基、ｐ−メチルフェニル基、ｐ−エチルフェニ
ル基、ｐ−プロピルフェニル基、ｐ−フェニルフェニル
基、１−ナフチル基、２−ナフチル基等が挙げられ、Ｘ
が表すハロゲン基としては、例えばクロロ基、ブロモ基
、ヨード基等が挙げられる。

【００３０】化３で示されるジハロジアリロキシメタン
化合物と、化４または化６で示されるジオール化合物と
の脱ハロゲン化水素反応は、化３で示されるジハロジア
リロキシメタンと、化４または化６で示されるジオール
化合物とを、トリメチルアミン、トリエチルアミン、ト
リｎ−プロピルアミン等のアミンの存在下混合すること
により行われる。化３で示されるジハロジアリロキシメ
タン化合物と、化４または化６で示されるジオール化合
物は等モル混合するのが好ましい。アミンは化３で示さ
れる化合物に対して、１００〜３００モル％、好ましく
は１００〜１５０モル％用いられる。

【００３１】反応温度は−７８〜１００℃、好ましくは
−２０〜５０℃の範囲の温度が採用される。反応は通常
窒素、アルゴン、ヘリウム等の不活性ガス雰囲気で行わ
れる。

【００３２】上記の反応は、溶媒の不存在下で行っても
良いが、塩化メチレン、クロロホルム、テトラクロロエ
チレン等のハロゲン化炭化水素等のような溶媒の存在下
で行うのが反応熱の除去、操作の容易さ等の点で好まし
い。

【００３３】反応時間は通常１〜１００時間の範囲内か
ら選ばれる。所望の転化率に到達した後、反応液を水で
洗浄した後、公知の方法により得られた化５または化７
で示されるジオキソラン化合物を単離、精製する。

【００３４】化５で示されるジオキソラン化合物と化６
で示されるジオール化合物との脱アリロール反応または
化７で示されるジオキソラン化合物と化４で示されるジ
オール化合物との脱アリロール反応は、化５で示される
ジオキソラン化合物と、化６で示されるジオール化合物
または化７で示されるジオキソラン化合物と化４で示さ
れるジオール化合物とをｐ−トルエンスルホン酸、ベン
ゼンスルホン酸等の酸触媒存在下、混合することにより
行われる。化５で示されるジオキソラン化合物と、化６
で示されるジオール化合物または化７で示されるジオキ
ソラン化合物と化４で示されるジオール化合物は等モル
混合するのが好ましい。酸触媒は化５または化７で示さ
れるジオキソラン化合物に対して、０．０１〜１０モル
％、好ましくは０．１〜５モル％用いられる。

【００３５】反応温度は−７８〜１００℃、好ましくは
−２０〜５０℃の範囲の温度が採用される。反応は通常
窒素、アルゴン、ヘリウム等の不活性ガス雰囲気で行わ
れる。

【００３６】上記の反応は、溶媒の不存在下で行っても
良いが、塩化メチレン、クロロホルム、テトラクロロエ
チレン等のハロゲン化炭化水素等のような溶媒の存在下
で行うのが反応熱の除去、操作の容易さ等の点で好まし
い。

【００３７】反応時間は通常１〜１００時間の範囲内か
ら選ばれる。所望の転化率に到達した後、反応液を水酸
化ナトリウム、水酸化カリウム等のアルカリ性水溶液で
洗浄し、公知の方法により得られた化１で示されるスピ
ロオルトカーボナート化合物を単離、精製する。

【００３８】本発明のスピロオルトカーボナート化合物
は、三フッ化ホウ素・エーテル錯体等のカチオン重合触
媒により開環異性重合し、かつ、アゾビスイソブチロニ
トリル、アゾビスイソ酪酸メチル、アゾビス−２，４−
ジメチルバレロニトリル、アゾビスシクロヘキサンカル
ボニトリル等のアゾビス系重合開始剤；ジイソプロピル
ペルオキシジカーボナート、２，４−ジクロルベンゾイ
ルペルオキシド、ラウロイルペルオキシド、ベンゾイル
ペルオキシド、シクロヘキサノンペルオキシド、ｔ−ブ
チルペルベンゾエート、ジクミルペルオキシド、ジ−ｔ
−ブチルペルオキシド、ｐ−メンタンヒドロペルオキシ
ド、ピナンヒドロペルオキシド、クメンヒドロペルオキ
シド、ｔ−ブチルヒドロペルオキシド等の過酸化物系重
合開始剤等のラジカル重合開始剤によって開環異性化重
合する。

【００３９】また、ベンゾフェノン、ミヒラーケトン、
キサントン、チオキサントン、２−クロロチオキサント
ン、２−エチルアントラキノン等の芳香族ケトン；アセ
トフェノン、トリクロロアセトフェノン、２−ヒドロキ
シ−２−メチルプロピオフェノン、２−ヒドロキシ−２
−メチル−４’−イソプロピルプロピオフェノン、１−
ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、ベンゾイン
イソプロピルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル
、２，２−ジエトキシアセトフェノン、２，２−ジメト
キシ−２−フェニル−アセトフェノンベンジルジメチル
ケタール等のアセトフェノン類等の開始剤を用いた紫外
線ラジカル重合や、カンファーキノン／Ｎ，Ｎ−ジメチ
ルアミノエチルメタクリレート、カンファーキノン／Ｎ
，Ｎ−ジメチルアミノエチルメタクリレート、カンファ
ーキノン／ｐ−Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ安息香酸エチル
等のα−ジケトン／アミン系開始剤を用いた可視光線ラ
ジカル重合も使用される。

【００４０】前記のラジカル重合開始剤は、化１で示さ
れるスピロオルトカーボナート化合物に対して、０．０
１〜１０モル％、好ましくは０．０５〜３モル％の範囲
内で用いられる。

【００４１】ラジカル重合反応の温度は、使用するラジ
カル重合開始剤の種類によっても異なるが、室温〜２０
０℃、好ましくは５０〜１８０℃の範囲の温度が選択さ
れる。

【００４２】ラジカル重合反応は減圧〜加圧の如何なる
圧力下でも行い得るが、好ましくは常圧で行われる。

【００４３】ラジカル重合反応は、溶媒の不存在下で行
っても良いが、ベンゼン、トルエン、キシレン、ヘミメ
リテン、プソイドクメン、メシチレンなどの芳香族炭化
水素；ヘキサン、ヘプタン、オクタンなどの脂肪族炭化
水素；シクロヘキサン、シクロオクタンなどの脂環式炭
化水素；塩化メチレン、クロロホルム、テトラクロロエ
チレン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン、トリクロ
ロベンゼン等のハロゲン化炭化水素等のような溶媒の存
在下で行っても良い。

【００４４】ラジカル重合反応時間は通常１〜１００時
間の範囲内から選ばれる。所望の重合度に到達した後、
公知の方法により得られたポリマーを単離、精製する。

【００４５】

【実施例】以下、実施例により本発明を更に具体的に説
明する。なお、物性値は下記の方法により測定した。 １Ｈ−ＮＭＲ：日本電子製ＰＭＸ６０ＳＩ型（測定周波
数；６０ＭＨｚ） ＩＲ：日本分光工業製フーリエ変換赤外分光光度計ＦＴ
／ＩＲ−３型 融点：柳本製作所製微量融点測定装置ＭＰ型元素分析：
柳本製作所製ＣＨＮ−コーダーＭＴ２型数平均分子量お
よび分子量分布：東ソー製ＧＰＣ−８０００システム（
ポリスチレンゲルカラム；ＴＳＫゲルＧ５０００ＨＸＬ
，Ｇ４０００ＨＸＬ，Ｇ２５００ＨＸＬ，移動相溶媒；
ＴＨＦ，流速；１．０ｍＬ／分，検出器；ＲＩ，ポリス
チレン換算値） 密度；柴山科学器械製作所製密度勾配管法比重測定装置
Ａ型（密度勾配液；臭化カルシウム水溶液，測定温度；
２５℃）

【００４６】実施例１ 攪拌装置を備えた２００ｍＬ容のガラス製容器の内部を
乾燥した窒素ガスで十分に置換した。該容器内に２−メ
チレン−１，３−プロパンジオール９．６９ｇ（１１０
ｍｍｏｌ）、トリエチルアミン２０．２ｇ（２００ｍｍ
ｏｌ）および乾燥した塩化メチレン５０ｍＬを仕込み、
該溶液にジクロロジフェノキシメタン２６．９ｇ（１０
０ｍｍｏｌ）の乾燥した塩化メチレン５０ｍＬ溶液を室
温で２時間かけて添加した。室温で２０時間攪拌後、反
応溶液を水５０ｍＬで２回洗浄し、有機層を水層から分
離した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、濃
縮、減圧蒸留して無色透明の液体１８．３ｇを得た。こ
の液体は１Ｈ−ＮＭＲスペクトルおよびＩＲスペクトル
より２，２−ジフェノキシ−５−メチレン−１，３−ジ
オキソランと同定された。単離収率は６４％であった。

【００４７】１Ｈ−ＮＭＲスペクトル（その結果は図１
として添付する） 測定溶媒；重クロロホルム 内部標準物質；テトラメチルシラン

【００４８】

【化８】

【００４９】

【表１】

【００５０】ＩＲスペクトル（その結果は図２として添
付する）

【００５１】攪拌装置を備えた２００ｍＬ容のガラス製
容器の内部を乾燥した窒素ガスで十分に置換した。該容
器内に前記の反応で得られた２，２−ジフェノキシ−５
−メチレン−１，３−ジオキソラン１４．２ｇ（５０ｍ
ｍｏｌ）、ｐ−トルエンスルホン酸一水和物４２９ｍｇ
（２．２５ｍｍｏｌ）および乾燥した塩化メチレン６０
ｍＬを仕込み、該溶液にオルトキシリレングリコール６
．９１ｇ（５０ｍｍｏｌ）を室温で添加した。室温で７
０時間攪拌後、反応溶液を１規定の水酸化ナトリウム水
溶液６０ｍＬで３回洗浄し、有機層を水層から分離した
。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、濃縮する
と白色固体が析出した。該白色固体をｎ−ヘキサン／酢
酸エチル＝１／１の混合溶液で再結晶により精製し、無
色の結晶７．０３ｇを得た。この固体は１Ｈ−ＮＭＲス
ペクトルおよびＩＲスペクトルよりスピロ［１，５−ジ
ヒドロ−５’−メチレン−２，４−ベンゾジオキセピン
−３，２’−［１，３］ジオキサン］と同定された。 単離収率は６０％であった。

【００５２】元素分析

【００５３】

【表２】

【００５４】融点；１１４〜１１５℃

【００５５】１Ｈ−ＮＭＲスペクトル（その結果は図３
として添付する） 測定溶媒；重クロロホルム 内部標準物質；テトラメチルシラン

【００５６】

【化９】

【００５７】

【表３】

【００５８】ＩＲスペクトル（その結果は図４として添
付する）

【００５９】密度；１．３２０

【００６０】実施例２ 実施例１において、２−メチレン−１，３−プロパンジ
オール９．６９ｇ（１１０ｍｍｏｌ）に代えて１，３−
ジメチル−２−メチレン−１，３−プロパンジオール１
２．７６ｇ（１１０ｍｍｏｌ）を用いた以外は同様にし
て反応を行い、スピロ［４’，６’−ジメチル−１，５
−ジヒドロ−５’−メチレン−２，４−ベンゾジオキセ
ピン−３，２’−［１，３］ジオキサン］７．３２ｇを
得た。

【００６１】元素分析

【００６２】

【表４】

【００６３】実施例３ 実施例１において、２−メチレン−１，３−プロパンジ
オール９．６９ｇ（１１０ｍｍｏｌ）に代えて１，３−
ジメチル−２−メチレン−１，３−プロパンジオール１
２．７６ｇ（１１０ｍｍｏｌ）を用い、オルトキシリレ
ングリコール６．９１ｇ（５０ｍｍｏｌ）に代えて４−
クロロオルトキシリレングリコール８．６２ｇ（５０ｍ
ｍｏｌ）を用いた以外は同様にして反応を行い、スピロ
［７−クロロ−４’，６’−ジメチル−１，５−ジヒド
ロ−５’−メチレン−２，４−ベンゾジオキセピン−３
，２’−［１，３］ジオキサン］８．３４ｇを得た。

【００６４】元素分析

【００６５】

【表５】

【００６６】参考例１ 実施例１で得たスピロ［１，５−ジヒドロ−５’−メチ
レン−２，４−ベンゾジオキセピン−３，２’−［１，
３］ジオキサン］２３４ｍｇおよびｔ−ブチルヒドロペ
ルオキシド２．７ｍｇをガラス製容器に仕込み、脱気、
封管後、１８０℃で２０時間加熱し、淡黄色透明の固体
を得た。この固体を塩化メチレン２ｍＬに溶解し、ｎ−
ヘキサン５０ｍＬに再沈澱して白色固体２１１ｍｇを得
た。生成物の数平均分子量は１５４０、分子量分布は１
．７８であった。

【００６７】生成物のＩＲスペクトルを測定したところ
、１７５３ｃｍ−１に開環重合体のカーボナートに起因
する吸収が観測された。

【００６８】生成物の密度を測定したところ、１．２７
２であり、モノマーの密度から計算した体積膨張率は３
．６％であった。

【００６９】参考例２ スピロ［１，５−ジヒドロ−５’−メチレン−２，４−
ベンゾジオキセピン−３，２’−［１，３］ジオキサン
］２３４ｍｇに代えて実施例２で得たスピロ［４’，６
’−ジメチル−１，５−ジヒドロ−５’−メチレン−２
，４−ベンゾジオキセピン−３，２’−［１，３］ジオ
キサン］２６２ｍｇを用いた以外は参考例１と同様にし
て重合を行い、数平均分子量２９８０、分子量分布１．
６３のポリマーを得た。モノマーからの体積膨張率は４
．４％であった。

【００７０】参考例３ スピロ［１，５−ジヒドロ−５’−メチレン−２，４−
ベンゾジオキセピン−３，２’−［１，３］ジオキサン
］２３４ｍｇに代えて実施例３で得たスピロ［７−クロ
ロ−４’，６’−ジメチル−１，５−ジヒドロ−５’−
メチレン−２，４−ベンゾジオキセピン−３，２’−［
１，３］ジオキサン］２９７ｍｇを用いた以外は参考例
１と同様にして重合を行い、数平均分子量２２４０、分
子量分布１．８９のポリマーを得た。モノマーからの体
積膨張率は４．９％であった。

【００７１】参考例４ スピロ［１，５−ジヒドロ−５’−メチレン−２，４−
ベンゾジオキセピン−３，２’−［１，３］ジオキサン
］２３４ｍｇに代えてスピロ［１，５−ジヒドロ−５’
−メチレン−２，４−ベンゾジオキセピン−３，２’−
［１，３］ジオキサン］１１７ｍｇおよびメチルメタク
リレート５０ｍｇの混合物を用いた以外は参考例１と同
様にして重合を行い、数平均分子量３３９０、分子量分
布２．０４のポリマーを得た。モノマーからの体積膨張
率は−１．１％であった。

【００７２】

【発明の効果】本発明の方法によればカチオン開環異性
化重合のみならず、ラジカル開環異性化重合し、体積膨
張を示すスピロオルトカーボナート化合物が提供される
。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明による化合物の１例のＮＭＲスペクトル
を示す図である。

【図２】本発明による化合物の１例のＩＲスペクトルを
示す図である。

【図３】本発明による化合物の他の例のＮＭＲスペクト
ルを示す図である。

【図４】本発明による化合物の他の例のＩＲスペクトル
を示す図である。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】　　下記の化１ 【化１】 （式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７、
   Ｒ８、Ｒ９およびＲ１０はそれぞれ水素原子または低級
   アルキル基を、Ｒ１１、Ｒ１２、Ｒ１３およびＲ１４は
   それぞれ水素原子、低級アルキル基、アルキルオキシ基
   、ハロゲン基、ニトロ基、シアノ基、アミノ基、アミド
   基、水酸基またはエステル基を表す。）で示されるスピ
   ロオルトカーボナート化合物。