JPH0427548A - 凹版オフセット印刷方法及びその装置 - Google Patents

凹版オフセット印刷方法及びその装置

Info

Publication number
JPH0427548A
JPH0427548A JP13342090A JP13342090A JPH0427548A JP H0427548 A JPH0427548 A JP H0427548A JP 13342090 A JP13342090 A JP 13342090A JP 13342090 A JP13342090 A JP 13342090A JP H0427548 A JPH0427548 A JP H0427548A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
printing
intaglio
ink
blanket
area
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP13342090A
Other languages
English (en)
Inventor
Keiichi Nakao
恵一 中尾
Masaaki Hayama
雅昭 葉山
Mikiya Shimada
幹也 嶋田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Panasonic Holdings Corp
Original Assignee
Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Matsushita Electric Industrial Co Ltd filed Critical Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Priority to JP13342090A priority Critical patent/JPH0427548A/ja
Publication of JPH0427548A publication Critical patent/JPH0427548A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Manufacturing Of Printed Wiring (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
  • Printing Methods (AREA)
  • Manufacturing Of Printed Circuit Boards (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は回路基板、液晶表示素子等の電子部品の製造時
に用いるエツチングレジスト、導電体パターン、絶縁体
(誘電体)パターン、カラーフィルター等を高精度かつ
高精細度に印刷する際に用いる凹版オフセット印刷方法
及びその装置に関するものである。
従来の技術 従来、回路基板、液晶表示素子等の電子部品の製造には
、スクリーン印刷に代表される印刷法、あるいはフォト
レジストを用いた写真法が用いられていた。ここで前者
の印刷法はコスト的には優れているが、後者の写真法は
どの高精細のパターンを得ることができなかった(通常
のスクリーン印刷では100ミクロン程度が限度)。そ
のためスクリーン印刷以外の方法でい(つかのアプロー
チがとられている。例えば特公昭55−36512号公
報では、スクリーン印刷に代えて凹版オフセット印刷(
グラビアオフセット印刷)が提案されていた。
また従来より高精度の印刷を行うため、特開昭5’5−
65553号公報ではブランケットを空転させる装置が
、更には特開昭60−189446号公報では、パルス
モータを用いて高精度に印刷することが提案されている
。また特開昭6294341号公報では印刷ゴム胴を定
盤が所定位置にあるとき、正、逆転方向に空転可能とす
ることにより、必要に応じてインキの厚盛り等の重ね刷
りを行っていた。
発明が解決しようとする課題 しかしながらこのような印刷では、凹版の印刷パターン
面積以上の面積を被印刷体に印刷することができなかっ
た。つまり、例えば被印刷体上に1oox100+n+
aの面積を印刷するには、凹版表面に形成された印刷パ
ターン面積は100×100画以上が必要になる。更に
被印刷体上に500×500IIITlの面積を印刷す
るには、凹版面積に形成された印刷パターン面積は50
0X500nvn以上が必要になる。しかしこのような
大型凹版を製造するためには、技術的にも費用的にもか
なり難しいものになる。更にこのような大型凹版は無欠
陥で作成することは難しく、またたとえそれが形成でき
ても、印刷作業中に印刷パターンを傷つけてしまうと、
高価な版でも使い物にならなくなり、トータルとしての
コストを上げてしまう。
本発明はこのような課題に鑑み、一つの被印刷体に対し
、凹版に形成された印刷パターン以上の面積に印刷しよ
うとするものである。
課題を解決するための手段 この課題を解決するために本発明は、凹版よりインキを
、ブランケットに転写し、更に前記ブランケットに転写
されたインキを被印刷体表面に転写する際、被印刷体の
印刷開始位置を必要に応じて所定寸法だけずらせること
により、一つの被印刷体に対し、凹版に形成された印刷
パターン面積以上の面積を被印刷体に印刷するものとし
たものである。
作用 この印刷方法により、一つの被印刷体に対し凹版に形成
された印刷パターン以上の面積に容易に印刷することが
でき、しかも凹版も必要以上に大きくする必要がなくな
る。
実施例 以下、本発明の実施例を図面を用いて説明する。
第1図は本発明の一実施例を説明するための図であり、
第1図において1は凹版であり、台3の上lこ固定され
ている。この凹版1の表面には印刷パターン2が形成さ
れている。4は被印刷体であり、台6の上に固定されて
おり、表面には印刷パターン5が形成されている。印刷
パターン5は凹版1表面に形成された印刷パターン2を
所定寸法だけずらして複数回刷り重ねたものであり、印
刷パターン2より大きい印刷面積が得られている。
第2図は第1図を横から見た様子を示すための図である
。第2図において3は台であり、凹版1及び被印刷体4
を固定している。また凹版1の表面にはインキ受容部と
なる印刷パターン2が、被印刷体4表面には印刷されて
でき上がった印刷パターン5が形成されている。7はシ
リンダー胴であり局面には転写ブランケット8が固定さ
れている。
第3図は凹版オフセット印刷においてインキが転移する
様子を説明するための図である。第3図において4は被
印刷体、8は転写プランケ・ソト、9は凹版1の印刷パ
ターン2から転写されたインキである。また第3図にお
いて矢印は転写ブランケット8の移動(回転)する方向
を示し、この転写ブランケット8が矢印の方向に移動(
回転)することにより転写ブランケット8表面に付着し
たインキ9は、被印刷体4表面に転写し、インキ10と
なる。第1図の印刷パターン5はこのインキ10を複数
回転写することにより形成したものである。以下この複
数回転写を第4図〜第7図を用いて説明する。
第4図は凹版1上に形成された電子部品の製造に用いる
印刷パターン(インキ受容部)2Aの一例であり、第5
図は被印刷体4表面に印刷形成された印刷パターン5A
である。第4図において2Aは凹版1に形成された印刷
パターンであり、凹版1よりインキ9を被印刷体4表面
に転写する際、被印刷体4の印刷開始位置を必要に応じ
て所定寸法だけずらせて複数回印刷することにより、第
5図の印刷パターン5Aが形成できる。以上のようにし
て凹版1表面に形成された印刷パターン2A面積以上の
面積を被印刷体4に印刷パターン5Aとして形成するこ
とができる。
第6図は凹版1上に形成された電子部品の製造に用いる
印刷パターン(インキ受容部)2Bの一例であり、第7
図は被印刷体4表面に印刷形成された印刷パターン5B
を示すものである。第6図において2Bは凹版1に形成
された印刷パターンであり、凹版1よりインキ9を被印
刷体4表面に転写する際、被印刷体4の印刷開始位置を
必要に応じて所定寸法だけずらせて複数回印刷すること
により、第7図の印刷パターン5Bができる。以上のよ
うにして凹版1表面に形成された印刷パターン2Bの面
積以上の面積を被印刷体1に印刷パターン5Bとして形
成することができる。
発明の効果 以上のように本発明によれば、凹版よりインキを、ブラ
ンケットに転写し、更に前記ブランケットに転写された
インキを被印刷体表面に転写する際、被印刷体の印刷位
置を必要に応じて所定寸法だけずらせたり、ブランケッ
トの印刷開始位置を所定寸法ずらせたりして、凹版表面
に形成された印刷パターン面積以上の面積を被印刷体に
印刷することにより、特に安価な小型の凹版を用いて大
面積の印刷を容易に行えるようになる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の一実施例にかかる凹版オフセット印刷
方法を説明するための上面図、第2図は怜÷−+横から
見た様子を示すための側面図、第3図は凹版オフセット
印刷においてインキが転移する様子を説明するための正
面図、第4図は凹版上に形成された電子部品の製造に用
いる印刷パターンを示す上面図、第5図は被印刷体表面
に印刷形成された印刷パターンを示す上面図、第6図は
凹版上に形成された電子部品の製造に用いる印刷パター
ンを示す上面図、第7図は被印刷体表面に印刷形成され
た印刷パターンを示す上面図である。 1・・・・・・凹版、2・・・・・・印刷パターン、3
・・・・・・台、4・・・・・・被印刷体、5・・・・
・・印刷パターン、6・・・・・・台、8・・・・・・
転写ブランケット、9,10・・・・・・インキ。 代理人の氏名 弁理士 粟野重孝 ほか1名7・・凹#
玩 2,5・・印象l/rクーン 3.6@ 4・・被I−P劇体 第 図 2A  パターン 第 図 第 図

Claims (5)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)凹版よりインキを、ブランケットに転写し、更に
    前記ブランケットに転写されたインキを被印刷体表面に
    転写する際、前記被印刷体の印刷位置を必要に応じて所
    定寸法だけずらせながら複数回印刷することにより、一
    つの被印刷体に対し、前記凹版の印刷パターン面積以上
    の面積に印刷することを特徴とする凹版オフセット印刷
    方法。
  2. (2)凹版よりインキをブランケットに転写し、更に前
    記ブランケットに転写されたインキを、このブランケッ
    トの印刷開始位置を所定寸法ずらせながら複数回被印刷
    体に印刷を行うことにより、この一つの被印刷体に対し
    、前記凹版表面に形成された印刷パターン面積以上の面
    積に印刷する構造とした凹版オフセット印刷装置。
  3. (3)凹版よりインキを、ブランケットに転写し、前記
    ブランケットに転写されたインキを被印刷体表面に印刷
    した後、前記凹版を所定寸法ずらせてこの凹版のインキ
    をブランケットに転写し、このブランケットに転写され
    たインキを前記被印刷体に印刷することにより、前記一
    つの被印刷体に対し前記凹版表面に形成された印刷パタ
    ーン面積以上の面積に印刷する構造とした凹版オフセッ
    ト印刷装置。
  4. (4)凹版よりインキを、ブランケットに転写し、更に
    前記ブランケットに転写されたインキを被印刷体表面に
    印刷した後、前記被印刷体を所定寸法ずらせながらこの
    被印刷体に複数回印刷することにより、一つの被印刷体
    に対し、前記凹版表面に形成されたパターン面積以上の
    面積に印刷する構造とした凹版オフセット印刷装置。
  5. (5)ブランケットにシリコンゴムを用いることを特徴
    とする特許請求の範囲第2〜4項のいずれか一つに記載
    の凹版オフセット印刷装置。
JP13342090A 1990-05-23 1990-05-23 凹版オフセット印刷方法及びその装置 Pending JPH0427548A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP13342090A JPH0427548A (ja) 1990-05-23 1990-05-23 凹版オフセット印刷方法及びその装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP13342090A JPH0427548A (ja) 1990-05-23 1990-05-23 凹版オフセット印刷方法及びその装置

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH0427548A true JPH0427548A (ja) 1992-01-30

Family

ID=15104357

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP13342090A Pending JPH0427548A (ja) 1990-05-23 1990-05-23 凹版オフセット印刷方法及びその装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH0427548A (ja)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2000027641A1 (fr) * 1998-11-05 2000-05-18 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Fabrication de cartes a circuits imprimes et de dispositifs d'enregistrement et masque pour ces cartes
JP2009226678A (ja) * 2008-03-21 2009-10-08 Toppan Printing Co Ltd ステップ式印刷装置及びステップ式印刷方法
JP2010082841A (ja) * 2008-09-29 2010-04-15 Sharp Corp 印刷方法、印刷装置および表示装置

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2000027641A1 (fr) * 1998-11-05 2000-05-18 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Fabrication de cartes a circuits imprimes et de dispositifs d'enregistrement et masque pour ces cartes
JP2009226678A (ja) * 2008-03-21 2009-10-08 Toppan Printing Co Ltd ステップ式印刷装置及びステップ式印刷方法
JP2010082841A (ja) * 2008-09-29 2010-04-15 Sharp Corp 印刷方法、印刷装置および表示装置

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP3689536B2 (ja) 画像形成法
CN101581884B (zh) 凹版印刷板及其制造方法、电子基板和显示设备制造方法
EP0355342A3 (en) Substrates having a light-transmissive phase change ink printed thereon and methods for producing same
JPH11198337A (ja) 印刷機
CA2019046A1 (en) Method of printing fine patterns
JP2702068B2 (ja) オフセット印刷法による薄膜トランジスタ回路の形成方法
US5426074A (en) Process for fabricating an active matrix circuit
JP2007268853A (ja) 印刷方法
JPH0427548A (ja) 凹版オフセット印刷方法及びその装置
JPH04239684A (ja) 微細パターン形成方法
JPH05254087A (ja) グリーンシートのパターン印刷方法及び装置
JPH0357697A (ja) 印刷用メタルマスクおよびその製造方法
JPH03106693A (ja) 印刷用版
JPH0623015Y2 (ja) 印刷配線板
JP2010240879A (ja) 印刷方法および被印刷体
TW200532397A (en) Printing
JP2004268266A (ja) スクリーン印刷方法
JP2001353973A (ja) 印刷用凹版とそれを用いたオフセット印刷方法
JPH01169452A (ja) プリント回路パターン形成用凹版およびその製造法、並びにプリント回路パターン形成法
JPH03114867A (ja) 精細パターンの印刷方法
JP3216218B2 (ja) 凹版を用いたパターン形成方法
JPH074051U (ja) スクリーン印刷用版
JPH0252788A (ja) 接点ゴムの転写印刷方法
WO2004039590A2 (en) Stamp printing and method
JPH04351586A (ja) 凹版印刷方法