JPH03106693A - 印刷用版 - Google Patents

印刷用版

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JPH03106693A
JPH03106693A JP1243922A JP24392289A JPH03106693A JP H03106693 A JPH03106693 A JP H03106693A JP 1243922 A JP1243922 A JP 1243922A JP 24392289 A JP24392289 A JP 24392289A JP H03106693 A JPH03106693 A JP H03106693A
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JP
Japan
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plate
plating layer
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printing
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JP1243922A
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Masayuki Oide
雅之 大出
Dainosuke Watanabe
渡辺 大之輔
Manabu Ishimoto
学 石本
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Toppan Printing Co Ltd
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  • Printing Plates And Materials Therefor (AREA)
  • Optical Filters (AREA)
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、精細パターンを適正に印刷する印刷用版に関
するものである。
〔従来の技術〕
従来から精細パターンを印刷する場合においてはオフセ
ット印刷が適していて、例えばカラー液晶表示装置に用
いるカラーフィルタを、オフセット印劇にようてガラス
基板上にR(赤)、G(緑)、B(青)のインキを印刷
することによって製造している。第4図に示すよウに、
このようなオフセット印刷に用いられる版は、鉄板を素
材としてなるベース層11上に、該ベース層側からニッ
ケルメッキ層12と銅メッキ層13(厚さは6〜10μ
m)とを設けた層構成を有する版板14を用い、前記銅
メッキ層13上にレジスト剤15を所定のパターン(例
えば版面のネガパターンおよびアライメントマークのネ
ガパターン)でパターニングし、前記パターンで銅メッ
キ層13をエッジングしたのち、レジスト剤を除去する
ことによって、版面部およびアライメントマーク部を有
する版、すなわち凹版が得られる。こののち銅メッキ層
13を覆うようにしてクロムメッキ層が設けられ、版の
耐性を高めるようにしている。
レジスト剤15のパターニングは、第4図に示すように
、版板14にガラス乾板(マスター板)16を対設させ
て所定のパターンを焼き付けることにより行われる。そ
してこのパターンに基づいてエッチングが行われる。前
記ニッケルメッキ層12はエッチング止めの働きを成す
もので、このニッケルメッキ層12でエッチングを止め
、版面部およびアライメントマーク部それぞれの深さが
同じとなるように設けられている。
〔発明が解決しようとする課題〕
しかしながら、上記版において、ガラス乾板の素材に用
いられている低膨張ガラスに対して膨張率が異なってい
る鉄板をペース層としていることから、上述の焼付を経
て得られた版面部とガラス乾板のパターンとに誤差が生
じ易い。特に上述したように精細なピッチパターンを必
要とするカラーフィルタを、複数色のインキを印刷して
得ようとする場合にあっては、前記の誤差によりパター
ンが規定ピッチからズレて不良を発生し易いという問題
があった。
そこで・本発明は、マスター板のパターンに対して版面
部の誤差を小さくすることを課題とし、適正なピッチで
精細パターンをガラス基盤に印刷できるようにすること
を目的とする。
〔課題を解決するための手段〕
本発明は、上記した課題を考慮してなされたもので、マ
スター板と同一素材からベース層が設けられていること
を特徴とする印刷用版を提供して、課題を解消するもの
である。
〔作 用〕
本発明においては、版のベース層がマスター板の素材と
同一であることから、焼付時にはマスター板と版とが同
じように膨張し、よって規定パターンに対する誤差がき
わめて小さい状態で版面部が形成されるようになる。
〔実施例〕
つぎに、本発明を第1図から第3図に示す実施例に基づ
いて詳細に説明する。
図中1は凹版オフセット印刷用版で、該版1のペース層
2は マスター板の素材と同一素材である低膨張ガラス
から設けられている。そしてこのベース履2の表面には
、銀メッキ層3、ニッケルメッキ層4、銅メッキ層5が
設けられ、常法により形成された版面部を覆うよろにし
てクロムメッキ層6が設けられている。この構成により
版1は焼付時にはマスター板と同様に膨張していること
から、版面部とマスター板のパターンこの誤差がきわめ
て小さいものとなっている。
第2図は第2の実施例を示すもので、上記ベース層2の
裏面には、版面部側の銅メッキ層5の厚さと同程度の厚
さ(6〜10μm)とした銅メッキ層7と、この銅メッ
キ層7を覆うクロムメッキ層8とが設けられていて、こ
の版1にあってはベース7m2の表裏両面に金属メッキ
層を備えた構成となり、熱膨張による内部応力も偏らな
いように図られている。
また第3図は平版オフセット印刷用版を示すもので、こ
の版9はベース層2を低膨張ガラスから設け、そしてこ
のベース層2の表面に設けられる金属メッキ層、すなわ
ちニッケルメッキ層4と銅メッキ層5とクロムメッキ層
6とを極薄層としたもので、特にクロムメッキ層6の厚
さを1μm程度とし、銅メッキ層5の厚さを1〜2μm
程度として設けたものであり、ベース層2上の金属メッ
キ層が極薄状となっているので熱膨張時の内部応力がき
わめて小さくなるように図られている。
なお、上記した実施例ではオフセット用の版を例示した
が、本発明はこれに限定されず、他の印刷法に用いられ
る版にも採用できる。
〔発明の効果〕
以上説明したように、本発明によれば、マスター板と同
一素材からベース層が設けられているので、焼付時にマ
スター板と同様に版が膨張し、マスター板のパターンに
対する版面部の誤差がきわめて小さくなり、精細パター
ンを適正に印刷できる版となるなど、実用性にすぐれた
効果を奏するものである。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明に係る印刷用版の凹版で構成されたー実
施例を示す説明図、第2図は凹版の場合の他の例を示す
説明図、第3図は平版で構成された例を示す説明図、第
4図は焼付を示す説明図である。 1・・・・・・版(凹版) 3・・・・・・銀メッキ層 5・・・・・・銅メッキ層 7・・・・・・銅メッキ層 9・・・・・・版(平版) 2・・・・・・ベース層 4・・・・・・ニッケルメッキ層 8・・・・・・クロムメッキ層 8・・・・・・クロムメッキ層

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 (1)マスター板と同一素材からベース層が設けられて
    いることを特徴とする印刷用版。(2)上記ベース層は
    低膨張ガラスであって、該ベース層の裏面に、銅メッキ
    層と、この銅メッキ層を覆うクロムメッキ層を設けた請
    求項1記載の印刷用版。 (3)上記ベース層は低膨張ガラスであって、該ベース
    層の版面部側に設けられる各金属メッキ層を極薄層とし
    た請求項1記載の印刷用版。
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Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO1996022883A1 (en) * 1995-01-24 1996-08-01 Corning Incorporated Precision imaging components and methods for their formation
US6703313B2 (en) 2001-02-23 2004-03-09 Koninklijke Philips Electronics N.V. Printing plates
EP1732362A1 (en) * 2004-03-31 2006-12-13 Dainippon Printing Co., Ltd. Liquid crystal panel-use base film, liquid crystal panel-use functional film, production method of functional film, production device of functional film
WO2011105448A1 (ja) * 2010-02-25 2011-09-01 住友化学株式会社 印刷版、これを用いた薄膜の製造方法、及び有機el素子の製造方法
US8574714B2 (en) * 2002-06-05 2013-11-05 Kba-Giori S.A. Method of manufacturing an engraved plate

Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO1996022883A1 (en) * 1995-01-24 1996-08-01 Corning Incorporated Precision imaging components and methods for their formation
US6703313B2 (en) 2001-02-23 2004-03-09 Koninklijke Philips Electronics N.V. Printing plates
US8574714B2 (en) * 2002-06-05 2013-11-05 Kba-Giori S.A. Method of manufacturing an engraved plate
EP1732362A1 (en) * 2004-03-31 2006-12-13 Dainippon Printing Co., Ltd. Liquid crystal panel-use base film, liquid crystal panel-use functional film, production method of functional film, production device of functional film
EP1732362A4 (en) * 2004-03-31 2009-02-25 Dainippon Printing Co Ltd BASIC FILM FOR USE IN A LIQUID CRYSTAL PANEL, FUNCTIONAL FILM FOR USE IN A LIQUID CRYSTAL PANEL, PRODUCTION METHOD FOR A FUNCTIONAL FILM, MANUFACTURING DEVICE FOR A FUNCTIONAL FILM
WO2011105448A1 (ja) * 2010-02-25 2011-09-01 住友化学株式会社 印刷版、これを用いた薄膜の製造方法、及び有機el素子の製造方法
JP2011173359A (ja) * 2010-02-25 2011-09-08 Sumitomo Chemical Co Ltd 印刷版

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