JPH06118222A - カラーフィルターのパターン形成方法 - Google Patents
カラーフィルターのパターン形成方法Info
- Publication number
- JPH06118222A JPH06118222A JP26981392A JP26981392A JPH06118222A JP H06118222 A JPH06118222 A JP H06118222A JP 26981392 A JP26981392 A JP 26981392A JP 26981392 A JP26981392 A JP 26981392A JP H06118222 A JPH06118222 A JP H06118222A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- pattern
- color filter
- transparent substrate
- black matrix
- ink
- Prior art date
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- Pending
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Abstract
(57)【要約】
【目的】本発明は、高精細、高品質のカラーフィルター
パターンを形成する方法を提供することを目的としてい
る。 【構成】透明基板１０１上に形成したカーボンブラック
インキ層１０２をエキシマレザー光を照射してブラック
マトリックスパターン１０５形成し、その上に凹版オフ
セット印刷法によってＲ・Ｇ・Ｂパターンを形成する。
パターンを形成する方法を提供することを目的としてい
る。 【構成】透明基板１０１上に形成したカーボンブラック
インキ層１０２をエキシマレザー光を照射してブラック
マトリックスパターン１０５形成し、その上に凹版オフ
セット印刷法によってＲ・Ｇ・Ｂパターンを形成する。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、フルカラー液晶ディス
プレイ、マルチカラー液晶ディスプレイ、プラズマディ
スプレイなどに用いられるカラーフィルターのパターン
形成方法に関する。
プレイ、マルチカラー液晶ディスプレイ、プラズマディ
スプレイなどに用いられるカラーフィルターのパターン
形成方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】現在、カラー液晶表示装置は陰極線管
（ＣＲＴ）カラー表示装置に比較して薄型、軽量であり
色再現性も遜色のないまでに改良されつつあり、これら
の特色を生かし、いくつかのパネルを配列することによ
り大型ディスプレイ装置、マルチディスプレイ装置など
の各種ディスプレイ装置へと展開されている。
（ＣＲＴ）カラー表示装置に比較して薄型、軽量であり
色再現性も遜色のないまでに改良されつつあり、これら
の特色を生かし、いくつかのパネルを配列することによ
り大型ディスプレイ装置、マルチディスプレイ装置など
の各種ディスプレイ装置へと展開されている。
【０００３】この色再現性の優れたフルカラー液晶表示
装置として、カラーフィルター方式が代表的な方式であ
り、この方式は、液晶セルの内部または外部にカラーフ
ィルターを設け、液晶を光学的シャッターとして利用し
たものである。
装置として、カラーフィルター方式が代表的な方式であ
り、この方式は、液晶セルの内部または外部にカラーフ
ィルターを設け、液晶を光学的シャッターとして利用し
たものである。
【０００４】上記カラーフィルターの製造方法として
は、染色方式、干渉方式、印刷方式があり、現在は染色
方式が主に使用されている。染色法によるカラーフィル
ターの製造方法は感光液のコーティング→露光→現像→
染色工程をＲＥＤ，ＧＲＥＥＮ，ＢＬＵＥ（以下それぞ
れをＲ，Ｇ，Ｂと略す）、ブラック各インキ毎に繰り返
し、カラーフィルターパターンを形成（フォトリン方
式）しているため工数が多く、量産性、大画面化に適し
ていない。
は、染色方式、干渉方式、印刷方式があり、現在は染色
方式が主に使用されている。染色法によるカラーフィル
ターの製造方法は感光液のコーティング→露光→現像→
染色工程をＲＥＤ，ＧＲＥＥＮ，ＢＬＵＥ（以下それぞ
れをＲ，Ｇ，Ｂと略す）、ブラック各インキ毎に繰り返
し、カラーフィルターパターンを形成（フォトリン方
式）しているため工数が多く、量産性、大画面化に適し
ていない。
【０００５】一方、染色法に代わる印刷方式は、顔料な
どを混練したカラーフィルター用インキを用いてＲ，
Ｇ，Ｂブラック各４色をストライプ状に印刷し、カラー
フィルターパターンを形成するため、工数を少なく量産
性に適している。
どを混練したカラーフィルター用インキを用いてＲ，
Ｇ，Ｂブラック各４色をストライプ状に印刷し、カラー
フィルターパターンを形成するため、工数を少なく量産
性に適している。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】しかし、印刷方式のカ
ラーフィルターは使用しているインキ、プロセスなどに
より、印刷方向に対して垂直方向（９０度）の印刷性が
若干劣っていた。
ラーフィルターは使用しているインキ、プロセスなどに
より、印刷方向に対して垂直方向（９０度）の印刷性が
若干劣っていた。
【０００７】本発明は上記課題を解決するもので、高精
細、高品質のカラーフィルターパターンを形成できるよ
うにすることを目的としている。
細、高品質のカラーフィルターパターンを形成できるよ
うにすることを目的としている。
【０００８】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に本発明のパターン形成方法の第１の手段は基板上にカ
ーボンブラックインキのパターン層（ベタ）を形成する
工程、前記パターン層にエキシマレーザーを照射してブ
ラックマトリックスパターンの形成を行なう工程から成
るものである。
に本発明のパターン形成方法の第１の手段は基板上にカ
ーボンブラックインキのパターン層（ベタ）を形成する
工程、前記パターン層にエキシマレーザーを照射してブ
ラックマトリックスパターンの形成を行なう工程から成
るものである。
【０００９】また第２の手段はエキシマレーザーにより
ブラックマトリックスパターンが形成された基板上に凹
版オフセット印刷法を用いて、カラーフィルターインキ
を凹版の凹部に充填する工程、凹版の凹部中のカラーフ
ィルターインキをシリコーン樹脂を主体とする弾性体に
て表面被覆したブランケットに転写する工程、前記ブラ
ンケット上に転写されたパターンをブラックマトリック
スパターンの形成された基板上に転写印刷する工程より
なるものである。
ブラックマトリックスパターンが形成された基板上に凹
版オフセット印刷法を用いて、カラーフィルターインキ
を凹版の凹部に充填する工程、凹版の凹部中のカラーフ
ィルターインキをシリコーン樹脂を主体とする弾性体に
て表面被覆したブランケットに転写する工程、前記ブラ
ンケット上に転写されたパターンをブラックマトリック
スパターンの形成された基板上に転写印刷する工程より
なるものである。
【００１０】
【作用】本発明は上記した手段によって、ブラックマト
リックスパターン、高精細のカラーフィルターパターン
を透明基板上に容易に形成でき、フルカラー液晶ディス
プレイ、マルチ液晶ディスプレス、プラズマディスプレ
イなどにこの方法を用いると従来の染色法のおけるフォ
トリソ法と比較して、大幅な工数削減と製造コストの低
減が図られることとなる。
リックスパターン、高精細のカラーフィルターパターン
を透明基板上に容易に形成でき、フルカラー液晶ディス
プレイ、マルチ液晶ディスプレス、プラズマディスプレ
イなどにこの方法を用いると従来の染色法のおけるフォ
トリソ法と比較して、大幅な工数削減と製造コストの低
減が図られることとなる。
【００１１】
【実施例】以下に本発明のパターン形成方法に関して図
面を参照しながら説明する。図１において１０１は透明
基板である。透明基板１０１にはスピンコートまたはロ
ールコーターなどによりブラック層、すなわちカーボン
ブラックインキ１０２が均一に全面に塗布されている。
カーボンブラックインキ１０２の膜厚は約２μｍであ
る。カーボンブラックインキ１０２が塗布された透明基
板１０１面をメタルマスク１０３を介してＸｅＣＩエキ
シマレーザー光１０４を照射しブラックマトリックスパ
ターン１０５を形成する。
面を参照しながら説明する。図１において１０１は透明
基板である。透明基板１０１にはスピンコートまたはロ
ールコーターなどによりブラック層、すなわちカーボン
ブラックインキ１０２が均一に全面に塗布されている。
カーボンブラックインキ１０２の膜厚は約２μｍであ
る。カーボンブラックインキ１０２が塗布された透明基
板１０１面をメタルマスク１０３を介してＸｅＣＩエキ
シマレーザー光１０４を照射しブラックマトリックスパ
ターン１０５を形成する。
【００１２】図２はＸｅＣＩエキシマレーザー光１０４
を照射してブラックマトリックスパターン１０５を形成
したものの平面図を示す。ここで精度は±２μｍ以内で
高精度にパターン形成がなされている。
を照射してブラックマトリックスパターン１０５を形成
したものの平面図を示す。ここで精度は±２μｍ以内で
高精度にパターン形成がなされている。
【００１３】図３はブラックマトリックスパターン１０
５を形成した透明基板１０１上に凹版オフセット印刷を
用いてＲ・Ｇ・Ｂのストライプを各ピッチ毎に印刷しカ
ラーフィルターを形成する方法を現している。ここでＲ
・Ｇ・Ｂ用の凹版は幅１００μｍ版の溝深さ１５μｍの
ストライプ状にガラス基板をエッチングしたものを用
い、上記カラーフィルターインキを凹版上に滴下し、セ
ラミック製のスクレーパーにいて凹版の全面をかき取り
凹版のみにカラーフィルターインキを残し、シリコーン
ゴム１０６で表面を被覆されたブランケット１０７をス
トライプパターン上に圧着しかつ回転させて、前記ブラ
ンケット１０７上にストライプパターンを転写し、さら
にストライプパターンを形成したブランケット１０７を
ブラックマトリックスパターン１０５の所定の位置にス
トライプパターンを転写する。得られたパターン１０８
は直線性が良好で高品質のものであった。
５を形成した透明基板１０１上に凹版オフセット印刷を
用いてＲ・Ｇ・Ｂのストライプを各ピッチ毎に印刷しカ
ラーフィルターを形成する方法を現している。ここでＲ
・Ｇ・Ｂ用の凹版は幅１００μｍ版の溝深さ１５μｍの
ストライプ状にガラス基板をエッチングしたものを用
い、上記カラーフィルターインキを凹版上に滴下し、セ
ラミック製のスクレーパーにいて凹版の全面をかき取り
凹版のみにカラーフィルターインキを残し、シリコーン
ゴム１０６で表面を被覆されたブランケット１０７をス
トライプパターン上に圧着しかつ回転させて、前記ブラ
ンケット１０７上にストライプパターンを転写し、さら
にストライプパターンを形成したブランケット１０７を
ブラックマトリックスパターン１０５の所定の位置にス
トライプパターンを転写する。得られたパターン１０８
は直線性が良好で高品質のものであった。
【００１４】図４は上記の方法で得られたパターンを示
し、１０９はＲインキパターン、１１０はＧインキパタ
ーン、１１１はＢインキパターンで１０５はブラックマ
トリックスパターンである。ここでＲ・Ｇ・Ｂストライ
プパターンの印刷精度は２μｍ以内である。この後、透
明基板１０１を乾燥、硬化しカラーフィルターとしてい
る。透明基板１０１の印刷裏面からはＲ・Ｇ・Ｂのデル
タ配列が形成されており、パターン精度の高いカラーフ
ィルターが形成されている。
し、１０９はＲインキパターン、１１０はＧインキパタ
ーン、１１１はＢインキパターンで１０５はブラックマ
トリックスパターンである。ここでＲ・Ｇ・Ｂストライ
プパターンの印刷精度は２μｍ以内である。この後、透
明基板１０１を乾燥、硬化しカラーフィルターとしてい
る。透明基板１０１の印刷裏面からはＲ・Ｇ・Ｂのデル
タ配列が形成されており、パターン精度の高いカラーフ
ィルターが形成されている。
【００１５】
【発明の効果】以上の実施例の説明より明らかなよう
に、本発明は透明基板上に形成したカーボンブラックイ
ンキ層をエキシマレーザーを照射してブラックマトリッ
クスパターンを形成し、また凹版オフセット印刷によっ
てブラックパターン面にＲ・Ｇ・Ｂを形成することによ
り、フォトリソ法を用いることなく、工程の簡略化によ
り大規模な工程設備を削減し大幅なコストダウンが図
れ、高品質、高精細のカラーフィルターのパターンを形
成することができる。
に、本発明は透明基板上に形成したカーボンブラックイ
ンキ層をエキシマレーザーを照射してブラックマトリッ
クスパターンを形成し、また凹版オフセット印刷によっ
てブラックパターン面にＲ・Ｇ・Ｂを形成することによ
り、フォトリソ法を用いることなく、工程の簡略化によ
り大規模な工程設備を削減し大幅なコストダウンが図
れ、高品質、高精細のカラーフィルターのパターンを形
成することができる。
【図１】ａは本発明のブラック層を付した基板の側面図 ｂは同基板にブラックマトリックスパターンを形成する
工程図
工程図
【図２】同ブラックマトリックスパターンを形成した基
板の平面図
板の平面図
【図３】ａは本発明のカラーフィルターパターン形成法
の工程図 ｂは同じくカラーフィルターパターン形成法の工程図
の工程図 ｂは同じくカラーフィルターパターン形成法の工程図
【図４】ａは同カラーフィルターパターンを付した基板
の平面図 ｂは同断面図
の平面図 ｂは同断面図
１０１ 透明基板 １０２ カーボンブラックインキ（ブラック層） １０４ ＸｅＣＩエキシマレーザー光 １０５ ブラックマトリックスパターン １０９ Ｒインキパターン １１０ Ｇインキパターン １１１ Ｂインキパターン
Claims (2)
- 【請求項１】 透明基板上にブラック層を形成する工程
と、前記ブラック層にエキシマレーザー光を用いてブラ
ックマトリックスパターンを形成する工程からなるカラ
ーフィルターのパターン形成方法。 - 【請求項２】 透明基板上にブラック層を形成する工程
と、前記ブラック層にエキシマレーザー光を用いてブラ
ックマトリクッスパターンを形成する工程と、カラーフ
ィルターインキ用いて、印刷法によりカラーフィルター
のストライプパターンを基板上のブラックマトリックス
パターン間に転写印刷する工程からなるカラーフィルタ
ーのパターン形成方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP26981392A JPH06118222A (ja) | 1992-10-08 | 1992-10-08 | カラーフィルターのパターン形成方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP26981392A JPH06118222A (ja) | 1992-10-08 | 1992-10-08 | カラーフィルターのパターン形成方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06118222A true JPH06118222A (ja) | 1994-04-28 |
Family
ID=17477534
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP26981392A Pending JPH06118222A (ja) | 1992-10-08 | 1992-10-08 | カラーフィルターのパターン形成方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH06118222A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1996001718A1 (en) * | 1994-07-11 | 1996-01-25 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Methods for preparing integral black matrix/color filter elements |
| KR100922697B1 (ko) * | 2006-10-17 | 2009-10-20 | 주식회사 엘지화학 | 디스플레이용 기판 상에 전극 패턴을 형성하는 방법 |
| CN112051687A (zh) * | 2020-08-31 | 2020-12-08 | 深圳市隆利科技股份有限公司 | 用于背光模组的油墨印刷工艺及背光模组 |
-
1992
- 1992-10-08 JP JP26981392A patent/JPH06118222A/ja active Pending
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1996001718A1 (en) * | 1994-07-11 | 1996-01-25 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Methods for preparing integral black matrix/color filter elements |
| US6057067A (en) * | 1994-07-11 | 2000-05-02 | 3M Innovative Properties Company | Method for preparing integral black matrix/color filter elements |
| KR100375021B1 (ko) * | 1994-07-11 | 2003-04-18 | 미네소타 마이닝 앤드 매뉴팩춰링 캄파니 | 통합형흑색매트릭스/유색필터소자의제조방법 |
| KR100922697B1 (ko) * | 2006-10-17 | 2009-10-20 | 주식회사 엘지화학 | 디스플레이용 기판 상에 전극 패턴을 형성하는 방법 |
| CN112051687A (zh) * | 2020-08-31 | 2020-12-08 | 深圳市隆利科技股份有限公司 | 用于背光模组的油墨印刷工艺及背光模组 |
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