JPH05203807A - カラーフィルターの製造方法 - Google Patents
カラーフィルターの製造方法Info
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- JPH05203807A JPH05203807A JP4492192A JP4492192A JPH05203807A JP H05203807 A JPH05203807 A JP H05203807A JP 4492192 A JP4492192 A JP 4492192A JP 4492192 A JP4492192 A JP 4492192A JP H05203807 A JPH05203807 A JP H05203807A
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- Japan
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- color filter
- color filters
- production
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 カラーフィルターの製造方法の改良により、
カラーフィルターの製造の簡素化を図り、品質の向上と
コスト低下を実現する。 【構成】 高分子電着法によるカラーフィルターにおい
て、カラーフィルター４Ｒ、４Ｇ、４Ｂの一部をレーザ
ーを用いて除去する。その後、カラーフィルター表面に
黒色顔料を含むレジストを塗布し、カラーフィルターの
背面から露光することにより、前記カラーフィルターが
除去された部分とカラーフィルター４Ｒ、４Ｇ、４Ｂの
間隙にブラックマトリクス４４が形成されることを特徴
とするカラーフィルターの製造方法。 【効果】 従来問題になっていた高額の設備を不要とす
るとともに、加工時間を短縮することが可能である。こ
のことにより、カラーフィルターの製造コストの低下が
可能となる。また、製造工程の簡素化により品質の向上
が実現できる。
カラーフィルターの製造の簡素化を図り、品質の向上と
コスト低下を実現する。 【構成】 高分子電着法によるカラーフィルターにおい
て、カラーフィルター４Ｒ、４Ｇ、４Ｂの一部をレーザ
ーを用いて除去する。その後、カラーフィルター表面に
黒色顔料を含むレジストを塗布し、カラーフィルターの
背面から露光することにより、前記カラーフィルターが
除去された部分とカラーフィルター４Ｒ、４Ｇ、４Ｂの
間隙にブラックマトリクス４４が形成されることを特徴
とするカラーフィルターの製造方法。 【効果】 従来問題になっていた高額の設備を不要とす
るとともに、加工時間を短縮することが可能である。こ
のことにより、カラーフィルターの製造コストの低下が
可能となる。また、製造工程の簡素化により品質の向上
が実現できる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、パーソナルコンピュー
タやポケットテレビ等に用いるカラー液晶表示装置の構
成部品の一つであるカラーフィルターの製造方法に関す
る。
タやポケットテレビ等に用いるカラー液晶表示装置の構
成部品の一つであるカラーフィルターの製造方法に関す
る。
【０００２】
【従来の技術】カラーフィルターの製造方法は、主なも
ので染色法、顔料分散法、印刷法、高分子電着法があ
る。いずれも近年、カラー液晶表示装置の進歩・普及に
伴って、急速に技術的成長をしてきている。また、カラ
ー液晶表示装置の品質を向上させる要求から、カラーフ
ィルター基板に画像表示に不要な透過光を遮光するため
に格子状あるいはストライプ状等の形状をした光遮光膜
（以下、ブラックマトリクスと呼ぶ）が形成されること
が一般的になってきた。通常、ブラックマトリクスの形
状は三原色のカラーフィルターの配置方法によって決め
られる。三原色カラーフィルターの配置方法は、ストラ
イプ状、モザイク状、トライアングル状（正三角形の各
頂点に三原色が配置）が代表的である。したがって、ブ
ラックマトリクスの形状はこれらの三原色カラーフィル
ターの間隙部分に配置されることになる。このブラック
マトリクスもいくつかの方法で形成されている。クロム
などの金属薄膜をフォトリソグラフィ法によりパターニ
ングする方法、カラーフィルターを重ね合わせる方法、
黒色レジストを用いてパターニングする方法などがあげ
られる。
ので染色法、顔料分散法、印刷法、高分子電着法があ
る。いずれも近年、カラー液晶表示装置の進歩・普及に
伴って、急速に技術的成長をしてきている。また、カラ
ー液晶表示装置の品質を向上させる要求から、カラーフ
ィルター基板に画像表示に不要な透過光を遮光するため
に格子状あるいはストライプ状等の形状をした光遮光膜
（以下、ブラックマトリクスと呼ぶ）が形成されること
が一般的になってきた。通常、ブラックマトリクスの形
状は三原色のカラーフィルターの配置方法によって決め
られる。三原色カラーフィルターの配置方法は、ストラ
イプ状、モザイク状、トライアングル状（正三角形の各
頂点に三原色が配置）が代表的である。したがって、ブ
ラックマトリクスの形状はこれらの三原色カラーフィル
ターの間隙部分に配置されることになる。このブラック
マトリクスもいくつかの方法で形成されている。クロム
などの金属薄膜をフォトリソグラフィ法によりパターニ
ングする方法、カラーフィルターを重ね合わせる方法、
黒色レジストを用いてパターニングする方法などがあげ
られる。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】従来のカラーフィルタ
ーの製造方法は、それぞれ特徴があり、解決されるべき
課題が残されている。特に本発明が解決しようとする課
題は、前述のブラックマトリクスの形成の方法である。
以下、図を用いて本発明の課題について説明する。
ーの製造方法は、それぞれ特徴があり、解決されるべき
課題が残されている。特に本発明が解決しようとする課
題は、前述のブラックマトリクスの形成の方法である。
以下、図を用いて本発明の課題について説明する。
【０００４】図１は、金属膜のブラックマトリクスを用
いたカラーフィルター基板の断面模式図である。従来の
カラーフィルター技術は、染色法、顔料分散法、印刷法
によってカラーフィルターを形成する。１Ｒ，１Ｇ，１
Ｂはそれぞれ赤色、緑色、青色のカラーフィルターであ
る。１２はクロム等の金属膜をフォトリソグラフィ法に
よりパターンを形成したブラックマトリクスである。１
３はカラーフィルターとブラックマトリクス上に形成さ
れたトップコート層で、スピンコータまたはオフセット
印刷等で成膜される。１４は透明電極で通常スパッタリ
ング法により成膜される。
いたカラーフィルター基板の断面模式図である。従来の
カラーフィルター技術は、染色法、顔料分散法、印刷法
によってカラーフィルターを形成する。１Ｒ，１Ｇ，１
Ｂはそれぞれ赤色、緑色、青色のカラーフィルターであ
る。１２はクロム等の金属膜をフォトリソグラフィ法に
よりパターンを形成したブラックマトリクスである。１
３はカラーフィルターとブラックマトリクス上に形成さ
れたトップコート層で、スピンコータまたはオフセット
印刷等で成膜される。１４は透明電極で通常スパッタリ
ング法により成膜される。
【０００５】このブラックマトリクスの製造方法は、極
めて高額な金属製膜装置と精度の高いアライメント露光
装置を含むフォトリソグラフィ工程を必要とするため、
製造コストが極めて高くなるという課題がある。また、
金属製膜にはかなりの時間を必要とするので、生産性に
も劣るという課題がある。さらに、カラーフィルターの
製造方法のうち、染色法や顔料分散法は、赤色、緑色、
青色のカラーフィルターをそれぞれフォトリソグラフィ
工程を経ることから、金属製のブラックマトリクスと同
じような製造コストアップ要因を含んでいる。
めて高額な金属製膜装置と精度の高いアライメント露光
装置を含むフォトリソグラフィ工程を必要とするため、
製造コストが極めて高くなるという課題がある。また、
金属製膜にはかなりの時間を必要とするので、生産性に
も劣るという課題がある。さらに、カラーフィルターの
製造方法のうち、染色法や顔料分散法は、赤色、緑色、
青色のカラーフィルターをそれぞれフォトリソグラフィ
工程を経ることから、金属製のブラックマトリクスと同
じような製造コストアップ要因を含んでいる。
【０００６】印刷法によるカラーフィルターは、印刷版
からガラス表面に転写される場合に、微細な各画素毎に
中央部が厚く周囲が薄くなる傾向があり、大きな課題に
なっている。最近、カラーフィルター上に平滑性をある
程度改善可能な高分子樹脂からなるトップコートが開発
されてはいるが、印刷カラーフィルターの凹凸を完全に
改善できるには到っていない。特に、大型サイズの場合
は微細な画素内の凹凸だけでなく、面内における平滑性
は、さらに大きな課題になっている。
からガラス表面に転写される場合に、微細な各画素毎に
中央部が厚く周囲が薄くなる傾向があり、大きな課題に
なっている。最近、カラーフィルター上に平滑性をある
程度改善可能な高分子樹脂からなるトップコートが開発
されてはいるが、印刷カラーフィルターの凹凸を完全に
改善できるには到っていない。特に、大型サイズの場合
は微細な画素内の凹凸だけでなく、面内における平滑性
は、さらに大きな課題になっている。
【０００７】図２は、他のブラックマトリクスの製法に
よってカラーフィルターを形成したカラーフィルター基
板の断面模式図である。図中、２Ｒ、２Ｇ、２Ｂは図１
と同様な製法による赤色、緑色、青色のカラーフィルタ
ーである。２２は、黒色染料を含む感光性樹脂によるブ
ラックマトリクスである。この場合も、図１と同じよう
に極めて高価な精度の高い露光装置を含むフォトリソグ
ラフィ法によって作成しなければならず、製造コストが
高くなるという課題があった。
よってカラーフィルターを形成したカラーフィルター基
板の断面模式図である。図中、２Ｒ、２Ｇ、２Ｂは図１
と同様な製法による赤色、緑色、青色のカラーフィルタ
ーである。２２は、黒色染料を含む感光性樹脂によるブ
ラックマトリクスである。この場合も、図１と同じよう
に極めて高価な精度の高い露光装置を含むフォトリソグ
ラフィ法によって作成しなければならず、製造コストが
高くなるという課題があった。
【０００８】図３は、これらの課題を解決するために考
えられた他のブラックマトリクス３２を形成したカラー
フィルター基板の断面模式図である。フォトリソグラフ
ィ法による赤色３Ｒ、緑色３Ｇ、青色３Ｂのカラーフィ
ルター製膜の工程で順次重ね合わせていく方式である。
製造コストは大幅に改善される点は重要であるが、カラ
ーフィルター表面に凹凸が生ずる。トップコート３３を
ブラックマトリクス３２やカラーフィルター３上に形成
することにより、表面の凹凸をある程度改善できるよう
なレベリング特性を有するトップコート材料もあるが、
液晶表示装置の画質に与えるこの凹凸の影響は無視でき
るものではない。したがって、使用可能な液晶表示装置
は大幅に限定されるという課題がある。
えられた他のブラックマトリクス３２を形成したカラー
フィルター基板の断面模式図である。フォトリソグラフ
ィ法による赤色３Ｒ、緑色３Ｇ、青色３Ｂのカラーフィ
ルター製膜の工程で順次重ね合わせていく方式である。
製造コストは大幅に改善される点は重要であるが、カラ
ーフィルター表面に凹凸が生ずる。トップコート３３を
ブラックマトリクス３２やカラーフィルター３上に形成
することにより、表面の凹凸をある程度改善できるよう
なレベリング特性を有するトップコート材料もあるが、
液晶表示装置の画質に与えるこの凹凸の影響は無視でき
るものではない。したがって、使用可能な液晶表示装置
は大幅に限定されるという課題がある。
【０００９】
【課題を解決するための手段】本発明は、以上述べてき
た課題を解決するために、カラーフィルターの製造方法
に高分子電着法を採用し、ブラックマトリクスの製造方
法は、このカラーフィルターの表示画素として不要な部
分をレーザーを用いて除去したのち、残されたカラーフ
ィルターをフォトマスクとして背面露光法を採用したも
のである。
た課題を解決するために、カラーフィルターの製造方法
に高分子電着法を採用し、ブラックマトリクスの製造方
法は、このカラーフィルターの表示画素として不要な部
分をレーザーを用いて除去したのち、残されたカラーフ
ィルターをフォトマスクとして背面露光法を採用したも
のである。
【００１０】
【作用】以上述べたように、本発明の方法によれば、カ
ラーフィルターの一部をレーザにより所望の形状で除去
することにより、必要なパターンを有するカラーフィル
ターとブラックマトリクスが形成可能になる。
ラーフィルターの一部をレーザにより所望の形状で除去
することにより、必要なパターンを有するカラーフィル
ターとブラックマトリクスが形成可能になる。
【００１１】
（実施例１）以下、実施例により具体的に説明する。以
下、図４（Ａ）から（Ｆ）を用いて本願発明について詳
細に説明をする。図４（Ａ）は、ガラス基板４１上に透
明電極パターン４２をフォトリソグラフィ法により形成
したものである。（Ｂ−１）は（Ａ）の透明電極パター
ン４２上に高分子電着法により赤色４Ｒ、緑色４Ｇ、青
色４Ｂを順次形成したものである。高分子電着法につい
ての詳細な説明は特公平３−４５８０３号等に記載され
ているが、透明電極パターン４２を用いてのセルフアラ
イメント方式でカラーフィルターパターンが形成でき
る。（Ｃ−１）は（Ｂ−２）に示された４７はカラーフ
ィルターパターンの一部をレーザーにより除去したもの
である。使用するレーザーは、高分子材料であるカラー
フィルターが除去できるものであれば良い。たとえば、
ヤグレーザー、キセノンレーザー、エキシマレーザーな
どが使用可能である。レーザーを用いてカラーフィルタ
ーの一部を除去する場合、図４（Ｃ−１）、（Ｃ−２）
では、透明電極パターン４２が残されているが、カラー
フィルターと共に除去されても、後の工程に影響はな
い。
下、図４（Ａ）から（Ｆ）を用いて本願発明について詳
細に説明をする。図４（Ａ）は、ガラス基板４１上に透
明電極パターン４２をフォトリソグラフィ法により形成
したものである。（Ｂ−１）は（Ａ）の透明電極パター
ン４２上に高分子電着法により赤色４Ｒ、緑色４Ｇ、青
色４Ｂを順次形成したものである。高分子電着法につい
ての詳細な説明は特公平３−４５８０３号等に記載され
ているが、透明電極パターン４２を用いてのセルフアラ
イメント方式でカラーフィルターパターンが形成でき
る。（Ｃ−１）は（Ｂ−２）に示された４７はカラーフ
ィルターパターンの一部をレーザーにより除去したもの
である。使用するレーザーは、高分子材料であるカラー
フィルターが除去できるものであれば良い。たとえば、
ヤグレーザー、キセノンレーザー、エキシマレーザーな
どが使用可能である。レーザーを用いてカラーフィルタ
ーの一部を除去する場合、図４（Ｃ−１）、（Ｃ−２）
では、透明電極パターン４２が残されているが、カラー
フィルターと共に除去されても、後の工程に影響はな
い。
【００１２】次に、図４（Ｄ）では、ブラックマトリク
ス（遮光膜）形成のため、黒色染料含有の感光性樹脂を
塗布したものである。カラーフィルター４Ｒ' 、４Ｇ'
、４Ｂ' をマスクとして用いるため、使用する感光性
樹脂はネガタイプに限定される。背面から紫外線露光す
ることにより、カラーフィルター図４（Ｅ）の４Ｒ' 、
４Ｇ' 、４Ｂ' を除く領域に黒色染料含有の感光性樹脂
が残り、格子状のブラックマトリクス４４として形成で
きる。ここで使用した背面露光法はノーアライメントで
行えるので極めて生産性は良い。
ス（遮光膜）形成のため、黒色染料含有の感光性樹脂を
塗布したものである。カラーフィルター４Ｒ' 、４Ｇ'
、４Ｂ' をマスクとして用いるため、使用する感光性
樹脂はネガタイプに限定される。背面から紫外線露光す
ることにより、カラーフィルター図４（Ｅ）の４Ｒ' 、
４Ｇ' 、４Ｂ' を除く領域に黒色染料含有の感光性樹脂
が残り、格子状のブラックマトリクス４４として形成で
きる。ここで使用した背面露光法はノーアライメントで
行えるので極めて生産性は良い。
【００１３】その後、トップコート４５及び透明電極４
６を形成することにより、カラーフィルターが完成でき
る。透明電極４６は必要に応じて、フォトリソグラフィ
法でのパターニングを行えば良い。図４（Ａ）で透明電
極抵抗を３０Ω／□を使用し、１２０ミクロン幅のスト
ライプを１５０ミクロンピッチでパターン４２を形成し
た。カラーフィルターは膜厚１．５ミクロンになるよう
電着電圧と電着時間を３色分それぞれ調整した（図４
（Ｂ））。カラーフィルターの一部を除去するためにキ
セノンレーザーを用いて、ストライプ状カラーフィルタ
ーと直角方向に５０ミクロン×５０ミクロンに絞ったキ
セノンレーザービームを３００ミクロンピッチで走査さ
せた。その結果、図４（Ｃ）に示したような３色のカラ
ーフィルターがドット状に並んだパターンを得た。
６を形成することにより、カラーフィルターが完成でき
る。透明電極４６は必要に応じて、フォトリソグラフィ
法でのパターニングを行えば良い。図４（Ａ）で透明電
極抵抗を３０Ω／□を使用し、１２０ミクロン幅のスト
ライプを１５０ミクロンピッチでパターン４２を形成し
た。カラーフィルターは膜厚１．５ミクロンになるよう
電着電圧と電着時間を３色分それぞれ調整した（図４
（Ｂ））。カラーフィルターの一部を除去するためにキ
セノンレーザーを用いて、ストライプ状カラーフィルタ
ーと直角方向に５０ミクロン×５０ミクロンに絞ったキ
セノンレーザービームを３００ミクロンピッチで走査さ
せた。その結果、図４（Ｃ）に示したような３色のカラ
ーフィルターがドット状に並んだパターンを得た。
【００１４】その後、カーボン顔料を２５重量％含んだ
ネガタイプの感光性樹脂をスピンコーターを用いて、カ
ラーフィルター上に塗布した。このときの膜厚は、ガラ
ス面から２．５ミクロンにした。次いで、カラーフィル
ターの背面から光量１０Ｗ／ｃｍ2 で１５秒間露光する
ことでカラーフィルター４Ｒ、４Ｇ、４Ｂと同等の膜厚
を有したブラックマトリクス４４を形成した。
ネガタイプの感光性樹脂をスピンコーターを用いて、カ
ラーフィルター上に塗布した。このときの膜厚は、ガラ
ス面から２．５ミクロンにした。次いで、カラーフィル
ターの背面から光量１０Ｗ／ｃｍ2 で１５秒間露光する
ことでカラーフィルター４Ｒ、４Ｇ、４Ｂと同等の膜厚
を有したブラックマトリクス４４を形成した。
【００１５】ブラックマトリクス４４は、図４（Ｅ−
１）、（Ｅ−２）に示したようにドット状カラーフィル
ター部を除き格子状にきれいに形成することができた。
このようにして製作したブラックマトリクスの遮光性
は、ＯＤ（Optical Density)値で２．６〜２．８を有し
た。次いで、（Ｆ）４５を示したトップコート（日本合
成ゴム ＳＳシリーズ）をスピンコートを用いて厚さ
４．０ミクロンに塗布し、その後スパッタリング法で透
明電極４６を成膜した。このときの基板加熱温度は２０
０℃で約１時間行い、成膜された透明電極は厚さ１５０
０Åで抵抗値２５Ω／□を示した。
１）、（Ｅ−２）に示したようにドット状カラーフィル
ター部を除き格子状にきれいに形成することができた。
このようにして製作したブラックマトリクスの遮光性
は、ＯＤ（Optical Density)値で２．６〜２．８を有し
た。次いで、（Ｆ）４５を示したトップコート（日本合
成ゴム ＳＳシリーズ）をスピンコートを用いて厚さ
４．０ミクロンに塗布し、その後スパッタリング法で透
明電極４６を成膜した。このときの基板加熱温度は２０
０℃で約１時間行い、成膜された透明電極は厚さ１５０
０Åで抵抗値２５Ω／□を示した。
【００１６】（実施例２）図５から図１３はトライアン
グル状配置の透明電極上に高分子電着法により、赤色、
緑色、青色のカラーフィルターを順次に形成する工程を
模式的に示す図である。図７に示すように、エキシマレ
ーザーを用いて、画素部５Ｒ、５Ｇ、５Ｂを除く接続部
５８と各画素部の一部５９を除去するものである。
グル状配置の透明電極上に高分子電着法により、赤色、
緑色、青色のカラーフィルターを順次に形成する工程を
模式的に示す図である。図７に示すように、エキシマレ
ーザーを用いて、画素部５Ｒ、５Ｇ、５Ｂを除く接続部
５８と各画素部の一部５９を除去するものである。
【００１７】通常、エキシマレーザーによるこのような
特殊な形状にレーザービームを当てる場合には、その形
状に合わせたマスクを利用して、レーザービーム形状を
合わせ込むことが可能である。本発明においても、マス
ク活用によるレーザー加工を実施した。以後、実施例１
と同様にブラックマトリクス５４、トップコート５５、
透明電極５６とを形成することによりカラーフィルター
を製造した。
特殊な形状にレーザービームを当てる場合には、その形
状に合わせたマスクを利用して、レーザービーム形状を
合わせ込むことが可能である。本発明においても、マス
ク活用によるレーザー加工を実施した。以後、実施例１
と同様にブラックマトリクス５４、トップコート５５、
透明電極５６とを形成することによりカラーフィルター
を製造した。
【００１８】以上のような製造方法により任意の形状を
有したブラックマトリクスのあるカラーフィルターが製
作された。
有したブラックマトリクスのあるカラーフィルターが製
作された。
【００１９】
【発明の効果】以上、実施例で詳しく説明したように、
本発明の方法を採用することにより、高分子電着カラー
フィルターパターンの中に格子状のブラックマトリクス
を容易に形成することができる。これは高額な設備や生
産性に課題の残るアライメント露光法を含む他のカラー
フィルター製造方法に比べ、低廉価なカラーフィルター
を供給することができるという効果を有している。
本発明の方法を採用することにより、高分子電着カラー
フィルターパターンの中に格子状のブラックマトリクス
を容易に形成することができる。これは高額な設備や生
産性に課題の残るアライメント露光法を含む他のカラー
フィルター製造方法に比べ、低廉価なカラーフィルター
を供給することができるという効果を有している。
【図１】従来のカラーフィルターの断面模式図の一例で
ある。
ある。
【図２】従来のカラーフィルターの断面模式図の他の一
例である。
例である。
【図３】従来のカラーフィルターの断面模式図の他の一
例である。
例である。
【図４】本発明によるカラーフィルターの製造方法の模
式図である。
式図である。
【図５】本発明による他の実施例であるカラーフィルタ
ーの製造方法を示す模式図である。
ーの製造方法を示す模式図である。
【図６】本発明による他の実施例であるカラーフィルタ
ーの製造方法を示す模式図である。
ーの製造方法を示す模式図である。
【図７】本発明による他の実施例であるカラーフィルタ
ーの製造方法を示す模式図である。
ーの製造方法を示す模式図である。
【図８】本発明による他の実施例であるカラーフィルタ
ーの製造方法を示す模式図である。
ーの製造方法を示す模式図である。
【図９】本発明による他の実施例であるカラーフィルタ
ーの製造方法を示す模式図である。
ーの製造方法を示す模式図である。
【図１０】本発明による他の実施例であるカラーフィル
ターの製造方法を示す模式図である。
ターの製造方法を示す模式図である。
【図１１】本発明による他の実施例であるカラーフィル
ターの製造方法を示す模式図である。
ターの製造方法を示す模式図である。
【図１２】本発明による他の実施例であるカラーフィル
ターの製造方法を示す模式図である。
ターの製造方法を示す模式図である。
【図１３】本発明による他の実施例であるカラーフィル
ターの製造方法を示す模式図である。
ターの製造方法を示す模式図である。
１１、２１、３１、４１、５１ ガラス基板 １２、２２、３２、４４、５４ ブラックマトリクス １Ｒ、２Ｒ、３Ｒ、４Ｒ、５Ｒ 赤色フィルター １Ｇ、２Ｇ、３Ｇ、４Ｇ、５Ｇ 緑色フィルター １Ｂ、２Ｂ、３Ｂ、４Ｂ、５Ｂ 青色フィルター １３、２３、３３、４５ ５５ トップコート １４、２４、３４、４２、４６、５６ 透明電極 ４７、５９ 除去されたカラーフィルター部
Claims (3)
- 【請求項１】 基板上に第１の透明電極パターンが形成
され、該透明電極上にカラーフィルターが形成されるカ
ラーフィルター基板の製造方法において、該透明電極を
所望の形状にパターニングして該基板上に形成する第１
工程、該透明電極の上にカラーフィルターを形成する第
２工程、該カラーフィルターの一部を除去する第３工
程、該カラーフィルター基板上に、背面露光法により任
意の形状を有した光遮光膜を形成する第４工程、該光遮
光膜を形成した基板上にトップコート材を塗布する第５
工程、該トップコート材上に第２の透明電極を成膜する
第６工程、とを含むことを特徴とするカラーフィルター
基板の製造方法。 - 【請求項２】 前記カラーフィルターを形成する第２工
程は、高分子電着法を用いて形成することを特徴とする
請求項１記載のカラーフィルターの製造方法。 - 【請求項３】 前記カラーフィルターの一部を除去する
第３工程はレーザーを用いて該カラーフィルターを除去
することを特徴とする請求項１記載のカラーフィルター
の製造方法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP31618391 | 1991-11-29 | ||
| JP3-316183 | 1991-11-29 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05203807A true JPH05203807A (ja) | 1993-08-13 |
Family
ID=18074224
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4492192A Pending JPH05203807A (ja) | 1991-11-29 | 1992-03-02 | カラーフィルターの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH05203807A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0718664A3 (en) * | 1994-12-22 | 1997-01-08 | Seiko Instr Inc | Manufacturing method of a liquid crystal color display device |
| US5853924A (en) * | 1994-12-26 | 1998-12-29 | Alps Electric Co., Ltd. | Method of manufacturing color filters |
| US6028288A (en) * | 1995-10-23 | 2000-02-22 | Alps Electric Co., Ltd. | Laser beam machine and liquid crystal display device fabrication method using the machine |
| KR20030057084A (ko) * | 2001-12-28 | 2003-07-04 | 제일모직주식회사 | 우수한 분해능, 최소선폭 및 높은 공정 마진성을 나타내는블랙 매트릭스의 제조방법 |
-
1992
- 1992-03-02 JP JP4492192A patent/JPH05203807A/ja active Pending
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