KR940004297B1

KR940004297B1 - 액정표시장치의 칼라필터 제조방법

Info

Publication number: KR940004297B1
Application number: KR1019910013731A
Authority: KR
Inventors: 이형석
Original assignee: 삼성전자 주식회사; 김광호
Priority date: 1991-08-08
Filing date: 1991-08-08
Publication date: 1994-05-19
Also published as: KR930004788A

Abstract

내용 없음.

Description

액정표시장치의 칼라필터 제조방법

제1도는 통상적인 액정표시장치의 개략적 구조를 나타낸 단면도.

제2도는 종래의 칼라필터의 기본 구조를 보인 단면도.

제3a도-제3e도는 이 발명의 제1실시예에 따른 칼라필터 제조 공정도.

제4 내지 제6도는 이 발명의 제2 내지 제4실시예 따른 칼리필터 제조방법을 보인 제조 공정도이다.

이 발명은 액정표시장치 등에 사용되는 칼라필터에 관한 것으로, 특히 칼라필터를 구성하는 블렉매트릭스(black matrix)의 형성 방법을 개선한 액정 표시장치의 칼라필터 제조방법에 관한 것이다.

일반적인 칼라 액정표시장치는 칼라필터와 박막트랜지스터를 조합하여 액정 패널은 형성한 것으로, 개략적인 기본 구조는 제1도에 나타내었다.

칼라 액정표시장치는 제1도에 나타냈듯이 다결정 또는 비정질 실리콘 트랜지스터(40)의 배열(array)을 형성한 투명한 하부 유리기판(50)과, 적(R), 녹(G), 청(B)의 칼라패턴이 형성된 칼라필터층(20)이 개재된 투명한 상부 유리기판(60)과를 마주보며 스페이스(80)를 사이에 두고 고정시키고, 상기 유리 기판(50)(60) 사이에 액정을 봉입하여 액정층(90)이 형성된 패널을 2매의 편향판(60, 70) 사이에 끼운 구조로 되어 있다. 상기 하부 유리기판(50) 위에는 복수의 신호선과 주사선이 격자상으로 배치되어 그들의 교차점에 박막트랜지스터(40)와 화소전극이 접속된다. 칼라필터층(20)와 액정층(90)이 접하는 부분 사이에는 투명한 공통전극, 즉 ITO(indium thin oxide) 전극층(30)이 형성되어 있고, 칼라필터층(20)은 적(R), 녹(G), 청(B)의 3원색을 화소단위의 크기로 모자이크(Mosaic)상으로 배치한 것으로 각 화소에 1색이 대응하고 있다.

이 발명에서 칼라필터층(20)이라함은 칼라패턴과 각 칼라패턴 사이에 형성되는 블랙매트릭스(21)와 상기 칼라패턴과 블랙매트릭스(21) 위에 평판화 및 보호층으로 형성되는 오버코트(overcoat)층까지 포함하며, 이하에는 이를 칼라필터라 명기한다.

이 발명은 상기한 칼라 액정표시장치에서 칼라필터(20)에 관한 것으로, 이에 관한 종래 기술로는 월간 Semiconductor world DNP/1990년 9월 Photopolymer MATSHUSITA-Fuji Film/1990년 8월호에 기술된 것이 있다.

제2도에는 상기 문헌에서 언급되는 액정표시장치의 칼라필터를 나타낸 것이다.

제2도에서, 투명한 상부 유리기판(10)의 표면에 형성된 칼라필터층(20)은 각 화소마다 적(20R), 녹(20G), 청(20B)의 3원색의 칼라패턴이 형성되고, 적, 녹, 청색의 칼라패턴(20R, 20G, 20B)들 사이에는 크롬(Cr) 혹은 흑색 유기물로 패턴 형성된 블랙매트릭스(21)가 형성되어 있는 구조를 갖는다. 이 블랙매트릭스(21)는 유리기판(10)을 통과한 빛이 화소 사이로 입사될 때 빛을 차단하는 광차단 기능을 하고, 또한 제조공정상 각 적, 녹, 청의 칼라필터(20R, 20G, 20B)들이 서로 인접하여 배열될 때 다른 칼라패턴으로 빛이 입사되는 것을 차단한다. 그리고 칼라패턴의 보호와 표면의 평활성 향상을 위하여 오버코트층(22)이 형성되어 있고, 이 오버코트층(22)위에 ITO 전극층(30)이 형성된 구조를 취한다.

그럼, 이러한 구조의 칼라필터를 제조하는 방법을 살펴본다.

칼라필터 제조방법에는 염색법, 전착법, 안료분산법, 염료분산법, 인쇄법 등 여러 가지가 있으나, 이 발명에서는 현재 신뢰성에서 가장 우수하여 많이 쓰는 안료분산법에 의한 방법을 예로 들어 설명한다.

먼저, 투명한 유리기판(10)에 크롬을 증착하거나 또는 흑색 안료가 분산된 포토레지스터나 폴리머를 스핀도포하고, 패턴 형성하여 광 차단층인 블랙매트릭스(21)를 형성한다. 이 공정 후 적색안료가 분산된 감광성 수지나 폴리머를 스핀 도포하고, 저온 건조시킨 다음, 미리 준비한 칼라패턴을 위한 마스크를 적색염료층 위에 개재하고 적외선 노광후, 현상하여 소정위치에 적색칼라패턴(20R)을 형성한다.

같은 방법은 감광성 수지나 폴리머에 분산되는 안료를 달리하여 두 번째색, , 세 번째색으로 같은 공정을 반복하여 녹색(20G), (청색20B)의 칼라패턴을 형성시킨다.

이렇게 각 블랙매트릭스(21) 사이에 적색(20R), 녹색(20G) 및 청색(20B)이 칼라패턴을 형성한 후, 이들 칼라패턴(20R), (20G), (20B)을 보호함과 아울러 평탄화를 위하여 아크릴 수지, 에폭시 또는 폴리아미드 등의 투명수지로 오버코트층(22)을 형성한다. 그리고 오버코트증(22) 위에 ITO 전극층(30)을 형성한다.

이와 같이 종래에는 블랙매트릭스(21)를 형성하고 난 다음에 칼라패턴(20R, 20G, 20B)을 만들기 때문에 여러 가지 문제점이 발생하게 되는데, 그 하나는 크롬(Cr) 적층막인 블랙매트릭스(21) 위에 칼라필터 형성에 사용된 감광성 수지나 폴리머에 분산된 안료가 감광성 수지나 폴리머가 녹으면서 생기는 안료 찌꺼기(residue)의 발생이다.

또 다른 문제점은 칼라패턴인 블랙매트릭스(21)와 겹쳐지는 부분 위가 돌출되며 각 블랙매트릭스(21) 사이에 형성되는 칼라패턴의 중앙부는 칼라패턴의 가장자리부분에 비해 상대적으로 낮아져 칼라패턴의 두께가 불균일하게 형성된다. 이렇게 안료 찌꺼기의 발생 및 칼라필터의 평탄성이 좋지 않게 되면 분광특성이 저하된다. 뿐만 아니라 후속공정으로 칼라필터 보호와 표면 평탄성 향상을 위한 오버코트층(22) 형성에도 완전한 평탄성을 유지하기가 곤란하게 되고 그 다음에 형성되는 ITO 전극층(30) 또한 균일성을 잃게 된다. 이는 ITO 전극층(30)과 화소전극간의 균일한 거리를 유지할 수 없게 되어 신뢰성에 문제가 있다.

이러한 문제점 이외에, 백 라이트(back light)의 빛이 블랙매트릭스(21)의 가장자리부분(210)에서 회절되고, 이 회절광은 특별한 파장의 빛을 선택적으로 방사하는 칼라필터의 고유 재현 색에 혼합되어 선명한 색재현을 기대할 수 없게 된다.

또한, 유리기판(10)의 팽창 및 현상처리에 의한 막수축으로 말미암아 칼라패턴과 블랙매트릭스(21) 사이가 벌어지게 되는 경우가 발생하여 색상 재현 선명도와 칼라필터의 오염이 발생되는 등의 문제점이 있었다.

이 발명은 이와 같은 기술적 배경하에서 창안된 것으로, 분광특성을 향상시키고, 안료 찌꺼기에 의한 오염을 방지할 수 있는 액정표시장치의 칼라필터 제조방법을 제공하는데 그 목적이 있다.

이 발명의 다른 목적은 오버코트층 아래에 형성되는 블랙매트릭스와 카라패턴과의 단차가 거의 없이 평판한 ITO 전극층 증착시 스텝 커버리지를 향상할 수 있는 액정표시장치의 카라필터 제조방법을 제공하는데 있다.

이 발명의 다른 목적은 회절광의 차단 및 블랙매트릭스와 칼라패턴 사이의 벌어짐 등을 방지할 수 있는 액정표시장치의 칼라필터 제조방법을 제공하는데 있다.

이와 같은 목적을 달성하기 위한 이 발명의 칼라필터 제조방법은 투명 유리기판 위에 적색, 녹색, 청색의 칼라패턴을 형성하는 공정과, 상기 칼라패턴이 완전히 덮히도록 포토레지스트를 스핀 도포하는 공정과, 마스크를 사용하여 상기 포토레지스터를 노광, 현상하여 칼라패턴과 동일한 간격의 마스크 패턴을 형성하는 공정과, 상기공정 후 그 결과적 구조 위에 전면 노광을 실시하는 공정과, 크롬을 스퍼터링하여 상기 각 칼라패턴 사이에 크롬층을 형성하는 공정과, 상기 포토레지스트 및 포토레지스터 위에 적층된 크롬(Cr)을 제거하는 공정으로 이루어짐을 특징으로 한다.

이와 같은 목적을 달성하기 위한 다른 특징에 따른 이 발명의 칼라필터 제조공정은, 투명 유리기판 위에 적색, 녹색, 청색의 칼라패턴을 형성하는 공정과, 상기 칼라패턴 형성 공정 후 그 결과적인 구조 위에 블랙매트릭스를 형성하기 위한 크롬을 스퍼터링하여 각 칼라패턴 사이에 증착하는 공정과, 상기 크롬이 완전히 덮히도록 포토레지스트를 스핀 도포하고 포토레지스트를 노광, 현상하여 블랙매트릭스 형성부분 위에 마스크 패턴을 형성하는 공정과, 습식 에칭하여 칼라패턴 위에 적층된 크롬을 제거하는 공정과, 상기 포토레지스터를 제거하는 공정으로 이루어짐을 특징으로 한다.

또 다른 특징에 따른 이 발명의 칼라필터 제조방법은 블랙매트릭스(21)의 상부 가장자리 부분에 얇은 단턱을 형성하는 공정을 포함하는 것을 특징으로 한다.

이와 같은 공정으로 이루어지는 이 발명은 종래의 방법과는 달리 칼라패턴을 형성한 후, 블랙매트릭스를 형성하는 것이 가장 큰 특징이며, 또한 형성되는 블랙매트릭스의 구조가 얇은 단턱을 가지게 되어 종래의 칼리필터 제조방법에서 칼라필터의 평탄성에 관한 문제점 뿐만 아니라 회절광에 대한 문제점이 근본적으로 해결된다.

이하, 이 발명의 실시예에 따른 칼라필터의 제조방법을 첨부된 도면을 참조하여 상세히 설명한다.

제3a도 내지 제3e도는 이 발명의 제1실시예를 보인 것이다.

먼저, 제3a도에 나타낸 바와 같이 투명한 유리기판(10) 위에 청색 안료가 분산된 감광성 수지나 폴리머를 스핀 도포하고, 70℃∼80℃에서 30분 정도 저온 건조시킨 다음, 미리 준비한 청색패턴 마스크를 청색 안료층 위에 개재하고 적외선 노광한 후, 현상하여 소정위치에 청색 칼라패턴(20B)를 형성한다.

같은 방법으로 감광성 수지나 폴리머에 분산되는 안료를 달리하여 도포, 노광, 현상, 식각을 반복 실시하여 적색(20R) 및 녹색(20G)의 칼라패턴을 형성시킨다.

제3a도까지의 공정이 끝난 다음, 그 결과적 구조 위에 제3b도에 나타낸 바와 같이 포지티브 포토레지스트(24)를 스핀 도포한다. 이때 포지티브 포토레지스터(24)를 사용한 것은 후속되는 블랙매트릭스(21)를 형성하는 공정에서 크롬(Cr)을 스퍼터링하여 증착할 때 증착 마스크 및 칼라패턴의 손상을 방지하기 위한 것이다. 포지티브 포토레지스트(4)로는 에폭시, 폴리이미드. 아크릴 등이 사용될 수 있다.

포토레지스트(24)를 도포한 후, 각 칼라패턴과 동일한 간격으로 이격되게 마스크를 사용하여 노광, 현상하면 제3c도와 같이 된다. 다음 공정에 들어가기에 앞서서 전면 노광을 충분히 실시한다. 이는 후속되는 크롬(Cr) 제거를 위한 리프트 오프(Lift off) 공정을 실시하기 위한 것이다.

전면 노광을 한 다음은 제3d도에 나타낸 바와 같이 제3c도의 결과적 구조 위에 블랙매트릭스(21)를 형성하기 위한 크롬을 스퍼터링하여 증착시킨 다음, 마지막 단계로 제3도 제3e도 나타낸 바와 같이 포토레지스트 현상액으로 리프트 오프 공정을 하여 포지티브 포토레지스트(24) 및 블랙매트릭스(21)를 형성하는 이외의 크롬을 리프팅시켜 완전히 제거하고, 이 상태에서 오버코트층(22)을 형성하고, ITO 전극층을 형성하여 칼라필터를 완성한다.

이 실시예에서 형성되는 블랙매트릭스와 칼라패턴이 이루는 면은 평탄성이 우수해진다. 평탄성 우수함에 더하여 종래의 문제점은 크롬 적층막인 블랙매트릭스(21) 위에 칼라필터 형성에 사용된 감광성 수지나 폴리머에 분산된 안료가 감광성 수지나 폴리머가 녹으면서 비롯되는 안료 찌꺼기에 의한 오염 발생에 대하여 그 여지가 없게 된다.

다음은, 이 발명의 제2실시예를 제4a도 내지 제4c도를 참조하여 이하에 설명한다.

지금부터 설명되는 제2실시예는 제3도에서 보인 제1실시예의 개량 방법으로 각 칼라패턴 사이에 형성되는 블랙매트릭스(21)의 구조적 형태를 달리하는 것이다. 미리 이 실시예로 완성된 제4c도를 보면, 상기 제1실시예에서 보인 블랙매트릭스(21)의 구조와는 달리 각 칼리패턴을 물고 있는 회절광 차단용의 얇은 단턱(210)을 구비하고 있음을 알 수 있다. 즉, 제3d도의 공정을 마친후 그 결과적 구조 위에 상기 얇은 단턱(210)을 형성하는 공정이 필요함을 알 수 있다. 그 제조공정을 살펴보면, 제4a도는 제3d도의 결과적 구조를 나타낸 것으로 그 이전의 과정은 제3a도 내지 제3d도와 동일함으로 설명은 생략한다.

제4b도에 나타낸 바와 같이 포토 공정을 실시하여 칼라패턴 위에 포토레지스트를 도포하여 칼라패턴의 크기보다 작은 폭을 가지는 마스크 패턴(24)을 상기 칼라패턴 위에 형성한다. 이때, 포토레지스트 패턴이 이루는 패턴 간격이 블랙매트릭스의 폭을 결정하게 됨으로, 이 간격은 칼라패턴의 개구율에 영향을 미치지 않는 범위내에서 형성한다.

이렇게 마스크 패턴(24a)을 형성한 다음, 전면 노광을 충분히 실시한다. 그리고 결과적 구조 위에 얇은 단턱(210)을 형성하기 위해 크롬을 스퍼터 하여 증착시키되, 칼라패턴의 높이보다 높게 증착시킨 다음, 마지막 단계로 제4c도에 나타낸 바와 같이 포토레지스트 현상액으로 리프트 오프 공정을 하여 포지티브 포토레지스트(24) 및 얇은 크롬층(25a)을 리프팅시켜 완전히 제거한다. 그후 오버코드층(22) 및 ITO 전극층(30)을 형성한다.

이 실시예에서, 마지막 공정의 결과적 형태의 블랙매트릭스(21)의 얇은 단턱(210)이 칼라패턴(20R, 20G, 20B)을 양쪽으로 물고있어 칼라필터의 보호 역할을 하기도 하지만, 이 얇은 단턱 (210)은 종래의 블랙매트릭스의 구조에서 나타난 회절광의 발생을 막는 역할을 한다.

상기 제3도 및 제4도의 제조 공정은 크롬을 서퍼터링한 후 (제3a도 및 제4b도의 공정)에 유리기판(10)의 아래부분(칼라필터 아래부분)에 전면 노광을 실시할 수도 있다.

이 발명에 따른 제3 및 제4실시예를 제5a도-제5d도 및 제6a도-제6b도에 나타내었다.

지금부터 예시되는 방법은 상기 제1, 제2실시예에서 포토레지스트 위에 스퍼터링으로 형성된 크롬층을 제거할 때 리프트 오프 공정을 실시하든 것에 반해 습식식각 공정으로 대체하는 것이 특징이다.

우선, 제3실시예를 설명한다. 제5a도에 나타낸 바와 같은 투명한 유리기판(10) 위에 투명한 아크릴 계통의 감광성 수지를 스핀 도포하고, 70℃∼80℃에서 30분 정도로 저온 건조시킨 다음, 미리 준비한 청색 칼라 마스크를 청색 염료층 위에 개재하고 적외선 노광한 후, 현상 및 염색을 하여 소정위치에 청색 칼라패턴(20B)을 형성한다. 이 패턴(20B)을 탄닌(tannin)산, 주석산 등으로 고착시키고, 같은 방법으로 감광성 수지에 분산되는 염료를 달리하여 도포, 노광, 현상, 염색을 반복 실시하여 적색(20r) 및 녹색(20g)의 칼라패턴을 형성시킨 다음, 그 결과적 구조 위에 크롬(25)을 스퍼터링하여 칼라패턴 사이에 완전히 증착하고 포지티브 포토레지스트(24)를 스핀 도포하면 제5b도와 같다. 이때, 블랙매트릭스(21)가 되는 크롬(25)의 증착 높이는 칼라 액정표시장치의 특성에 영향을 미칠 뿐만 아니라, 평탄성을 고려하여 그 높이를 칼라패턴의 높이와 같게 형성한다.

다음, 제5c도에 나타낸 바와 같이 칼라패턴 위에 적층된 크롬층(25)을 제거하기 위해 마스크 패턴(24)을 형성하고, 습식 에칭하여 불필요한 크롬(25)을 제거하고 블랙매트릭스(21)위에 있는 불필요한 포토레지스트도 노광, 현상하게 제거한 다음, 오버코트층(22) 및 ITO 전극층(30)을 형성한다.

이 실시예는 투명한 아크릴 계통의 감광성 수지를 사용하여 칼라패턴을 형성하고, 필터 보호용 레지스터 패턴 형성없이 직접 크롬을 스퍼터링하는 공정을 취함으로 간단한 공정으로 제1실시예와 동일한 효과의 칼라필터를 제조할 수 있다.

이젠, 제6a도-제6c도를 참조하여 이 발명의 제4실시예를 설명한다.

지금부터 설명되는 제4실시예는 제5도에서 보인 제3실시예의 개량 방법으로 각 칼라패턴 사이에 형성되는 블랙매트릭스(21)의 구조적 형태를 달리하는 것이다. 블랙매트릭스의 구조적 형태는 제2실시예에서 이미 보인 바 있다.

제6a도는 제5c도의 결과적 구조를 나타낸 것으로 그 이전의 과정은 제5a도내지 (c)와 동일함으로 설명은 생략한다.

그 제조 공정을 살펴보면, 제6b도에 나타낸 바와 같이 포지티브 포토레지스트를 제6a도의 결과적 구조 위에 스핀 도포한 후, 각 칼라패턴의 개구율에 영향을 미치지 않는 범위 내에서 블랙매트릭스(21)의 얇은 단턱(210)을 형성하기 위한 폭만큼 칼라패턴(20R, 20G, 20B) 윗부분에 마스크 패턴(24a)을 형성하고, 습식 에칭하여 포토레지스트 및 그 위에 형성된 얇은 크롬층(25a)을 제거하면 얇은 단턱(210)을 갖는 블랙매트릭스(21)가 형성한 다음, 오버코트층(22) 및 ITO 전극층(30)을 형성한다.

여기서, 마지막 공정의 결과적 형태의 블랙매트릭스(21)의 얇은 단턱(210)이 칼라패턴을 양쪽으로 물고있어 칼라필터의 보호역할을 하기도 하지만. 얇은 단턱(210)은 종래의 블랙매트릭스의 구조에서 나타난 회절광의 발생을 막는 역할을 한다.

이와 같이 이 발명의 칼라필터 제조방법에 의하면, 칼라필터의 평탄성이 우수하고 두께 조절이 용이하고, 블랙매트릭스 위에 오염을 방지하며, 또한 스텝 커버리지가 뛰어날 뿐만 아니라 공통전극을 위한 균일한 ITO 막질 형성 및 공통전극과 화소전극간의 거리가 균일하게 액정 트위스트 동작이 균일하여 선명한 색상 및 풀 칼라 액정표시장치를 실현할 수 있다.

Claims

액정표시장치의 칼라필터 제조방법에 있어서, 투명 유리기판(10) 위에 적색, 녹색, 청색의 칼라패턴(20R, 20G, 20B)을 형성하는 제1공정과, 상기 칼라패턴이 완전히 덮히도록 포토레지스트(24)를 스핀 도포하는 제2공정과, 마스크를 사용하여 상기 포토레지스트(24)를 노광, 현상하여 칼라패턴과 동일한 간격의 마스크 패턴(24a)을 형성하는 제3공정과, 상기 공정 후 그 결과적 구조 위에 전면 노광을 실시하는 제4공정과, 크롬을 스퍼터링하여 상기 각 칼라패턴 사이에 크롬층(25)을 형성하는 제5공정과, 상기 마스크 패턴(24a) 및 마스크 패턴(24a) 위에 적층된 크롬층(25)을 제거하는 제6공정과 오버코트층(22) 및 ITO 전극층(30)을 형성하는 제 7공정으로 이루어짐을 특징으로 하는 액정표시장치의 칼라필터 제조방법.
제1항에 있어서, 상기 제4공정의 전면 노광을 크롬층(25)을 형성한 후에 상기 칼라패턴(20R), (20G), (20B)의 아랫쪽으로 실시하는 것을 특징으로 하는 액정표시장치의 칼라필터 제조방법.
제1항에 있어서, 칼라패턴(20R), (20G), (20B)은 안료가 분산된 폴리머 또는 포토레지스트 및 가염성기를 갖는 포토레지스트 중 그 어느 하나로 형성되는 것을 특징으로 하는 액정표시장치의 칼라필터 제조방법.
제1항에 있어서, 상기 블랙매트릭스(21)는 크롬 이외에 흑색 안료가 분산된 폴리머 또는 포토레지스트및 가염성기를 갖는 포토레지스트 중 그 어느 하나로 형성되는 것을 특징으로 하는 액정표시장치의 칼라필터 제조방법.
제1항에 있어서, 상기 제2공정의 포토레지스트(24)는 아크릴, 폴리이미드 및 에폭시 중 그 어느 하나인 것을 특징으로 하는 액정표시장치의 칼라필터 제조방법.
제1항에 있어서, 상기 제2공정의 포토레지스트(24)는 포지티브형인 것을 특징으로 하는 액정표시장치의 칼라필터 제조방법.
제1항에 있어서, 제6공정을 한 후, 그 결과적 구조 위에 포토레지스트(24)를 도포하여 칼라패턴의 크기보다 작은 폭을 가지는 마스크 패턴(24a)을 상기 칼라패턴 위에 형성하는 공정과, 상기 마스크 패턴(24a)을 형성한 다음, 전면 노광을 충분히 실시하는 공정과, 결과적 구조 위에 얇은 단턱(210)을 형성하기 위해 크롬을 스퍼터링하여 얇은 크롬층(25a)을 증착하는 공정과, 현상액으로 리프트 오프 공정을 하여 포토레지스트(24) 및 얇은 크롬층(25a)을 제거하는 공정을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 액정표시장치의 칼라필터 제조방법.
제7항에 있어서, 상기 포토레지스트(24)는 아크릴, 폴리이미드 및 에폭시 중 그 어느 하나인 것을 특징으로 하는 액정표시장치의 칼라필터 제조방법.
제7항에 있어서, 포토레지스트(24)는 포지티브형인 것을 특징으로 하는 액정표시장치의 칼라필터 제조방법.
제7항에 있어서, 상기 전면 노광 공정을 얇은 크롬층(25a)을 형성한 후에 상기 칼라패턴(20R),(20G),(20B)의 아랫쪽으로 실시하는 것을 특징으로 하는 액정표시장치의 칼라필터 제조방법.
액정표시장치의 칼라필터 제조방법에 있어서, 투명 유리기판(10) 위에 적색, 녹색, 청색의 칼라패턴을 형성하는 제1공정과, 상기 제1공정 후 그 결과적인 구조 위에 크롬층(25)을 스퍼터링하여 각 칼라패턴(20R),(20G),(20B) 사이에 크롬층(25)을 증착하는 제2공정과, 상기 제2공정 후 크롬층(25)이 완전히 덮히도록 포토레지스트(24)를 스핀 도포하고 포토레지스트(25)를 노광, 현상하여 블랙매트릭스(21) 형성부분 위에 마스크 패턴(24a)을 형성하는 제3공정과, 습식 에칭하여 칼라패턴(20R),(20G),(20B)위에 적층된 크롬층(25)을 제거하여 블랙매트릭스(21)을 형성하는 제4공정으로 이루어지는 것을 특징으로 하는 액정표시장치의 칼라필터 제조방법.
제11항에 있어서, 상기 블랙매트릭스(21)는 크롬 이외에 흑색 안료가 분산된 폴리머 또는 포토레지스터 및 가염성기를 갖는 포토레지스트 중 그 어느 하나로 형성되는 것을 특징으로 하는 액정표시장치의 칼라필터 제조방법.
제11항에 있어서, 상기 칼라패턴(20R, 20G, 20B)는 아크릴 계통의 감광성 수지에 염료를 염색하여 형성되는 것을 특징으로 하는 액정표시장치의 칼라필터 제조방법.
제11항에 있어서, 제3공정을 한 후, 그 결과적 구조 위에 포토레지스트(24)를 도포하여 칼라패턴의 크기보다 작은 폭을 가지는 마스크 패턴(24a)을 상기 칼라패턴 위에 형성하는 공정과, 상기 마스크 패턴(24a)을 형성한 다음, 결과적 구조 위에 얇은 단턱(210)을 형성하기 위해 크롬을 스퍼터링하여 얇은 크롬층(25a)을 증착하는 공정과, 습식 에칭하여 포토레지스트 패턴(24a) 및 얇은 크롬층(25a)을 제거하는 공정을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 액정표시장치의 칼라필터 제조방법.