JPH08262425A

JPH08262425A - カラーフィルターおよびその製造方法

Info

Publication number: JPH08262425A
Application number: JP6265895A
Authority: JP
Inventors: Atsushi Ochi; 淳越智; Yasuhiko Kondo; 康彦近藤; Jun Nishibayashi; 純西林
Original assignee: Sumitomo Rubber Industries Ltd
Current assignee: Sumitomo Rubber Industries Ltd
Priority date: 1995-03-22
Filing date: 1995-03-22
Publication date: 1996-10-11

Abstract

(57)【要約】【目的】印刷インキからなる遮光層２を備え、しかも
着色層４表面の平坦性にすぐれたカラーフィルターと、
その製造方法とを提供する。【構成】カラーフィルターは、遮光層２による凹凸
を、平坦化層３によって平坦化した上に、着色層４を形
成する。製造方法は、遮光層２を形成した透明基材１の
表面の全面に、透明樹脂を含む塗布液を塗布し、硬化ま
たは乾燥固化させて平坦化層３を形成する。平坦化層３
は、着色層４形成前に研磨してもよい。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】この発明は、液晶カラーディスプ
レイ（ＬＣＤ）やプラズマディスプレイ（ＰＤＰ）等の
マルチカラー表示装置に使用されるカラーフィルター
と、その製造方法に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】上記のマルチカラー表示装置において
は、１つの画素を、Ｒ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）の光
の３原色の領域に分けたカラーフィルターにより、カラ
ー表示が行われる。上記カラーフィルターは、たとえは
図３(a) に示すように、透明基材９１の表面の、各画素
間、ならびに各画素内の各領域間の境界線に相当する部
分に、遮光性の材料からなる遮光層９２（ブラックマト
リクス）を形成した後、当該遮光層９２で仕切られた各
領域に、３色の透明な着色層９３を規則的なパターン状
に形成することで製造される。

【０００３】かかる遮光層９２は、各画素間、ならびに
各領域間での色の滲みを防止して、ディスプレイのコン
トラストや解像度を向上させるためのもので、一般に、
クロムや酸化クロム等の薄膜が用いられる。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】ところが、上記薄膜か
らなる遮光層は、通常、透明基材の表面全面に、真空蒸
着法等の気相成長法によって、クロムや酸化クロム等の
薄膜を形成した後、この薄膜を、フォトリソグラフィー
技術によってパターン化して製造されるため、工程数が
多くかつ多大な設備費を要するという問題がある。ま
た、有害なクロムを用いるので、エッチング処理により
発生する廃液の処理も問題となる。さらに上記各工程に
よって処理できる面積には限りがあるため、マルチカラ
ー表示装置の大画面化に対応した、カラーフィルターの
大面積化が困難であるという問題もある。

【０００５】そこで、たとえばカーボンブラック等の黒
色顔料をビヒクル中に分散した印刷インキを用いて、凹
版オフセット印刷法等の精密印刷法にて、透明基材の表
面に、直接に、遮光層を印刷することが考えられた。し
かし、印刷インキからなる遮光層に十分な遮光性を持た
せるには、先の薄膜に比べて、その膜厚をたとえば約１
０〜２０倍程度に大きくしなければならないので、図３
(b) に示すように、上記印刷インキからなる遮光層９
２′の上に着色層９３を形成すると、当該着色層９３の
表面の平坦性が悪化し、光拡散現象による光透過率の低
下や色むら等の原因になるという問題があった。

【０００６】またとくに液晶カラーディスプレイの場合
は、上記着色層の上に保護層および透明電極層を形成し
たカラーフィルターが、液晶層を挟着する一方の基材と
して、ディスプレイに組み込まれて使用されるので、着
色層の表面は、とくに平坦であることが要求される。こ
のため、上記のように着色層の表面の平坦性を悪化させ
る、印刷インキからなる遮光層は、コスト面や大面積化
等の点での優位性が認識されているにも拘らず、十分に
実用化されていないのが現状である。

【０００７】この発明の目的は、印刷インキからなる遮
光層を備え、しかも着色層表面の平坦性にすぐれたカラ
ーフィルターと、その製造方法とを提供することにあ
る。

【０００８】

【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
の、この発明のカラーフィルターは、透明基材の表面
に、当該表面を複数の領域に仕切るようにパターン形成
された遮光層と、この遮光層による基材表面の凹凸を平
坦化すべく、少なくとも遮光層間の凹部を埋めるように
形成された、透明樹脂からなる平坦化層とを備えるとと
もに、上記平坦化層の表面に、遮光層のパターンに合わ
せて、複数の着色層がパターン形成されていることを特
徴とするものである。

【０００９】また、この発明のカラーフィルターの製造
方法は、透明基材の表面に、当該表面を複数の領域に仕
切るように、遮光層をパターン形成し、次いで、この透
明基材の表面全面に、透明樹脂を含む塗布液を塗布し、
硬化または乾燥固化させることで、透明樹脂からなる平
坦化層を形成して、遮光層による基材表面の凹凸を平坦
化した後、上記平坦化層の表面に、遮光層のパターンに
合わせて、複数の着色層をパターン形成することを特徴
とするものである。

【００１０】さらに上記製造方法においては、硬化また
は乾燥固化後、着色層形成前の平坦化層を、遮光層に達
するまたは達しない厚みまで研磨するのが好ましい。

【００１１】

【作用】かかるこの発明のカラーフィルターは、平坦化
層によって、遮光層による凹凸が平坦化された上に、着
色層が形成されているため、着色層表面の平坦性が向上
する。したがってこの発明のカラーフィルターは、遮光
層として、前述したコスト面や大面積化の点で有利な印
刷インキからなるものを採用して、しかも、クロム等の
薄膜からなる遮光層を備えたもの並みの、着色層表面の
平坦性を有するものとなる。

【００１２】また、この発明の製造方法によれば、遮光
層をパターン形成した透明基材の表面の全面に、透明樹
脂を含む塗布液を塗布し、硬化または乾燥固化させるだ
けで、前記平坦化層を形成できるので、着色層表面の平
坦性にすぐれたこの発明のカラーフィルターを簡単に製
造できるという利点がある。また上記製造方法におい
て、硬化または乾燥固化後、着色層形成前の平坦化層を
研磨する場合には、着色層表面の平坦性がさらに向上す
るという利点がある他、遮光層と着色層との間の平坦化
層の厚みをより少なくできるので、当該平坦化層からの
漏光により、各画素間、ならびに各領域間で色の滲みが
生じて、ディスプレイのコントラストや解像度が低下す
るのを防止することができる。

【００１３】またとくに平坦化層を、遮光層に達する厚
みまで研磨する場合には、遮光層と着色層との間の平坦
化層の厚みを０にできるので、漏光と、それによる各画
素間、ならびに各領域間で色の滲みをより確実に防止で
きるという利点がある他、たとえば印刷インキからなる
遮光層の厚みにばらつきがあっても、それを均一に揃え
ることができるという利点もある。

【００１４】

【実施例】以下にこの発明を、その一実施例を示す図面
を参照しつつ説明する。実施例のカラーフィルターは、
図１(a) に示すように、透明基材１の表面に、当該表面
を複数の領域に仕切るようにパターン形成された遮光層
２と、この遮光層２による基材表面の凹凸を平坦化すべ
く形成された、透明樹脂からなる平坦化層３と、当該平
坦化層３の表面に、遮光層２のパターンに合わせて形成
された、複数の着色層４とからなる。

【００１５】透明基材１としては、従来同様に、透明ガ
ラス板や透明プラスチックフィルム等が用いられる。と
くに、液晶カラーディスプレイ用のカラーフィルター
は、前述したようにディスプレイに組み込まれるので、
ディスプレイの軽量化やコストダウンの観点から、透明
プラスチックフィルムが好適に使用される。透明プラス
チックフィルムとしては、ガラスと同程度の透明性、光
学異方性を有するものが好ましい。また遮光層２や着色
層４を、後述する熱硬化性のインキで形成する場合、透
明プラスチックフィルムは、インキの硬化時の加熱によ
って変形したり変質したりしない、耐熱性にすぐれたも
のであるのが好ましい。

【００１６】かかる条件を満たす透明プラスチックフィ
ルムの材料としては、これに限定されないが、たとえば
ポリアリレート（ＰＡＲ）、ポリエーテルサルフォン
（ＰＥＳ）、ポリサルフォン（ＰＳ）、ポリエーテルイ
ミド（ＰＥＩ）、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリイミ
ド（ＰＩ）、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）等
があげられる。

【００１７】プラスチックフィルムの厚みは特に限定さ
れないが、カラーフィルターの薄型化を図る上で１００
０μｍ以下、好ましくは５００μｍ以下であればよい
が、あまり薄くなりすぎるとフィルムの取扱い性に支障
がでるおそれがあるため、通常は５０〜５００μｍ、好
ましくは１００〜３００μｍの範囲内にあるのが適当で
ある。

【００１８】遮光層２は、前述したように、カーボンブ
ラック等の黒色顔料をビヒクル中に分散した印刷インキ
を用いて、精密印刷法にて、透明基材１の表面に、直接
に印刷される。遮光層２の膜厚はとくに限定されない
が、遮光性と平滑性とを両立させるには、０．５〜２．
０μｍ程度が好ましい。一方、着色層４も、上記遮光層
２と同様に、赤、緑および青の印刷インキを用いて、精
密印刷法にて形成される。着色層４の膜厚もとくに限定
されないが、０．５〜５μｍ程度であるのが好ましい。
着色層４の膜厚が上記範囲未満ではピンホールが発生す
るおそれがあり、逆に上記範囲を超えた場合には、分光
透過性が悪くなるおそれがある。なお着色層４の膜厚
は、上記範囲内でもとくに０．５〜２．０μｍの範囲内
であるのが好ましく、１．０〜１．５μｍの範囲内であ
るのがさらに好ましい。

【００１９】印刷法は工程が簡単で、しかも安価である
という利点があるが、印刷法を採用する場合の問題点で
あるピンホール、ライン形状、寸法精度の面から充分に
検討する必要がある。そして、遮光層２や着色層４のパ
ターンサイズは１００μｍレベルでの寸法再現性が要求
されるところから、たとえば凹版オフセット印刷法、水
無しオフセット印刷法およびスクリーン印刷法等の精密
印刷法が好適に採用される。

【００２０】なかでも、凹版の表面に形成した、印刷パ
ターンに対応した凹部に満たした印刷インキを、オフセ
ットブランケットを用いて、被印刷物の表面に転写する
凹版オフセット印刷法が、以下のような利点を有するた
め、この発明に好適に採用される。１回の印刷で転写できるインキ層の膜厚が十分に厚
いため、ピンホールなどを生じることなく、高精度で印
刷できる。プラスチックフィルムのような表面の濡れ性の悪い
基板には、通常、コロナ放電処理などの表面処理を行っ
たり、オーバーコート処理を施すなどして印刷転移性を
向上させる必要があるが、凹版オフセット印刷法では、
オフセットブランケットからのインキの転移を考慮し
て、非常に低粘度のインキを用いるために、何らの処理
なしで印刷可能である。凹版オフセット印刷法はライン形状もすぐれてお
り、ラインの解像度が２０μｍでも印刷再現が可能であ
る。

【００２１】上記凹版オフセット印刷法に使用する凹版
の材質としては，例えばソーダライムガラス、ノンアル
カリガラス、石英、低アルカリガラス、低膨脹ガラス、
ステンレス、銅などがあげられる。このうち、ソーダラ
イムガラスなどの軟質ガラスを基板として用いるのが、
遮光層２や着色層４に対応した微細なパターンを高精度
で再現する上で、とくに好ましい。

【００２２】凹版の凹部の深さは、遮光層２、着色層４
の膜厚を左右するので重要であり、これらの層が前述し
た必要な膜厚となるように、凹版の深さが決定される。
上記凹版オフセット印刷法等の精密印刷法に使用される
印刷インキとしては、たとえば熱硬化型インキ、紫外線
硬化型インキ（ＵＶインキ）、電子線硬化型インキ（Ｅ
Ｂインキ）、赤外線硬化型インキ（ＩＲインキ）などが
あげられる。

【００２３】熱硬化型インキは、エポキシ樹脂（ビスフ
ェノールＡ型など）、メラミン樹脂（メチル化メラミン
など）、ポリエステル樹脂またはこれらの２種以上の混
合物に、顔料、溶剤などを混合して作成されるものであ
る。この場合、硬化剤としてメラミン樹脂が多く使用さ
れ、とくにエポキシ−メラミン（硬化剤）、ポリエステ
ル−メラミン（硬化剤）の組み合わせが多い。また、硬
化温度を下げる目的で硬化触媒（たとえばｐ−トルエン
スルホン酸などの酸触媒等）を樹脂に対して０．１〜
０．５重量％の割合で添加してもよい。これにより、硬
化温度を１０〜３０℃低減でき、かなり低温での硬化が
可能となる。

【００２４】また紫外線硬化型インキは、光硬化性のア
クリル基含有モノマーをベースにやや分子量の大きいオ
リゴマーを混合して粘度を調整し、増感剤としてベンゾ
フェノンなどを添加し、最後に顔料を混合して作成され
る。紫外線硬化型インキは、その硬化時に、わずかに発
熱はあるものの、殆ど熱をかけずに硬化できる利点があ
る。

【００２５】凹版オフセット印刷法に使用するインキ
は、前述のように低粘度であるのが好ましい。具体的に
は１０〜３０，０００Ｐ、好ましくは５００〜１０，０
００Ｐであるのが適当である。なお、凹版オフセット印
刷法等の精密印刷法にて遮光層２および着色層４を形成
する際には、印刷後の印刷インキ層の表面を、たとえば
シリコーンロール等によって平坦化処理した後、加熱、
紫外線照射などの所定の硬化方法にてインキを硬化させ
るようにすると、各層表面の平坦性が向上する。

【００２６】平坦化層３は、透明樹脂により形成され
る。かかる透明樹脂としては、種々の硬化性樹脂が使用
可能であるが、とくに透明基材１と同様に、ガラスと同
程度の透明性、光学異方性を有するとともに、耐熱性に
すぐれたものが好ましい。また上記平坦化層３は、この
発明の製造方法においては、透明樹脂を含む塗布液を塗
布し、硬化または乾燥固化させることで形成されるた
め、硬化性樹脂の場合は、その前駆体としてのプレポリ
マーの状態で、塗布液を構成する有機溶媒に溶解または
分散可能なものが好ましい。また熱可塑性樹脂の場合も
同様に、塗布液を構成する有機溶媒に溶解または分散可
能なものが好ましい。

【００２７】かかる条件を満たす透明樹脂としては、た
とえばポリエステル系樹脂、エポキシ系樹脂、硬化性ア
クリル系樹脂、ポリイミド系樹脂等があげられる。平坦
化層３は、通常、図１(a) に示すように、透明基材１お
よび遮光層２を覆うように形成される。かかる平坦化層
３は、前記のように、透明樹脂を含む塗布液を、遮光層
２が形成された透明基材１の表面の全面に塗布し、硬化
または乾燥固化させることで形成される。

【００２８】塗布液の塗布方法としては、たとえばスピ
ンコート法、フローコート法、バーコート法、ディップ
コート法等の種々の塗布方法がいずれも採用可能であ
る。また、前記遮光層２や着色層４と同様に、平坦化層
３の表面を、シリコーンゴムローラ等でさらに平坦化処
理してもよい。平坦化層３の膜厚はとくに限定されない
が、前述したように、平坦化層３からの漏光と、それに
よる色の滲みを防止するには、遮光層２と着色層４との
間の平坦化層３の厚みが小さいほど好ましい。

【００２９】たとえば図２(a)(b)に示すように、遮光層
２と着色層４との間の平坦化層３の厚みが、ｄ₁＞ｄ₂
である２つの場合を比較すると、遮光層２によって滲み
を防止できる範囲は、それぞれ∠αと∠βで表され、こ
の範囲より外側（図中矢印で示す側）では、隣の着色層
４からの漏光による滲みが発生する。上記両角度を比較
すると、∠α＜∠βであり、遮光層２と着色層４との間
の平坦化層３の厚みが小さい方が、遮光層２によって滲
みを防止できる範囲が広くなり、ディスプレイのコント
ラストや解像度が高くなる。

【００３０】具体的には、遮光層２と着色層４との間の
平坦化層３の厚みは２．０μｍ以下が好ましく、１．５
μｍ以下がさらに好ましい。この範囲内であれば、遮光
層２による滲みの防止効果により、ディスプレイの画像
が、実用的なコントラストや解像度を有するものとな
る。遮光層２と着色層４との間の平坦化層３の厚みを上
記のように小さくするには、平坦化層３自体の塗布膜厚
を小さくしてもよいが、その場合には、透明基材１の表
面の、遮光層２による凹凸の影響により、平坦化層３の
表面の平坦性が低下するおそれがあるので、厚めに塗布
した平坦化層３の表面を、硬化または乾燥固化後、着色
層４を形成する前に研磨して、膜厚を小さくするのが好
ましい。この場合には、図１(b) に示すように、平坦化
層３の表面の平坦性が向上するという利点もある。

【００３１】またとくに、遮光層２と着色層４との間の
平坦化層３の厚みは０であるのが最も好ましい。遮光層
２と着色層４との間の平坦化層３の厚みが０というの
は、図１(c) に示すように、透明基材１の表面の、遮光
層２間の凹部にのみ、平坦化層３が形成されている場合
である。この場合には、平坦化層３からの漏光と、それ
による色の滲みは全く発生しない。

【００３２】上記のように透明基材１の表面の、遮光層
２間の凹部にのみ、平坦化層３を形成するには、前述し
た精密印刷法により、遮光層２間の凹部に平坦化層３を
印刷することもできるが、その場合には位置合わせ等が
難しいので、厚めに塗布した平坦化層３の表面を、硬化
または乾燥固化後、着色層４を形成する前に、遮光層２
に達する厚みまで研磨するのが好ましい。この場合に
は、平坦化層３の表面の平坦性が向上するとともに、た
とえば遮光層２の厚みにばらつきがあっても、それを、
平坦化層３とともに研磨して、均一に揃えることができ
るという利点がある。この目的のためには、平坦化層３
自体を、あらかじめ厚めに作っておくのが望ましい。実施例１ガラス基板の表面に、カーボンブラックを分散したポリ
エステル樹脂を凹版オフセット印刷法により印刷し、乾
燥固化させて、厚み１．０μｍ、幅２５μｍのラインパ
ターンからなる遮光層を形成した。

【００３３】つぎに、上記遮光層が形成されたガラス基
板の表面に、下記の各成分からなる平坦化層用の塗布液
を、スピンコート法により塗布し、２００℃で１時間、
加熱して硬化させて、ガラス基板表面からの厚みが２．
０μｍで、かつ遮光層の表面からの厚みが１．０μｍの
平坦化層を形成した。〈平坦化層用塗布液〉（成分）（重量部）透明樹脂：硬化性アクリル樹脂１０溶媒：エチルセロソルブ９０つぎに、上記平坦化層の表面に、赤、緑および青の３色
の紫外線硬化型インキ（ポリエステルアクリレートモノ
マーをベースとする）を順に凹版オフセット印刷にて印
刷した。

【００３４】そしてインキ層を、シリコーンゴムローラ
を用いて平坦化処理した後、紫外線ランプ（５００Ｗ）
を用いてフィルム上のインキ層を完全に硬化させて、硬
化膜厚が１．５μｍの着色層を形成して、カラーフィル
ターを得た。実施例２平坦化層用塗布液の塗布条件を調整して、ガラス基板表
面からの厚みが３．０μｍで、かつ遮光層の表面からの
厚みが２．０μｍの平坦化層を形成したこと以外は、実
施例１と同様にしてカラーフィルターを得た。実施例３平坦化層用塗布液の塗布条件を調整して、ガラス基板表
面からの厚みが４．０μｍの平坦化層を形成した後、こ
の平坦化層を研磨機で研磨して、ガラス基板表面からの
厚みを２．０μｍ、遮光層の表面からの厚みを１．０μ
ｍとしたこと以外は、実施例１と同様にしてカラーフィ
ルターを得た。実施例４平坦化層用塗布液の塗布条件を調整して、ガラス基板表
面からの厚みが４．０μｍの平坦化層を形成した後、こ
の平坦化層を研磨機で研磨して、ガラス基板表面からの
厚みを１．０μｍ、遮光層の表面からの厚みを０μｍと
したこと以外は、実施例１と同様にしてカラーフィルタ
ーを得た。実施例５凹版オフセット印刷法により形成される遮光層の厚みを
２．０μｍに変更するとともに、平坦化層用塗布液の塗
布条件を調整して、ガラス基板表面からの厚みが４．０
μｍの平坦化層を形成した後、当該遮光層および平坦化
層を研磨機で研磨して、上記両層の、ガラス基板表面か
らの厚みを１．０μｍ、平坦化層の、遮光層の表面から
の厚みを０μｍとしたこと以外は、実施例１と同様にし
てカラーフィルターを得た。比較例１遮光層および平坦化層を形成せず、ガラス基板の表面
に、直接に、着色層を形成したこと以外は、実施例１と
同様にしてカラーフィルターを得た。比較例２平坦化層を形成せず、遮光層が形成されたガラス基板の
表面に、直接に、着色層を形成したこと以外は、実施例
１と同様にしてカラーフィルターを得た。参考例１厚み０．０８μｍのクロム蒸着膜をフォトリソグラフィ
ー技術によってパターン化して遮光層を形成し、その表
面に直接に、着色層を形成したこと以外は、実施例１と
同様にしてカラーフィルターを得た。

【００３５】上記各実施例、比較例、参考例のカラーフ
ィルターについて、以下の各試験を行った。表面粗さ測定東京精密（株）製の粗さ計（ＳＵＲＦＣＯＭ）を使用
し、測定条件はＣＵＴＯＦＦ：０．８ｍｍとして、各実
施例、比較例、参考例のカラーフィルターの、着色層表
面の１０点平均粗さＲｚ（μｍ）を測定した。遮光性試験各実施例、比較例、参考例のカラーフィルターをガラス
基材側から斜めに見た際に、隣接する画素からどの程度
の色が滲むかを観察し、下記の４段階で遮光性を評価し
た。

【００３６】◎：滲み全くなし。 ○：滲みほとんどなし。 △：滲み僅かにあるが、実用上差し支えない程度。 ×：滲み多く実用的でない。以上の結果を、各実施例における、平坦化層の、遮光層
の表面からの厚み、すなわち遮光層と着色層との間の平
坦化層の厚みｄ（μｍ）の値とともに表１に示す。

【００３７】

【表１】

【００３８】表１より、遮光層および平坦化層を形成せ
ず、ガラス基板の表面に、直接に、着色層を形成した比
較例１のカラーフィルターは、着色層表面の平坦性にす
ぐれるものの、隣接する画素からの滲みが多く、遮光性
の点で実用的でないことがわかった。また平坦化層を形
成せず、遮光層が形成されたガラス基板の表面に、直接
に、着色層を形成した比較例２のカラーフィルターは、
隣接する画素からの滲みが全くなく、遮光性にすぐれる
ものの、着色層表面の平坦性がわるく、やはり実用的で
ないことがわかった。

【００３９】これに対し、各実施例のカラーフィルター
はいずれも、着色層表面の平坦性にすぐれるとともに、
隣接する画素からの滲みが全くなく、遮光性にもすぐれ
ており、遮光層をクロム蒸着膜から形成した参考例１と
同程度の実用性があることがわかった。また各実施例を
比較すると、遮光層と着色層との間の平坦化層の厚みｄ
が小さいほど、遮光性が向上することがわかった。

【００４０】

【発明の効果】以上、詳述したようにこの発明によれ
ば、遮光層による凹凸を、平坦化層によって平坦化した
上に、着色層を形成するので、印刷インキからなる遮光
層を備え、しかも着色層表面の平坦性にすぐれたカラー
フィルターが得られる。またこの発明の製造方法によれ
ば、遮光層をパターン形成した透明基材の表面の全面
に、透明樹脂を含む塗布液を塗布し、硬化または乾燥固
化させるだけで、平坦化層を形成できるので、上記この
発明のカラーフィルターを簡単に製造することが可能と
なる。

【００４１】さらに上記製造方法において、硬化または
乾燥固化後、着色層形成前の平坦化層を研磨する場合に
は、着色層表面の平坦性をさらに向上できるとともに、
漏光と、それによる各画素間、ならびに各領域間で色の
滲みを防止できる。またとくに平坦化層を、遮光層に達
する厚みまで研磨する場合には、漏光と、それによる各
画素間、ならびに各領域間で色の滲みをより確実に防止
できるとともに、遮光層の厚みにばらつきがあっても、
それを均一に揃えることが可能となる。

【図面の簡単な説明】

【図１】同図(a) 〜(c) はいずれも、この発明にかかる
カラーフィルターの、一実施例の層構成を示す断面図で
ある。

【図２】同図(a)(b)は、この発明にかかるカラーフィル
ターにおける、平坦化層の厚みと、遮光性との関係を説
明する説明図である。

【図３】同図(a)(b)は従来のカラーフィルターの層構成
を示す断面図である。

【符号の説明】

１透明基材２遮光層３平坦化層４着色層

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】透明基材の表面に、当該表面を複数の領域
に仕切るようにパターン形成された遮光層と、この遮光
層による基材表面の凹凸を平坦化すべく、少なくとも遮
光層間の凹部を埋めるように形成された、透明樹脂から
なる平坦化層とを備えるとともに、上記平坦化層の表面
に、遮光層のパターンに合わせて、複数の着色層がパタ
ーン形成されていることを特徴とするカラーフィルタ
ー。
【請求項２】透明基材の表面に、当該表面を複数の領域
に仕切るように、遮光層をパターン形成し、次いで、こ
の透明基材の表面全面に、透明樹脂を含む塗布液を塗布
し、硬化または乾燥固化させることで、透明樹脂からな
る平坦化層を形成して、遮光層による基材表面の凹凸を
平坦化した後、上記平坦化層の表面に、遮光層のパター
ンに合わせて、複数の着色層をパターン形成することを
特徴とするカラーフィルターの製造方法。
【請求項３】硬化または乾燥固化後、着色層形成前の平
坦化層を、遮光層に達するまたは達しない厚みまで研磨
する工程を含んでいる、請求項２記載のカラーフィルタ
ーの製造方法。