JP3902335B2 - 感光性樹脂プレート及びその製造方法 - Google Patents
感光性樹脂プレート及びその製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP3902335B2 JP3902335B2 JP22091798A JP22091798A JP3902335B2 JP 3902335 B2 JP3902335 B2 JP 3902335B2 JP 22091798 A JP22091798 A JP 22091798A JP 22091798 A JP22091798 A JP 22091798A JP 3902335 B2 JP3902335 B2 JP 3902335B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- photosensitive resin
- pattern
- resin plate
- exposure
- plate according
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
- 239000011347 resin Substances 0.000 title claims description 37
- 229920005989 resin Polymers 0.000 title claims description 37
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 17
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 claims description 110
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 claims description 109
- RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N benzophenone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)C1=CC=CC=C1 RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 239000012965 benzophenone Substances 0.000 claims description 4
- 238000005530 etching Methods 0.000 claims description 4
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 238000007598 dipping method Methods 0.000 claims 1
- 239000010408 film Substances 0.000 description 27
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 21
- 238000007639 printing Methods 0.000 description 19
- 238000007711 solidification Methods 0.000 description 18
- 230000008023 solidification Effects 0.000 description 18
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 17
- 238000000034 method Methods 0.000 description 17
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 12
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 11
- 230000008569 process Effects 0.000 description 11
- 238000007774 anilox coating Methods 0.000 description 9
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 3
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000005062 Polybutadiene Substances 0.000 description 2
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 2
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 2
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 2
- 238000011161 development Methods 0.000 description 2
- 230000018109 developmental process Effects 0.000 description 2
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 2
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 2
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 2
- 229920000620 organic polymer Polymers 0.000 description 2
- 229920002857 polybutadiene Polymers 0.000 description 2
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 2
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 2
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 2
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 2
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 2
- 229910021642 ultra pure water Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000012498 ultrapure water Substances 0.000 description 2
- 229920006310 Asahi-Kasei Polymers 0.000 description 1
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 description 1
- 239000003638 chemical reducing agent Substances 0.000 description 1
- 239000012141 concentrate Substances 0.000 description 1
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000428 dust Substances 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000005401 electroluminescence Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 1
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 1
- 230000012447 hatching Effects 0.000 description 1
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004767 nitrides Chemical class 0.000 description 1
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 1
- 239000009719 polyimide resin Substances 0.000 description 1
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 1
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 description 1
- 230000004044 response Effects 0.000 description 1
- 239000006104 solid solution Substances 0.000 description 1
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 1
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 1
- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 description 1
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F25—REFRIGERATION OR COOLING; COMBINED HEATING AND REFRIGERATION SYSTEMS; HEAT PUMP SYSTEMS; MANUFACTURE OR STORAGE OF ICE; LIQUEFACTION SOLIDIFICATION OF GASES
- F25J—LIQUEFACTION, SOLIDIFICATION OR SEPARATION OF GASES OR GASEOUS OR LIQUEFIED GASEOUS MIXTURES BY PRESSURE AND COLD TREATMENT OR BY BRINGING THEM INTO THE SUPERCRITICAL STATE
- F25J1/00—Processes or apparatus for liquefying or solidifying gases or gaseous mixtures
- F25J1/02—Processes or apparatus for liquefying or solidifying gases or gaseous mixtures requiring the use of refrigeration, e.g. of helium or hydrogen ; Details and kind of the refrigeration system used; Integration with other units or processes; Controlling aspects of the process
- F25J1/0243—Start-up or control of the process; Details of the apparatus used; Details of the refrigerant compression system used
- F25J1/0257—Construction and layout of liquefaction equipments, e.g. valves, machines
- F25J1/0275—Construction and layout of liquefaction equipments, e.g. valves, machines adapted for special use of the liquefaction unit, e.g. portable or transportable devices
- F25J1/0276—Laboratory or other miniature devices
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F25—REFRIGERATION OR COOLING; COMBINED HEATING AND REFRIGERATION SYSTEMS; HEAT PUMP SYSTEMS; MANUFACTURE OR STORAGE OF ICE; LIQUEFACTION SOLIDIFICATION OF GASES
- F25J—LIQUEFACTION, SOLIDIFICATION OR SEPARATION OF GASES OR GASEOUS OR LIQUEFIED GASEOUS MIXTURES BY PRESSURE AND COLD TREATMENT OR BY BRINGING THEM INTO THE SUPERCRITICAL STATE
- F25J3/00—Processes or apparatus for separating the constituents of gaseous or liquefied gaseous mixtures involving the use of liquefaction or solidification
- F25J3/02—Processes or apparatus for separating the constituents of gaseous or liquefied gaseous mixtures involving the use of liquefaction or solidification by rectification, i.e. by continuous interchange of heat and material between a vapour stream and a liquid stream
- F25J3/0228—Processes or apparatus for separating the constituents of gaseous or liquefied gaseous mixtures involving the use of liquefaction or solidification by rectification, i.e. by continuous interchange of heat and material between a vapour stream and a liquid stream characterised by the separated product stream
- F25J3/028—Processes or apparatus for separating the constituents of gaseous or liquefied gaseous mixtures involving the use of liquefaction or solidification by rectification, i.e. by continuous interchange of heat and material between a vapour stream and a liquid stream characterised by the separated product stream separation of noble gases
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F25—REFRIGERATION OR COOLING; COMBINED HEATING AND REFRIGERATION SYSTEMS; HEAT PUMP SYSTEMS; MANUFACTURE OR STORAGE OF ICE; LIQUEFACTION SOLIDIFICATION OF GASES
- F25J—LIQUEFACTION, SOLIDIFICATION OR SEPARATION OF GASES OR GASEOUS OR LIQUEFIED GASEOUS MIXTURES BY PRESSURE AND COLD TREATMENT OR BY BRINGING THEM INTO THE SUPERCRITICAL STATE
- F25J3/00—Processes or apparatus for separating the constituents of gaseous or liquefied gaseous mixtures involving the use of liquefaction or solidification
- F25J3/06—Processes or apparatus for separating the constituents of gaseous or liquefied gaseous mixtures involving the use of liquefaction or solidification by partial condensation
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
- G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
- G02F1/1337—Surface-induced orientation of the liquid crystal molecules, e.g. by alignment layers
- G02F1/133711—Surface-induced orientation of the liquid crystal molecules, e.g. by alignment layers by organic films, e.g. polymeric films
- G02F1/133723—Polyimide, polyamide-imide
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Thermal Sciences (AREA)
- General Engineering & Computer Science (AREA)
- Nonlinear Science (AREA)
- Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Mathematical Physics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Clinical Laboratory Science (AREA)
- Liquid Crystal (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
Description
【発明の属する技術分野】
本発明はLCDパネル(panel)用ガラス(glass)上にポリイミド(polyimide)配向膜を印刷するため使用される感光性樹脂プレート(photosensitive resin plate)に係り、より詳細には、APRプレートを利用してガラス上にポリイミドパターンを印刷する場合パターンのエッジ部にポリイミドが固化することを防止するAPRプレート及びその製造方法に関するものである。
【0002】
【従来の技術】
最近高品位TV(high definition TV:HDTV)等の新しい尖端映像器機が開発されることによって、平板表示器に対する要求が拡大されている。LCDは平板表示器の代表的な技術でELD(electro luminescence display)、VFD(vacuum fluorescence display)、PDP(plasma display panel)等が解決できなかった カラー化、低電力及び高速化等を実現している。
【0003】
LCDは受動形と能動形の二つの形態がある。能動形LCDは各画素を薄膜トランジスタ(thin film transistor: TFT)のような能動素子が制御するようになっており、応答速度と視野角と色再現性及びコントラスト比(contrast ratio)において、能動形LCDより優れて100万画素以上の解像度を必要とするHDTVに好適な表示器で使用されているだけではなく、薄形、軽量、低消費電力等の長点によりノ−ト形コンピュータのモニタ等各種表示器に利用されている。
【0004】
このようにLCDは一般的な複数のデータライン(data line)及びゲートライン(gate line)が相互垂直交叉するように配置され、これらの交叉領域に各々接続されるように薄膜トランジスタと画素電極(共通電極)が形成される。また、その前面に保護膜(例えば、窒化膜)とITO材質の共通電極が順次的に形成されるTFT基板とブラックメトリックス(black matrix)とカラーフィルタ(color filter)が形成される。また、前面に保護層及びITO材質の共通電極が形成されているカラーフィルタ基板がTFT基板と対向するように配置されその間の数ミクロン空間に液晶が注入される。
【0005】
一方、TFT基板及びカラーフィルタ基板の共通電極上部には表面がラビング(rubbing)処理されたポリイミド(以下 “PI”と称する)材質の配向膜が500〜1000オングストロームの厚さで形成されて、TFT基板とカラーフィルタ基板の外側面に各各偏光板が付着される。この時、TFT基板及びカラーフィルタ基板上に液晶分子を一定方向に配列させるため有機高分子膜を塗布する工程を配向膜塗布工程と称する。一般的に、有機高分子膜としては配向の安定性と耐久性のためポリイミド樹脂が使用される。
【0006】
前記配向膜を形成する方式としては、スピンコ−ティング(spin coating)が利用されるが、その方式はパターンを形成した後に一定部分を蝕刻しなければならないため、現在は別の蝕刻工程がなく所望するパターンで直接印刷できるフレキソグラピ(flexography)方式を採用している。
【0007】
図8はフレキソグラピ方式のPI印刷装置を概略的に示す概念図である。
図示されるように、アニロックスロ−ル(anilox roll)2上には窒素ガスによりPI溶液貯蔵装置7から供給チューブを通してディスペンサー(dispenser)6から噴射されたPI溶液が落下されて保存される。アニロックスロ−ル2はクロム(chrome)またはクロム/ニケル鍍金材質からなり、ピラミット(pyramid)形態のセル(cell)が約20ミクロンの深さで形成されてPI溶液が収容できるようになっている。ドクタロ−ル(doctor roll)3はアニロックスロ−ル2とともに回転して、アニロックスロ−ル2表面にPI溶液が均一に維持されるようにする。
【0008】
一方、ポリブタジエン(polybutadiene)系樹脂、例えばASAHI KASEI感光性樹脂材質のプレート(以下“APRプレート”と称する)10は版胴1に付着されて印刷テーブル4上のガラス5と直接的に接触してPI溶液を転写させる。APRプレート10上には所定のパターン12、12’が形成されて、そのパターン12、12’は所定直径の網点(relief)が所定角度で規則的に配列されている。また、1平方インチ当り網点のライン数によって300mesh、400mesh及び500meshで分類されて、配列角度は15℃、75℃で分けられる。一方、網点間にはセルが陰刻されてPI溶液を収容できるようになっている。その深さは15〜20ミクロン程度である。
【0009】
このように構成されてディスペンサー6から回転しているドクタロ−ル3とアニロックスロ−ル2間にPI溶液が供給されると、ドクタロ−ル3がアニロックスロ−ル2を加圧する深さによりAPRプレート10に転写されるPI溶液の量が制御された後、版胴1に付着されたAPRプレート10のパターン12、12‘に供給される。供給されたPI溶液はパターン12、12’に形成された網点間に形成されたセルに収容される。
【0010】
一方、印刷テーブル4上に真空吸着されたガラス5は版胴1の回転とともに前進して、APRプレート10のパターン12、12’のセルからPI溶液の供給を受けてガラス5には配向膜が印刷される、その後、PI溶液が印刷されたガラスは60〜70℃のホットプレート(hot plate)に移送されて均一な厚でプリキュア(pre−cure)が完了される。
【0011】
【発明が解決しようとする課題】
しかし、従来のようにPI溶液をガラス上に連続的に印刷する場合、PIパターンエッジ部にポリイミド固形紛の固まりが形成される。この固まりは大きさが約100〜1,000ミクロンであり、高さは5ミクロン以上であり、PI溶液によって発生する形態及び発生頻度が相異である。
このようにPI固まりが固形化される現状(以下、“PI固形化”と称する)が発生することにより次のような問題点があった。
【0012】
1. 輸率が顕著に低下される。即ち、前記のように、PI固まりは高さが約5ミクロン以上でシーリングライン附(sealing ring)近に位置して、ホットプレス(hot press)後ニュートンリング(newton ring)が発生して、シーリングギャップ(sealing gap)の高さに不良が発生して、パネル表示品質の均一性を低下させる。また、ラーン進行中間歇的に発生するPI固形化は肉眼で検査しながら溶剤を除去して、この過程で粉塵が流入されて不良を発生させる。
2. 生産性が低下される。即ち、所定枚数を連続的にPI印刷した時にはAPRプレートを洗浄した後にPI印刷を継続進行しなければならないため生産性が低下される。例えば、550×650サイズの大形基板にPIを印刷する場合にはPI固形化が頻繁に発生して5ラーン(run)を進行した後ダミーガラス(dummy glass)を投入してAPRプレートを洗浄する必要があった。
3. 頻繁なラーン進行の中断は設備のインーライン無人自動化において障碍物で作用して、新規デバイス(Device)の材料を設計する時PI選択の幅が狭くて開発の限界があった。
【0013】
したがって、本発明はこのような問題点に着眼して案出されたもので、その目的は、連続的なPI印刷時にもPI固形化が発生しない感光性樹脂プレートを提供することにある。
【0014】
本発明の他の目的は、感光性樹脂プレートを製造する方法を提供することにある。
【0015】
【課題を解決するための手段】
前記の目的を達成するための本発明による感光性樹脂プレートには、感光性樹脂からなる本体の一側面にLCDパネルの有効画面領域に対応して第1硬度を持つ多数の網点が形成された少なくとも一以上のポリイミドパターン部と、LCDパネルの非有効画面領域に対応してポリイミドパターン部を囲むように形成された、第1硬度より高い第2硬度を持つ多数の網点が形成されたポリイミドパターンエッジ部とが形成される。
【0016】
好ましくは、前記パターン部及びパターンエッジ部に形成された網点は一定間隔で規則的に配列されて、前記パターン部の間には網点でなったダミーパターンが挿入される。
【0017】
本発明の感光性樹脂プレートを製造するためには、まず、感光性樹脂をバック露光して厚さの一部を硬化させて、網点パターンが形成されたフィルムを利用して前面露光を実施して前記厚さの他の部分を硬化した後蝕刻して、LCDパネルの有効領域及び非有効領域に対応するポリイミドパターン部及びパターンエッジ部に各各網点を形成して、ポリイミドパターン部だけをソフト露光して硬度を低くして、ポリイミドパターンエッジ部だけをハード露光して硬度を高める。
【0018】
一例で、ソフト露光のため40Wの紫外線ランプで1〜2分程度照射して、ハード露光のため40Wの紫外線ランプで10〜20分程度照射する。
【0019】
また、ソフト露光のためポリイミドパターン部に対応する部分に開口が形成されたシャドウマスク(shadow mask)が利用されて、ハード露光のためポリイミドパターン部に対応する大きさのシャドウマスクが利用される。
【0020】
好ましくは、網点を形成した後、感光性樹脂を水中露光して硬度が低い網点を硬化させる。
【0021】
好ましくは、網点を形成した後、感光性樹脂をベンゾフェノンにディピングして所定の粘度が得られる。
【0022】
【発明の実施の形態】
以下、添附図面を参照して本発明による感光性樹脂プレート及びその製造方法について詳細に説明する。
【0023】
説明において、ポリイミド(PI)パターン部はLCDパネルの有効画面領域と対応する部分として、多数個の網点が形成されてポリイミド溶液が印刷される部分を意味して、ポリイミドパターンエッジ部はLCDパネルの非有効画面領域と対応する部分として、ポリイミドパターン部を囲むように網点が形成された部分を意味する。
【0024】
現在まで確認されたPI固形化の発生メカニズムによると、連続的にPIを印刷する時PI溶液がAPRプレートのパターンエッジ部に集中し、時間の経過によってPI溶液内の溶媒が蒸発して、固形紛の固まりがエッジ部に累積されて粘度が漸進的に増加して一定瞬間にその固まりがガラスに転写されることに起因することが判明した。
【0025】
前記のような現状の原因については次の2つの解釈が可能である。
まず、APRプレート自体に対する側面で、APRプレートのパターンエッジ部が衝撃を受けてエッジ部ではアニロックスロ−ルからAPRプレートに転写されたPI溶液がガラスに転写されず残った状態でPI溶液の溶媒が増発されてPI溶液の固形紛だけが継続的にゲル(gel)状態で累積されPI印刷時にガラスに転写されてPI固形化が発生すると解釈である。
【0026】
一方、設備側面では、版胴に付着されているAPRプレートに気流が強く流入されることにより気流と直接的に接触するAPRプレートのパターンの特定部分にPI固形化が激しく発生するとの実験結果が観測された。
【0027】
したがって、PI固形化を除去するため連続的に印刷する場合、APRプレートのエッジ部が衝撃により破損されないようにAPRプレートを設計するか、APRプレートが乾燥になることを抑制するため設備内部に気流が流入されないように設備を調整した。例えば、APRプレートの設計においてはmeshの種類とmesh角度及びエッジ部のテーパー角度等を適切に組合して設計するかダミーパターンを具備するか否か等を考慮して設計した。
【0028】
また、設備の改善においては気流が版胴のAPRプレートに流入されないように印刷装置の全面にわたって静電アクリルカーバー(acrylic cover)を設置して特定部分のPI固形化を減少させた。
【0029】
しかし、このような方法でPI固形化を抑制することには実装工程上限界があった。即ち、APRプレートは前記のように、ポリブタジエン樹脂で50〜55の鼓舞硬度を持っており、製作過程でベンゾフェノン(benzophenone)の層減剤で表面処理を実施して粘性と硬度を維持する。実験によると、APRプレートは表面の硬度が低いほどアニロックスロ−ルから容易にPI溶液の転写を受けて、印刷時PI膜の均一性も優れる。反面、APRプレートは表面の硬度が高いと印刷時APRプレートのパターンのエッジ部が受ける衝撃が小さく、アニロックスロ−ルからPI溶液の転写を受けることが困難で相対的にPI固形化が発生しにくいがPI膜の均一性は不良である。
【0030】
したがって、本発明者は前記のような結果に基づいてLCDパネルで有効画面領域に対応しないPIパターンエッジ部、即ち、ブラックマトリックス領域は硬度を高めてPI固形化が根本的に発生しないようにして、有効画面領域に対応するパターン部は硬度を低くして均一なPI膜を形成するようにAPRプレートを製作した。
【0031】
以下、添附された図面を参照して本発明の好ましい実施例によるAPRプレートを製造する方法について説明する。この実施例では説明の便宜上APRプレート上に一つのPIパターン部を形成することに限定して説明するが、多数個のPIパターン部を形成することもできる。
【0032】
図1はAPRプレートを製作するためのバック露光工程図、図2はAPRプレートを製作するための前面露光工程図である。
図1を参照すると、露光装置の下部ガラス16上に網点パターンが形成されたネガチーブフィルム18を装着して、そのフィルム18上にAPR不飽和樹脂22を位置させて、また、その上にベースフィルム17を位置させた後、上部ガラス15で押す。この状態で上部ガラス15上に紫外線ランプ20を位置させてバック露光を実施してAPR不飽和樹脂22を硬化させる。この時、APR不飽和樹脂22は厚さ方向に全て硬化されず符号22aで表記した部分に該当する厚さ程度だけ硬化される。また、硬化が進行されながらベースフィルム17は硬化されたAPR不飽和樹脂22に付着される。図面符号22bで表示されたドットハッチング(dot hatching)部分は硬化されなかった部分である。
【0033】
次に、下部ガラス16上に紫外線ランプ20を位置させて前面露光を実施する。即ち、図2に図示されるように、網点パターンが形成されたネガチーブフィルム18をマスクとしてAPR不飽和樹脂22を紫外線ランプ20を利用して前面露光する。
【0034】
次に、界面活性剤を利用して蝕刻することにより網点23を形成して、超純水で未硬化された部分22bを洗浄する。
【0035】
次に、乾燥させてAPR不飽和樹脂22に付着された水分を蒸発させた後、Na2O3が溶解されている水中で露光を実施して硬度が低い網点23を硬化させる。網点が硬化された後、ベンゾフェノンにディッピングして所定の粘度を得る。以後、さらに超純水で洗浄して温風乾燥して最終露光を実施する。
【0036】
本発明によると、最終露光は2次にわたって実施して、前記のように、APR不飽和樹脂22でPIパターン部は硬度を低くして均一なPI膜を形成するようにして、PIパターンエッジ部は硬度を高めてPI固形化が根本的に発生しないようにする。
【0037】
図3は本発明によるソフト露光の工程図、図4は図3のソフト露光を概念的に示す斜視図である。
図3及び図4を参照して1次ソフト露光について説明する。実際には、PIパターンエッジ部31には網点が形成されているが、PIパターン部30との区分を明確にするためPIパターンエッジ部31には網点を図示しなかった。
【0038】
まず、APR不飽和樹脂22のPIパターン部30に対応する部分に開口が形成されたシャドウマスク25を利用してPIパターンエッジ部31を遮断した後、紫外線ランプ20で露光を実施する。好ましくは、露光は約40Wで1〜2分程度照射する。以上のような条件の1次ソフト露光によりPIパターン部30だけが露光されて硬度が低くなる。したがって、前記のようなPI印刷時にPI膜の均一性が向上される。
【0039】
一方、1次ソフト露光が完了された後には2次ハード露光を実施する。図5及び図6を参照して説明すると次のようである。
【0040】
図5は本発明によるハード露光の工程図、図6は図5のハード露光を概念的に示す斜視図である。
APR不飽和樹脂22のPIパターン部30と対応する大きさのシャドウマスク26を利用してPIパターン部30を遮断した後、紫外線ランプ20で露光を実施する。好ましくは、露光は約40Wで10〜20分程度照射する。このような条件の2次露光によりPIパターンエッジ部31だけが露光されて硬度が高くなる。したがって、前記のようなPI固形化が根本的に発生しないようになる。反面、印刷時にPI膜の均一性が不良であるがその部分は有効画面に対応する部分ではないためディスプレイ側面では問題にならない。
【0041】
図7は一つのAPRプレートに多数のPIパターン部が形成されたことを示す概念図である。
図7に図示されるように、APRプレート上に多数のPIパターン部を形成する場合、PIパターン部間に網点からなるダミーパターン35が挿入できる。これによって、PIパターン部を印刷する場合、反復印刷によりPIパターンエッジ部が崩壊されることが発生しない。
このように製造されたAPRプレートを利用して連続的にPI膜を印刷しても均一な膜が形成でき、PIパターンエッジ部で発生するPI固形化が根本的に除去される。
【0042】
以上、本発明による好ましい実施形態について詳細に記述したが、本発明が属する技術分野において通常の知識を持つ者であれば、添附された請求範囲に定義された本発明の精神及び範囲を離脱しなく本発明を多様に変形または変更して実施できる。
【0043】
【発明の効果】
以上のように本発明によると、LCDパネルの非有効画面領域に対応するPIパターンエッジ部は硬度を高めてPI固形化が根本的に発生しないようにして、画面を構成する有効画面領域は硬度を低くして均一なPI膜を形成するようにAPRプレートを製作することにより、連続的にPI膜を印刷しても均一な膜が形成でき、PIパターンエッジ部で発生するPI固形化が根本的に除去される利点がある。
【図面の簡単な説明】
【図1】 APRプレートを製作するためのバック露光工程図である。
【図2】 APRプレートを製作するための前面露光工程図である。
【図3】 本発明によるソフト露光の工程図である。
【図4】 図3のソフト露光を概念的に示す斜視図である。
【図5】 本発明によるハード露光の工程図ある。
【図6】 図5のハード露光を概念的に示す斜視図である。
【図7】 一つのAPRプレートに多数のPIパターン部が形成されたことを示す概念図である。
【図8】 フレキソグラピ方式のPI印刷装置を概略的に示す概念図である。
【符号の説明】
15 上部ガラス
16 下部ガラス
17 ベースフィルム
18 ネガチーブフィルム
20 紫外線ランプ
22 APR不飽和樹脂
23 網点
25,26 シャドウマスク
30 PIパターン部
31 PIパターンエッジ部
Claims (10)
- 感光性樹脂からなる本体と、
前記本体の一側面にLCDパネルの有効画面領域に対応して形成されて、第1硬度を持つ多数の網点が形成された少なくとも一つ以上のポリイミドパターン部と、
前記各ポリイミドパターン部を囲むように形成され、前記LCDパネルの非有効画面領域に対応して、前記第1硬度より高い第2硬度を持つ多数の網点が形成されたポリイミドパターンエッジ部とを具備することを特徴とする感光性樹脂プレート。 - 前記パターン部及びパターンエッジ部に形成された網点は、一定な間隔で規則的に配列されることを特徴とする請求項1記載の感光性樹脂プレート。
- 前記パターン部間には網点が形成されたダミーパターンが挿入されることを特徴とする請求項2記載の感光性樹脂プレート。
- 感光性樹脂をバック露光して、その厚さ方向の一部を硬化させる段階と、
網点パターンが形成されたフィルムを利用して前面露光を行い、前記厚さ方向の残りの部分を硬化した後、これを蝕刻してLCDパネルの有効領域及び非有効領域に対応するポリイミドパターン部及びパターンエッジ部に各各網点を形成する段階と、
前記ポリイミドパターン部だけをソフト露光して相対的に低い硬度を有するようにする段階と、
前記ポリイミドパターンエッジ部のみをハード露光して相対的に高い硬度を有するようにする段階とを含むことを特徴とする感光性樹脂プレートの製造方法。 - 前記ソフト露光のため40Wの紫外線ランプで1〜2分程度照射することを特徴とする請求項4記載の感光性樹脂プレートの製造方法。
- 前記ソフト露光のため前記パターンエッジ部を覆うシャドウマスクを利用することを特徴とする請求項5記載の感光性樹脂プレートの製造方法。
- 前記ハード露光のため40Wの紫外線ランプで10〜20分程度照射することを特徴とする請求項4記載の感光性樹脂プレートの製造方法。
- 前記ハード露光のため前記ポリイミドパターン部に対応する部分を覆うシャドウマスクを用いることを特徴とする請求項7記載の感光性樹脂プレートの製造方法。
- 前記網点を形成した後、前記感光性樹脂を水中露光して硬度が低い前記網点を硬化させる段階をさらに含むことを特徴とする請求項4記載の感光性樹脂プレートの製造方法。
- 前記網点を形成した後、前記感光性樹脂をベンゾフェノンにディッピングして所定の粘度を得る段階をさらに含むことを特徴とする請求項4記載の感光性樹脂プレートの製造方法。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR19981598 | 1998-01-20 | ||
KR1019980001598A KR100251277B1 (ko) | 1998-01-20 | 1998-01-20 | 액정표시장치 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH11231325A JPH11231325A (ja) | 1999-08-27 |
JP3902335B2 true JP3902335B2 (ja) | 2007-04-04 |
Family
ID=19531837
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP22091798A Expired - Fee Related JP3902335B2 (ja) | 1998-01-20 | 1998-08-04 | 感光性樹脂プレート及びその製造方法 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (3) | US6169592B1 (ja) |
JP (1) | JP3902335B2 (ja) |
KR (1) | KR100251277B1 (ja) |
TW (1) | TW505826B (ja) |
Families Citing this family (15)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
GB9811783D0 (en) * | 1998-06-03 | 1998-07-29 | Sharp Kk | Liquid crystal device manufacturing methods |
JP2000330096A (ja) * | 1999-05-25 | 2000-11-30 | Nec Corp | 液晶表示装置およびその組立方法 |
KR100612994B1 (ko) * | 2000-05-12 | 2006-08-14 | 삼성전자주식회사 | 액정 표시 장치 및 그에 사용되는 기판 |
TWI281582B (en) * | 2001-01-20 | 2007-05-21 | Ind Tech Res Inst | Silicon wafer liquid crystal display and its fabrication method |
KR100407069B1 (ko) * | 2001-04-24 | 2003-11-28 | 아이티엠 주식회사 | 기판상에 미세 돌출 구조물을 형성하는 방법 |
KR20030033874A (ko) * | 2001-10-25 | 2003-05-01 | 엘지.필립스 엘시디 주식회사 | 배향막 인쇄장치와 그를 이용한 인쇄방법 |
GB0206227D0 (en) * | 2002-03-16 | 2002-05-01 | Weatherford Lamb | Bore-lining and drilling |
US7385651B2 (en) * | 2002-12-26 | 2008-06-10 | Lg Display Co., Ltd. | Array substrate for liquid crystal display device and method of manufacturing the same |
KR20040062016A (ko) * | 2002-12-31 | 2004-07-07 | 엘지.필립스 엘시디 주식회사 | 배향막 형성 방법 |
KR20050118445A (ko) * | 2004-06-14 | 2005-12-19 | 비오이 하이디스 테크놀로지 주식회사 | 액정 표시 장치용 러빙 장치 |
TWI430415B (zh) * | 2009-12-01 | 2014-03-11 | Xintec Inc | 晶片封裝體及其製造方法 |
KR101663595B1 (ko) | 2013-01-16 | 2016-10-17 | 삼성디스플레이 주식회사 | 액정 표시 장치 및 그 제조 방법 |
CN104317110B (zh) * | 2014-11-21 | 2017-06-30 | 合肥京东方光电科技有限公司 | 一种转印版 |
CN104849914B (zh) * | 2015-05-26 | 2017-12-01 | 京东方科技集团股份有限公司 | 一种转印版 |
CN105652597B (zh) * | 2016-04-12 | 2022-09-02 | 京东方科技集团股份有限公司 | 一种apr版的制作方法 |
Family Cites Families (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4177074A (en) * | 1978-01-25 | 1979-12-04 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Butadiene/acrylonitrile photosensitive, elastomeric polymer compositions for flexographic printing plates |
US4517278A (en) * | 1981-01-13 | 1985-05-14 | Nippon Paint Co., Ltd. | Flexographic printing plates and process for making the same |
US4963448A (en) * | 1987-08-31 | 1990-10-16 | Agency Of Industrial Science & Technology | Photorecording element and liquid crystal cell comprising the same |
JPH03192359A (ja) | 1989-12-22 | 1991-08-22 | Nippon Zeon Co Ltd | 感光性フレキソ版材 |
JPH0475026A (ja) | 1990-07-18 | 1992-03-10 | Canon Inc | 強誘電性液晶表示素子およびその製造方法 |
US5143819A (en) * | 1991-01-25 | 1992-09-01 | W. R. Grace & Co.-Conn. | Aqueous developing, photocurable composition, photosensitive articles having layers made therefrom and method of improving those articles |
JP3067362B2 (ja) * | 1991-12-19 | 2000-07-17 | ソニー株式会社 | 液晶パネルの製造方法 |
JP3317637B2 (ja) * | 1996-07-30 | 2002-08-26 | シャープ株式会社 | 液晶表示装置用基板およびその製造方法並びにそれを用いた液晶表示装置 |
-
1998
- 1998-01-20 KR KR1019980001598A patent/KR100251277B1/ko not_active IP Right Cessation
- 1998-06-10 TW TW087109238A patent/TW505826B/zh not_active IP Right Cessation
- 1998-08-04 JP JP22091798A patent/JP3902335B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 1998-12-15 US US09/212,040 patent/US6169592B1/en not_active Expired - Lifetime
-
2000
- 2000-11-02 US US09/705,075 patent/US6249331B1/en not_active Expired - Lifetime
-
2001
- 2001-05-02 US US09/847,477 patent/US6323925B1/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US6249331B1 (en) | 2001-06-19 |
US6323925B1 (en) | 2001-11-27 |
TW505826B (en) | 2002-10-11 |
KR19990066017A (ko) | 1999-08-16 |
JPH11231325A (ja) | 1999-08-27 |
US6169592B1 (en) | 2001-01-02 |
KR100251277B1 (ko) | 2000-04-15 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP3902335B2 (ja) | 感光性樹脂プレート及びその製造方法 | |
US7361285B2 (en) | Method for fabricating cliche and method for forming pattern using the same | |
US7243599B2 (en) | Method of fabricating color filter in display device | |
US7216584B2 (en) | Method of forming alignment layer for liquid crystal display device | |
US7276445B2 (en) | Method for forming pattern using printing method | |
US6940578B2 (en) | Method for fabricating liquid crystal display device | |
US8763530B2 (en) | Ink for black matrix and method of manufacturing substrate using the same | |
US8186271B2 (en) | Method for manufacturing printing plate | |
US20060268205A1 (en) | Color filter substrate having a panel identification and manufacturing method thereof | |
JP2014119674A (ja) | 配向膜印刷版および液晶表示装置の製造方法 | |
US6788378B2 (en) | Method for forming spacer of liquid crystal display panel | |
JPH0735920A (ja) | 基板上に枠部の機能性塗膜等を形成する方法 | |
US7169517B2 (en) | Method of fabricating a color filter in liquid crystal display device without using a photo mask | |
JPH08262425A (ja) | カラーフィルターおよびその製造方法 | |
JP2001249342A (ja) | スペーサービーズの位置ぎめ方法と液晶表示装置 | |
KR100412126B1 (ko) | 액정표시소자의 지주 스페이서 형성방법 | |
KR100585871B1 (ko) | 인쇄방식에 의한 패턴형성방법 | |
KR101023724B1 (ko) | 액정표시장치용 배향막 인쇄장치의 수지 플레이트 및 이의제조방법 | |
KR100990312B1 (ko) | 액정표시소자의 스페이서 형성방법 | |
KR100972486B1 (ko) | 액정표시소자의 제조방법 | |
JP3058382B2 (ja) | 配向膜溶液転写版 | |
JP2000029070A (ja) | 薄膜トランジスタアレイ基板とその製造方法および液晶表示装置 | |
KR20040053667A (ko) | 액정표시장치의 컬러필터 기판 및 이의 제작방법 | |
JPH0784116A (ja) | 機能性塗膜を形成する方法 | |
JPH0743515A (ja) | 窓部の塗膜と枠部の塗膜を形成する方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20060111 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20060711 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20060928 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20061219 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20061228 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110112 Year of fee payment: 4 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110112 Year of fee payment: 4 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120112 Year of fee payment: 5 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130112 Year of fee payment: 6 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130112 Year of fee payment: 6 |
|
S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313111 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140112 Year of fee payment: 7 |
|
R371 | Transfer withdrawn |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R371 |
|
S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313111 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |