CN105652597B - 一种apr版的制作方法 - Google Patents

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Abstract

本发明涉及液晶显示屏制造领域，公开了一种APR版的制作方法及APR版。该APR版的制作方法为，在APR版沉底上涂覆感光性树脂材料前，先在APR版沉底上制作以矩阵方式排列的微球。该APR版包括APR版沉底层、以及感光性树脂材料层，感光性树脂材料层上设有若干用于载入聚酰亚胺溶液的微槽，微槽呈矩阵方式排列。本发明提供的一种APR版的制作方法及APR版，在APR版沉底上涂覆感光性树脂材料前，先在APR版沉底上制作以矩阵方式排列的微球，使APR版的图形存在一定的粗糙度，从而有效提升APR版的载液量，使过孔得到有效的PI液涂覆，解决全高清的液晶显示屏产品因PI液不能涂覆进入过孔内，引起的小黑点不良的问题。

Description

一种APR版的制作方法
技术领域
本发明涉及液晶显示屏制造领域，特别是涉及一种APR版的制作方法及APR版。
背景技术
在薄膜晶体管液晶显示器(英文名称：Thin Film Transistor-Liquid CrystalDisplay，缩写：TFT-LCD)的显示单元制作过程中，需要涂覆PI，即聚酰亚胺，其固体含量一般为4～10％。由于TFT-LCD使用的PI导向膜固含成份在原液中是小分子化合物，因此会在高温下产生聚合反应，并形成带很多支链的长链大分子固体聚合物聚酰胺。聚合物分子中支链与主链的夹角便构成导向层预倾角。由于该聚合物的支链基团与液晶分子之间的作用力比较强，因此对液晶分子有锚定的作用，可以使液晶按预倾角方向排列。
随着液晶显示屏产品分辨率越来越高，尤其是采用将触摸面板功能嵌入到液晶像素中的方法制成的产品的耦合越来越高，因此，增加膜层厚度、减少产品的耦合消影的需求日益提高。而一旦膜层的厚度增加，则会使过孔深度加深，从而导致对产品PI液的涂覆要求越来越高。
目前，传统的日本旭化成开发的感光性树脂(英文名称：AsahikaseiPhotosensitive Resin，缩写：APR)版的PI涂覆方法为，先将PI滴注在转印版上，再由转印版转印到玻璃基板表面。由于APR版设计的限制，PI的涂覆厚度最高只能达到
Figure BDA0000963246540000011
而这种PI涂覆厚度较薄的产品，往往PI液无法进入到过孔内，从而使产品产生众多不良，限制了产线良率的提升，尤其是对高生产价格指数(英文名称：Producer Price Index，缩写：PPI)的产品而言，易引起的小黑点不良的问题。
发明内容
(一)要解决的技术问题
本发明的目的是提供一种APR版的制作方法及APR版，在APR版沉底上涂覆感光性树脂材料前，先在APR版沉底上制作以矩阵方式排列的微球，使APR版的图形存在一定的粗糙度，从而有效提升APR版的载液量，使过孔得到有效的PI液涂覆，解决全高清的液晶显示屏产品因PI液不能涂覆进入过孔内，引起的小黑点不良的问题。
(二)技术方案
为了解决上述技术问题，本发明提供一种APR版的制作方法及APR版。
一种APR版的制作方法，在APR版沉底上涂覆感光性树脂材料前，先在所述APR版沉底上制作以矩阵方式排列的微球。
进一步的，包括如下步骤：
A1、在所述APR版沉底上，制作以矩阵方式排列的所述微球；
A2、在所述微球上涂覆感光性树脂材料，并形成APR版半成品；
A3、去除所述APR版半成品上的所述微球，制作成APR版成品。
进一步的，前述步骤A2中，所述微球上涂覆的所述感光性树脂材料的高度为所述微球的高度的一半。
进一步的，前述步骤A3中，去除所述微球的方法包括超声方式或者溶解方式。
进一步的，包括如下步骤：
B1、在所述APR版沉底上，制作以矩阵方式排列的所述微球；
B2、去除所述APR版沉底上的所述微球，并使所述APR版沉底表面上产生微球的残模；
B3、在带有所述微球的残模的所述APR版沉底上制作以矩阵方式排列的无机膜，所述无机膜与所述微球的残模一一对应；
B4、在各个所述无机膜之间的间隙中填充感光性树脂材料，并制作成APR版半成品；
B5、采用酸碱溶液溶解所述APR版半成品上的所述无机膜，并制作成APR版成品。
进一步的，前述步骤B2中，所述微球的残模的形状为圆弧形曲面。
进一步的，前述步骤B2中，所述微球的去除方法包括超声方式。
进一步的，前述步骤B3中，所述无机膜的材质为ZnO。
进一步的，前述无机膜的形状为正六棱柱。
进一步的，前述步骤B4中，填充的所述感光性树脂材料的高度与所述无机膜的高度相同。
进一步的，前述步骤B5中，所述酸碱溶液包括酸、浓氢氧化碱溶液、氨水或者铵盐溶液。
进一步的，前述微球包括二氧化硅微球或者聚苯乙烯微球。
进一步的，前述二氧化硅微球和聚苯乙烯微球分别为纳米级微球。
进一步的，前述聚苯乙烯微球的制作方法为：采用十二烷基硫酸钠为乳化剂、过硫酸盐为引发剂、苯乙烯为单体，在低水油比的条件下，采用乳液聚合方法合成聚苯乙烯微球。
进一步的，前述二氧化硅微球的制作方法为：采用正硅酸乙酰为原料、乙醇为介质、氨水为催化剂，采用溶胶凝胶方法将正硅酸乙酰水解并凝聚成二氧化硅微球。
一种APR版，包括APR版沉底层、以及设置于所述APR版沉底层上表面的感光性树脂材料层，所述感光性树脂材料层上设有若干用于载入聚酰亚胺溶液的微槽，所述微槽呈矩阵方式排列。
进一步的，前述微槽为半球形凹槽。
进一步的，前述微槽的截面形状为正六边形，且所述微槽的底面为圆弧形曲面。
进一步的，前述微槽的底面为非光滑底面。
(三)有益效果
本发明提供的
本实施例提供的一种APR版的制作方法，在APR版沉底上涂覆感光性树脂材料前，先在所述APR版沉底上制作以矩阵方式排列的微球，使制作完成后的APR版表面上设有底面与微球表面相对应的微槽。该方法简单、容易操作，且由于微球的表面非光滑，使APR版图形存在一定的粗糙度，因此，可以有效提升APR版的载液量，使过孔得到有效的PI液涂覆，解决全高清的液晶显示屏产品因PI液不能涂覆进入过孔内，引起的小黑点不良的问题。
本实施例提供的一种APR版，包括APR版沉底层、以及设置于APR版沉底层上表面的感光性树脂材料层，感光性树脂材料层上设有若干用于载入聚酰亚胺溶液的微槽，微槽能够增加APR版的PI溶液的容载量，使过孔得到有效的PI溶液涂覆，解决液晶显示屏上小黑点等不良的问题。
附图说明
图1为本发明实施例一中APR版沉底和微球的结构示意图；
图2为本发明实施例一中APR版半成品的结构示意图；
图3为本发明实施例一中APR版成品的结构示意图；
图4为本发明实施例一中APR版成品的俯视图；
图5为本发明实施例二中APR版沉底和微球的结构示意图；
图6为本发明实施例二中APR版沉底和微球的残模的示意图；
图7为本发明实施例二中APR版沉底和无机膜的结构示意图；
图8为本发明实施例二中APR版沉底和无机膜的俯视图；
图9为本发明实施例二中APR版半成品的结构示意图；
图10为本发明实施例二中APR版成品的结构示意图；
图11为本发明实施例二中APR版成品的俯视图；
图12为本发明实施例三APR版的具体结构示意图；
图13为本发明实施例四APR版的具体结构示意图。
图中，1：APR版沉底；2：微球；3：感光性树脂材料；4：APR版半成品；5：微槽；6：APR版成品；7：微球的残模；8：无机膜；9：APR版沉底层；10：感光性树脂材料层。
具体实施方式
下面结合附图和实施例，对本发明的具体实施方式作进一步详细描述。以下实例用于说明本发明，但不用来限制本发明的范围。
实施例一
本实施例提供一种APR版的制作方法，其原理为：在APR版沉底1上涂覆感光性树脂材料3前，先在APR版沉底1上制作以矩阵方式排列的微球2，使制作好的APR版成品6上设有底面与微球2表面相对应的微槽5，从而增加APR版的PI溶液的容载量，使过孔得到有效的PI溶液涂覆，解决液晶显示屏上小黑点等不良的问题。
该制作方法具体包括如下步骤：
A1、在APR版沉底1上，制作以矩阵方式排列的微球2，使APR版沉底1和微球2构成如图1中所示的结构；其中，由于二氧化硅材料及聚苯乙烯材料具备成本低、制作方法简单，且后期去除较容易的优点，因此本实施例中，微球2包括二氧化硅微球2或者聚苯乙烯微球2。且需要说明的是，二氧化硅微球2和聚苯乙烯微球2分别为纳米级微球2，因为纳米级微球2的体积很小，因此不会影响APR版的功能以及正常使用。
针对聚苯乙烯微球2，其制作方法为：采用十二烷基硫酸钠为乳化剂、过硫酸盐为引发剂、苯乙烯为单体，在低水油比的条件下，采用乳液聚合方法合成聚苯乙烯微球2。
针对二氧化硅微球2，其制作方法为：采用正硅酸乙酰为原料、乙醇为介质、氨水为催化剂，采用溶胶凝胶方法将正硅酸乙酰水解并凝聚成二氧化硅微球2。
可见上述的聚苯乙烯微球2、二氧化硅微球2的制作方法简单，原料成本较低，且由于其使用的原料的性质及本身材质的性质，导致后期去除较容易。
A2、在微球2上涂覆感光性树脂材料3，并形成如图2中所示的APR版半成品4；一般情况下，微球2上涂覆的感光性树脂材料3的高度不高于微球2的高度的一半，优选的，微球2上涂覆的感光性树脂材料3的高度为微球2的高度的一半，这种设计方式可以最大限制地增加APR版的厚度，并且在保证降低成型后的APR版表面损坏的情况下，轻易去除微球2。若降低微球2上涂覆的感光性树脂材料3的高度，则APR版的厚度相应减小；若增大微球2上涂覆的感光性树脂材料3的高度，则在去除微球2时，易使APR版表面表面损坏。
A3、去除APR版半成品4上的微球2，制作成如图3-4中所示的APR版成品6。去除所述微球2的方法包括超声方式或者溶解方式，可以保证不会引起APR版表面的损坏，并且高效的去除微球2。
如图3所示，此方法形成的APR版的开口率公式为V＝2/3πR3，该开口率即半球形的面积，而传统方法形成的APR版的开口率公式为：V＝1/3πR2H，该方法形成的APR版的开口形状为类圆锥形，因此，根据对比可知，本实施例形成的APR版的开口率相比传统方法形成的APR版提升了0.5倍。另外，由于微球2的表面非光滑，因此APR版图形存在一定的粗糙度，从而更能有效提升APR版的载液量，使过孔得到有效的PI液涂覆。
实施例二
本实施例提供一种APR版的制作方法，其原理为与实施例一相同，其区别为：本实施例提供的制作方法包括如下步骤：
B1、在APR版沉底1上，制作以矩阵方式排列的微球2，使APR版沉底1和微球2构成如图5中所示的结构；
B2、去除APR版沉底1上的微球2，并使APR版沉底1表面上产生微球的残模7，APR版沉底1和微球的残模7的结构如图6所示；其中，微球2的去除方法包括超声方式，可以在不会引起APR版表面损坏的情况下，高效的去除微球2。另外，微球的残模7的形状为圆弧形曲面，可以增大微球的残模7底面的面积及粗糙度，有效提升APR版的载液量。
B3、在带有微球的残模7的APR版沉底1上制作以矩阵方式排列的无机膜8，无机膜8与微球的残模7一一对应，无机膜8的结构如图7-8所示；本实施例中优选采用无机膜8的材质为ZnO，ZnO材料具有制造容易、成本低、易溶解、方便制造和去除等优点。需要说明的是，ZnO只是本实施例的一种优选方案，除了ZnO以外的其他无机材料，只要能够满足无机膜8的要求的，均可以应用。本实施例中，无机膜8的形状为正六棱柱，能够进一步地增大APR版的开口率，其中，正六棱柱只是一种举例说明，在实际应用中，也可以将无机膜8的截面形状制成方形、菱形等其他多边形。
B4、在各个无机膜8之间的间隙中填充感光性树脂材料3，并制作成如图9所示的APR版半成品4；填充的感光性树脂材料3的高度与无机膜8的高度相同，可以根据需要增大APR版的厚度，但填充的感光性树脂材料3的高度若超过无机膜8的高度，则感光性树脂材料3将会将无机膜8包裹，则无法实现增大APR版的开口率的效果，且此时APR版将会在内部产生若干空腔，影响APR版的的质量。
B5、采用酸碱溶液溶解APR版半成品4上的无机膜8，并制作成如图10-11所示的APR版成品6。其中，酸碱溶液包括酸、浓氢氧化碱溶液、氨水或者铵盐溶液，这些酸碱溶液成本低，且能在不会引起APR版表面损坏的情况下，高效的去除微球2。
本实施例提供的APR版的制作方法形成的APR版相比实施例一而言，可以进一步提高APR版的开口率，并且由于微球2的表面非光滑，因此APR版图形存在一定的粗糙度，从而有效提升APR版的载液量，使过孔得到有效的PI液涂覆。
实施例三
本实施例提供了一种APR版，如图12所示，包括APR版沉底层9、以及设置于APR版沉底层9上表面的感光性树脂材料层10，感光性树脂材料层10上设有若干用于载入聚酰亚胺溶液的微槽5，微槽5呈矩阵方式排列，由于微槽5能够增加APR版的PI溶液的容载量，使过孔得到有效的PI溶液涂覆，因此可以解决液晶显示屏上小黑点等不良的问题。
本实施例中，微槽5为半球形凹槽，可以增大开口率，本实施例APR版的开口率公式为V＝2/3πR3，该开口率即半球形的面积，而传统的APR版的开口率公式为：V＝1/3πR2H，传统的APR版的开口形状为类圆锥形，因此，根据对比可知，本实施例APR版的开口率相比传统的APR版版提升了0.5倍。
另外，微槽5的底面为非光滑底面，由于微槽5的底面非光滑，因此APR版图形存在一定的粗糙度，从而进一步提升APR版的载液量，使过孔得到有效的PI液涂覆。
实施例四
本实施例提供的一种APR版，其原理与实施例三的APR版相同，结构与实施例三的APR版相似，其区别仅在于：微槽5的截面形状为正六边形，且微槽5的底面为圆弧形曲面，该结构相对于实施例三的APR版而言，可以进一步的增大开口率，并且增加APR版的PI溶液的容载量。
需要说明的是，微槽5的截面形状为正六边形只是本实施例中的一种优选方案，在实际应用过程中，微槽5的截面形状也可以为方形、菱形等其他形状。
综上所述，本发明提供的APR版的制作方法及APR版，由于在 APR版沉底1上涂覆感光性树脂材料3前，先在APR版沉底1上制作以矩阵方式排列的微球2，致使APR版的图形存在一定的粗糙度，从而有效提升APR版的载液量，使过孔得到有效的PI液涂覆，解决全高清的液晶显示屏产品因PI液不能涂覆进入过孔内，引起的小黑点不良的问题。
以上所述仅为本发明的较佳实施例而已，并不用以限制本发明，凡在本发明的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本发明的保护范围之内。

Claims (11)

1.一种APR版的制作方法，其特征在于，在APR版沉底上涂覆感光性树脂材料前，先在所述APR版沉底上制作以矩阵方式排列的微球；
其中，所述制作方法包括如下步骤：
B1、在所述APR版沉底上，制作以矩阵方式排列的所述微球；
B2、去除所述APR版沉底上的所述微球，并使所述APR版沉底表面上产生微球的残模；
B3、在带有所述微球的残模的所述APR版沉底上制作以矩阵方式排列的无机膜，所述无机膜与所述微球的残模一一对应；
B4、在各个所述无机膜之间的间隙中填充感光性树脂材料，并制作成APR版半成品；
B5、采用酸碱溶液溶解所述APR版半成品上的所述无机膜，并制作成APR版成品。
2.如权利要求1所述的APR版的制作方法，其特征在于，所述步骤B2中，所述微球的残模的形状为圆弧形曲面。
3.如权利要求1所述的APR版的制作方法，其特征在于，所述步骤B2中，所述微球的去除方法包括超声方式。
4.如权利要求1所述的APR版的制作方法，其特征在于，所述步骤B3中，所述无机膜的材质为ZnO。
5.如权利要求4所述的APR版的制作方法，其特征在于，所述无机膜的形状为正六棱柱。
6.如权利要求1所述的APR版的制作方法，其特征在于，所述步骤B4中，填充的所述感光性树脂材料的高度与所述无机膜的高度相同。
7.如权利要求1所述的APR版的制作方法，其特征在于，所述步骤B5中，所述酸碱溶液包括酸、浓氢氧化碱溶液、氨水或者铵盐溶液。
8.如权利要求1-7中任一项所述的APR版的制作方法，其特征在于，所述微球包括二氧化硅微球或者聚苯乙烯微球。
9.如权利要求8所述的APR版的制作方法，其特征在于，所述二氧化硅微球和聚苯乙烯微球分别为纳米级微球。
10.如权利要求8所述的APR版的制作方法，其特征在于，所述聚苯乙烯微球的制作方法为：采用十二烷基硫酸钠为乳化剂、过硫酸盐为引发剂、苯乙烯为单体，在低水油比的条件下，采用乳液聚合方法合成聚苯乙烯微球。
11.如权利要求8所述的APR版的制作方法，其特征在于，所述二氧化硅微球的制作方法为：采用正硅酸乙酰为原料、乙醇为介质、氨水为催化剂，采用溶胶凝胶方法将正硅酸乙酰水解并凝聚成二氧化硅微球。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN107015438B (zh) * 2017-04-06 2023-03-10 信利半导体有限公司 一种apr版及其应用
CN107748480B (zh) * 2017-11-17 2020-08-04 武汉华星光电技术有限公司 一种apr版及一种apr版的制作方法

Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN101806732A (zh) * 2010-04-09 2010-08-18 中国科学院光电技术研究所 一种高灵敏度混合型表面等离子体检测传感器的制作方法
CN102097208A (zh) * 2009-12-09 2011-06-15 吉林师范大学 磁性多层膜纳米碗单层阵列的制备方法
CN102173376A (zh) * 2011-02-25 2011-09-07 复旦大学 高度有序的小尺寸硅基纳米坑阵列的制备方法
CN102320557A (zh) * 2011-09-08 2012-01-18 中国科学院研究生院 在基底上制备六角网络点阵分布的金属纳米颗粒的方法
CN102691102A (zh) * 2012-06-04 2012-09-26 中国科学院半导体研究所 蓝宝石纳米碗阵列图形衬底的制作方法
CN103529081A (zh) * 2013-10-21 2014-01-22 苏州大学 一种多层金属氧化物多孔薄膜纳米气敏材料的制备方法
CN103626119A (zh) * 2013-12-08 2014-03-12 中国科学院光电技术研究所 一种纳米金属球碗阵列结构的制备方法
CN104560029A (zh) * 2015-01-23 2015-04-29 华南理工大学 一种强紫外光致发光的ZnO有序纳米柱的制备方法

Family Cites Families (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS57192926A (en) * 1981-05-25 1982-11-27 Seiko Epson Corp Liquid crystal display device and its orientation processing method
KR100251277B1 (ko) * 1998-01-20 2000-04-15 윤종용 액정표시장치
JP2001201609A (ja) * 2000-01-19 2001-07-27 Nippon Sheet Glass Co Ltd 平板状マイクロレンズの製造方法及びこの方法で製造された平板状マイクロレンズ
US7297369B2 (en) * 2004-03-31 2007-11-20 Intel Corporation Process for micro-grooving a polymer alignment layer for a liquid crystal display
US20080037261A1 (en) * 2006-08-10 2008-02-14 Eastman Kodak Company Partially submerged bead monolayer
CN201886242U (zh) * 2010-09-26 2011-06-29 京东方科技集团股份有限公司 配向版
JP5873486B2 (ja) * 2011-05-13 2016-03-01 シャープ株式会社 光拡散部材およびその製造方法、表示装置およびその製造方法

Patent Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102097208A (zh) * 2009-12-09 2011-06-15 吉林师范大学 磁性多层膜纳米碗单层阵列的制备方法
CN101806732A (zh) * 2010-04-09 2010-08-18 中国科学院光电技术研究所 一种高灵敏度混合型表面等离子体检测传感器的制作方法
CN102173376A (zh) * 2011-02-25 2011-09-07 复旦大学 高度有序的小尺寸硅基纳米坑阵列的制备方法
CN102320557A (zh) * 2011-09-08 2012-01-18 中国科学院研究生院 在基底上制备六角网络点阵分布的金属纳米颗粒的方法
CN102691102A (zh) * 2012-06-04 2012-09-26 中国科学院半导体研究所 蓝宝石纳米碗阵列图形衬底的制作方法
CN103529081A (zh) * 2013-10-21 2014-01-22 苏州大学 一种多层金属氧化物多孔薄膜纳米气敏材料的制备方法
CN103626119A (zh) * 2013-12-08 2014-03-12 中国科学院光电技术研究所 一种纳米金属球碗阵列结构的制备方法
CN104560029A (zh) * 2015-01-23 2015-04-29 华南理工大学 一种强紫外光致发光的ZnO有序纳米柱的制备方法

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