CN102016650B - 防反射膜和显示装置 - Google Patents

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Abstract

本发明提供一种降低在显示装置表面上光的反射并且减低在显示装置内部反射的光的影响的防反射膜。本发明的防反射膜是在表面具有相邻顶点间的宽度在可见光波长以下的细微凹凸构造的防反射膜，是透过两个重叠的该防反射膜的光的透射散射强度分布的半值角在1.0°以上的防反射膜，优选防反射膜在表面一并具有相邻顶点间的宽度在1μm以上的散射凹凸构造，或者在内部包含散射体，上述散射体具有与防反射膜的主成分不同的折射率且具有1μm以上的粒径。

Description

防反射膜和显示装置
技术领域
本发明涉及防反射膜和显示装置。更为详细地，涉及降低光的反射率的防反射膜和在显示面具备该防反射膜的显示装置。 
背景技术
近几年，平板显示器(FPD：Flat Panel Display)技术在日新月异地发展着，具有FPD的大型等离子电视和液晶电视(LC-TV)正在普及。从这种应用于TV的情形可知，FPD多利用于一般家庭的居室等亮处，不仅在暗处而且在亮处也要求良好的视觉识别性。 
FPD一般是利用由玻璃制成的基板制作出的显示装置，具有如下问题：在亮处在显示装置的表面光发生反射，因此由于该反射光，图像变得难以识别。到目前为止的FPD都实施了作为降低表面反射的方法的低反射(LR：Low Reflection)处理和防眩(AG：Anti Glare)处理。LR处理是指例如在显示装置的表面涂敷折射率在1.5以下的树脂，并且将该树脂的厚度控制在光波长的1/4程度，由此使空气与树脂之间的界面上的反射和树脂与基板之间的界面上的反射以相反相位重叠并相互抵消，来降低反射率。 
然而，空气与树脂之间的界面上产生的反射和树脂与基板之间的界面上产生的反射通常各自的反射率是不同的，因此这种反射光并不会完全地抵消，作为防反射效果来说是不充分的。因此，仅进行LR处理的情况下会以一定的反射率来反射周围光，所以荧光灯等光源的像会映现在显示中，而变成特别难以识别的显示。因此，还需要进行在显示装置的表面形成凹凸的AG处理，进行使光发生散射由此来模糊化荧光灯等光源的像的处理。 
对此，近几年，作为利用与LR处理和AG处理不同的方法改善在亮处的视觉识别性的技术，能够不使用光干涉而获得超防反射效果的蛾眼(Moth-eye：蛾的眼睛)构造受到关注。蛾眼构造是在进行防反射处理的物品表面无间隙地排列比AG处理更细微的、光波 长以下(例如400nm以下)间隔的凹凸图案，由此使外界(空气)与膜表面之间的分界上的折射率的变化模拟地连续，能够与折射率界面无关地让几乎全部的光透过，使在该物品表面的光反射几乎为零(例如，参照专利文献1。)。 
作为在显示装置表面形成蛾眼构造的方法，可举出如下方法：首先制作具有细微凹凸图案的模具，在显示装置的表面形成了凹凸图案形成用的膜之后，对该膜表面按压模具而将模具的凹凸图案转印到膜表面(参照例如专利文献2、3、5～7。)。还可举出将金属膜作为掩模对膜表面进行蚀刻而形成凹凸图案的方法(参照例如专利文献4。)等。另外，作为形成模具的凹凸图案的方法，可举出进行阳极氧化和蚀刻的方法、电子束描绘法等。 
专利文献1：日本特表2001-517319号公报 
专利文献2：日本特开2004-205990号公报 
专利文献3：日本特开2004-287238号公报 
专利文献4：日本特开2001-272505号公报 
专利文献5：日本特开2002-286906号公报 
专利文献6：日本特开2003-43203号公报 
专利文献7：国际公开第2006/059686号小册子 
发明内容
发明要解决的问题
然而，在这些先行技术中，仅着眼于在显示装置表面的低反射处理，对于在显示装置内部反射的光的影响还未进行充分的研究。例如，在一般的LC-TV的情况下，以阵列基板和滤色器(CF)基板这一对基板与被该一对基板夹住的液晶层为中心构成显示装置，但是在该阵列基板中有时会配置有用于控制对液晶层施加的电压的薄膜晶体管(TFT：Thin Film Transistor)元件和用于对TFT元件供给电信号的配线。TFT元件和配线通常由金属构成，因此从显示装置表面入射、向显示装置内部行进的外光会被TFT元件和配线反射而射向显示装置表面。 
另外，在LC-TV内普遍配置有具有透光性的ITO(Indium TinOxide：铟锡氧化物)作为用于对液晶施加电压的电极，ITO的折射率是1.9～2.1，相对于玻璃、树脂、取向膜以及液晶分子的折射率为约1.5的情况，具有比较高的值。因此，由于ITO与其它部件之间的界面的折射率差，根据入射角的不同，光会在它们的界面上发生反射。在将CF基板配置在比阵列基板靠近观察者侧的情况下，由于滤色器和偏光板的影响，反射光强度被弱化了，但是TFT元件、配线、ITO等界面产生的反射率还会达到0.5～1.5％程度。在采用蛾眼构造作为对显示装置表面的低反射处理时的显示装置表面的反射率低到极低的0.15％，因此反射光映现的影响受来自显示装置内部的反射光支配。 
因此，即使在实施了AG处理的凹凸表面形成蛾眼构造使表面反射的像模糊化，也无法使显示装置内部的反射导致的光源的映现模糊化，因此视觉识别性仍然是低下的。在此，为了防止外光被TFT元件、配线等反射，也可以考虑在CF基板中配置黑矩阵，但是一般而言黑矩阵是以面板开口率优先进行设计，因此不会设计成覆盖全部的TFT元件和配线，另外，阵列基板和CF基板的贴合精度通常是±5μm程度，因此覆盖全部的TFT元件和配线实质上存在困难。 
本发明是鉴于上述现状而完成的，目的在于提供降低光在显示装置的表面的反射并且降低在显示装置内部反射的光的影响的防反射膜。 
用于解决问题的方案
本发明人对降低在显示装置内部反射的光的影响的方法进行各种研究过程中，着眼于降低光在显示装置表面的反射的防反射膜的构造。并且发现：通过对防反射膜赋予能使透过防反射膜的光具有一定散射性而射出的特性(下面也称为透射散射特性)，能够降低使在显示装置内部反射的光发生散射并映现的影响。另外，本发明人发现此时发生了散射的光的透射率的分布(下面也称为透射散射强度分布)具有角度依存性，并且发现当这种散射的光往返透过防反射膜2次时，示出其散射光透射率(透射光强度)的最大值的一半的散射角(下面，也将这种角度称为半值角)在1.0°以上时，能够使显示装置内部的反射光造成的像的映现模糊化来改善视觉识别性，想到能够很好地解决上述问题，进而有了本发明。
即，本发明提供一种显示装置，其在显示面具备防反射膜，上述防反射膜在表面具有：相邻顶点间的宽度为可见光波长以下的细微凹凸构造；以及相邻顶点间的宽度在1μm以上的散射凹凸构造，其特征在于，该散射凹凸构造每100μm2的凸部的个数在60个以上，透过两个重叠的上述防反射膜的光的透射散射强度分布的半值角在1.5°以上、2.8°以下，当利用微分干涉显微镜来计测时，散射凹凸构造的平均倾斜角是0.84°以上。 
下面详细说明本发明。 
本发明的防反射膜在表面具有相邻顶点间的宽度(间距)在可见光波长以下的细微凹凸构造(下面，也称为第一凹凸构造或者蛾眼构造)。在本说明书中，“可见光波长以下”是指作为一般的可见光波长段下限的400nm以下，更为优选在300nm以下，再优选在作为可见光波长段下限的1／2的200nm以下。当蛾眼构造的间距超过200nm时，有时会带有红波长700nm的颜色，通过将间距设为300nm以下，其影响被充分地抑制，通过将间距设为200nm以下，则完全不会受到影响。 
本发明的防反射膜薄薄地形成在例如基材平面上而使用。作为形成有防反射膜的基材，可举出例如配置在作为构成显示装置的最表面的构件的偏光板、丙烯酸保护板、偏光板表面的硬涂层、配置在偏光板表面的防眩层等。通过这样在显示装置的观察面侧配置本发明的防反射膜，能够使反射光造成的像的映现模糊化来使像不为人所注意。 
在本发明中，透过两个重叠的上述防反射膜的光的透射散射强度分布的半值角在1.0°以上。两个重叠的上述防反射膜是指重叠本发明的防反射膜而构成的样料(样品)，在实际中使用本发明时也可以不重叠使用防反射膜。本发明抑制一次穿过防反射膜后再次通过防反射膜的光所产生的像的映现，因此使用两个重叠的防反射膜来确定防反射膜的透射散射强度分布的半值角。 
当光穿过本发明的防反射膜后，穿过该防反射膜的光发生散射而出射。在本说明书中，散射角是指光由于穿过本发明的防反射膜而散射的部分的角度，通过从“光从防反射膜出射时的出射角”减去“光入射到防反射膜时的入射角”而算出。此外，本说明书的入射角和出射角是指该光行进方向与防反射膜(基材)平面的法线方向所成的角度。 
由于穿过防反射膜而发生散射的光的透射率由于散射角的不同而不同。本发明的散射光的透射率在散射角为0°时达到最大，随着散射角变大而变小。并且，当将散射角为0°时的透射率设为100时，如果散射光透射率当取其一半的值(透射率＝50)时的角度(半值角)为1.0°以上、优选1.5°以上，则即使光在显示装置内部发生反射，也能够对该反射光赋予充分的散射作用，由此能够使荧光灯、人脸等的像的映现充分地模糊化。 
作为本发明的防反射膜的结构，只要必须形成这些结构要素即可，包不包含其它结构要素均可，没有特别限定。例如，在本发明的防反射膜所具备的细微凹凸构造中，相邻顶点间的宽度(间距)在可见光波长以下是必须的，但是从顶点到底点的高度既可以在可见光波长以下，也可以在可见光波长以上。 
优选上述半值角在2.8°以下。如上所述通过将透射散射强度分布的半值角设为1.0°以上，对于来自面板内部的反射能够得到充分散射的效果，但是当半值角过大时整体平均亮度醒目，观察者会意识到更为强的平面性，有时会失去显示图像的立体感。与此相对，半值角在2.8°以下，由此能够进行观察者易于识别纵深感觉的显示。 
下面详细说明本发明的防反射膜的第一优选方式。 
优选上述防反射膜在表面一并具有相邻顶点间宽度在1μm以上的散射凹凸构造(下面也称为第二凹凸构造)。即本方式是在防反射膜的表面形成有顶点间宽度在可见光波长以下的周期小的凹凸构造(蛾眼构造)，并且形成有与该蛾眼构造分开的、顶点间宽度在可见光波长以上的周期大的凹凸构造的方式，通过采用这种两个等级的凹凸构造，能够提高透过防反射膜的光的透射散射特性，精密地调整透射散射强度分布的半值角。为了对防反射膜赋予有效的散射性，优选形成有具有相对于可见光波长充分大的周期的凹凸 面，作为用于得到这种效果的凹凸间距，设定成充分地覆盖作为一般的可见光波长的上限的750nm的1μm以上、优选4倍以上的3μm以上。此外，在采用1μm以上的情况下，相对于红(R)和蓝(B)的波长的相对长度会大不相同，但是通过将凹凸间距设为可见光的4倍以上，相对于红(R)和蓝(B)的波长的各自相对长度会与红(R)和蓝(B)相近，能够得到更为自然的颜色的显示，提高了显示质量。 
优选上述散射凹凸构造是每100μm2的凸部个数在60个以上。本说明书中的凸部是指形成在防反射膜表面的凹凸构造中的朝向外界侧延伸的顶端变细的构造部。当散射凹凸构造的凸部数目相对于像素过少时，会以像素为单位产生亮度的偏差，因此在暗处显示时有时会看到显示的闪烁，但是通过将每100μm2面积的凸部个数控制在60个以上，能够有效地抑制显示的闪烁。 
下面详细说明本发明的防反射膜的第二优选方式。 
优选上述防反射膜在内部包含散射体，上述散射体具有与防反射膜的主成分不同的折射率且具有1μm以上的粒径。对于防反射膜，通过使之含有具有与防反射膜的主成分不同的折射率且具有充分地覆盖作为可见光波长上限的750nm的微米级别(1μm以上)的粒径，能够提高透过防反射膜的光的透射散射特性，有效地调整透射散射强度分布的半值角。在此，作为本发明的防反射膜的主成分，可举出例如树脂。其中，使用光固化性树脂、热固化性树脂等在一定条件下具有固化性的树脂，在形成高精细的蛾眼构造方面是优选的。 
上述散射体只要以能够提高透过防反射膜的光的透射散射特性的方式配置即可，其存在形态没有特别限定，可举出例如在防反射膜的内部分散配置的方式。本方式的散射体的形状可以是球形、多面体形、不定形等，没有特别限定。本说明书的粒径是指散射体的粒子中的最大部分的直径。这种粒径能够使用例如光学显微镜来计测。 
优选上述散射体隔着1μm以上的距离不规则地存在。在防反射 膜中，隔着充分地覆盖作为可见光波长上限的750nm的微米级别(1μm以上)的距离且不规则(随机)地包含具有与防反射膜的主成分不同的折射率的上述散射体，由此能够更为提高透射散射特性，更为有效地调节透射散射强度分布的半值角。本说明书的“隔着1μm以上的距离”，是指各散射体中心间的距离拉开在1μm以上的距离，例如若是多面体形、不定形，则指其重心间的距离拉开在1μm以上的距离。 
上面，说明了本发明的防反射膜的第一优选方式和第二优选方式，但是能够根据需要适当地组合，通过组合这二者，能够更为提高散射透射特性，使调整透射散射强度的半值角更为有效。 
另外，本发明还是在显示面具备上述防反射膜的显示装置。作为本发明的显示装置，可举出阴极射线管(CRT：Cathode Ray Tube)显示装置、液晶显示(LCD：Liquid Crystal Display)装置、等离子显示装置(PDP：Plasma Display Panel)以及电致发光(EL：Electroluminescence)显示装置等。这样，在一般的在装置内部使用电极、配线等反射光的材料的显示装置中特别合适利用本发明，根据本发明的显示装置，对由显示面(朝向显示面板外侧的面)和显示装置内部所引起的任一种反射都能够得到优良的低反射效果。 
发明效果 
根据本发明的防反射膜，由于设定成透过在表面具有蛾眼构造且重叠两个的防反射膜的光的透射散射强度分布的半值角在1.0°以上，因此当设置在例如显示装置的表面上时，能够降低光在显示装置的表面的反射并且能够使在显示装置内部反射的光发生散射，模糊化由于这些反射光而导致光源等向显示画面的像的映现，能够提高显示质量。 
附图说明
图1是实施方式1的防反射膜的截面示意图。 
图2是实施方式1的防反射膜的蛾眼构造的立体图。(a)表示蛾眼构造的单位构造是圆锥状的情况，(b)是蛾眼构造的单位构造是 四棱锥状的情况。 
图3是表示蛾眼构造实现低反射的原理的示意图。(a)表示防反射膜的截面构造，(b)表示入射到防反射膜的光的折射率。 
图4是将实施方式1的防反射膜的散射凹凸构造放大了的立体图。 
图5是将阳极氧化多孔氧化铝放大了的立体图。 
图6是表示阳极氧化多孔氧化铝的制造流程的截面示意图，(a)～(g)表示各制造阶段。 
图7是表示分别将细孔形成量(深度方向)和蚀刻量(宽度方向)设为一定，进行多次上述步骤而形成的细孔的形状的截面示意图。(a)是在图上转印了细孔形状的图，(b)是细孔截面的立体图。 
图8是表示将模具的凹凸形状转印在膜上的工序的截面示意图。 
图9是为了制作实施例1的防反射膜而使用的模具表面的凹凸构造(蛾眼)的电子显微镜照片。(a)是正面图，(b)是立体图，(c)是截面图。 
图10是表示实施例1的防反射膜和比较例1的防反射膜的表面反射率的图。 
图11是表示当使用实施例1和比较例2的防反射膜时的荧光灯的映现程度的照片。 
图12是表示透过两个重叠的防反射膜的光的散射的样子的示意图。 
图13是由于位于防反射膜下的反射体而发生反射的光的散射的样子的示意图。 
图14是表示重叠两个防反射膜而形成的样品1的截面示意图。 
图15是表示重叠两个实施例1的防反射膜时和重叠两个比较例2的防反射膜时的各自的透射光强度的角度依存性的图。 
图16是表示具备实施例1的防反射膜的液晶显示装置的反射光强度的角度依存性的图。 
图17是透过由评价试验2制作出的样品3、样品4以及样品5的光 的透射光强度的角度依存性的图。 
图18是表示由评价试验2制作出的样品3、样品4以及样品5的各个样品的倾斜角分布(对倾斜角的占有率)的测定值的图。 
图19是表示亮度偏差相对显示个数的图。(a)是应用实施例1的防反射膜的液晶显示装置，(b)是应用比较例2的防反射膜的液晶显示装置。 
图20是表示形成在防反射膜表面的凹凸的平面示意图。 
图21是表示每单位面积的凸部的个数和亮度偏差(标准偏差)的图。 
图22是实施方式2的防反射膜的截面示意图。 
图23是表示当重叠两个实施例7的防反射膜时的透射光强度的角度依存性的图。 
图24是表示具备实施例7的防反射膜的液晶显示装置的反射光强度的角度依存性的图。 
图25是实施方式3的LCD的截面示意图，表示外光在LCD内发生反射的样子。 
附图标记说明：
10、184：防反射膜；11：表面层；12：基底层；13：第一凹凸构造、细微凹凸构造、蛾眼构造；14：第二凹凸构造、散射凹凸构造；21：凸部(蛾眼构造)；22：基底部；31：凸部(散射凹凸构造)；41：单元；42、63：细孔；43：阻障层；44、51、61：铝基板；52：多孔氧化铝层(第一次多孔氧化铝层)；53：多孔氧化铝层(第二次多孔氧化铝层)；62：多孔氧化铝层；71：基材膜辊；72：模具涂敷机；73、75、76、78：夹送辊；74：模具辊；77：层压膜辊；80：固化处理；81：基材膜；82：(涂敷后的)树脂膜；83：(具有凹凸的)树脂膜；84：层压膜；85：层叠膜辊；91：凸部(模具)；92：凹部(模具)；111、121、131：防反射膜；122：反射体；132：TAC膜；133：玻璃；141：单位面积；142：凸部(散射凹凸构造)；151：表面层；152：基底层；153：透明珠子；161：阵列基板；162：滤色器基板；163：液晶层；171：支撑基板(阵 列基板侧)；172：电极；173：半导体层；174：TFT；175：层间绝缘膜；176：像素电极；181：支撑基板(滤色器基板侧)；182：树脂层；183：对置电极；191：外光(在LCD表面发生反射的成分)；192：外光(向LCD内前进的成分)。 
具体实施方式
下面说明实施方式，参照附图更为详细地说明本发明，但是本发明不限定于这些实施方式。 
(实施方式1) 
图1是实施方式1的防反射膜的截面示意图。如图1所示，实施方式1的防反射膜10的表面，由形成有周期比可见光波长小的凹凸构造(第一凹凸构造：蛾眼构造)13和周期比可见光波长大的凹凸构造(第二凹凸构造：散射凹凸构造)14的两个等级的凹凸构造的表面层11和位于表面层11的下层的基底层12构成。蛾眼构造13是用于降低在防反射膜10表面的反射的凹凸构造，散射凹凸构造14是用于当重叠两个实施方式1的防反射膜10时将透过重叠有两个的防反射膜10的光的透射散射强度分布的半值角调整在1.0°以上的凹凸构造。即，实施方式1使用本发明的第一优选方式作为调整透射散射强度分布的半值角的方法。 
<第一凹凸构造(细微凹凸构造：蛾眼构造)> 
图2是实施方式1的防反射膜的蛾眼构造的立体图。(a)表示蛾眼构造的单位构造是圆锥状的情况，(b)是蛾眼构造的单位构造是四棱锥状的情况。如图2所示，实施方式1的防反射膜的蛾眼构造13也能够以周期比可见光波长小的重复单位并列配置多个微小的凸部21。在蛾眼构造13中，凸部21的顶峰部是顶点t，各凸部21相互相接的点是底点b。如图2所示，蛾眼构造13的相邻顶点间的宽度w由从凸部21的顶点t开始各自引垂线到同一平面上为止时的两点之间的距离示出。另外，从蛾眼构造的顶点开始到底点为止的高度h由从凸部21的顶点t开始到底点b存在的平面为止引垂线时的距离示出。 
在实施方式1的防反射膜中，蛾眼构造的相邻顶点间的宽度w在400nm以下，优选在300nm以下，更为优选在200nm以下。此外，在图2中，作为凸部21的单位构造，示出了圆锥和四棱锥，但是在实施方式1中，只要是形成有顶点和底点并且将宽度控制在上述数值范围内的凹凸构造即可，其单位构造没有特别限定。另外，上述宽度实质上整体被控制在这种数值范围内即可，有一部分未被控制在这些数值范围内的区域亦可。 
在此，说明实施方式1的防反射膜能够利用蛾眼构造实现低反射的原理。图3是表示蛾眼构造实现低反射的原理的示意图。(a)表示防反射膜的截面构造，(b)表示入射到防反射膜的光的折射率。如图3所示，实施方式1的防反射膜所具备的蛾眼构造13由凸部21和基底部22构成。当光从某一种介质进入到不同的介质中时，会在它们的介质界面中发生折射。折射程度由光进入的介质的折射率决定，例如若是空气则具有约1.0的折射率，若是树脂则具有约1.5的折射率。在实施方式1中，形成在防反射膜的表面的凹凸构造的单位构造是锥状的，即具有朝向顶端方向宽度慢慢变小的形状。因此，如图3所示，可以认为在位于空气层与防反射层之间的界面的凸部21(X-Y之间)，折射率从作为空气的折射率的约1.0连续地慢慢地变大到膜构成材料的折射率(若为树脂则为约1.5)。光所反射的量与介质间的折射率差成比例，因此，通过模拟使这种光折射界面几乎不存在，几乎全部的光都在防反射膜中穿过，在膜表面的反射率会大幅减少。 
<第二凹凸构造(散射凹凸构造)> 
图4是将实施方式1的防反射膜的散射凹凸构造放大了的立体图。如图4所示，实施方式1的防反射膜的散射凹凸构造也能够以周期比可见光波长大的重复单位并列配置多个微小的凸部31。在散射凹凸构造中，凸部31的顶端部是顶点T，各凸部31相互相接的点是底点B。如图4所示，散射凹凸构造的相邻顶点间的宽度W由从凸部31的顶点T开始各自引垂线到同一平面上为止时的两点之间的距离示出。 
在实施方式1的防反射膜中，散射凹凸构造的相邻顶点间的宽度W在1μm以上、优选在3μm以上，远大于蛾眼构造的相邻顶点间的宽度w。此外，在图4中，作为凸部的单位构造，图示出了坡度小的山型，但是在实施方式1中，只要是形成有顶点和底点且宽度被控制在上述数值范围内即可，其单位构造没有特别限定。另外，上述宽度实质上整体被控制在这种数值范围内即可，有一部分未被控制在这些数值范围内的区域亦可。这样，在防反射膜的表面形成周期比可见光波长大的散射凹凸构造，由此能够提高防反射膜的透射散射特性，能够容易且精密地调整上述透射散射强度分布的半值角。 
下面详细说明实施方式1的防反射膜的制造方法。在下面所示的制造方法中，首先制作用于在实施方式1的防反射膜上形成凹凸的模具，然后对涂敷在基材表面上的树脂膜表面按压该模具，将模具的凹凸形状转印(压印)到膜表面，与此同时对树脂膜给予规定的条件使转印到防反射膜表面的凹凸形状发生固化来形成规定的凹凸形状。 
<模具的制作> 
为了在模具的表面形成用于形成防反射膜的散射凹凸构造的凹凸形状，首先准备作为模具材料的铝(Al)基板，预先对其表面进行喷砂处理，形成可见光波长级别以上的凹凸。具体地，用加压空气喷吹无数的研磨粒子，用该研磨粒子除去粘合面的异物、有机质并且在Al表面形成无数的凹凸。作为研磨粒子，可举出氧化铝、碳化硅、钢铝石、金刚石、砂、石榴石、碳化硼、氧化铁、氧化铬、玻璃粉、焙烧白云石、无水硅酸等，例如将它们变成50～2000目的粒子并在空气压2～15kg/cm2的条件下进行喷射来形成凹凸。实施方式1的防反射膜的散射凹凸构造的大小能够利用用于喷砂处理的粒子的直径、粒子的硬度、喷砂处理的时间程度来进行调整，由此能够控制上述半值角的值。 
下面，在模具的表面形成用于形成防反射膜的蛾眼构造的凹凸形状。在此，通过对铝进行阳极氧化在模具的表面制作大范围的形 成有多个可见光波长级别以下的微小孔(细孔)的氧化铝(Al2O3)(下面也称为阳极氧化多孔氧化铝)。最终的阳极氧化多孔氧化铝所具有的凹凸的形状是截面为三角形，其形状由阶段性地重复利用铝的阳极氧化的细孔形成和阳极氧化膜的蚀刻来形成。 
下面详细说明阳极氧化多孔氧化铝的构造。图5是将阳极氧化多孔氧化铝层放大了的立体图。如上所述，阳极氧化多孔氧化铝是指对铝基材44进行阳极氧化而得到的多孔质性的氧化铝层，以如图5所示的被称为单元41的一定大小的圆柱状氧化铝层最密填充的构造示意性地示出。各单元41中央形成有细孔42，各细孔42的排列具有规则性。单元41是局部的保护膜溶解和成长的结果形成的，具体地，是在位于被称为阻障层43的细孔42的底部的层，保护膜的溶解和成长同时进行而形成的。细孔42彼此之间的间隔(单元大小)与阳极氧化时的化成电压的大小成比例，可举出是阻障层43的厚度的约2倍。另外，细孔42的直径依赖于化成液的种类、浓度、温度等条件，可举出单元大小的约1/3。 
在本实施方式中，阳极氧化多孔氧化铝的细孔在相对于基板面垂直的方向形成的现象受到注目，另外，当阳极氧化暂时停止后再以相同条件进行阳极氧化时，在前一过程中形成的细孔的底变成开始点，在其下方再次形成同样的细孔，利用所具有的该特征，将细孔的截面形状控制成三角形。根据利用阳极氧化的多孔质构造体的制造方法，能够大致最密填充状地形成纳米级别的圆柱状的细孔。当在硫酸、草酸、磷酸等酸性电解液或者碱性电解溶液中浸泡被加工物，将其作为阳极施加电压时，能够在被加工物的表面同时进行氧化和溶解，形成在其表面具有细微圆柱的细孔的氧化保护膜。该圆柱的细孔相对于氧化膜垂直取向，在化成电压、电解液的种类、温度等为一定条件下呈现自我组织的规则性，通过控制这些条件和时间，可自由地控制大小、形状、密度等。 
图6是表示阳极氧化多孔氧化铝层的制造流程的截面示意图，(a)～(g)表示各制造阶段。首先准备如(a)所示的铝基板51，在一定的阳极氧化条件下使氧化膜生长，形成如(b)所示的具有 规定深度的细孔排列的多孔氧化铝层(第一次多孔氧化铝层)52。此时，优选化成电压保持一定。化成电压的变动会降低细孔排列的规则性，因此阳极氧化基本上都在固定电压条件下进行。在初期阶段所生成的阳极氧化保护膜(第一次多孔氧化铝层)52具有细孔无序生成的倾向，如(c)所示，优选利用一定条件下的磷酸处理等来除去。其后，再次以相同的条件进行阳极氧化，形成具有细孔的多孔氧化铝层(第二次多孔氧化铝层)53，该细孔具有具备如(d)所示的规定深度的规则性。接着，如(e)所示，利用对细孔按照规定的量进行各向同性蚀刻处理来扩大孔径。此时如果利用湿工艺，就能大致均等地扩大细孔的壁和阻障层。下面，如(f)和(g)所示，多次重复进行通过阳极氧化形成的先前的细孔的底成为开始点的朝向基板方向的细孔形成和各向同性蚀刻处理，就能够制作所期望的凹凸形状。 
图7是表示分别将细孔形成量(深度方向)和蚀刻量(宽度方向)设为一定，多次进行上述步骤而形成的细孔的形状的截面示意图。(a)是在图上转印了细孔形状的图，(b)是细孔截面的立体图。如图7所示，在利用上述方法对铝基板61进行阳极氧化得到的多孔氧化铝层62上形成的细孔63的形状为大致圆锥体，另外通过增加步骤数目，能够更为严格地接近于圆锥体。实际上，当进行有限次数的重复处理时，作为凹凸构造的特征之一，在细孔的表面上形成有台阶(阶梯)形状。 
上面，说明对防反射膜形成蛾眼构造(第一凹凸构造)和散射凹凸构造(第二凹凸构造)的模具的制造方法，但是模具的制造方法不限于这些方法。就散射凹凸构造而言，除了进行利用如上所述喷砂的表面处理的方法之外，可举出化学蚀刻法等。另外，就蛾眼构造而言，除了进行上述阳极氧化和蚀刻的方法之外，可举出电子束描绘法、进行激光干涉曝光的方法等。 
此外，在模具的表面形成周期(重复单位)不同的两个等级的凹凸形状的情况下，优选如上述的制造方法所示，预先在阳极氧化处理之前进行喷砂处理。这样，在形成周期小的凹凸构造之前形成 周期大的凹凸构造，由此能够精密地形成在表面形成的蛾眼构造和散射凹凸构造中的任一个，能够得到质量高的防反射膜。另外，根据喷砂处理，随机地形成有间距大的凹凸，能够防止由于与表面反射光的干涉而产生的变色，并且使像模糊化。 
<转印工序> 
然后进入到将由上述工序制作出的模具的凹凸形状转印到涂敷在基材上的膜上的工序。在此，采用辊到辊方式，其对用传送带方式传送的膜按压转动的轴状模具，顺序地在膜表面转印凹凸形状。图8是表示将模具的凹凸形状转印在防反射膜上的工序的截面示意图。 
首先，转动基材膜辊71并且向图8中的箭头方向从基材膜辊71送出带状基材膜81。然后，利用模具涂敷机72对基材膜81涂敷树脂材料，形成树脂膜82。作为涂敷方法，可举出使用除此之外的狭缝涂敷机、凹版涂敷机等的方法。 
在本制造方法中，作为被涂敷的树脂材料，可以使用光固化性树脂、热固化性树脂等固化性树脂。作为光固化性树脂，例如除了吸收光而引发聚合的单体之外，还可以举出如下单体：其单独时即使吸收了光也不引发聚合，但是被添加了光聚合引发剂，该光聚合引发剂吸收光而变成活性种来引发聚合。适当地添加光聚合引发剂、光增感剂等亦可。 
在涂敷了树脂膜82之后，基材膜81通过夹送辊73进入到圆筒状的模具辊74。在模具辊74的外周面设有利用上述模具的制造方法而形成的阳极氧化多孔氧化铝。基材膜81沿着该模具辊74的外周面移动半周的量，此时，涂敷在基材膜81上的树脂膜82与模具辊74的外周面相接，由此模具辊74的凹凸形状被转印到树脂膜82上。在基材膜81与模具辊74的外周面相接的位置配置有与模具辊75外周面对置的圆柱状夹送辊75。在该位置，利用模具辊74和夹送辊75夹住基材膜81，模具辊75和树脂膜82加压贴紧，由此在树脂膜82的表面形成具有与模具相同的凹凸的树脂膜83。 
为了利用模具辊74和夹送辊75均匀地夹住基材膜81，优选基材 膜81的宽度小于模具辊74和夹送辊75的宽度。此外，优选夹送辊75是橡胶制的。在树脂膜83的表面转印上凹凸形状后，基材膜81沿着模具辊74的外周面朝向夹送辊76前进，通过夹送辊76进入到下一工序中。 
在基材膜81与模具辊74的外周面相接时，对基材膜81上的树脂模83进行固化处理80。在基材膜81具有光固化性的情况下，选择适于该树脂材料的波长段的光(紫外线、可见光线等)，进行适于该树脂材料发生固化的强度和时间的光照射。此外，若是利用光照射的固化处理，能够在常温下进行固化处理。在基材膜81具有热固化性的情况下，进行适于该树脂材料发生热固化的温度和时间的加热。通过这种固化处理，转印到树脂膜83上的凹凸形状会固定。 
接着，从层压膜辊77供给的层压膜84被夹送辊78贴附到树脂模83的表面侧。并且在最后，卷起基材膜81、树脂膜83、以及层压膜84的层叠膜来制作层叠膜辊85。通过贴合层压膜84，能够防止树脂膜83表面附着灰尘或者受到划伤。 
如上所述，实施方式1的防反射膜完成了。 
<评价试验1> 
为了调查实施方式1的防反射膜的特性，实际制作防反射膜作为实施例1的防反射膜，进行评价试验1。下面说明实施例1的防反射膜的制造方法。首先，利用180目的Al2O3在气压0.8Mpa的条件下对铝基板进行喷砂处理后，利用0.05mol/L的草酸(3℃)作为电解液进行5分钟的阳极氧化，在铝基板表面形成阳极氧化多孔氧化铝层(第一次多孔氧化铝层)。接着，将在表面包含阳极氧化多孔氧化铝层的铝基板在8mol/L的磷酸(30℃)中浸泡30分钟，除去第一次多孔氧化铝层。接着，在相同条件下交替重复5次进行30秒钟的阳极氧化的步骤和在1mol/L的磷酸(30℃)中浸泡19分钟并进行蚀刻的步骤，最后在相同条件下进行30秒钟的阳极氧化，形成新的阳极氧化多孔氧化铝层(第二次多孔氧化铝层)。 
图9是为了制作实施例1的防反射膜而使用的模具表面的凹凸构造(蛾眼形成用)的电子显微镜照片。(a)是凹凸构造的正面图， (b)是凹凸构造的立体图，(c)是凹凸构造的截面图。模具所具有的凹凸构造的相邻顶点间的宽度为约200nm，并且从顶点到底点为止的高度(深度)为约840nm(纵横比约4.2)。模具所具有的凹凸构造的凹部92和凸部91被形成为尖的凸部91形状被最密填充地周期性配置。凸部91的表面具有通过重复多阶段的阳极氧化和蚀刻而产生的数个台阶的阶梯形状。 
接着，通过使用由此制作出的模具的实施方式1的辊到辊方式的转印方法，对涂敷在作为基材膜的PET(Ploy EthyleneTerephthalate：聚对苯二甲酸乙二酯)膜上的UV(Ultra Violet：紫外线)固化树脂膜按压凹凸模具而将模具的凹凸形状转印到UV固化树脂膜，接着，对该UV固化树脂膜照射UV，在保持凹凸形状的状态下使之发生固化来形成实施例1的防反射膜。 
然后，作为与实施例1的比较对象，准备在表面未形成蛾眼构造的通常的多层薄膜干涉(LR)类型的防反射膜，作为比较例1。并且，分别测量实施例1的防反射膜和比较例1的防反射膜各自的表面反射率。图10是表示实施例1的防反射膜和比较例1的防反射膜的表面反射率的坐标图。图10的坐标图表示正反射光的分光反射率，横轴是波长(nm)，纵轴是反射率(％)。如图10所示，在实施例1的防反射膜中，可见光区域的反射率被抑制到0.2％，另外，未产生反射衍射光。另一方面，在比较例1的防反射膜中，可见光区域的反射率高达0.7％以上，不具有充分的低反射功能。由此，可确认实施例1的防反射膜与以往的多层薄膜干涉类型的防反射膜(比较例1)相比防反射膜表面的反射率被充分地降低。 
然后，作为与实施例1的比较对象，制作在表面形成有蛾眼构造但是未形成散射凹凸构造的、即通常的在表面具备蛾眼构造的防反射膜，作为比较例2的防反射膜。比较例2的防反射膜除了未进行喷砂处理以外是利用与实施方式1的防反射膜相同的制造方法制作出的。并且，将该实施例1和比较例2的防反射膜应用于下面实施方式3所示的液晶显示装置，在明亮的屋子里目测观察荧光灯的映现程度。图11是表示当使用实施例1和比较例2的防反射膜时的荧光灯 的映现程度的照片。其结果，相对于在具备实施例1的防反射膜的液晶显示装置中模糊地看到荧光灯的外形，在具备比较例2的防反射膜的液晶显示装置中清楚地看到荧光灯的外形。 
为了更为详细地调查这些防反射膜特性的不同点，在重叠两个实施例1的防反射膜后，进行了用于调查透过该两个重叠的防反射膜的光呈现何种透射散射特性的实验。图12是表示透过两个重叠的防反射膜的光的散射的样子的示意图。另外，图13是表示由于位于防反射膜下的反射体而发生反射的光的散射的样子的示意图。 
在此，在调查实际上用于显示装置的情况下的防反射膜的反射散射特性时，不仅调查防反射膜(显示装置)表面的散射特性，还必须调查在显示装置内部反射了的光透过防反射膜时的光散射特性。因此，在本实施例中，如图12所示，测定在重叠两个防反射膜111的状态下透射光的光散射特性，如图13所示，此时散射的光的散射角θ可以视为与将具有蛾眼构造的防反射膜121贴附在玻璃等反射体122上时被该反射体122反射的光再次透过防反射膜121时发生散射的光的散射角θ大致相同。由此，例如在显示面板的表面上形成防反射膜时，能够调查在显示装置内发生反射的光透过形成在显示面板上的防反射膜时的光散射特性。 
首先，作为评价样品，制作重叠有两个防反射膜的样品作为样品1。图14是表示重叠两个防反射膜而形成的样品1的截面示意图。如图14所示，制作按照顺序贴合实施例1的防反射膜131、TAC(TriAcetyl Cellulose：三醋酸纤维素酯)膜132、玻璃133、TAC膜132、以及实施例1的防反射膜131的样品。此外，它们由膜状的糊相互贴紧而成。防反射膜、TAC膜、玻璃以及膜状的糊的折射率均为约1.5。 
另外，作为评价样品，制作以与样品1相同的层构造重叠2个未形成散射凹凸构造(未实施喷砂处理)的具有蛾眼构造的比较例2的防反射膜的样品作为样品2。 
对于该评价样品，在利用光学性能测定装置LCD-5000(大 電子制)来调查透射散射特性过程中，得到了如图15所示的结果。图15是表示重叠两个实施例1的防反射膜和比较例2的防反射膜时 的透射光强度的角度依存性的坐标图。图15的坐标图表示透过评价样品的光的散射角度和以该角度散射的光的透射率，横轴是散射角度(度)，纵轴是透射率(％)。此外，在图15的坐标图中，将散射角度为0°的光的强度(正面强度)设为透射率100，其它的散射角度的透射率(透射强度)以正面强度的相对值表示。 
从图15的坐标图可知，与样品2的坐标图相比样品1的坐标图平缓，表示样品1的最大透射率(散射角0°)的一半的值的角度(半值角)为约1.3。另一方面，样品2的半值角为0.6。由此表明，当重叠两个防反射膜时，透过重叠有两个的防反射膜的光的透射散射强度分布的半值角为1.0°以上，由此能够赋予充分的透射散射特性，能够降低光源等的像的映现。 
并且在最后，将实施例1的防反射膜贴附在下述实施例3所示的液晶显示装置的面板表面来制作液晶显示装置，测量合计了在防反射膜表面的反射和在液晶显示面板内部的反射的反射散射特性。图16是表示具备实施例1的防反射膜的液晶显示装置的反射光强度的角度依存性的坐标图。图16的坐标图表示被实施例1的液晶显示装置反射的光的散射角度和以该角度散射的光的反射率(散射光反射率)，横轴是散射角度(度)，纵轴是反射率。此外，在图16的坐标图中，将散射角度为0°的光的强度(正面强度)设为反射率1，其它的散射角度的反射率(反射强度)以正面强度的相对值表示。 
从图16的坐标图可知，合计了具备实施例1的防反射膜的液晶显示装置的面板的内部反射和表面反射的反射散射光的半值角为约1.2°，是模糊化像向显示画面的映现的充分的值。 
<评价试验2> 
为了调查实施方式1的防反射膜的优选条件，对于透过重叠两个的防反射膜的光的透射散射强度分布的半值角为1.0°以上的防反射膜，采用利用180目的Al2O3粒子，分别在气压0.1MPa(样品3)、0.2MPa(样品4)、0.3MPa(样品5)的不同条件下进行喷砂处理来制作出的模具，来制作出半值角不同的三个防反射膜，分别作为实施例2、实施例3以及实施例4的防反射膜。另外，为了调查实施例2、 实施例3、实施例4的防反射膜各自的透射散射强度分布的半值角，与评价试验1时相同，制作按照顺序贴合防反射膜、TAC膜、玻璃、TAC膜、以及防反射膜的评价样品，分别作为样品3、样品4以及样品5，测量各自的透射散射强度分布的半值角。其结果，得到如图17所示的坐标图。 
图17是透过由评价试验2制作出的样品3、样品4以及样品5的光的透射光强度的角度依存性的坐标图。图17的坐标图表示透过评价样品的光的散射角度和以该角度发生散射的光的透射率，横轴是散射角度(度)，纵轴是透射率(％)。此外，在图17的坐标图中，将散射角度为0°的光的强度(正面强度)设为透射率100，其它的散射角度的透射率(透射强度)以正面强度的相对值表示。从图17的坐标图可知，样品3的半值角为约1.3°，样品4的半值角为约2.0°，样品5的半值角为约2.9°。 
图18是表示由评价试验2制作出的样品3、样品4以及样品5的各个样品的倾斜角分布(相对于倾斜角θ的占有率)的测定值的坐标图。横轴的角度(θ)表示测定面的法线向量的极角，0.5°代表0°～1°的范围所含的角度。如图18所示，在样品3中，随着倾斜角变大，在测定面中占的面积的比例变小。样品4和样品5都是在0.5°和1.5°时，1.5°的在测定面中占的面积比例大，但是对于比1.5°大的角度，随着倾斜角变大，在测定面中占的面积比例变小。对于在测定面中占的面积比例的减少程度，会看到样品3的比样品4和样品5的急剧减少，具有3.5°以上的倾斜角的区域在样品3中几乎见不到。在样品4和样品5中，看到样品4的更急剧减少，但是作为整体的变化倾向是相同的。此外，在样品4和样品5的任一个中，均未看到具有9.5°以上的倾斜角的区域。 
视觉识别评价试验的结果是，在利用实施例2(半值角＝1.3°)和实施例3(半值角＝2.0°)的防反射膜的例子中能得到良好的显示，与此相对，在实施例4(半值角＝2.9°)中，与利用实施例2和实施例3的防反射膜的例子相比，无法得到显示图像的立体感，但是由此可知：半值角的增加和显示图像的立体感的提高各自成比例 关系，通过将半值角设为2.8°以下，能够得到显示图像的立体感，通过将半值角设为2.0°以下，能够更为有效地得到显示图像的立体感。 
为了更为详细地调查关于这种半值角的不同，在评价试验2中，更为详细地剖析实施例2、实施例3以及实施例4的防反射膜的凹凸构造。具体地，利用微分干涉显微镜来计测基于对模具进行喷砂处理而形成的、防反射膜的散射凹凸构造的平均倾斜角。在此，通过具有纳米大小的基底的眼的过滤器对各样品的表面进行观察，算出基底的交点的任意三点的凹凸深度，求出倾斜角的平均值。通过该测定，可知样品3的平均倾斜角是0.84°，样品4的平均倾斜角是1.75°，由此可知：半值角的变化量和平均倾斜角的变化量分别成比例关系，通过将散射凹凸构造的平均倾斜角设为至少0.84°，能够得到充分的半值角。 
<评价试验3> 
为了调查实施方式1的防反射膜的优选条件，利用实施例1和比较例2的防反射膜并将其应用于实际的下述实施方式3的液晶显示装置，进行利用目测的视觉识别评价试验来确认暗处显示的各防反射膜的显示质量。此时的液晶显示装置，使用像素大小为20型WXGA(100μm×30μm)的液晶显示装置，滤色器使用绿色(G)的单色的滤色器。 
其结果，应用实施例1的防反射膜的液晶显示装置能够得到良好的显示，但是应用比较例2的防反射膜的液晶显示装置会看到显示中的闪烁。因此，在各液晶显示装置中，以像素为单位测量亮度，算出亮度偏差的标准偏差。图19是表示亮度偏差对像素个数的坐标图。(a)是应用实施例1的防反射膜的液晶显示装置，(b)是应用比较例2的防反射膜的液晶显示装置。从图19可知，在应用实施例1的防反射膜的情况下，亮度的标准偏差是0.017，与此相对，在应用比较例2的防反射膜的情况下，亮度的标准偏差是0.029。这样，可知：显示的闪烁是基于像素单位的亮度偏差而被视觉识别的，亮度偏差会由于观看方向的不同而发生变动，因此会视觉识别到闪烁 的感觉。 
因此，下面调查这种亮度偏差会在何种条件下引起。图20是表示形成在防反射膜表面的凹凸的平面示意图。如图20所示，防反射膜的表面在每单位面积141形成有使光发生散射的多个凸部142。在本评价试验中，测量散射凹凸构造所具有的凸部142的每单位面积141的存在比率。作为评价样品，除了制作实施例1和比较例1的防反射膜之外，还制作有喷砂处理条件不同的实施例5的防反射膜和实施例6的防反射膜。此外，在实施例5的防反射膜中，将喷砂处理条件设为180目的Al2O3粒子，气压为0.8MPa。另外，在实施例6的防反射膜中，将喷砂处理条件设为60目的Al2O3粒子，气压为0.2MPa。 
图21是表示单位面积的凸部的个数和亮度的偏差(标准偏差)的坐标图。在图21的坐标图中，横轴表示AG密度(个/100μm2)，纵轴表示亮度偏差(标准偏差)。如图21所示，在亮度标准偏差为0.017的实施例1的防反射膜中，每100μm2中存在的凸部的数目为大约65个，与此相对，在亮度标准偏差为0.029的比较例1的防反射膜中，每100μm2中存在的凸部的数目为大约5个。 
另外，对新制作出的、亮度标准偏差是0.012的实施例5的防反射膜和亮度标准偏差为0.036的实施例6的防反射膜调查凸构造的散射单位过程中，得出结果是：在实施例5中，每100μm2中存在的凸部的数目为约130个，能得到没有闪烁的良好显示，与此相对，在实施例6中，每100μm2中存在的凸部的数目为约5个，可看到闪烁较多。 
从这些结果可知：凹凸构造的散射单位相对于像素越大，即凹凸构造的数目相对于像素单位越小，就越会发生像素单位的亮度偏差，相反，凹凸构造的数目相对于像素单位越多，像素单位的亮度偏差越会被抑制，具体地在60个/100μm2以上时，能够得到闪烁被充分抑制的良好显示。 
<实施方式2> 
在实施方式1中，在具有微米级别以上的散射凹凸构造的表面 上形成蛾眼构造，由此使透射光散射，但是在实施方式2中，在大致平坦的表面形成蛾眼构造，取代微米级别以上的散射凹凸构造，在比具有蛾眼构造的表面层靠下的层，混入具有光散射性的透明珠子(散射体)，由此使透射光散射。即，在实施方式2中，作为调整透射散射强度分布的半值角的方法，使用本发明的第二优选方式。 
图22是实施方式2的防反射膜的截面示意图。如图22所示，实施方式2的防反射膜由形成有周期小的凹凸构造(蛾眼构造)的表面层151和包含具有与防反射膜的主成分不同的折射率的透明珠子153的基底层152构成。 
实施方式2的防反射膜所具备的蛾眼构造与实施方式1的防反射膜所具备的蛾眼构造相同，被设置成相邻的顶点间的宽度在可见光波长以下。 
实施方式2的防反射膜的主成分从精密地形成蛾眼构造的观点出发，使用在一定条件下发生固化的光固化性树脂、热固化性树脂等树脂。在实施方式2的防反射膜的基底层152(内部)，局部地分布有透明珠子153，所述透明珠子153由具有与作为实施方式2的防反射膜的主成分的树脂材料的折射率不同的折射率的材料构成。 
透明珠子153只要具有与防反射膜主成分不同的折射率，能够提高透射散射特性的即可，没有特别限定，但是作为透明珠子153的成分，可举出例如苯乙烯树脂、氟树脂、聚乙烯树脂等。特别地，若是苯乙烯树脂，折射率为约1.6，作为防反射膜的主成分合适的UV固化性树脂的折射率为约1.5，因此它们能形成约0.1的折射率的差，能够得到透射散射特性良好的防反射膜。氟树脂的折射率是1.42，聚乙烯树脂的折射率是1.53。 
图22的透明珠子153的一个一个的形状是球形，但是没有特别的限定，除此之外，也可以具有多面体形、不定形等形状。透明珠子153的粒径是1μm以上。通过设定微米级别的粒径，能够得到有效的透射散射特性。 
透明珠子153不限于内部全部都以树脂成分构成，例如在内部填充空气等气体、即中空珠子那样的珠子亦可。 
在实施方式2中各个透明珠子153被设定成粒径在1μm以上，但是实际上在防反射膜内的透明珠子153有时会凝集且被相互挤碎的形态存在。即使在这种方式下，也能够对透过防反射膜的光赋予透射散射特性，但是通过采用例如降低密度而充分地均匀化并隔着1μm以上的距离不规则(随机)地配置的形态，能够更为平衡地配置透明珠子153，能够得到更好的透射散射特性。 
下面详细说明实施方式2的防反射膜的制造方法。 
首先，制作用于在防反射膜表面形成蛾眼构造的模具。以该工序制作出的模具与在实施方式1中制作出的阳极氧化多孔氧化铝大致相同，但是在实施方式2中制作出的模具未进行喷砂处理，因此模具的表面形状不具有实施方式1的散射凹凸构造，若除掉由于蛾眼构造而产生的凹凸，则表面是基本平坦的。 
然后，制造在树脂材料中混入透明珠子的材料，作为防反射膜的材料，利用与实施方式1相同的方法，对基材膜涂敷含有透明珠子的树脂材料，使用阳极氧化多孔氧化铝来进行凹凸形状的转印后，在规定的条件下进行固化处理，由此完成实施方式2的防反射膜。 
<评价试验4> 
为了调查实施方式2的防反射膜的特性，实际制作防反射膜作为实施例5的防反射膜，进行评价试验4。为了确保表面平滑性，模具不使用铝基板而使用在玻璃基板上形成约1μm的铝薄膜后的部件，与实施方式1相同，通过重复阳极氧化和蚀刻的方法，来制作阳极氧化多孔氧化铝(在表面形成有纳米大小的微小的孔的氧化铝)。 
另一方面，制造在UV固化树脂中混入3重量％的苯乙烯树脂制的透明珠子(平均粒子径 )的材料，作为防反射膜材料，进行在基材膜上的涂敷。此外，实施例5的UV固化树脂的折射率是1.49，透明珠子的折射率是1.59。基材膜上的UV固化树脂膜的厚度在100μm以上。然后，利用模具在UV固化树脂膜表面转印凹凸形状，进行UV照射，使凹凸表面发生固化，形成实施例7的防反射膜。 
然后，作为评价样品，制作重叠两个防反射膜的材料作为样品6，通过与评价试验1相同的方法测量样品6的透射散射强度分布的半值角。在利用评价样品来调查透射散射特性的过程中，得到了如图23所示的结果。图23是表示当重叠两个实施例7的防反射膜时的透射光强度的角度依存性的坐标图。图23的坐标图表示透过评价样品的光的散射角和以该角度散射的光的透射率，横轴是散射角度(度)，纵轴是透射率(％)。此外，在图23的坐标图中，将散射角度为0°的光的强度(正面强度)设为透射率100，其它的散射角度的透射率(透射强度)以正面强度的相对值表示。 
从图23的坐标图可知，样品6的半值角是约2.0°。由此可知：当重叠两个实施例7的防反射膜时，能够赋予充分的透射散射特性，能够降低光源等的像的映现。 
并且，最后将实施例7的防反射膜贴附到以下述实施方式3所示的液晶显示装置的面板表面来制作液晶显示装置，测量合计了在防反射膜表面的反射和在液晶显示装置面板内部的反射的反射散射特性。图24是表示具备实施例7的防反射膜的液晶显示装置的反射光强度的角度依存性的坐标图。图24的坐标图表示在实施例7的液晶显示装置中反射的光的散射角度和以该角度散射的光的反射率(散射光反射率)，横轴是散射角度(度)，纵轴是反射率(％)。此外，在图24的坐标图中，将散射角度为0°的光的强度(正面强度)设为反射率1，其它的散射角度的反射率(反射强度)以正面强度的相对值表示。 
从图24的坐标图可知，合计了实施例5的液晶显示装置的面板的内部反射和表面反射的反射散射光的半值角为约2.0°，是模糊化像向显示画面的映现的充分的值。 
<实施方式3> 
实施方式3是本发明的显示装置的一个例子。实施方式3的显示装置是液晶显示装置(LCD)，在显示面具备实施方式1或者实施方式2的防反射膜，能够提供光源等的像的映现少的显示。 
图25是实施方式3的LCD的截面示意图，表示外光在LCD内发 生反射的样子。如图25所示，实施方式3的LCD的面板部分由一对基板161、162和被该一对基板161、162夹住的液晶层163构成。这一对基板161、162可以举出例如一方基板采用阵列基板161，另一方基板采用滤色器基板162的方式，能够在这两方基板中配置电极，利用在这些电极间产生的电场的影响来驱动控制液晶层163。其中，在实施方式3中，除此之外，还可以举出一方基板发挥阵列基板和滤色器基板两方的作用的方式，或者仅在一方基板中配置电极的方式，没有特别限定。另外，关于液晶层163内的液晶分子取向控制方法，可以是TN(Twisted Nematic：扭曲向列)模式、VA(VerticalAlignment：垂直取向)模式、IPS(In-Plane Switching：面内开关)模式等，没有特别限定。此外，在阵列基板161和滤色器基板162的与液晶层163相反侧的各自的面中，设有偏光板等光控制元件。 
阵列基板161由在玻璃、塑料等支撑基板171上配置用于控制液晶层163中的液晶分子取向的配线、电极等来构成。作为液晶驱动方式，可以举出无源矩阵型、有源矩阵型，在这种矩阵型的驱动方式的情况下，配线相互交叉地配置，被这些配线包围的多个区域构成矩阵形状。这些配线和电极利用铝(Al)、银(Ag)、氮化钽(TaN)、氮化钛(TiN)、氮化钼(MoN)等材料，在功能性和生产性方面优良，但是通常它们具有反射性。 
另外，若是有源矩阵型，在各配线的交点配置有薄膜晶体管(TFT：Thin Film Transistor)174等半导体开关元件，控制从各配线送出的信号。TFT174具有对半导体层173施加偏置电压的电极172，另外，该电极材料也适用于在上述配线和电极中使用的材料，因此会具有反射性。 
在这些配线和TFT 174上形成有层间绝缘膜175，并且在该层间绝缘膜175上配置有由具有透光性的材料形成的像素电极176，其与被上述配线172包围的区域重叠。像素电极176由ITO、IZO(IndiumZinc Oxide：铟锌氧化物)等具有透光性的金属氧化物构成，原则上是透射光的，但是也具有由于入射角的不同而反射光的特性。 
滤色器基板162在玻璃、塑料等支撑基板181上配置有滤色器 层、黑矩阵层等树脂层182，并且在这些树脂层182上单面配置有由具有透光性的材料形成的对置电极183来构成。另外，对置电极183也与像素电极176相同，利用ITO、IZO等金属氧化物，因此也具有由于入射角的不同而反射光的特性。在实施方式3中，在滤色器基板162的显示面(观察面)侧安装有实施方式1或者实施方式2的防反射膜184。此外，在图25中图示了利用实施方式1的防反射膜184的方式。 
这样，在阵列基板161和滤色器基板162上，从功能性和生产性的观点出发优选大量使用具有反射性的材料。若在以往，在这种显示装置内部的反射不会引起注意，但是，在蛾眼等降低了表面反射的显示装置中，光在ITO等中的反射成为诱发像向显示画面的映现的原因。 
如图25所示，向实施方式3的LCD入射的外光在入射到LCD的表面时，分离成在LCD的表面(防反射膜表面)发生反射的成分191和透过防反射膜184向LCD内前进的成分192。在实施方式3的LCD中，配置在显示装置表面的防反射膜184具备蛾眼构造，因此几乎全部都透过防反射膜184，但是在LCD的表面发生反射的一部分的光的成分191会由于散射凹凸构造的作用而分离成多个成分。 
向LCD内前进的成分192被设置在滤色器基板162所具备的对置电极(ITO)183、TFT 174的表面等显示装置内的电极和配线反射，向显示面侧前进。然而，根据实施方式3的LCD，被设计成透过重叠两个的防反射膜的光的透射散射强度分布的半值角在1.0°以上，因此成为使在显示装置内部发生反射的光发生散射而能够降低对显示的影响的设计，能够得到像的映现少的优良的显示质量。 
此外，在实施方式3的显示装置是液晶显示装置的情况下，进一步地在偏光板与装置内的玻璃基板之间的贴附用粘合糊中，混入以实施方式2所示的透明珠子，也能够提高散射特性。由此，能够更为精密地进行透射散射强度分布的半值角的控制。 
实施方式3的显示装置不限于这种LCD，也能够用于CRT、PDP、EL等显示装置中的任一个，能够降低由用于配线、电极等具 有反射性的材料构成的部件的反射的影响。 
此外，本申请以在2008年5月27日申请的日本专利申请2008-138458号为基础，要求基于巴黎公约和进入国的法规的优先权。该申请的内容整体作为参照被引入到本申请中。 

Claims (3)

1.一种显示装置，其在显示面具备防反射膜，上述防反射膜在表面具有：相邻顶点间的宽度在可见光波长以下的细微凹凸构造；以及相邻顶点间的宽度在1μm以上的散射凹凸构造，其特征在于：
该散射凹凸构造每100μm2的凸部的个数在60个以上，
透过两个重叠的该防反射膜的光的透射散射强度分布的半值角在1.5°以上、2.8°以下，
当利用微分干涉显微镜来计测时，散射凹凸构造的平均倾斜角是0.84°以上。
2.根据权利要求1所述的显示装置，其特征在于：
上述防反射膜在内部包含散射体，上述散射体具有与防反射膜的主成分不同的折射率且具有1μm以上的粒径。
3.根据权利要求2所述的显示装置，其特征在于：
上述散射体隔着1μm以上的距离不规则地存在。
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