JP2012164383A - 光情報記録媒体およびその製造方法 - Google Patents
光情報記録媒体およびその製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2012164383A JP2012164383A JP2011023390A JP2011023390A JP2012164383A JP 2012164383 A JP2012164383 A JP 2012164383A JP 2011023390 A JP2011023390 A JP 2011023390A JP 2011023390 A JP2011023390 A JP 2011023390A JP 2012164383 A JP2012164383 A JP 2012164383A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- recording medium
- substrate
- information recording
- optical information
- pattern
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Ceased
Links
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B7/00—Recording or reproducing by optical means, e.g. recording using a thermal beam of optical radiation by modifying optical properties or the physical structure, reproducing using an optical beam at lower power by sensing optical properties; Record carriers therefor
- G11B7/24—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material
- G11B7/2403—Layers; Shape, structure or physical properties thereof
- G11B7/24053—Protective topcoat layers lying opposite to the light entrance side, e.g. layers for preventing electrostatic charging
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B5/00—Optical elements other than lenses
- G02B5/02—Diffusing elements; Afocal elements
- G02B5/0205—Diffusing elements; Afocal elements characterised by the diffusing properties
- G02B5/021—Diffusing elements; Afocal elements characterised by the diffusing properties the diffusion taking place at the element's surface, e.g. by means of surface roughening or microprismatic structures
- G02B5/0215—Diffusing elements; Afocal elements characterised by the diffusing properties the diffusion taking place at the element's surface, e.g. by means of surface roughening or microprismatic structures the surface having a regular structure
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B7/00—Recording or reproducing by optical means, e.g. recording using a thermal beam of optical radiation by modifying optical properties or the physical structure, reproducing using an optical beam at lower power by sensing optical properties; Record carriers therefor
- G11B7/24—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material
- G11B7/2403—Layers; Shape, structure or physical properties thereof
- G11B7/24047—Substrates
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B7/00—Recording or reproducing by optical means, e.g. recording using a thermal beam of optical radiation by modifying optical properties or the physical structure, reproducing using an optical beam at lower power by sensing optical properties; Record carriers therefor
- G11B7/24—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material
- G11B7/2403—Layers; Shape, structure or physical properties thereof
- G11B7/24056—Light transmission layers lying on the light entrance side and being thinner than the substrate, e.g. specially adapted for Blu-ray® discs
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B7/00—Recording or reproducing by optical means, e.g. recording using a thermal beam of optical radiation by modifying optical properties or the physical structure, reproducing using an optical beam at lower power by sensing optical properties; Record carriers therefor
- G11B7/24—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material
- G11B7/26—Apparatus or processes specially adapted for the manufacture of record carriers
- G11B7/263—Preparing and using a stamper, e.g. pressing or injection molding substrates
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B7/00—Recording or reproducing by optical means, e.g. recording using a thermal beam of optical radiation by modifying optical properties or the physical structure, reproducing using an optical beam at lower power by sensing optical properties; Record carriers therefor
- G11B7/24—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material
- G11B7/2403—Layers; Shape, structure or physical properties thereof
- G11B7/24035—Recording layers
- G11B7/24038—Multiple laminated recording layers
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Optical Recording Or Reproduction (AREA)
- Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)
- Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)
- Surface Treatment Of Optical Elements (AREA)
Abstract
【解決手段】光情報記録媒体は、基板と、基板上に形成された1層または2層以上の情報信号層と、1層または2層以上の情報信号層上に形成された保護層とを備える。保護層の表面が、情報信号層に対して情報信号を記録または再生するための光が照射される読み取り面であり、読み取り面には、複数のサブ波長構造体が形成されている。
【選択図】図20
Description
光ディスク用として一般に使用されているポリカーボネート材等の光学用途樹脂材料では、表面反射率が可視光ほぼ全域に渡って約5%程度ある。このため、ドライブ(プレーヤー)にディスクをかけた際、ディスク信号を読み取るための光学ピックアップの光源レーザ(CD(Compact Disc)780nm、DVD(Digital Versatile Disc)650nm、BD(Blu-ray Disc(登録商標))405nm)からの出射光は、ディスク基板に入射するときに約5%光量を減衰する。更に透過した光は信号面の反射層で反射した後ピックアップ側へ戻る際、ディスク基板表面を通過するときに再度約5%光量が減衰する。これにより再生系信号量総量では約10%も光量が減衰してしまうため、ピックアップ用光源レーザとしては過剰な出射パワーが必要となり、この分レーザに負荷がかかりレーザの短寿命化等の悪影響がある。
再生信号量としての反射率は規格毎に明確に規定されている。例えば偏光系光学ピックアップを使用した条件でCD:58%<(780nm)及び35%<(650nm)、DVD−SL:45〜85%及びDL18〜30%(650nm)、BD−SL:高反射率35〜70%及びDL(SL低反射率含む)12〜28%(405nm)等である。これらの反射率規格を満たすためには、ディスク反射膜からの信号反射光量がディスク基板表面から出る際に約5%光量減衰することを見込んで、元の反射率をあらかじめ高めに設定し、反射光量を確保しなければならない。
基板と、
基板上に形成された1層または2層以上の情報信号層と、
1層または2層以上の情報信号層上に形成された保護層と
を備え、
保護層の表面が、情報信号層に対して情報信号を記録または再生するための光が照射される読み取り面であり、
読み取り面には、複数のサブ波長構造体が形成されている光情報記録媒体である。
第1の基板と、
第1の基板上に形成された1層または2層以上の情報信号層と、
1層または2層以上の情報信号層上に形成された第2の基板と
を備え、
第2の基板の表面が、情報信号層に対して情報信号を記録または再生するための光が照射される読み取り面であり、
読み取り面には、複数のサブ波長構造体が形成されている光情報記録媒体である。
基板と、
基板上に形成された1層または2層以上の情報信号層と、
1層または2層以上の情報信号層上に形成された保護層と
を備え、
基板の表面が、情報信号層に対して情報信号を記録または再生するための光が照射される読み取り面であり、
読み取り面には、複数のサブ波長構造体が形成されている光情報記録媒体である。
情報信号を記録または再生するための光が照射される読み取り面を有し、
読み取り面には、複数のサブ波長構造体が形成されている光情報記録媒体である。
読み取り面形成用原盤の形状を樹脂材料に転写し、複数のサブ波長構造体が表面に形成された基板または保護層を形成する工程を備え、
基板または保護層の表面が、情報信号層に対して情報信号を記録または再生するための光が照射される読み取り面である光情報記録媒体の製造方法である。
1.第1の実施形態(基板側が読み取り面となる光情報記録媒体の第1の例)
2.第2の実施形態(基板側が読み取り面となる光情報記録媒体の第2の例)
3.第3の実施形態(貼り合わせ型の光情報記録媒体の例)
4.第4の実施形態(2層の情報信号層を有する光情報記録媒体の第1の例)
5.第5の実施形態(2層の情報信号層を有する光情報記録媒体の第2の例)
6.第6の実施形態(光情報記録媒体の読み取り面に構造体を形成する第1の例)
7.第7の実施形態(光情報記録媒体の読み取り面に構造体を形成する第2の例)
8.第8の実施形態(保護層側が読み取り面となる光情報記録媒体の第1の例)
9.第9の実施形態(保護層側が読み取り面となる光情報記録媒体の第2の例)
10.第10の実施形態(構造体を四方格子状に配列した例)
11.第11の実施形態(構造体を直線状に配列した例)
12.第12の実施形態(構造体を蛇行配列した例)
13.第13の実施形態(凹形状の構造体を配置した例)
[光情報記録媒体の構成]
図1は、本発明の第1の実施形態に係る光情報記録媒体の構成の一例を示す断面図である。この光情報記録媒体は、基板1と、基板1上に形成された情報信号層2と、情報信号層2上に形成された保護層3とを備える。レーザ光が照射される光情報記録媒体の読み取り面には、凸状を有する複数のサブ波長構造体(以下単に構造体と適宜称する。)11が形成されている。ここで、読み取り面とは、レーザ光の照射により情報信号の記録および/または再生が行われる面を意味する。
構造体11の高さは、好ましくは100nm以上300nm以下、より好ましくは170nm以上280nm以下、さらに好ましくは190nm以上240nm以下である。100nm未満であると、反射率が1%を超えて反射防止効果が不十分となる。一方、300nmを超えると、反射防止性能はまだ十分だが構造体自体の高さが大きくなるために作製が困難となる。
構造体11の頂部の平坦部径は、好ましくは配置ピッチの0倍以上0.8倍以下または配置ピッチの0倍より大きく0.8倍以下、より好ましくは配置ピッチの0.4倍以上0.6倍以下、最も好ましくは0.5倍である。0.8倍を超えると、反射率が1%を超えて反射防止効果が不十分となる。
構造体11の高さHに対する、情報信号を記録または再生するための光の波長λの比率(λ/H)は、好ましくは2以上6以下である。2未満であると、反射防止性能はまだ十分だが構造体11の高さが大きくなるために作製が困難となる。一方、6を超えると、反射率が1%を超えて反射防止効果が不十分となる。
基板1は、例えば、中央に開口(以下センターホールと称する)が形成された円環形状を有する。基板1は、第1の主面および第2の主面を有している。基板1の第1の主面である読み取り面は、上述のように構造体11が形成された微細凹凸面となっている。一方、基板1の第2の主面である信号面は、例えば、凹凸部12が形成された凹凸面となっており、この凹凸面上に情報信号層3が成膜される。ここで、信号面とは、情報信号層3が形成される面のことを意味する。この凹凸部12の形状としては、例えば、スパイラル状、同心円状、ピット列などの各種の形状を用いることができる。また、アドレス情報を付加するために、この凹凸部12をウォブル(蛇行)させるようにしてもよい。
情報信号層2は、情報信号を記録可能および/または再生可能に構成される。その構成は、例えば、所望とする光情報記録媒体が再生専用型、追記型および書換可能型のうちいずれであるかに応じて適宜選択される。
保護層3は、例えば、紫外線硬化樹脂(UVレジン)などの感光性樹脂を硬化してなる。保護層3の材料としては、例えば紫外線硬化型のアクリル系樹脂が挙げられる。
図2Aは、本発明の第1の実施形態に係る光情報記録媒体の読み取り面の構成の一例を示す概略平面図である。図2Bは、図2Aに示した光情報記録媒体の読み取り面の一部を拡大して表す平面図である。図2Cは、図2BのトラックT1、T3、・・・における断面図である。図2Dは、図2BのトラックT2、T4、・・・における断面図である。図2Eは、図2BのトラックT1、T3、・・・に対応する潜像形成に用いられるレーザ光の変調波形を示す略線図である。図2Fは、図2BのトラックT2、T4、・・・に対応する潜像形成に用いられるレーザ光の変調波形を示す略線図である。図3Aは、図2Bに示した読み取り面のトラックの延在方向(X方向(以下、適宜トラック方向ともいう))の断面図である。図3Bは、図2Aに示した読み取り面のθ方向の断面図である。図4A〜図5Bは、図2Aに示した光情報記録媒体の読み取り面の一部を拡大して表す斜視図である。
アスペクト比=H/P・・・(1)
但し、H:構造体の高さ、P:平均配置ピッチ(平均周期)
ここで、平均配置ピッチPは以下の式(2)により定義される。
平均配置ピッチP=(P1+P2+P2)/3 ・・・(2)
但し、P1:トラックの延在方向の配置ピッチ(トラック延在方向周期)、P2:トラックの延在方向に対して±θ方向(但し、θ=60°−δ、ここで、δは、好ましくは0°<δ≦11°、より好ましくは3°≦δ≦6°)の配置ピッチ(θ方向周期)
まず、光情報記録媒体の表面を走査型電子顕微鏡(SEM:Scanning Electron Microscope)を用いてTop Viewで撮影する。次に、撮影したSEM写真から無作為に単位格子Ucを選び出し、その単位格子Ucの配置ピッチP1、およびトラックピッチTpを測定する(図4B参照)。また、その単位格子Ucの中央に位置する構造体11の底面の面積Sを画像処理により測定する。次に、測定した配置ピッチP1、トラックピッチTp、および底面の面積Sを用いて、以下の式(3)より充填率を求める。
充填率=(S(hex.)/S(unit))×100 ・・・(3)
単位格子面積:S(unit)=P1×2Tp
単位格子内に存在する構造体の底面の面積:S(hex.)=2S
図7Aは、上述の構造体を読み取り面に形成するための読み取り面形成用原盤の成形面の構成の一例を示す概略平面図である。図7Bは、図7Aに示した読み取り面形成用原盤の成形面の一部を拡大して表す平面図である。読み取り面形成用原盤201は、円盤状の形状を有し、その表面には凹状を有する複数の構造体202が配列されている。構造体202は、例えば、同心円状またはスパイラル状のトラック上に配置されている。読み取り面形成用原盤201の材料は、例えばガラスを用いることができるが、この材料に特に限定されるものではない。後述するロール原盤露光装置を用い、2次元パターンが空間的にリンクし、1トラック毎に極性反転フォマッター信号と記録装置の回転コントロラーを同期させ信号を発生し、CAVで適切な送りピッチでパターニングすることにより、六方格子パターンまたは準六方格子パターンを記録することができる。極性反転フォマッター信号の周波数とロールの回転数を適切に設定することにより、所望の記録領域に空間周波数が一様な格子パターンを形成することができる。
まず、図8を参照して、モスアイパターンの露光工程に用いる原盤露光装置の構成について説明する。この原盤露光装置は、光学ディスク記録装置をベースとして構成されている。
図9A〜図10Fは、本発明の第1の実施形態に係る光情報記録媒体の製造方法の一例を説明するための工程図である。
まず、図9Aに示すように、円盤状の原盤211を準備する。次に、図9Bに示すように、原盤211の表面にレジスト層212を形成する。レジスト層212の材料としては、例えば有機系レジスト、および無機系レジストのいずれを用いてもよい。有機系レジストとしては、例えばノボラック系レジストや化学増幅型レジストを用いることができる。また、無機系レジストとしては、例えば、1種または2種以上の遷移金属からなる金属化合物を用いることができる。
次に、図9Cに示すように、上述した原盤露光装置を用いて、原盤211を回転させると共に、露光ビームであるレーザ光213をレジスト層212に照射する。このとき、レーザ光213を原盤211の半径方向に移動させながら、レーザ光213を間欠的に照射することで、レジスト層212を全面にわたって露光する。これにより、レーザ光213の軌跡に応じた潜像214が、レジスト層212の全面にわたって形成される。
次に、原盤211を回転させながら、レジスト層212上に現像液を滴下して、図9Dに示すように、レジスト層212を現像処理する。図示するように、レジスト層212をポジ型のレジストにより形成した場合には、レーザ光213で露光した露光部は、非露光部と比較して現像液に対する溶解速度が増すので、潜像(露光部)214に応じたパターンがレジスト層212に形成される。
次に、原盤211の上に形成されたレジスト層212のパターン(レジストパターン)をマスクとして、原盤211の表面をエッチング処理する。これにより、図9Eに示すように、トラックの延在方向に長軸方向をもつ楕円錐形状または楕円錐台形状の凹部、すなわち構造体202を得ることができる。エッチング方法は、例えばドライエッチングによって行われる。このとき、エッチング処理とアッシング処理を交互に行うことにより、例えば、錐体状の構造体202のパターンを形成することができる。また、レジスト層212の3倍以上の深さ(選択比3以上)のガラスマスターを作製でき、構造体202の高アスペクト比化を図ることができる。以上により、図10Aに示すように、例えば六方格子パターンまたは準六方格子パターンを有する読み取り面形成用原盤201が得られる。
次に、図10Bに示すように、表面に信号面を形成するための凹凸が形成された信号面形成用原盤221を準備する。この信号面形成用原盤221としては、従来CDなどの光ディスクの製造において公知のスタンパ(ナノインプリント用途では一般にモールドまたはテンプレートと称される。)を用いることができる。このようなスタンパとしては、例えばニッケル製スタンパが挙げられる。
次に、図10Eに示すように、例えばスパッタリング法またはスピンコート法などを用いて、情報信号層2を基板1の凹凸部12上に形成する。
次に、図10Fに示すように、例えばスピンコート法により、紫外線硬化樹脂などの感光性樹脂を情報信号層2上に塗布し、紫外線などの光を照射し、硬化することにより、保護層3を形成する。
以上の工程により、目的とする光情報記録媒体が得られる。
図11は、本発明の第2の実施形態に係る光情報記録媒体の製造方法の一例を説明するための工程図である。本発明の第2の実施形態は、第1の成形体1aと第2の成形体1bとを貼り合わせることにより、基板1を形成する点において、第1の実施形態とは異なっている。なお、第2の実施形態において第1の実施形態と対応する箇所には同一の符号を付す。
まず、図11Aに示すように、読み取り面形成用原盤201を準備する。次に、図11Bに示すように、例えば射出成形法により、読み取り面形成用原盤201の形状を樹脂材料13に転写する。これにより、図11Cに示すように、一主面に複数の構造体11が形成され、他主面に平坦面が形成された第1の成形体1aが得られる。第1の成形体1aは、例えばシート状または板状を有し、取り扱いの容易さの観点から板状であることが好ましい。
次に、図11Gに示すように、第1の成形体1aと第2の成形体1bとの平坦面同士を、貼合層14を介して貼り合わせることにより、基板1を得る。貼合層14の材料としては、例えば紫外線硬化性樹脂、感圧性粘着剤(Pressure Sensitive Adhesive:PSA)などを主成分とする材料を用いることができる。貼合層14が感圧性粘着剤を主成分とする場合、第1の成形体1aおよび第2の成形体1bの一方の平坦面に予め貼合層14を形成しておくようにしてもよい。
次に、図11Hに示すように、例えばスパッタリング法またはスピンコート法などを用いて、情報信号層2を基板1の凹凸部12上に形成する。
次に、図11Iに示すように、例えばスピンコート法により、紫外線硬化樹脂などの感光性樹脂を情報信号層2上に塗布し、紫外線などの光を照射し、硬化することにより、保護層3を形成する。
以上の工程により、目的とする光情報記録媒体が得られる。
図12は、本発明の第3の実施形態に係る光情報記録媒体の構成の一例を示す断面図である。光情報記録媒体は、第1の基板41と、第1の基板41上に形成された情報信号層2と、情報信号層2上に形成された第2の基板42とを備える。第2の基板42の表面には、凸状を有する複数の構造体11が形成されている。第3の実施形態において第1の実施形態と同一の箇所には同一の符号を付して説明を省略する。
構造体11の高さは、好ましくは80nm以上240nm以下、より好ましくは140nm以上200nm以下、さらに好ましくは160nm以上180nm以下である。80nm未満であると、反射率が1%を超えて反射防止効果が不十分となる。一方、240nmを超えると、反射防止性能はまだ十分だが構造体11の高さが大きくなるために作製が困難となる。
構造体11の頂部の平坦部径は、好ましくは配置ピッチの0倍以上0.7倍以下または0倍より大きく0.7倍以下、より好ましくは配置ピッチの0.4倍以上0.6倍以下、最も好ましくは0.5倍である。0.7倍を超えると、反射率が1%を超えて反射防止効果が不十分となる。
構造体11の高さHに対する、情報信号を記録または再生するための光の波長λの比率(λ/H)は、好ましくは2以上6以下である。2未満であると、反射防止性能はまだ十分だが構造体11の高さが大きくなるために作製が困難となる。一方、6を超えると、反射率が1%を超えて反射防止効果が不十分となる。
まず、図13Aおよび図13Bに示すように、読み取り面成形用原盤201と信号面形成用原盤221とを準備する。次に、図13Cに示すように、例えば射出成形法により、読み取り面成形用原盤201と信号面形成用原盤221との形状を樹脂材料13に転写する。これにより、図13Dに示すように、一主面に複数の構造体11が形成され、他主面に凹凸部12が形成された第2の基板42が得られる。
次に、図13Eに示すように、例えばスパッタリング法またはスピンコート法などを用いて、第2の基板42の凹凸部12上に情報信号層2を形成する。
次に、図13Fに示すように、例えば平滑な成形面を有する原盤231または金型を準備する。次に、図13Gに示すように、例えば射出成形法により原盤231または金型の平滑な成形面の形状を樹脂材料13に転写する。これにより、図13Hに示すように、平滑面を両主面に有する第1の基板41が形成される。
次に、図13Iに示すように、第1の基板41の平滑面と、第2の基板42の情報信号層形成面とを、貼合層14により貼り合わせる。
以上の工程により、目的とする光情報記録媒体が得られる。
(光情報記録媒体の構成)
図14は、本発明の第4の実施形態に係る光情報記録媒体の構成の一例を示す断面図である。光情報記録媒体は、第1の基板41、第1の情報信号層(L0層と称される。)43、中間層44、第2の情報信号層(L1層と称される。)45、第2の基板42がこの順序で順次積層された構成を有している。第4の実施形態において第3の実施形態と同一の箇所には同一の符号を付して説明を省略する。
図15A〜図15Jは、本発明の第4の実施形態に係る光情報記録媒体の製造方法の一例を説明するための工程図である。
まず、図15Aおよび図15Bに示すように、読み取り面成形用原盤201と第1の信号面形成用原盤241とを準備する。次に、図15Cに示すように、例えば射出成形法により、読み取り面成形用原盤201と第1の信号面形成用原盤241との形状を樹脂材料13に転写する。これにより、図15Dに示すように、一主面に複数の構造体11が形成され、他主面に凹凸部12が形成された第2の基板42が得られる。
次に、図15Eに示すように、例えばスパッタリング法またはスピンコート法などを用いて、情報信号層45を第2の基板42の凹凸部12上に形成する。
次に、図15Fに示すように、第2の信号面形成用原盤242を準備する。次に、図15Gに示すように、例えば射出成形法により第2の信号面形成用原盤242の形状を樹脂材料13に転写する。これにより、図15Hに示すように、一主面に凹凸部12が形成され、他主面に平滑面が形成された第1の基板41が得られる。
次に、図15Iに示すように、例えばスパッタリング法またはスピンコート法などを用いて、第1の基板41の凹凸部12上に情報信号層43を形成する。
次に、図15Jに示すように、第1の基板41の第1の情報信号層形成面と、第2の基板42の第2の情報信号層形成面とを、中間層44により貼り合わせる。
以上の工程により、目的とする光情報記録媒体が得られる。
(光情報記録媒体の構成)
図16は、本発明の第5の実施形態に係る光情報記録媒体の構成の一例を示す断面図である。光情報記録媒体は、第1の基板51、第1の情報信号層52、第2の基板53、第2の情報信号層54、保護層3がこの順序で順次積層された構成を有している。第5の実施形態において第1の実施形態と同一の箇所には同一の符号を付して説明を省略する。
図17A〜図17Jは、本発明の第5の実施形態に係る光情報記録媒体の製造方法の一例を説明するための工程図である。
まず、図17Aおよび図17Bに示すように、読み取り面成形用原盤201と第1の信号面形成用原盤251とを準備する。次に、図17Cに示すように、例えば射出成形法により、読み取り面成形用原盤201と第1の信号面形成用原盤251との形状を樹脂材料13に転写する。これにより、図17Dに示すように、一主面に複数の構造体11が形成され、他主面に凹凸部12が形成された第1の基板51が得られる。
次に、図17Eに示すように、例えばスパッタリング法またはスピンコート法などを用いて、第1の情報信号層52を第1の基板51の凹凸部12上に形成する。
次に、図17Fに示すように、第2の信号面形成用原盤252を準備する。次に、図17Gに示すように、例えば射出成形法により第2の信号面形成用原盤252の形状を樹脂材料13に転写する。これにより、図17Hに示すように、一主面に凹凸部12が形成され、他主面に平滑面が形成された第2の基板53が得られる。
次に、図17Iに示すように、例えばスパッタリング法またはスピンコート法などを用いて、第2の情報信号層54を第2の基板53の凹凸部12上に形成する。
次に、図17Iに示すように、例えばスピンコート法により、紫外線硬化樹脂などの感光性樹脂を第2の情報信号層2上に塗布し、紫外線などの光を照射し、硬化することにより、保護層3を形成する。
次に、図17Jに示すように、第1の基板51の信号面と、第2の基板42の平滑面とを、貼合層14により貼り合わせる。
以上の工程により、目的とする光情報記録媒体が得られる。
図18A〜図18Dは、本発明の第6の実施形態に係る光情報記録媒体の製造方法の一例を説明するための工程図である。本発明の第6の実施形態は、最終工程において光情報記録媒体の読み取り面に複数の構造体11を形成する点において、第4の実施形態とは異なっている。なお、第6の実施形態において第1の実施形態と同様の箇所には同一の符号を付す。
以上により、目的とする光情報記録媒体が得られる。
図19A〜図19Eは、本発明の第7の実施形態に係る光情報記録媒体の製造方法の一例を説明するための工程図である。本発明の第7の実施形態は、複数の構造体11が形成された成形体15を光情報記録媒体の読み取り面に貼り合わせることにより、読み取り面に複数の構造体11を形成する点において、第6の実施形態とは異なっている。なお、第7の実施形態において第6の実施形態と同様の箇所には同一の符号を付す。
以上により、目的とする光情報記録媒体が得られる。
(光情報記録媒体の構成)
図20は、本発明の第8の実施形態に係る光情報記録媒体の構成の一例を示す断面図である。光情報記録媒体は、基板1と、基板1上に形成された情報信号層2と、情報信号層2上に形成された保護層61とを備える。保護層61の表面には、凸状を有する複数の構造体11が形成されている。第8の実施形態において第1の実施形態と同一の箇所には同一の符号を付して説明を省略する。
構造体11の高さは、好ましくは80nm以上200nm以下、より好ましくは100nm以上160nm以下、さらに好ましくは110nm以上145nm以下である。80nm未満であると、反射率が1%を超えて反射防止効果が不十分となる。一方、200nmを超えると、反射防止性能はまだ十分だが構造体11の高さが大きくなるために作製がやや困難となる。
構造体11の頂部の平坦部径は、好ましくは配置ピッチの0倍以上0.7倍以下または0倍より大きく0.7倍以下、より好ましくは配置ピッチの0.2倍以上0.5倍以下、さらに好ましくは0.3倍以上0.4倍以下である。0.7倍を超えると、反射率が1%を超えて反射防止効果が不十分となる。
構造体11の高さHに対する、情報信号を記録または再生するための光の波長λの比率(λ/H)は、好ましくは2以上6以下である。2未満であると、反射防止性能はまだ十分だが構造体11の高さが大きくなるために作製がやや困難となる。一方、6を超えると、反射率が1%を超えて反射防止効果が不十分となる。
図21A〜図21Gは、本発明の第8の実施形態に係る光情報記録媒体の製造方法の一例を説明するための工程図である。
まず、図21Aに示すように、信号面形成用原盤221を準備する。次に、図21Bに示すように、例えば射出成形法により、信号面形成用原盤221の形状を樹脂材料13に転写する。これにより、図21Cに示すように、一主面に凹凸部12が形成された基板1が得られる。
次に、図21Dに示すように、例えばスパッタリング法またはスピンコート法などを用いて、情報信号層2を基板1の凹凸部12上に形成する。
次に、図21Eに示すように、読み取り面形成用原盤201を準備する。次に、図21Fに示すように、例えばスピンコート法により基板1の情報信号層2上に紫外線硬化樹脂などの樹脂材料13を塗布する。次に、この樹脂材料13に対して読み取り面形成用原盤201を押し当てた後、樹脂材料13に紫外線などを照射することにより、硬化させる。これにより、図21Gに示すように、読み取り面に複数の構造体11が形成された光情報記録媒体が得られる。
図22A〜図22Hは、本発明の第9の実施形態に係る光情報記録媒体の製造方法の一例を説明するための工程図である。
図23Aは、本発明の第10の実施形態に係る光情報記録媒体の読み取り面の構成の一例を示す概略平面図である。図23Bは、図23Aに示した光情報記録媒体の読み取り面の一部を拡大して表す平面図である。図23Cは、図23BのトラックT1、T3、・・・における断面図である。図23Dは、図23BのトラックT2、T4、・・・における断面図である。図23Eは、図23BのトラックT1、T3、・・・に対応する潜像形成に用いられるレーザ光の変調波形を示す略線図である。図23Fは、図23BのトラックT2、T4、・・・に対応する潜像形成に用いられるレーザ光の変調波形を示す略線図である。
まず、光情報記録媒体の表面を走査型電子顕微鏡(SEM:Scanning Electron Microscope)を用いてTop Viewで撮影する。次に、撮影したSEM写真から無作為に単位格子Ucを選び出し、その単位格子Ucの配置ピッチP1、およびトラックピッチTpを測定する(図23B参照)。また、その単位格子Ucに含まれる4つの構造体11のいずれかの底面の面積Sを画像処理により測定する。次に、測定した配置ピッチP1、トラックピッチTp、および底面の面積Sを用いて、以下の式(2)より充填率を求める。
充填率=(S(tetra)/S(unit))×100 ・・・(2)
単位格子面積:S(unit)=2×((P1×Tp)×(1/2))=P1×Tp
単位格子内に存在する構造体の底面の面積:S(tetra)=S
[光情報記録媒体の構成]
図24Aは、本発明の第11の実施形態に係る光情報記録媒体の読み取り面の構成の一例を示す概略平面図である。図24Bは、図24Aに示した光情報記録媒体の読み取り面の一部を拡大して表す平面図である。図24Cは、図24BのトラックT1、T3、・・・における断面図である。図24Dは、図24BのトラックT2、T4、・・・における断面図である。図24Eは、図24BのトラックT1、T3、・・・に対応する潜像形成に用いられるレーザ光の変調波形を示す略線図である。図24Fは、図24BのトラックT2、T4、・・・に対応する潜像形成に用いられるレーザ光の変調波形を示す略線図である。
図25Aは、上述の構造体を読み取り面に形成するための読み取り面形成用原盤の成形面の構成の一例を示す概略斜視図である。図25Bは、図25Aに示した読み取り面形成用原盤の成形面の一部を拡大して表す平面図である。読み取り面形成用原盤201は、その表面に凹部である構造体202が多数配置された構成を有している。読み取り面形成用原盤201は、円柱状または円筒状の形状を有する。読み取り面形成用原盤201の材料は、例えばガラスを用いることができるが、この材料に特に限定されるものではない。後述するロール原盤露光装置を用い、2次元パターンが空間的にリンクし、1トラック毎に極性反転フォマッター信号と記録装置の回転コントロラーを同期させ信号を発生し、CAVで適切な送りピッチでパターニングすることにより、六方格子パターンまたは準六方格子パターンを記録することができる。極性反転フォマッター信号の周波数とロールの回転数を適切に設定することにより、所望の記録領域に空間周波数が一様な格子パターンを形成することができる。
図26を参照して、モスアイパターンの露光工程に用いる原盤露光装置の構成について説明する。この原盤露光装置は、光学ディスク記録装置をベースとして構成されている。
上述の構成を有する光情報記録媒体は、読み取り面形成用原盤201を用いて例えば以下のようにして作製される。
まず、シート上に紫外線硬化樹脂などの感光性樹脂を塗布する。次に、読み取り面形成用原盤201を回転させながら、その成形面を、シート上に塗布された感光性樹脂に押し当てるとともに、シート側から紫外線などの光を感光性樹脂に対して照射することにより、感光性樹脂を硬化させる。その後、読み取り面形成用原盤201の回転を維持しながら、その成形面を、硬化した感光性樹脂から剥離する。これにより、直線状に配列された複数の構造体11がシートの一主面に形成される。次に、このシートを円環形状に打ち抜き、打ち抜いた円環形状のシートを、紫外線硬化性樹脂、または感圧性粘着剤などからなる貼合層を介して、基板上に形成された情報信号層上に貼り合わせる。
以上により、目的とする光情報記録媒体が得られる。
図27Aは、本発明の第12の実施形態に係る光情報記録媒体の読み取り面の一部を示す概略平面図である。図27Bは、図27Aに示した光情報記録媒体の読み取り面一部を拡大して表す平面図である。
この第12の実施形態において、上記以外のことは、第1の実施形態と同様である。
図28Aは、本発明の第13の実施形態に係る光情報記録媒体の構成の一例を示す概略平面図である。図28Bは、図28Aに示した光情報記録媒体の一部を拡大して表す平面図である。図28Cは、図28BのトラックT1、T3、・・・における断面図である。図28Dは、図28BのトラックT2、T4、・・・における断面図である。図29は、図28Bに示した光情報記録媒体の一部を拡大して表す斜視図である。
この第13の実施形態では、第1の実施形態における凸形状の構造体11の形状を反転して凹形状としているので、第1の実施形態と同様の効果を得ることができる。
まず、CD規格に準拠した情報信号を記録した信号面形成用スタンパ(ニッケル製スタンパ)と、この信号面形成用スタンパの信号領域に対応する領域(半径20mm〜59mm)に、以下に示すサブ波長構造体を形成した読み取り面形成用スタンパとを準備した。
構造体のピッチ(構造中心間距離):約300nm
構造体の高さ:約250nm
構造体の配置パターン:準六方格子配置
構造体の形状:楕円錐台形状
まず、実施例1と同様の信号面形成用スタンパと読み取り面形成用スタンパとを準備した。次に、信号面形成用スタンパを射出成形装置の一方の金型に取り付け、他方の金型にはスタンパを取り付けずミラー面(平坦面)とし、この射出成形装置を用いて樹脂材料にスタンパの形状を転写した。これにより、凹凸パターンが形成された信号面と、平坦面とを有する厚さ0.6mmの第1のPC基板が得られた。次に、読み取り面形成用スタンパを射出成形装置の一方の金型に取り付け、他方の金型にはスタンパを取り付けずミラー面(平坦面)とし、この射出成形装置を用いて樹脂材料にスタンパの形状を転写した。これにより、サブ波長構造体パターンが形成された読み取り面と、平坦面とを有する厚さ0.6mmの第2のPC基板が得られた。
まず、DVD−SL(DVD-Single Layer)規格に準拠した情報信号を記録した信号面形成用スタンパ(ニッケル製スタンパ)と、この信号面形成用スタンパの信号領域に対応する領域(半径20mm〜59mm)に、実施例1と同様のサブ波長構造体を形成した読み取り面形成用スタンパとを準備した。
まず、DVD−DL(DVD-Dual Layer)のL0層の規格に準拠した情報信号を記録したL0層用の信号面形成用スタンパ(ニッケル製スタンパ)と、この信号面形成用スタンパの信号領域に対応する領域(半径20mm〜59mm)に、実施例1と同様のサブ波長構造体を形成した読み取り面形成用スタンパとを準備した。
まず、SACD−HD(SACD-Hybrid)規格に準拠した情報信号を記録した信号面形成用スタンパ(ニッケル製スタンパ)と、この信号面形成用スタンパの信号領域に対応する領域(半径20mm〜59mm)に、実施例1と同様のサブ波長構造体を形成した読み取り面形成用スタンパとを準備した。
まず、DVD−DL(DVD-Dual Layer)のL0層の規格に準拠した情報信号を記録したL0層用の信号面形成用スタンパ(ニッケル製スタンパ)を準備した。次に、L0層用の信号面形成用スタンパを射出成形装置の一方の金型に取り付け、他方の金型にはスタンパを取り付けずミラー面(平坦面)とし、この射出成形装置を用いて樹脂材料にスタンパの形状を転写した。これにより、凹凸パターンが形成された信号面と、平坦面とを有する厚さ0.6mmの第2のPC基板が得られた。
まず、DVD−DL規格に準拠した光ディスクを準備した。次に、実施例1と同様のサブ波長構造体を形成した読み取り面形成用石英製スタンパ(厚さ0.7〜1.2mm)を準備した。次に、スピンコート法により、光ディスクの読み取り面上に、少なくともサブ波長構造体の高さ以上(400nm以上)の厚さに紫外線硬化樹脂を塗布した。次に、この紫外線硬化樹脂に対して読み取り面形成用スタンパに押しつけ、石英製スタンパの背面側から紫外線を照射し、紫外線硬化樹脂を硬化することにより、光ディスクの読み取り面に複数のサブ波長構造体を形成した。これにより、読み取り面に所望のサブ波長構造体を有する、DVD−DL規格に準拠した光ディスクが得られた。
なお、この実施例7では、石英製スタンパを用いる場合を例として説明したが、ニッケル製スタンパを用いて成形転写で作製した透明基板を石英スタンパの代わりに用いることも可能である。また、この実施例7で用いたサブ波長構造体の形成方法は、DVD−DLに限らず、CDやBDなどの種々の規格の光ディスクに適用可能である。
まず、DVD−DL規格に準拠した光ディスクを準備した。次に、実施例1と同様のサブ波長構造体を形成した読み取り面形成用石英製スタンパ(厚さ0.7〜1.2mm)を準備した。次に、ポリカーボネート、PMMA、またはPETなどからなる厚さ約0.1mmのフィルム基体上に、サブ波長構造体の高さ以上(400nm以上)の厚さに紫外線硬化樹脂を塗布した。次に、石英製スタンパを紫外線硬化樹脂に対して押しつけ、石英製スタンパの背面側から紫外線を照射して硬化させた後、石英製スタンパをフィルム基体から剥離した。これにより、表面に所望のサブ波長構造体を有する厚さ約0.1mmのフィルム基体が得られた。
この実施例8で用いたサブ波長構造体の形成方法は、DVD−DLに限らず、CDやBDなどの種々の規格の光ディスクに適用可能である。
この検討に際しては以下の2つの条件を前提条件とした。
(1)現行の成形条件で対応可能、または製造に大きな影響を及ぼさない程度の簡単な条件で設定変更に対応可能である。
(2)現行の信号パターン露光装置で簡単にパターン形成可能である。
また、反射防止効果の指標である反射率はポリカーボネート、アクリル、ガラスなど基板を念頭にn=約1.5に対して効果があるレベルとして0.2%以下、望ましいレベルの目安を0.1%以下とした。
BD規格に準拠した光ディスクの読み取り面に対して、下記の構成を有する複数の構造体を形成した場合の反射率を、RCWAシミュレーション法を用いて求めた。その結果を図30に示す。
パターンピッチ:300nm
パターン高さ:120nm
パターン上部の平坦部径:90nm
パターン配列:六方格子状
パターン形状:円錐台形状
本実施例において、平坦部径は平坦部の直径を意味する。
DVD規格に準拠した光ディスクの読み取り面に対して、下記の構成を有する複数の構造体を形成した場合の反射率を、RCWAシミュレーション法を用いて求めた。その結果を図30に示す。
パターンピッチ:300nm、
パターン高さ:180nm、
パターン上部の平坦部径:150nm
パターン配列:六方格子状
パターン形状:円錐台形状
CD規格に準拠した光ディスクの読み取り面に対して、下記の構成を有する複数の構造体を形成した場合の反射率を、RCWAシミュレーション法を用いて求めた。その結果を図30に示す。
パターンピッチ:300nm
パターン高さ:215nm
パターン上部の平坦部径:150nm
パターン配列:六方格子状
パターン形状:円錐台形状
BD規格に準拠した光ディスクの読み取り面に対して、下記の構成を有する複数の構造体を形成した場合の反射率を、RCWAシミュレーション法を用いて求めた。その結果を図31A〜図31Cに示す。
パターンピッチ:120〜450nmの範囲内で変更
パターン高さ:120nm
パターン上部の平坦部径:設定ピッチの0.3倍(円錐台形)、および0(円錐形)
パターン配列:六方格子状
パターン形状:円錐台形状、円錐形状
また、図31A、図31Bから、何れの場合もピッチを450nmとした場合、約390nm波長付近以下で急激な反射率上昇が認められる。これは、ピッチ450nmに対して√3/2を乗じた値で、六方格子配置の場合の実効的な最隣接の回折格子間隔となる寸法値に相当する。これは、正三角形の各頂点にパターンが配置された場合の三角形の高さの値である(一辺の長さはピッチ寸法)。
なお、四方格子配置の場合にはピッチ寸法そのものが実効的な最隣接の回折格子間隔になるのでそのまま450nmとなる。
パターン密度は六方格子配置の方が四方格子より大きくなり有利なので六方格子を中心に説明するが、ピッチ450nmの場合 波長390nm以下では回折の影響による反射率上昇があるため、反射防止効果が得られないことを示している。
このことから、BDのOP波長405nmの場合にこの回折格子による反射率上昇の影響が生じるピッチ寸法は405nmを√3/2で割った468nmであり、約470nm以下のピッチ寸法にすればOP波長405nmに対して反射防止効果が得られることになる。
BD規格に準拠した光ディスクの読み取り面に対して、下記の構成を有する複数の構造体を形成した場合の反射率を、RCWAシミュレーション法を用いて求めた。その結果を図32A〜図32Cに示す。
パターンピッチ:300nm
パターン高さ:40〜200nmの範囲内で変更
パターン上部の平坦部径:設定ピッチの0.3倍(円錐台形)、および0(円錐形)
パターン配列:六方格子状
パターン形状:円錐台形状、円錐形状
また、パターン上部の平坦部径をピッチの0倍(円錐形)とした場合、高さが高くなるにつれて反射率は低くなり効果が大きくなっていくものの、反射率0%付近を得るには160nm以上の高さが必要となる。広く考えれば高さ80〜200nm範囲で反射防止の効果は得られるといえる。
高さは低い程本発明の目的にはかなっているが、反射防止効果としては高い程有利な面があるので、BDピット高さ約100nmの2倍が上限値の目安と考えられる。
BD規格に準拠した光ディスクの読み取り面に対して、下記の構成を有する複数の構造体を形成した場合の反射率を、RCWAシミュレーション法を用いて求めた。その結果を図33A、図33Bに示す。
パターンピッチ:300nm
パターン高さ :120nm
ターン上部の平坦部径:ピッチの0〜0.7倍まで変化
パターン配列:六方格子状
パターン形状:円錐台形状、円錐形状
DVD規格に準拠した光ディスクの読み取り面に対して、下記の構成を有する複数の構造体を形成した場合の反射率を、RCWAシミュレーション法を用いて求めた。その結果を図34A〜図34Cに示す。
パターンピッチ:120〜750nmの範囲内で変更
パターン高さ:180nm
パターン上部の平坦部径 : 設定ピッチの0.5倍(円錐台形)、および0(円錐形)
パターン配列:六方格子状
パターン形状:円錐台形状、円錐形状
また、上記BD規格に準拠した光ディスクの場合と同様に、図34A、図34Bから、何れの場合もピッチを大きくした場合に、回折の影響による反射率が急激に変化する領域が現れるようになる。
六方格子配置でピッチを750nmとした場合には上述したように、この数値に√3/2を乗じた値約650nmが 実効的な最隣接の回折格子間隔となる寸法値に相当するので、この寸法以下の波長領域で急激な反射率上昇が認められるようになる。
ここで、650nmはそのままDVDのOP波長となるため、DVDの場合にはピッチ寸法750nm以下で反射防止効果が得られることになる。なお、四方格子配置の場合はピッチ寸法が最隣接の回折格子間隔となるので、ピッチ寸法650nm以下で反射防止の効果が得られることになる。
以上により、DVD規格に準拠した光ディスクの場合に反射防止効果を得るためには、パターンピッチを約750nm以下の範囲にすることが好ましい。
DVD規格に準拠した光ディスクの読み取り面に対して、下記の構成を有する複数の構造体を形成した場合の反射率を、RCWAシミュレーション法を用いて求めた。その結果を図35A〜図35Cに示す。
パターンピッチ:300nm
パターン高さ:80〜260nmの範囲内で変更
パターン上部の平坦部径:設定ピッチの0.5倍(円錐台形)、および0(円錐形)
パターン配列:六方格子状
パターン形状:円錐台形状、円錐形状
また、パターン上部の平坦部径をピッチの0倍(円錐形)とした場合には、高さが高くなるにつれて反射率は低くなり、反射防止の効果が大きくなっていくものの、反射率0%付近を得るには少なくとも260nm以上の高さが必要となる。
広く考えれば高さ80〜260nm範囲で反射防止の効果は得られるといえる。
高さは低い程、本発明の目的にはかなっているが、反射防止効果としては高い程有利な面があるので、DVDピット高さの約130nmの2倍が上限値の目安と考えられる。
DVD規格に準拠した光ディスクの読み取り面に対して、下記の構成を有する複数の構造体を形成した場合の反射率を、RCWAシミュレーション法を用いて求めた。その結果を図36A〜図36Cに示す。
パターンピッチ:300nm
パターン高さ:180nm
パターン上部の平坦部径:ピッチの0〜0.7倍まで変化
パターン配列:六方格子状
パターン形状:円錐台形状、円錐形状
CD規格に準拠した光ディスクの読み取り面に対して、下記の構成を有する複数の構造体を形成した場合の反射率を、RCWAシミュレーション法を用いて求めた。その結果を図37A〜図37Cに示す。
パターンピッチ:120〜900nmの範囲内で変更
パターン高さ:215nm
パターン上部の平坦部径:設定ピッチの0.5倍(円錐台形)、および0(円錐形)
パターン配列:六方格子状
パターン形状:円錐台形状、円錐形状
パターン上部の平坦部径をピッチの0倍とした場合でも、ピッチ150〜900nmの範囲で反射率は2%以下なので、反射防止の効果は得られる。
また、上記BD、DVD規格に準拠した光ディスクの場合と同様に、図37A、図37Bから、何れの場合もピッチを大きくした場合に、回折の影響による反射率が急激に変化する領域が現れるようになる。
六方格子配置でピッチを900nmとした場合には先述したようにこの数値に√3/2を乗じた値約780nmが実効的な最隣接の回折格子間隔となる寸法値に相当するので、この寸法以下の波長領域で急激な反射率上昇が認められるようになる。
ここで、780nmはそのままCDのOP波長となるため、CDの場合にはピッチ寸法900nm以下で反射防止効果が得られることになる。なお、四方格子配置の場合はピッチ寸法が最隣接の回折格子間隔となるので、ピッチ780nm以下の領域にて反射防止効果が得られる。
以上により、CDに準拠した光ディスクの場合には、反射防止効果を得るためには、パターンピッチを900nm以下の範囲にすることが好ましい。
CD規格に準拠した光ディスクの読み取り面に対して、下記の構成を有する複数の構造体を形成した場合の反射率を、RCWAシミュレーション法を用いて求めた。その結果を図38A〜図38Cに示す。
パターンピッチ:300nm
パターン高さ:100〜350nmの範囲内で変更
パターン上部の平坦部径:設定ピッチの0.5倍(円錐台形)、及び0(円錐形)
パターン配列:六方格子状
パターン形状:円錐台形状、円錐形状
また、パターン上部の平坦部径をピッチの0倍(円錐形)とした場合には、パターン高さが高くなるにつれて反射率は低くなり、反射防止の効果が大きくなっていくものの、反射率0%付近を得るには、少なくとも350nm以上の高さが必要となる。広く考えれば高さ100〜300nm範囲で、反射防止の効果は得られるといえる。
高さは低い程、本発明の目的にはかなっているが、反射防止効果としては高い程有利な面があるので、CDピット高さ約150nmの2倍が上限値の目安と考えられる。
CD規格に準拠した光ディスクの読み取り面に対して、下記の構成を有する複数の構造体を形成した場合の反射率を、RCWAシミュレーション法を用いて求めた。その結果を図39A、図39Bに示す。
パターンピッチ:300nm
パターン高さ:215nm
パターン上部の平坦部径:ピッチの0〜0.8倍まで変化
パターン配列:六方格子状
パターン形状:円錐台形状、円錐形状
BD規格に準拠した光ディスクの読み取り面に対して、下記の構成を有する複数の構造体を形成した場合の反射率を、RCWAシミュレーション法を用いて求めた。その結果を図40Aに示す。
パターンピッチ:240nm
パターン高さ:80〜200nmの範囲内で変更
パターン配列:六方格子状
パターン形状:円錐台形状
DVD規格に準拠した光ディスクの読み取り面に対して、下記の構成を有する複数の構造体を形成した場合の反射率を、RCWAシミュレーション法を用いて求めた。その結果を図40Bに示す。
パターンピッチ:300nm
パターン高さ:100〜260nmの範囲内で変更
パターン配列:六方格子状
パターン形状:円錐台形状
CD規格に準拠した光ディスクの読み取り面に対して、下記の構成を有する複数の構造体を形成した場合の反射率を、RCWAシミュレーション法を用いて求めた。その結果を図40Cに示す。
パターンピッチ:300nm
パターン高さ:120〜350nmの範囲内で変更
パターン配列:六方格子状
パターン形状:円錐台形状
BD、DVDおよびCD規格の何れの光ディスクの場合でも、比率(OP波長/高さ)(横軸)が約3.5近辺において、殆ど0%となる最少反射率が得られることがわかる。上記比率の値より大きくても(すなわち構造体高さが低くても)、小さくても(すなわち構造体高さが高くても)、反射率は大きくなる傾向にある。
殆ど0%となる最少反射率を得るためには、比率(OP波長/高さ)を約3.5とすると共に、BD準拠の光ディスクの場合には、比率(上部の平坦部径/ピッチ)を0.3〜0.4とし、DVDおよびCDに準拠する光ディスクの場合には、約0.5に設定することが好ましい。
1a 第1の成形体
1b 第2の成形体
2 情報信号層
3 保護層
11 構造体
12 凹凸部
13 樹脂材料
14 貼合層
41 第1の基板
42 第2の基板
43 第1の情報信号層
44 中間層
45 第2の情報信号層
51 第1の基板
52 第1の情報信号層
53 第2の基板
54 第2の情報信号層
61 基板
62 保護層
Claims (13)
- 基板と、
上記基板上に形成された1層または2層以上の情報信号層と、
上記1層または2層以上の情報信号層上に形成された保護層と
を備え、
上記保護層の表面が、上記情報信号層に対して情報信号を記録または再生するための光が照射される読み取り面であり、
上記読み取り面には、複数のサブ波長構造体が形成されている光情報記録媒体。 - 上記サブ波長構造体の配置ピッチが、470nm以下であり、
上記サブ波長構造体の高さが、80nm以上200nm以下である請求項1記載の光情報記録媒体。 - 第1の基板と、
上記第1の基板上に形成された1層または2層以上の情報信号層と、
上記1層または2層以上の情報信号層上に形成された第2の基板と
を備え、
上記第2の基板の表面が、上記情報信号層に対して情報信号を記録または再生するための光が照射される読み取り面であり、
上記読み取り面には、複数のサブ波長構造体が形成されている光情報記録媒体。 - 上記サブ波長構造体の配置ピッチが、750nm以下であり、
上記サブ波長構造体の高さが、80nm以上240nm以下である請求項3記載の光情報記録媒体。 - 基板と、
上記基板上に形成された1層または2層以上の情報信号層と、
上記1層または2層以上の情報信号層上に形成された保護層と
を備え、
上記基板の表面が、上記情報信号層に対して情報信号を記録または再生するための光が照射される読み取り面であり、
上記読み取り面には、複数のサブ波長構造体が形成されている光情報記録媒体。 - 上記サブ波長構造体の配置ピッチが、900nm以下であり、
上記サブ波長構造体の高さが、100nm以上300nm以下である請求項5記載の光情報記録媒体。 - 上記複数のサブ波長構造体は、複数列のトラックをなすように配置され、
上記トラックは、同心円状、螺旋状または直線状である請求項1〜6のいずれか1項に記載の光情報記録媒体。 - 上記複数のサブ波長構造体は、六方格子パターン、準六方格子パターン、四方格子パターンまたは準四方格子パターンを形成している請求項7記載の光情報記録媒体。
- 上記トラックは、蛇行している請求項7記載の光情報記録媒体。
- 上記サブ波長構造体の高さHに対する、上記情報信号を記録または再生するための光の波長λの比率(λ/H)が、2以上6以下である請求項1、3または5記載の光情報記録媒体。
- 上記サブ波長構造体の配置ピッチPに対する、上記サブ波長構造体上部の平坦部径Rの比率(R/P)が、0以上0.7以下である請求項1、3または5記載の光情報記録媒体。
- 情報信号を記録または再生するための光が照射される読み取り面を有し、
上記読み取り面には、複数のサブ波長構造体が形成されている光情報記録媒体。 - 読み取り面形成用原盤の形状を樹脂材料に転写し、複数のサブ波長構造体が表面に形成された基板または保護層を形成する工程を備え、
上記基板または上記保護層の表面が、情報信号を記録または再生するための光が照射される読み取り面である光情報記録媒体の製造方法。
Priority Applications (5)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2011023390A JP2012164383A (ja) | 2011-02-04 | 2011-02-04 | 光情報記録媒体およびその製造方法 |
PCT/JP2012/053033 WO2012105724A1 (ja) | 2011-02-04 | 2012-02-03 | 光情報記録媒体およびその製造方法 |
EP12742531.2A EP2672482A1 (en) | 2011-02-04 | 2012-02-03 | Optical information recording medium and production method therefor |
US13/982,020 US20130308435A1 (en) | 2011-02-04 | 2012-02-03 | Optical information recording medium, and method of manufacturing the same |
CN2012800067621A CN103348410A (zh) | 2011-02-04 | 2012-02-03 | 光学信息记录介质及其制造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2011023390A JP2012164383A (ja) | 2011-02-04 | 2011-02-04 | 光情報記録媒体およびその製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2012164383A true JP2012164383A (ja) | 2012-08-30 |
Family
ID=46602918
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2011023390A Ceased JP2012164383A (ja) | 2011-02-04 | 2011-02-04 | 光情報記録媒体およびその製造方法 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US20130308435A1 (ja) |
EP (1) | EP2672482A1 (ja) |
JP (1) | JP2012164383A (ja) |
CN (1) | CN103348410A (ja) |
WO (1) | WO2012105724A1 (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2014151379A (ja) * | 2013-02-06 | 2014-08-25 | Dexerials Corp | ナノ構造体 |
JP2016001293A (ja) * | 2013-10-03 | 2016-01-07 | ナルックス株式会社 | 光学素子及びその取付方法 |
WO2020246135A1 (ja) * | 2019-06-05 | 2020-12-10 | ソニー株式会社 | 光記録媒体 |
WO2023007838A1 (ja) * | 2021-07-29 | 2023-02-02 | ソニーグループ株式会社 | 光記録媒体 |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2015197560A (ja) * | 2014-03-31 | 2015-11-09 | ソニー株式会社 | 光学素子、原盤およびその製造方法、ならびに撮像装置 |
Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2002027716A1 (fr) * | 2000-09-29 | 2002-04-04 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Support d'enregistrement d'informations et dispositif d'enregistrement/lecture d'informations |
JP2004022157A (ja) * | 2002-06-20 | 2004-01-22 | Sanyo Electric Co Ltd | 光ディスク及びその製造方法 |
JP2005258120A (ja) * | 2004-03-12 | 2005-09-22 | Fuji Photo Film Co Ltd | 光学部品用硬化性樹脂組成物、光学部品及び画像表示装置 |
JP2007515667A (ja) * | 2003-11-14 | 2007-06-14 | アプリリス インコーポレーテッド | 構造表面を備えたホログラフィックデータ記憶媒体 |
WO2009144970A1 (ja) * | 2008-05-27 | 2009-12-03 | シャープ株式会社 | 反射防止膜及び表示装置 |
WO2010143503A1 (ja) * | 2009-06-12 | 2010-12-16 | シャープ株式会社 | 反射防止膜、表示装置及び透光部材 |
Family Cites Families (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0628716A (ja) | 1992-07-06 | 1994-02-04 | Ricoh Co Ltd | 光情報記録媒体 |
JP2003208733A (ja) | 2001-11-08 | 2003-07-25 | Konica Corp | 光記録媒体及び情報の記録読み出し方法 |
JP4539657B2 (ja) * | 2007-01-18 | 2010-09-08 | ソニー株式会社 | 反射防止用光学素子 |
EP1968048A1 (en) * | 2007-03-08 | 2008-09-10 | Deutsche Thomson OHG | Optical storage medium and apparatus for reading of respective data |
JP4607139B2 (ja) * | 2007-03-19 | 2011-01-05 | 株式会社リコー | 追記型情報記録媒体及びマスター基板 |
EP1973110A3 (en) * | 2007-03-19 | 2009-04-29 | Ricoh Company, Ltd. | Minute structure and information recording medium |
JP5439783B2 (ja) * | 2008-09-29 | 2014-03-12 | ソニー株式会社 | 光学素子、反射防止機能付き光学部品、および原盤 |
JP4626721B1 (ja) * | 2009-09-02 | 2011-02-09 | ソニー株式会社 | 透明導電性電極、タッチパネル、情報入力装置、および表示装置 |
JP2011053496A (ja) * | 2009-09-02 | 2011-03-17 | Sony Corp | 光学素子およびその製造方法、ならびに原盤の製造方法 |
JP5821205B2 (ja) * | 2011-02-04 | 2015-11-24 | ソニー株式会社 | 光学素子およびその製造方法、表示装置、情報入力装置、ならびに写真 |
-
2011
- 2011-02-04 JP JP2011023390A patent/JP2012164383A/ja not_active Ceased
-
2012
- 2012-02-03 WO PCT/JP2012/053033 patent/WO2012105724A1/ja active Application Filing
- 2012-02-03 EP EP12742531.2A patent/EP2672482A1/en not_active Withdrawn
- 2012-02-03 US US13/982,020 patent/US20130308435A1/en not_active Abandoned
- 2012-02-03 CN CN2012800067621A patent/CN103348410A/zh active Pending
Patent Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2002027716A1 (fr) * | 2000-09-29 | 2002-04-04 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Support d'enregistrement d'informations et dispositif d'enregistrement/lecture d'informations |
JP2004022157A (ja) * | 2002-06-20 | 2004-01-22 | Sanyo Electric Co Ltd | 光ディスク及びその製造方法 |
JP2007515667A (ja) * | 2003-11-14 | 2007-06-14 | アプリリス インコーポレーテッド | 構造表面を備えたホログラフィックデータ記憶媒体 |
JP2005258120A (ja) * | 2004-03-12 | 2005-09-22 | Fuji Photo Film Co Ltd | 光学部品用硬化性樹脂組成物、光学部品及び画像表示装置 |
WO2009144970A1 (ja) * | 2008-05-27 | 2009-12-03 | シャープ株式会社 | 反射防止膜及び表示装置 |
WO2010143503A1 (ja) * | 2009-06-12 | 2010-12-16 | シャープ株式会社 | 反射防止膜、表示装置及び透光部材 |
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2014151379A (ja) * | 2013-02-06 | 2014-08-25 | Dexerials Corp | ナノ構造体 |
CN105209937A (zh) * | 2013-02-06 | 2015-12-30 | 迪睿合株式会社 | 纳米结构体 |
JP2016001293A (ja) * | 2013-10-03 | 2016-01-07 | ナルックス株式会社 | 光学素子及びその取付方法 |
WO2020246135A1 (ja) * | 2019-06-05 | 2020-12-10 | ソニー株式会社 | 光記録媒体 |
JP7468521B2 (ja) | 2019-06-05 | 2024-04-16 | ソニーグループ株式会社 | 光記録媒体 |
WO2023007838A1 (ja) * | 2021-07-29 | 2023-02-02 | ソニーグループ株式会社 | 光記録媒体 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN103348410A (zh) | 2013-10-09 |
EP2672482A1 (en) | 2013-12-11 |
US20130308435A1 (en) | 2013-11-21 |
WO2012105724A1 (ja) | 2012-08-09 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP2007035276A (ja) | 光情報媒体及びその媒体の製造方法 | |
WO2012105724A1 (ja) | 光情報記録媒体およびその製造方法 | |
JP5202534B2 (ja) | ポジティブマーク群及びネガティブマーク群を有するトラック群を備える光学記憶媒体、並びにその光学記憶媒体製造のためのスタンパ及び製造方法 | |
JP2000011454A (ja) | 光記録媒体と、これを用いた光記録再生装置と、光記録媒体の製造方法 | |
US8603602B2 (en) | Optional disk and method for manufacturing the same | |
JP4080741B2 (ja) | 多層光記録媒体の製造方法および多層光記録媒体 | |
JP4618111B2 (ja) | 光記録媒体およびその製造方法 | |
JP4812103B2 (ja) | 光ディスクの製造装置および製造方法 | |
JP2000242976A (ja) | 光情報媒体 | |
JP5189830B2 (ja) | 情報記録媒体及び原盤露光装置 | |
JP2006236509A (ja) | 光記録媒体およびその製造方法 | |
JP3955867B2 (ja) | 光情報記録媒体の製造方法 | |
WO2006028051A1 (ja) | 光情報記録媒体の製造方法及び光情報記録媒体 | |
JP4433632B2 (ja) | 光記録媒体の製造方法 | |
WO2018146905A1 (ja) | 光ディスク | |
JP2002279694A (ja) | 光ディスクおよびその製造方法ならびにその光ディスクに適した光ディスク装置および情報記録再生方法 | |
JP2004126041A (ja) | 光情報記録媒体 | |
JP2009087535A (ja) | 光記録媒体の製造方法 | |
JP2006155725A (ja) | 光ディスクの製造方法 | |
JP2004303351A (ja) | テストディスク | |
JP2006048762A (ja) | 光ディスクの製造方法 | |
JP2005353144A (ja) | 光ディスクおよび光ディスク製造方法 | |
JP2012160227A (ja) | 光記録媒体 | |
JP2010186560A (ja) | 光記録媒体 | |
JP2010186561A (ja) | 光記録媒体 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20131225 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20140715 |
|
A711 | Notification of change in applicant |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A712 Effective date: 20140807 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20140916 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20150310 |
|
A045 | Written measure of dismissal of application [lapsed due to lack of payment] |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A045 Effective date: 20150728 |