JPH04274037A - 光情報記録媒体の基板作成方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 【産業上の利用分野】

【０００１】本発明は、光情報記録媒体の基板作成方法
に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来における光情報記録媒体の基板作成
方法としては、例えば、特開平２−４２６５２号公報に
開示されているものがある。そこで、今、この種の第一
の従来例を、図２（ａ）〜（ｃ）に基づいて説明する。 まず、基板１は、その内周側にＲＯＭ領域２が形成され
、その外周側にＲＡＭ領域３が形成されている。ＲＯＭ
領域２には凹凸をなすピット４が形成されそのピット列
により情報が記録され、また、ＲＡＭ領域３にはトラッ
キング用のグルーブ５が形成されこの領域で書込み可能
となっている（ａ）。次に、外周のＲＡＭ領域３の表面
に記録層６を形成する（ｂ）。次に、内周のＲＯＭ領域
２及び外周のＲＡＭ領域３の全体に渡って反射層７を積
層する（ｃ）。次に、その反射層７の表面に図示しない
保護層を積層する。これにより、書込み可能なＲＡＭ領
域３をもった光情報記録媒体としての図示しない光ディ
スクＣＤを作成することが可能となる。なお、このよう
な書込みのできるＲＯＭ付きの光ディスクＣＤをＣＤＷ
Ｏと呼ぶ。

【０００３】次に、その第二の従来例を図３（ａ）〜（
ｃ）に基づいて説明する。まず、ガラス基板８上にフォ
トレジスト９を塗布する（ａ）。次に、そのガラス基板
８の内周側のＲＯＭ領域１０に深さ８００〜１５００Å
のピット１１を形成し、外周側のＲＡＭ領域１２に深さ
１０００〜２０００Åのグルーブ１３を形成する。この
場合、露光装置を用いてピット１１とグルーブ１３とで
は深さを変えて露光する。すなわち、ピット１１は低パ
ワーで露光してそのピット深さをコントロールし、グル
ーブ１３はその溝底がガラス面となるように高いレーザ
出力で露光する。このようにして形成されたピット１１
とグルーブ１３の深さが、ほぼそのまま光ディスクのガ
ラス基板８のピット１１とグルーブ１３の深さとなる（
ｂ）。次に、露光したフォトレジスト９の塗布されたガ
ラス基板８を現像、ベーキング、導電体付与、電鋳を順
次行うことによりスタンパ１４を作成する（ｃ）。次に
、そのスタンパ１４を用いて、成形若しくは２Ｐ法によ
って深さの異なるピット１１とグルーブ１３とを図示し
ない基板上に形成する。その後、ＲＡＭ領域１２には図
示しない記録層（色素）を積層し、そらに、そのＲＡＭ
領域１２とＲＯＭ領域１０との全面に渡り図示しない反
射層（Ａｕ）、保護層（ＵＶ樹脂）を順次塗布し、これ
によりＲＯＭ付きのハイブリッドタイプのＣＤＷＯを作
成することができる。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】上述したような従来の
作成方法においては、基板上の全面に渡って均一にフォ
トレジストを塗布し、その表面から露光条件を変えるこ
とによって深さの異なるピットやグルーブを形成してい
る。このため、グルーブの厚さを、例えば、フォトレジ
ストの厚みに設定すると、それよりも浅いピットを形成
するためには、ピットの底面が基板の底面に到達しない
ように露光パワーをコントロールする必要がある。図４
は、フォトレレジスト１５を露光パワーを変えて露光し
た場合の現像後の溝断面形状を示すものである。この場
合、曲線ｃのように、ピット１６の溝底がフォトレジス
ト１５の下部の基板底面１７に到達している時には、多
少の露光パワー変動があってもその溝形状はほとんど変
動しない。しかし、曲線ａ，ｂのように、ピット１６の
溝底が基板底面１７に到達していない時には、露光パワ
ーが少し変動するだけで溝形状すなわち溝深さ、溝幅と
も大きく変動する。従って、溝底が基板底面１７に到達
しない曲線ａ，ｂのような溝形状をもつピット１６に形
成した場合、それらの溝深さや溝幅が大きくバラツキ、
これにより再生を行った時の情報信号振幅の変動が問題
となる。しかも、この場合、溝底が基板底面まで到達し
ていないピット１６は、底面まで到達しているピット１
６の場合に比べてその形状がダレてしまうため、信号の
ジッタが大きくなり、これにより正確に情報を再生する
ことができないという問題がある。

【０００５】

【課題を解決するための手段】請求項１記載の発明では
、基板上にフォトレジストを予めピットの形成される第
一記録領域と再生案内用のグルーブの形成される記録可
能な第二記録領域とに対応して異なる膜厚にして形成し
、これら各領域により異なる膜厚とされた前記フォトレ
ジストの表面にレーザ光を露光し前記ピット及び前記グ
ルーブをこれらの各底面が前記基板の表面に到達するよ
うに形成し、このようにして形成された前記ピット及び
前記グルーブを有する前記基板の表面に導体を付与して
電鋳を行いこれによりスタンパを作成し、このスタンパ
の表面に形成された凹凸を透明樹脂上に転写することに
より前記ピットを有する前記第一記録領域と前記グルー
ブを有する前記第二記録領域との膜厚が異なる基板を作
成するようにした。

【０００６】請求項２記載の発明では、請求項１記載の
発明において、透明樹脂上のグルーブを有する記録可能
な第二記録領域の表面に記録層を形成し、この記録層及
び第一記録領域の表面に反射層、保護層を順次積層した
。

【０００７】

【作用】請求項１記載の発明においては、ピットの形成
される第一記録領域のフォトレジストの膜厚とグルーブ
の形成される第二記録領域のフォトレジストの膜厚とを
予め異ならせておくことによって、深さの異なるピット
とグルーブを作成する場合には、露光により単にピット
及びグルーブの底面を基板底面に到達させるだけでよい
ため、従来のように露光パワーのコントロールが不要と
なり、これによりピット、グルーブの深さや幅のバラツ
キの少ない品質の優れた基板を作成することができる。

【０００８】請求項２記載の発明においては、請求項１
記載の発明により得られたバラツキの少ない基板を用い
てＲＯＭ領域をもつＣＤＷＯタイプの基板を形成できる
ため、ＲＯＭ領域の信号振幅のバラツキやジッタの少な
い信頼性の高い光情報記録媒体を作成することが可能と
なる。

【０００９】

【実施例】本発明の一実施例を図１に基づいて説明する
。以下、光情報記録媒体の基板作成方法を図１（ａ）〜
（ｅ）に基づいて順次述べる。基板としてのガラス基板
１８上に第１層目のフォトレジスト１９を全面に渡って
塗布する。さらに、そのフォトレジスト１９の上部の外
周部のみに渡って第２層目のフォトレジスト２０を塗布
する。フォトレジスト１９のみが形成された内周部は第
一記録領域としてのＲＯＭ領域２１とされ、そのフォト
レジスト１９の膜厚はピット深さ（後述する）とされて
いる。また、フォトレジスト１９及びフォトレジスト２
０が形成された外周部は第二記録領域としてのＲＡＭ領
域２２とされ、それら２つのフォトレジスト１９，２０
を重ね合わせた膜厚はグルーブ深さ（後述する）とされ
ている（ａ）。

【００１０】この場合、フォトレジスト１９とフォトレ
ジスト２０とを同種類の材料により形成する場合には、
第１層目のフォトレジスト１９は第２層目のフォトレジ
スト２０を塗布する時、その第２層目の溶剤で溶かされ
てしまうため、フォトレジスト２０の塗布条件は、第１
層目の膜厚に関係なく、グルーブ深さが得られるような
塗布条件に設定する必要がある。その例として、約１．
３ｃｐのＯＦＰＲ−５０００を８００ｒｐｍのスピナー
で塗布することにより、約９００Åの第１層目のフォト
レジスト１９を形成する。その上に、外周部だけ約２ｃ
ｐのＯＦＰＲ−５０００を８００ｒｐｍで塗布すること
により、その外周部に合計膜厚として１８００Åのフォ
トレジスト層を形成することができる。また、他の例と
して、フォトレジスト１９とフォトレジスト２０とを、
異なる種類の材料により形成した場合には、第２層目の
フォトレジスト２０を塗布しても、第１層目のフォトレ
ジスト１９は溶かされないため、外周部の膜厚は第１層
目と第２層目とを加えたものとなる。

【００１１】次に、それらＲＯＭ領域２１及びＲＡＭ２
２領域により異なる膜厚とされた前記フォトレジスト１
９，２０の表面にレーザ光を露光し、その後、現像を行
う。その露光により、ＲＯＭ領域２１にはピット２３が
形成され、ＲＡＭ領域２２にはグルーブ２４が形成され
る。この時、ピット２３及びグルーブ２４は、これらの
各底面がガラス基板１８の表面に到達するように形成す
る（ｂ）。

【００１２】その後は周知の技術により以下のような処
理を順次行う。すなわち、このようにして形成されたピ
ット２３及びグルーブ２４を有するガラス基板１８の表
面に導体を付与して電鋳を行い、これによりスタンパ２
５を作成する（ｃ）。次に、そのスタンパ２５の表面に
形成された凹凸を透明樹脂２６上に転写する。これによ
り、その透明樹脂２６上において、ピット２３を有する
ＲＯＭ領域２１とグルーブ２４を有するＲＡＭ領域２２
とでは膜厚が微小に異なったいわゆる段差部Ａが形成さ
れたものとなる（ｄ）。この段差部Ａの差は、通常、０
．１μｍ以下に設定され、再生の際には全く支障はない
。次に、透明樹脂２６上のグルーブ２４を有する記録可
能なＲＡＭ領域２２の表面に記録層２７を形成し、さら
に、その記録層２７及びＲＯＭ領域２１の全面に渡って
反射層２８、図示しない保護層を順次積層する（ｅ）。

【００１３】上述したように、深さの異なるピット２３
とグルーブ２４を作成する場合、ピット２３の形成され
るＲＯＭ領域２１のフォトレジスト１９の膜厚とグルー
ブ２４の形成されるＲＡＭ領域２４のフォトレジスト２
０の膜厚とを予め異ならせておき、露光により、ピット
２３及びグルーブ２４の各底面をガラス基板１８の底面
に到達させるだけでよいため、従来のように露光パワー
の微妙なコントロールが不要となり、しかも、ピット２
３、グルーブ２４の深さや幅のバラツキの少ない品質の
優れた基板を作成することが可能となる。また、そのよ
うにして得られたバラツキの少ない基板を用いて、ＲＯ
Ｍ領域２１を備えたＣＤＷＯタイプの基板を作成するこ
とができるため、ＲＯＭ領域２１の信号振幅のバラツキ
やジッタの少ない信頼性の高い光情報記録媒体を作成す
ることが可能となる。

【００１４】

【発明の効果】請求項１記載の発明は、基板上にフォト
レジストを予めピットの形成される第一記録領域と再生
案内用のグルーブの形成される記録可能な第二記録領域
とに対応して異なる膜厚にして形成し、これら各領域に
より異なる膜厚とされたフォトレジストの表面にレーザ
光を露光しピット及びグルーブをこれらの各底面が基板
の表面に到達するように形成し、このようにして形成さ
れたピット及びグルーブを有する基板の表面に導体を付
与して電鋳を行いこれによりスタンパを作成し、このス
タンパの表面に形成された凹凸を透明樹脂上に転写する
ことによりピットを有する第一記録領域とグルーブを有
する第二記録領域との膜厚が異なる基板を作成するよう
にしたので、深さの異なるピットとグルーブを作成する
場合には、ピットの形成される第一記録領域のフォトレ
ジストの膜厚とグルーブの形成される第二記録領域のフ
ォトレジストの膜厚とを予め異ならせておくことによっ
て、露光により単にピット及びグルーブの底面を基板底
面に到達させるだけでよいため、従来のように露光パワ
ーのコントロールが不要となり、これによりピット、グ
ルーブの深さや幅のバラツキの少ない品質の優れた基板
を作成することができるものである。

【００１５】請求項２記載の発明は、透明樹脂上のグル
ーブを有する記録可能な第二記録領域の表面に記録層を
形成し、この記録層及び第一記録領域の表面に反射層、
保護層を順次積層したので、請求項１記載の発明により
得られたバラツキの少ない基板を用いてＲＯＭ領域をも
つＣＤＷＯタイプの基板を形成できるため、ＲＯＭ領域
の信号振幅のバラツキやジッタの少ない信頼性の高い光
情報記録媒体を作成することが可能となるものである。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の一実施例を示す工程図である。

【図２】第一の従来例を示す工程図である。

【図３】第二の従来例を示す工程図である。

【図４】従来におけるピット形成の際の問題点を示す側
面図である。

【符号の説明】

１８　　　　　　　　　　基板 １９，２０　　　　フォトレジスト ２１　　　　　　　　　　第一記録領域２２　　　　　
　　　　　第二記録領域２３　　　　　　　　　　ピッ
ト ２４　　　　　　　　　　グルーブ ２５　　　　　　　　　　スタンパ ２６　　　　　　　　　　透明樹脂 ２７　　　　　　　　　　記録層 ２８　　　　　　　　　　反射層

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】　　基板上にフォトレジストを予めピット
   の形成される第一記録領域と再生案内用のグルーブの形
   成される記録可能な第二記録領域とに対応して異なる膜
   厚にして形成し、これら各領域により異なる膜厚とされ
   た前記フォトレジストの表面にレーザ光を露光し前記ピ
   ット及び前記グルーブをこれらの各底面が前記基板の表
   面に到達するように形成し、このようにして形成された
   前記ピット及び前記グルーブを有する前記基板の表面に
   導体を付与して電鋳を行いこれによりスタンパを作成し
   、このスタンパの表面に形成された凹凸を透明樹脂上に
   転写することにより前記ピットを有する前記第一記録領
   域と前記グルーブを有する前記第二記録領域との膜厚が
   異なる基板を作成するようにしたことを特徴とする光情
   報記録媒体の基板作成方法。
2. 【請求項２】　　透明樹脂上のグルーブを有する記録可
   能な第二記録領域の表面に記録層を形成し、この記録層
   及び第一記録領域の表面に反射層、保護層を順次積層し
   たことを特徴とする請求項１記載の光情報記録媒体の基
   板作成方法。