JPH056578A - 光記録媒体及びその製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 プリピットの信号出力を向上させ、プリピッ
ト領域に於けるトラッキングエラー信号の振幅の低下を
防止し、ノイズの少ないＡＴ信号が得られる光記録媒体
及びその製造方法を提供する。 【構成】 トラッキンググルーブ及び該トラッキンググ
ルーブで挟まれた記録トラックを有する光記録媒体に於
て、該記録トラックの幅が特定の領域に於て、他の領域
の記録トラックの幅よりも広いか、又は特定の領域に於
て該トラッキンググルーブの深さが他の領域のトラッキ
ンググルーブの深さよりも浅い光記録媒体及びその製造
方法。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、光学的に再生可能なデ
ータが記録され得るトラックを有する光記録媒体に関
し、特にデータが記録され得るトラックを追跡、即ちト
ラッキングするためのトラッキングトラックを有する光
記録媒体及びその製造方法に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】一般に光記録媒体、例えば光ディスクや
光磁気ディスク等は、記録・再生ビームがディスク上の
データ記録トラックを正確に追尾できる様に、記録トラ
ックと光学的に識別可能に形成されたトラッキングトラ
ックを有し、又該トラッキングトラックに挟まれたデー
タ記録トラック（以後、記録トラックと称す。）には、
記録トラックの位置情報を光ヘッドの制御システムに与
えるためのアドレスデータ等がプリピットとして予め形
成されている。

【０００３】そして、このプリピットは、通常基板を通
過する様に該光記録媒体に照射される再生ビーム（トラ
ッキングビーム）に最大の変調を与える様に、λ／４ｎ
（λ：再生ビームの波長、ｎ：基板の屈折率）の奇数倍
の深さの凹部とされ、またトラッキングトラックとして
は基板に形成した溝（グルーブ）が一般的に用いられて
いる。

【０００４】そして、この様な光ディスクのトラッキン
グエラーの検出方法として、例えばシングルビームを用
いて、ディスク上で反射回折されたビーム光を、トラッ
ク中心に対して対象に配置された２分割フォトダイオー
ド上の２つの受光部での出力差として取出すことによ
り、トラッキングエラーを検出する、所謂プッシュプル
法や、記録トラックへのデータの記録、再生用の主ビー
ムの他に回折格子で分けられた±１次光を補助ビームと
して用い、補助ビームの反射光を受光する２つの受光部
の出力差をとることによりトラッキングエラーを検出す
るスリービーム法が知られている。

【０００５】ところで、この様な光記録媒体に於て、例
えば図１５，１６に示す様に、記録密度を高くするため
にプリピット長およびプリピット間隔をつめていくと、
読み取り光のスポット径が一定の場合、反射光量の振幅
Ｗ₁₆（明暗差）は減少していきプリピットのＳ／Ｎが低
下する。この傾向は特にディスク状光記録媒体の内周部
の記録トラックに形成されたプリピットに顕著である。

【０００６】これはプリピットとプリピットの中間に読
み取り光のスポットが入った時に、前後のプリピットの
干渉を受け十分な反射光量が得られない為である。そこ
でプリピットのピットサイズを小さくして、その部分の
影響を減少させると、プリピット上に読み取り光のスポ
ットがある時には十分に暗くならない為、結局信号出力
は向上しない。つまり、ピット形状を変更しても、読み
取り光のスポットが一定の場合、アドレスデータの記録
密度を高くすると、ピット間隔がつまった部分で十分な
信号出力が得られないといった問題があった。

【０００７】

【発明が解決しようとする課題】本発明は上記問題点に
鑑みなされたものであり、プリピット、特に間隔の詰ま
った部分に於けるプリピットの信号出力を向上させるこ
とのできる光記録媒体及びその製造方法を提供すること
を目的とする。

【０００８】又、本発明は、プリピットの信号出力を向
上させることができると共に、プリピット領域に於ける
トラッキングエラー信号の振幅の低下を防止することの
できる光記録媒体及びその製造方法を提供することを他
の目的とする。

【０００９】又本発明は、プリピット部の信号出力を向
上させることができ、光記録媒体の全面にわたって均一
なトラッキングエラー信号を与えると共に直流オフセッ
トに起因するプリピット領域でのＡＴ信号に発生するパ
ルス状の信号のもれ込みを防止し、ノイズの少ないＡＴ
信号が得られる光記録媒体を提供することを目的とする
ものである。

【００１０】

【課題を解決するための手段】即ち、本発明の光記録媒
体は、トラッキングトラック及び該トラッキングトラッ
クで挟まれた記録トラックを有する光記録媒体に於て、
該記録トラックの幅が特定の領域に於て他の領域の記録
トラックの幅よりも広いことを特徴とするものである。

【００１１】又、本発明の光記録媒体は、トラッキング
グルーブ及び該トラッキンググルーブで挟まれた記録ト
ラックを有する光記録媒体に於て、特定の領域のトラッ
キンググルーブの深さが他の領域のトラッキンググルー
ブの深さよりも浅いことを特徴とするものである。

【００１２】又、本発明の光記録媒体は、トラッキング
グルーブ及び該トラッキンググルーブで挟まれた記録ト
ラックを有する光記録媒体に於て、該記録トラックの幅
が特定の領域に於て他の領域の記録トラックの幅よりも
広く、且つ該特定の領域に於て該トラッキンググルーブ
の深さが他の領域のトラッキンググルーブの深さよりも
浅いことを特徴とするものである。

【００１３】又、本発明の光記録媒体用基板は、表面に
トラッキンググルーブ及び該トラッキンググルーブで挟
まれた記録トラックを有する光記録媒体用基板に於て、
特定の領域の記録トラックの幅が他の領域の記録トラッ
クの幅よりも広いことを特徴とする。

【００１４】又、本発明の光記録媒体用基板は、表面に
トラッキンググルーブ及び該トラッキンググルーブで挟
まれた記録トラックを有する光記録媒体用基板に於て、
特定の領域のトラッキンググルーブの深さが他の領域の
トラッキンググルーブの深さよりも浅いことを特徴とす
るものである。

【００１５】又、本発明の光記録媒体用基板は、表面に
トラッキンググルーブ及び該トラッキンググルーブで挟
まれた記録トラックを有する光記録媒体用基板に於て、
特定の領域の記録トラックの幅が、他の領域の記録トラ
ックの幅よりも広く、且つ該特定の領域に於て、該トラ
ッキンググルーブの深さが他の領域のトラッキンググル
ーブの深さよりも浅いことを特徴とするものである。

【００１６】更に、本発明のスタンパの製造方法は、表
面にトラッキンググルーブ及び該トラッキンググルーブ
で挟まれた記録トラックを有し、特定の領域のトラッキ
ンググルーブの深さが他の領域のトラッキンググルーブ
の深さよりも浅い光記録媒体用基板を成形する為のスタ
ンパの製造方法であって、 ａ）マスター用基板上にフォトレジスト層を形成する工
程 ｂ）該レジスト層に、該トラッキンググルーブのパター
ンに対応して収束レーザ光を走査して露光する工程 Ｃ）露光後のレジスト層を現像してマスターを形成する
工程 ｄ）マスターのレジスト層形成側の表面に導電化層を形
成した後該導電化層上に金属層を電着して、導電化層を
金属層と一体となし、次いで金属層をマスターから分離
する工程 の各工程を有し、該露光工程に於て、該特定領域のトラ
ッキンググルーブに対応するパターンを露光する収束レ
ーザ光のパワーを、他の領域のトラッキンググルーブに
対応するパターンを露光する収束レーザ光に比して低く
変調することを特徴とするものである。

【００１７】更に、又本発明のスタンパの製造方法は、
表面にトラッキンググルーブ及び該トラッキンググルー
ブで挟まれた記録トラックを有し、特定の領域の記録ト
ラックの幅が他の領域の記録トラックの幅よりも広い光
記録媒体用基板を成形するためのスタンパの製造方法で
あって、 ａ）マスター用基板上にフォトレジスト層を形成する工
程 ｂ）該レジスト層に、該トラッキンググルーブのパター
ンに対応して収束レーザ光を走査して露光する工程 Ｃ）露光後のレジスト層を現像してマスターを形成する
工程 ｄ）マスターのレジスト層形成側の表面に導電化層を形
成した後、該導電化層上に金属層を電着して、導電化層
を金属層と一体となし、次いで金属層をマスターから分
離する工程 の各工程を有し、該露光工程に於て、該特定領域のトラ
ッキンググルーブに対応するパターンを露光する収束レ
ーザ光のスポット径を他の領域のトラッキンググルーブ
に対応するパターンを露光する収束レーザ光のスポット
径よりも小さくすることを、特徴とするものである。

【００１８】次に、本発明を図面を用いて詳細に説明す
る。図１は本発明に係る光記録媒体の一実施態様を示す
プリピット領域の拡大平面図であり、図２は該プリピッ
ト領域の信号出力（反射光量）を示すグラフである。
図１に於て、Ｉはデータ領域、ＩＩはプリピット領域及
びＩＩＩはプリピット領域中の最密ピット領域である。
１はトラッキングトラックであるグルーブで１´はプリ
ピット領域ＩＩ内に形成されてなるグルーブであって、
更に３は記録トラック２に形成されてなるプリピットで
ある。

【００１９】そして、グルーブ１´の幅Ｌ₃ はプリピッ
ト領域ＩＩの記録トラック２´の幅Ｌ₄ がデータ領域Ｉ
の記録トラック２の幅Ｌ₂ よりも大きくなる様に設定さ
れる。但し、Ｌ₄ ＜Ｌ₅ （光スポット径）である。これ
によって記録トラックを照射する光スポット４内に於て
グルーブの占める面積が減少し、その為グルーブでの回
折反射光と０次回折光が干渉した場合にも反射光量の低
下を防止できる。その結果、図２に示すように、プリピ
ット領域、特に最密ピット領域ＩＩＩのプリピット間に
於ても反射光量を維持でき、十分な信号出力を得られる
ものである。

【００２０】なお、本発明に於て、最密プリピット領域
とは、隣接するプリピットの間隔が光ビームのスポット
径以下にプリピットが形成されている領域をいう。

【００２１】そして、本発明に於て、記録トラック２´
の幅Ｌ₄ と記録トラック２の幅Ｌ₂との関係、即ちＬ₂
／Ｌ₄ はＬ₄ がＬ₅ を超えない範囲に於て０．７〜１．
０、特に０．７〜０．８とすることにより、プリピット
の信号出力、特に最密ピット領域のピット間に於ても反
射光量の低下を抑制できるため好ましい領域である。

【００２２】なお、本発明に於て、光スポット径とは光
ビームの強度が中心強度の１／ｅ²になる径をいう。

【００２３】そして、本発明に於て、グルーブ１の深さ
としてはλ／４ｎより浅くλ／８ｎよりも深い値に設定
する。即ち、トラッキングトラックとしてグルーブを用
いる場合、グルーブの深さをλ／８ｎ（ｎ：基板の屈折
率、λ：記録及び／又は再生用光ビームの波長）とした
時に、トラッキングエラー信号は最大となることが知ら
れているが、図７に示す様にグルーブ深さを回折変調度
が最大となるλ／４ｎから浅くしていくと、トラックシ
ーク時に記録トラックとグルーブとの判別に用いるグル
ーブ横断信号変調度が低下するため、λ／８ｎよりも若
干深く設定することが好ましく、具体的にはλ／５ｎ〜
λ／７ｎ、特にλ／５ｎ〜λ／６ｎに設定することが望
ましい。

【００２４】また、上記本実施態様に於て、グルーブ１
´の幅Ｌ₃ とグルーブ１の幅Ｌ₁ との関係を下記式
（１）の関係、特に下記式（２）の関係とすることが好
ましい。

【００２５】

【数１】 ０．６０≦Ｌ₃ ／Ｌ₁ ≦０．９５ （１） ０．７≦Ｌ₃ ／Ｌ₁ ≦０．９５ （２）

【００２６】即ち、プッシュプル法を用いたトラッキン
グに於て、ミクロシーク等の為に対物レンズを偏心させ
た場合、２Ｄ−ＰＤ上でも光スポットが変位してしまい
光スポットがトラック中心にあってもＡＴ信号が０とな
らない直流オフセットが発生する。そして、その対策と
して、例えばオフセット量をＡＴ信号から差し引くこと
で補正しているが、オフセット量のＡＴ信号に対する割
合は、対物レンズの偏心量及び溝形状が一定の場合、Ａ
Ｔ信号の振幅に比例する。一方、従来の光記録媒体に於
て、トラッキングにプッシュプル法を用いた場合、プリ
ピット領域ではプリピットで回折された反射光が記録ト
ラックの他の部分での反射光と干渉しあう為反射光量が
減少し、トラッキングエラー信号（ＡＴ信号）の振幅が
低下する傾向がある。

【００２７】従って、プリピット領域ではデータ領域よ
りも、オフセット量が減少し、両領域でオフセット量に
差が生じてしまいデータ領域でのオフセット補正分がプ
リピット領域では逆にオフセットを生じさせてしまうと
いう問題がある。（以後、この現象を「もれ込み」とい
う。）しかし、プリピット領域のグルーブ１´の溝幅Ｌ
₃ を上記の関係となる様に狭くした場合、データ領域Ｉ
に比べてプリピット領域ＩＩでのＡＴ信号の振幅に対す
るオフセット量の割合を増大させることができる為、上
記の様にプリピット領域でＡＴ信号の振幅が低下しても
オフセット量としてはデータ領域とプリピット領域とで
殆んど差を無くすことができ、オフセットを確実に補正
できる。

【００２８】これは、溝幅が狭くなるにつれて溝による
光ビームの回折効率が低下し、２Ｄ−ＰＤ上に於ける０
次回折光の１次回折光に対する割合が増加したため、Ａ
Ｔ信号の振幅に対するオフセット量の割合が大きくなる
特性を有するためである。

【００２９】次に、図３、図４及び図５は本発明の光記
録媒体の第２の実施態様を示す平面図及びそのＡ−Ａ´
線及びＢ−Ｂ´線での概略断面図であり、図３〜図５に
於て、１はデータ領域Ｉ内のグルーブで、１´はプリピ
ット領域ＩＩ内のグルーブであり、３は記録トラック２
に形成されたプリピットである。

【００３０】そして、本実施態様に於て、グルーブ１´
はその深さｄ₂ が図４及び図５に示す様にデータ領域の
グルーブ１の深さｄ₁ よりも浅く形成されているもので
ある。即ち、本実施態様によれば、プリピット領域ＩＩ
に於てグルーブ１´による回折反射光と０次の回折光と
の干渉が弱められるため、反射光量の減少が抑えられる
ため、プリピット領域、例えば最密ピット領域ＩＩＩの
プリピット間に於ても図６に示す様に反射光量の振幅の
減少を抑え、プリピットの信号出力を確保できる。

【００３１】本実施態様に於て、グルーブ１の深さｄ₁
としては、前記した様に例えばグルーブ１の幅が０．５
μｍ、トラックピッチ１．６μｍのプリフォーマットを
有し、波長λ、スポット径１．５μｍの光ビームで記録
・再生される光ディスクの場合、グルーブの深さをλ／
８ｎ（ｎ：基板の屈折率）でトラッキングエラー信号は
最大となることが知られているが、図７に示す様に、グ
ルーブ深さを変調度が最大となるλ／４ｎから浅くして
いくと、トラックシーク時に記録トラックとグルーブの
判別に用いるグルーブ横断信号変調度が低下する為、λ
／８ｎよりも若干深く設定することが好ましく、具体的
にはλ／５ｎ〜λ／７ｎ、特にλ／５ｎ〜λ／６ｎに設
定される。

【００３２】そして、プリピット領域ＩＩのグルーブ１
´の深さｄ₂ としては、少なくともｄ₁ より浅く形成す
ることが好ましく、λ／８ｎ程度まで浅くした場合プリ
ピット領域、特に最密プリピット領域ＩＩＩに於ても、
プリピット間で十分な反射光量を得ることができ、又ト
ラッキングエラーも殆んど生じない。なお、上記グルー
ブ横断信号変調度とは図８に示すように、光スポットを
グルーブを横断する方向に走査したときに観測される反
射光量変化に於て、記録トラック部の反射光量をＩ
_top 、グルーブに於ける反射光量をＩ_bottom、そして鏡
面部に於ける反射光量をＩ₀ としたときに、

【００３３】

【数２】 （Ｉ_top −Ｉ_bottom）／Ｉ₀ で示される値である。

【００３４】そして、また上記の実施態様に於て、ｄ₂
としてλ／６ｎ〜λ／８ｎとした場合が特に好ましい。
即ち、プッシュプル法の場合、図９のＩ及びＩＩに示す
様に、データ領域とプリピット領域でグルーブの深さを
共にλ／８ｎより深い領域に設定した場合、記録トラッ
ク部ではプリピットで回折された反射光が他の部分での
反射光と干渉し合うため反射光量が減少し、一方グルー
ブ部もλ／８ｎより深い領域に設定していることから、
反射光量が低い為トラッキングエラー信号（ＡＴ信号）
の振幅が低下する傾向がある。

【００３５】このことは、例えば特定の記録トラックへ
光ヘッドを移動させる場合、ＡＴ信号をカウントするこ
とで記録トラックを横断した数をカウントすることが一
般的であるが、このときプリピット領域だけＡＴ信号が
小さい事はカウントミス等のエラーの原因となり易い。
しかし、図９のＩＩＩに示すように、ｄ₂ の値を上記の
範囲とすることでグルーブでの反射光量が上昇し、プリ
ピット領域のＡＴ信号の振幅の低下を防止でき、ディス
ク全面にわたって均一な振幅のＡＴ信号を与える光ディ
スクを得ることができるものである。

【００３６】なお、このときプリピット領域での溝横断
信号変調度は低下するが、もともとプリピットの影響で
溝横断信号変調度はかなり小さくなっているためと、時
間が短い点から、通常はドライブ装置側で何らかの対策
をとってプリピット領域の溝横断信号は使わないように
しているので問題にならない。

【００３７】又、グルーブ１´の深さｄ₂ を上記の範囲
内に設定した場合、ＡＴ信号の振幅の低下を防止できる
と共にプリピットの深さを光ビームの回折効果を大きく
損なわない範囲で浅くすることがてきる。

【００３８】即ち、プリピット領域におけるＡＴ信号の
振幅添加メカニズムは、次のように説明できる。プリピ
ットが、溝の周期に対してちょうど１８０度ずれた位置
にあるため、プリピットのみの回折によるプッシュプル
信号は、溝のみの回折によるＡＴ信号に対しちょうど逆
位相になる。そのため、プリピットのみの回折によるプ
ッシュプル信号は、溝のみの回折によるＡＴ信号を打ち
消す方向に働く。これにより、プリピット領域において
ＡＴ信号の振幅低下が生じるのである。プッシュプル信
号が最も良くでる深さはλ／８ｎであるから、λ／８ｎ
までの範囲においてプリピット深さが浅くなればなるほ
ど、プリピットのみの回折によるプッシュプル信号は大
きくなり、ＡＴ信号の振幅は低下してしまう。したがっ
て、従来プリピット信号のコントラストを確保するだけ
でなく、ＡＴ信号振幅低下の点からもプリピット深さを
浅くすることはできなかった。

【００３９】ところが、本実施態様によれば、グルーブ
の浅溝化によってグルーブ部の反射光量が確保されてい
るため（図１０参照）、プリピット信号だけでなくプリ
ピット領域のＡＴ信号も向上させることができるため、
プリピット深さを例えば１００〜２００μｍ程度浅くす
ることが可能となった。プリピット深さが浅い場合、例
えば射出成形法等で成形する場合にスタンパーのプリピ
ット領域の形状をディスク基板に一層高精度に転写でき
る効果がある。

【００４０】更に、上記の第２の実施態様に於て、ｄ₁
及びｄ₂ の関係として、

【００４１】

【数３】 ０．８０≦ｄ₂ ／ｄ₁ ≦０．９５ となる様に正確に設定した場合、前述のプリピット領域
に於けるＡＴ信号への「もれ込み」を防止でき、より高
品質なＡＴ信号を得ることができる。

【００４２】即ち、上記実施態様によれば、グルーブ深
さをλ／８ｎに向かって浅くすることでＡＴ信号の振幅
を大きくできると共に、浅溝化よる回折効率の減少に伴
って２Ｄ−ＰＤ上での０次回折光の１次回折光に対する
割合が増加する為に、ＡＴ信号の振幅に対するオフセッ
ト量の割合は急激に増大する。

【００４３】そこで、前述したようなプリピット領域と
データ領域との間でのオフセット量の差は、プリピット
領域の溝深さをデータ領域の溝深さに対して上記設定の
様に浅くすることでほとんど無視できる程度に小さくで
きる。この時、すでに述べてきた様に、プリピット信号
も向上し、プリピット領域のＡＴ信号の振幅も向上した
高品質な信号のでるディスクが得られるのである。

【００４４】次に、本発明の光記録媒体の他の実施態様
について説明する。図１１（ａ）は本発明の光記録媒体
の他の実施態様を表わす部分拡大図および同図（ｂ）は
基板を図１１（ａ）の形状に形成した時の信号出力を示
す。

【００４５】同図１１の光記録媒体は、プリピット領域
の最密ピット領域ＩＩＩのみグルーブを細くしたもので
あり、この場合も従来の光記録媒体に比べピット間隔の
つまった部分の信号出力が上昇する。

【００４６】図１２（ａ）は本発明の光記録媒体の更に
他の実施態様を示す拡大平面図であり、最密プリピット
領域ＩＩＩのピット間に対応する領域のみグルーブを細
く、記録トラックの幅を広く形成したものである。この
構成によっても図１２（ｂ）に示す様に、従来の光記録
媒体に比べ、ピット間隔のつまった部分の信号出力を上
昇させることができる。そして、図１１及び図１２に示
した実施態様に於て、プリピット領域のグルーブの細溝
化（記録トラックの幅を広く形成する）に代えて浅溝化
させても良く、又図３、図１１及び図１２の実施態様に
於て、グルーブをプリピット領域に於て細溝化及び浅溝
化の両方を行なってもよい。

【００４７】次に、かかる光記録媒体の製造方法につい
て説明する。即ち、フォトレジストをガラス盤に塗布し
たものをレーザ光によって露光し、現像してグルーブ１
及びプリピット３に対応するパターンを形成する通常の
原盤作成方法において、グルーブ１のパターン露光用の
レーザ光の出力をプリピット領域において低くすること
によって、図１や図３、図１１及び図１２に示す様なプ
リフォーマットに対応するパターンを有する原盤が形成
される。

【００４８】次いで、この原盤表面を導電化した後、電
鋳して金属膜を析出させ原盤を剥離することによって得
られるスタンパを用いて、インジェクション法、２Ｐ
法、注型成形法、コンプレッション法等の光記録媒体用
基板の周知の成形方法に従って成形することにより、本
発明の光記録媒体用基板を得ることができる。そして、
この基板上に、Ｔｂ−Ｆｅ−Ｃｏ非晶質薄膜等の光磁気
記録層や有機系色素を含有する有機記録層を形成し、次
いで必要に応じて反射膜、保護基板や保護膜を形成して
光記録媒体を得られる。

【００４９】又、上記スタンパの製造工程に於て、レジ
ストの露光時にビーム径をプリピット領域に於て小さく
することによって、トラッキンググルーブ幅がプリピッ
ト領域で狭い光記録媒体用基板を成形できるスタンパを
得ることができる。

【００５０】この方法としては、例えばテータ領域のト
ラッキンググルーブに対応するパターンの露光をフォト
レジストに行なう時には２つのビームを重ね合わせてレ
ジスト面上でのスポット径を大きくし、プリピット領域
のトラッキンググルーブに対応するパターンに於ては、
一方のビームをカットすることでスポット径を小さくし
て露光を行なうことによってかかるスタンパを得られる
ものである。

【００５１】又、本発明の光記録媒体の他の製造方法と
して、射出成形法を用いて光記録媒体用基板を成形する
際に、成形条件の調整によって転写率を低下させること
によっても製造することができる。

【００５２】即ち、図１３は射出成形時の転写の状態を
示すスタンパ６と樹脂５の断面説明図である。プリピッ
トパターン３はグルーブパターンより高いため、例えば
スタンパ温度を低くするなど成形条件を調整して転写率
を低下させた場合、例えば樹脂としてポリカーボネート
を用いた場合に、金属温度を９０℃前後に設定すること
によって、成形された光記録媒体用基板のプリピット３
付近のグルーブは図１４に示す様に細く、浅く形成する
ことができる。

【００５３】

【実施例】次に実施例を用いて本発明を更に詳細に説明
する。

【００５４】参考例１ 本発明に於て、評価の基準となる従来の光磁気ディスク
を下記の方法で作製した。先ず、以下の様にしてスタン
パを作成した。直径２５０ｍｍ、厚さ１０ｍｍのガラス
盤上にフォトレジスト（商品名：ＡＺ−１３００ＳＦ；
ヘキストジャパン製）をスピンコート法で厚さ２０００
Åに塗布した。

【００５５】次いで、このレジスト原盤の外径１２８ｍ
ｍ、内径５８ｍｍのドーナツ状の領域に、幅０．５μ
ｍ、ピッチ１．６μｍ、深さ９００Åでスパイラル状の
光ディスク用グルーブ及び該グルーブで挟まれたデータ
記録トラックに各々形成されてなる半径ｒ＝３５ｍｍに
おいて、グルーブに平行な方向の長さ０．９μｍ、深さ
１７５０Å、ピッチ１．６μｍのピット群からなる最密
プリピット領域を有するパターンを、前記レジスト原盤
を９００ｒｐｍで回転させてレーザカッティング機を用
いて露光した。但し、プリピット領域に相当するグルー
ブパターンのカッティングは半径３５ｍｍの位置に於て
露光用レーザのパワーを１５ｍＷとした。

【００５６】次いで、現像処理した後、レジストパター
ン上に、スパッタリングによりＮｉを１０００Åに成膜
した後、電鋳によってＮｉを更に３００μｍの厚さに析
出させ、次にＮｉ膜をレジスト原盤から剥離してスタン
パを作成した。このスタンパを用いて射出成形法で、図
１に示すプリフォーマットを有する直径１３０ｍｍ、厚
さ１．２ｍｍのポリカーボネート製光ディスク基板を作
製した。なお、成形時の射出成形装置の金型温度は９５
℃とした。

【００５７】こうして得た光ディスク基板を電子顕微鏡
で観察したところ、記録トラックの幅はデータ領域、プ
リピット領域とも０．９５μｍで、トラッキンググルー
ブの深さ及び幅はデータ領域、プリピット領域とも９０
０Å、０．６５μｍであった。次に、この光ディスク基
板のプリフォーマット転写側の表面にＳｉＯ₂ の保護
膜、Ｔｂ−Ｆｅ−Ｃｏ非晶質薄膜及びＳｉＯ₂ の保護膜
を順次スパッタ法で成膜した後、ゴム系ホットメルト接
着剤（メルトロン３Ｓ４２；ダイアボンド（株）製）を
塗布した後、直径１３０ｍｍ、厚さ１．２ｍｍのポリカ
ーボネート製保護基板を貼り合わせて光磁気ディスクを
得た。

【００５８】この光磁気ディスクを光磁気ディスクドラ
イブ（波長：８３０ｎｍ、Ｌ₅ ：１．５μｍ）に装着し
て、ｒ＝３５ｍｍ付近の記録トラックのプリピットを再
生した。この時の最密プリピット領域に於けるプリピッ
ト信号のコントラスト、データ領域及び最密プリピット
領域のトラッキングエラー信号（ＡＴ信号）のコントラ
スト（溝横断信号変調度）及び最密プリピット領域に於
けるＡＴ信号のコントラストに対するオフセット量を測
定した。

【００５９】なお、プリピット信号のコントラストはデ
ィスクドライブのトラッキングサーボを正常に動作さ
せ、再生光スポットが正確に記録トラックをトレースし
つつ再生する信号をデジタルストレージオシロスコープ
（商品名ＲＴＤ７１０；ソニーテクトロニクス（株）
製）で観測して得られる波形に於て、Ｖ₁ をピットの無
い鏡面でのＤＣ出力電圧、Ｖ₂ を再生光スポットがピッ
トとピットの間にある時の最大出力電圧、Ｖ₃ を再生光
スポットがピット上にある時の最小出力電圧としたと
き、

【００６０】

【数４】（Ｖ₂ −Ｖ₃ ）／Ｖ₁ で示される値である。

【００６１】以上の結果を表−１に示す。

【００６２】

【表１】

【００６３】実施例１ 先ず以下の様にしてスタンパを作成した。直径２５０ｍ
ｍ、厚さ１０ｍｍのガラス盤上にフォトレジスト（商品
名：ＡＺ−１３００ＳＦ；ヘキストジャパン製）をスピ
ンコート法で厚さ２０００Åに塗布した。

【００６４】次いで、このレジスト原盤の外径１２８ｍ
ｍ、内径５８ｍｍのドーナツ状の領域に、幅０．５μ
ｍ、ピッチ１．６μｍ、深さ９００Åでスパイラル状の
光ディスク用グルーブ及び該グルーブで挟まれたデータ
記録トラックに各々形成されてなる半径ｒ＝３５ｍｍに
おいて、グルーブに平行な方向の長さ０．９μｍ、深さ
１７５０Å、ピッチ１．６μｍのピット群からなる最密
プリピット領域を有するパターンを、前記レジスト原盤
を９００ｒｐｍで回転させてレーザカッティング機を用
いて露光した。但し、プリピット領域に相当するグルー
ブパターンのカッティングは半径３５ｍｍで露光用レー
ザのパワーを１５ｍＷから１３．５ｍＷに切替えて行な
った。

【００６５】次いで、現像処理した後、レジストパター
ン上に、スパッタリングによりＮｉを１０００Åに成膜
した後、電鋳によってＮｉを更に３００μｍの厚さに析
出させ、次にＮｉ膜をレジスト原盤から剥離してスタン
パを作成した。このスタンパを用いて、射出成形法で図
１に示すプリフォーマットを有する直径１３０ｍｍ、厚
さ１．２ｍｍのポリカーボネート製光ディスク基板を製
作した。なお、成形時の射出成形装置の金型温度は９５
℃とした。又、この基板のデータ領域のトラッキンググ
ルーブの深さｄ₁ は９００Å、プリピット領域のトラッ
キンググルーブの深さｄ₂ は７６５Åであった。

【００６６】次に、この光ディスク基板のプリフォーマ
ット転写側の表面にＳｉＯ₂ の保護膜、Ｔｂ−Ｆｅ−Ｃ
ｏ非晶質薄膜及びＳｉＯ₂ の保護膜を順次スパッタ法で
成膜した後、ゴム系ホットメルト接着剤（メルトロン３
Ｓ４２；ダイアボンド（株）製）を塗布した後、直径１
３０ｍｍ、厚さ１．２ｍｍのポリカーボネート製保護基
板を貼り合わせて光磁気ディスクを得た。

【００６７】この光磁気ディスクを光磁気ディスクドラ
イブ（波長：８３０ｎｍ，Ｌ₅ ：１．５μｍ）に装着し
て、ｒ＝３５ｍｍ付近の記録トラックのプリピットを再
生した。この時の最密プリピット領域に於けるプリピッ
ト信号のコントラストと、トラッキングエラー信号（Ａ
Ｔ信号）のコントラスト（溝横断信号変調度）及び、最
密プリピット領域に於けるＡＴ信号のコントラストに対
するオフセット量を参考例１と同様にして測定した。

【００６８】実施例２〜５ 実施例１に於て、プリピット領域のトラッキンググルー
ブの深さを表−２に示す様に変化させた以外は、実施例
１と同様にして光磁気ディスクを作製し、実施例１と同
様にして評価した。

【００６９】

【表２】

【００７０】上記実施例１〜５の光磁気ディスクの評価
結果を表−３に示す。但し、評価基準は下記表−４に示
す。

【００７１】

【表３】

【００７２】

【表４】

【００７３】なお、本発明に於て、オフセット量とはプ
リピット領域におけるＡＴ信号の振幅に対する「もれ込
み」量の割合であって、この値が小さくなる程プリピッ
ト領域に於けるオフセットが小さいことを示す。

【００７４】実施例６〜８ 実施例１のスタンパ製造工程に於て、データ領域とプリ
ピット領域とでフォトレジスト露光用のレーザのパワー
を低く変調させる代りに、スポット径をプリピット領域
で小さくすることによって、スタンパを製作した以外
は、実施例１と同様にして、データ領域の記録トラック
幅（Ｌ₂ ）とトラッキンググルーブ幅（Ｌ₁ ）及びプリ
ピット領域の記録トラック幅（Ｌ₄ ）とトラッキンググ
ルーブ幅（Ｌ₃ ）が各々表−５に示す値を有する図１に
示す光磁気ディスクを得た。

【００７５】

【表５】 この光磁気ディスクについて、実施例１と同様にして最
密プリピット領域のプリピット再生コントラスト及び最
密プリピット領域のオフセット量を評価した。その結果
を表−６に示す。

【００７６】

【表６】

【００７７】実施例９ 実施例１に於て、スタンパ製造時に、プリピット領域ト
ラッキンググルーブに対応するパターンを露光する時
に、データ領域の露光とパワー及びスポット径を変えず
に、データ領域及びプリピット領域のトラッキンググル
ーブの深さが共に９００Å、幅が共に０．６５μｍのパ
ターンに対応するスタンパを得た。次いで、このスタン
パを用いて、実施例１と同様にして射出成形法で光ディ
スク用基板を成形した。但し、金型温度を９０℃として
スタンパからの転写率を低下させた。

【００７８】こうして得た光ディスク用基板を電子顕微
鏡で観察したところ、記録トラックの幅は、図１４に示
す様にプリピット部で広く、それ以外の領域で狭く形成
されており具体的には表−７に示す通りであった。更
に、グルーブの深さはプリピット部で８００Å、それ以
外の領域で９００Åであった。

【００７９】次いで、この基板を用いて実施例１と同様
に光ディスクを作成し評価した。その結果を表−８に示
す。又、この光ディスクの信号出力を図１７に示す。

【００８０】

【表７】

【００８１】

【表８】

【００８２】又、前記参考例１の光ディスクの信号出力
を図１８に示す。図１７及び図１８から、転写率を低下
させた光ディスクの方が、プリピット間隔のつまった部
分での信号が大きく出ていることが分かる。

【００８３】

【発明の効果】以上説明した様に、本発明によればプリ
ピット領域のグルーブを細くまたは浅くすることによっ
て、プリピット間隔がつまった部分での信号出力が低下
せず、均一で良好なＳ／Ｎ比のプリピット再生信号を与
えると共に、プリピット領域に於けるＡＴ信号へのもれ
込みを防止した光記録媒体を得ることができる。

【００８４】又、本発明によればプリピット領域のグル
ーブを浅くすることにより、プリピットの信号出力を向
上させると共にトラッキングエラー信号の振幅の低下を
防止でき、均一で高Ｓ／Ｎ比のプリピット再生信号及び
均一で高品質のＡＴ信号を与える光記録媒体を得ること
ができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明に係る光記録媒体のプリピット領域の拡
大平面図である。

【図２】図１の光記録媒体のプリピット領域の信号出力
を示す概略図である。

【図３】本発明に係る光記録媒体の他の実施態様のプリ
ピット領域の拡大平面図である。

【図４】図３の光記録媒体のデータ領域のトラックに垂
直な方向のＡＡ′線断面図である。

【図５】図３の光記録媒体の最密プリピット領域のＢ
Ｂ′線断面図である。

【図６】図３の光記録媒体のプリピット領域の信号出力
を示す概略図である。

【図７】トラッキングエラー信号、グルーブ横断信号変
調度とグルーブ深さの関係を示す概略図である。

【図８】グルーブ横断信号変調度の説明図である。

【図９】従来の光記録媒体のデータ領域、プリピット領
域及び本発明に係る光記録媒体のプリピット領域に於け
るトラッキングエラー信号の関係を示す概略図である。

【図１０】グルーブの深さと反射光量の関係を示す概略
図である。

【図１１】本発明に係る光記録媒体の更に他の実施態様
を示す概略図である。

【図１２】本発明に係る光記録媒体の更に他の実施態様
を示す概略図である。

【図１３】本発明に係る光記録媒体の射出成形時の概略
断面図である。

【図１４】図１３の方法によって製造される光記録媒体
の拡大平面図である。

【図１５】従来の光記録媒体のプリピット領域の拡大平
面図である。

【図１６】図１５の光記録媒体のプリピット領域の信号
出力を示す概略図である。

【図１７】実施例９の光磁気ディスクの再生信号出力を
示すグラフである。

【図１８】参考例１の光磁気ディスクの再生信号出力を
示すグラフである。

【符号の説明】

１，１′ グルーブ ２，２′ 記録トラック ３ プリピット ４ 光スポット ５ 樹脂 ６ スタンパー Ｉ データ領域 ＩＩ プリピット領域 ＩＩＩ 最密プリピット領域

Claims (39)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 トラッキングトラック及び該トラッキン
   グトラックで挟まれた記録トラックを有する光記録媒体
   に於て、該記録トラックの幅が特定の領域に於て、他の
   領域の記録トラックの幅よりも広いことを特徴とする光
   記録媒体。
2. 【請求項２】 該特定の領域が該記録トラックにプリピ
   ットを備えたプリピット領域である請求項１記載の光記
   録媒体。
3. 【請求項３】 該特定の領域が最密プリピット領域であ
   る請求項１記載の光記録媒体。
4. 【請求項４】 該特定の領域の記録トラックの幅が、記
   録及び／又は再生を行なう光ビームが該基板の表面に形
   成する光スポットの直径より小さい請求項１記載の光記
   録媒体。
5. 【請求項５】 該特定の領域の記録トラックの幅をＬ
   ₄ 、他の領域の記録トラックの幅をＬ₂ としたとき、Ｌ
   ₂ ／Ｌ₄ の関係が０．７≦Ｌ₂ ／Ｌ₄ ＜１．０である請
   求項１記載の光記録媒体。
6. 【請求項６】 Ｌ₂ ／Ｌ₄ の関係が０．７≦Ｌ₂ ／Ｌ₄
   ≦０．８である請求項５の光記録媒体。
7. 【請求項７】 該特定の領域のトラッキングトラックの
   幅をＬ₃ 、他の領域のトラッキングトラックの幅をＬ₁
   としたとき、Ｌ₃ ／Ｌ₁ の関係が０．６０≦Ｌ₃ ／Ｌ₁
   ≦０．９５である請求項１記載の光記録媒体。
8. 【請求項８】 Ｌ₃ ／Ｌ₁ の関係が０．７≦Ｌ₃ ／Ｌ₁
   ≦０．９５である請求項７記載の光記録媒体。
9. 【請求項９】 該光記録媒体が、プッシュプル法でトラ
   ッキングエラーの検出を行なう記録装置に使用するもの
   である請求項１記載の光記録媒体。
10. 【請求項１０】 該光記録媒体が、プッシュプル法でト
    ラッキングエラーの検出を行なう再生装置に使用するも
    のである請求項１記載の光記録媒体。
11. 【請求項１１】 該トラッキングトラックが、基板に形
    成されているグルーブである請求項１記載の光記録媒
    体。
12. 【請求項１２】 該グルーブの深さがλ／４ｎより浅く
    λ／８ｎ（但し、λは照射光ビームの波長、ｎは基板の
    屈折率を示す）よりも深く設定されている請求項１１記
    載の光記録媒体。
13. 【請求項１３】 該グルーブの深さがλ／７ｎ以上λ／
    ５ｎ以下である請求項１２記載の光記録媒体。
14. 【請求項１４】 該グルーブの深さがλ／６ｎ以上λ／
    ５ｎ以下である請求項１３記載の光記録媒体。
15. 【請求項１５】 該特定の領域がプリピット間の領域で
    ある請求項１記載の光記録媒体。
16. 【請求項１６】 トラッキンググルーブ及び該トラッキ
    ンググルーブで挟まれた記録トラックを有する光記録媒
    体に於て、特定の領域のトラッキンググルーブの深さが
    他の領域のトラッキンググルーブの深さよりも浅いこと
    を特徴とする光記録媒体。
17. 【請求項１７】 該特定の領域が、該記録トラックにプ
    リピットを備えたプリピット領域である請求項１６記載
    の光記録媒体。
18. 【請求項１８】 該特定の領域が、最密プリピット領域
    である請求項１６記載の光記録媒体。
19. 【請求項１９】 該光記録媒体がプッシュプル法でトラ
    ッキングエラーの検出を行なう記録装置に使用するもの
    である請求項１６記載の光記録媒体。
20. 【請求項２０】 該光記録媒体がプッシュプル法でトラ
    ッキングエラーの検出を行なう再生装置に使用するもの
    である請求項１６記載の光記録媒体。
21. 【請求項２１】 該グルーブが基板に形成されてなる請
    求項１６記載の光記録媒体。
22. 【請求項２２】 該他の領域のグルーブの深さをｄ₁ と
    したときλ／８ｎ＜ｄ₁ ＜λ／４ｎ（但し、λは照射光
    ビームの波長、ｎは基板の屈折率を示す）である請求項
    ２１記載の光記録媒体。
23. 【請求項２３】 上記ｄ₁ がλ／７ｎ≦ｄ₁ ≦λ／５ｎ
    である請求項２２記載の光記録媒体。
24. 【請求項２４】 上記ｄ₁ がλ／６ｎ≦ｄ₁ ≦λ／５ｎ
    である請求項２３記載の光記録媒体。
25. 【請求項２５】 該特定領域のグルーブの深さをｄ₂ 、
    該他の領域のグルーブの深さをｄ₁ としたとき、λ／８
    ｎ≦ｄ₂ ＜ｄ₁ である請求項１６記載の光記録媒体。
26. 【請求項２６】 上記ｄ₂ がλ／８ｎ≦ｄ₂ ≦λ／６ｎ
    である請求項２５記載の光記録媒体。
27. 【請求項２７】 該光記録媒体がディスク状の光記録媒
    体である請求項１６記載の光記録媒体。
28. 【請求項２８】 該特定の領域がプリピット間に対応す
    る領域である請求項１６記載の光記録媒体。
29. 【請求項２９】 前記ｄ₁ 及びｄ₂ の関係が０．８０≦
    ｄ₂ ／ｄ₁ ≦０．９５である請求項１６記載の光記録媒
    体。
30. 【請求項３０】 トラッキンググルーブ及び該トラッキ
    ンググルーブで挟まれた記録トラックを有する光記録媒
    体に於て、該記録トラックの幅が特定の領域に於て他の
    領域の記録トラックの幅よりも広く、且つ該特定の領域
    に於て該トラッキンググルーブの深さが他の領域のトラ
    ッキンググルーブの深さよりも浅いことを特徴とする光
    記録媒体。
31. 【請求項３１】 表面にトラッキンググルーブ及び該ト
    ラッキンググルーブで挟まれた記録トラックを有する光
    記録媒体用基板に於て、特定の領域の記録トラックの幅
    が、他の領域の記録トラックの幅よりも広いことを特徴
    とする光記録媒体用基板。
32. 【請求項３２】 表面にトラッキンググルーブ及び該ト
    ラッキンググルーブで挟まれた記録トラックを有する光
    記録媒体用基板に於て、特定の領域のトラッキンググル
    ーブの深さが他の領域のトラッキンググルーブの深さよ
    りも浅いことを特徴とする光記録媒体用基板。
33. 【請求項３３】 表面にトラッキンググルーブ及び該ト
    ラッキンググルーブで挟まれた記録トラックを有する光
    記録媒体用基板に於て、特定の領域の記録トラックの幅
    が他の領域の記録トラックの幅よりも広く、且つ該特定
    の領域に於て該トラッキンググルーブの深さが他の領域
    のトラッキンググルーブの深さよりも浅いことを特徴と
    する光記録媒体用基板。
34. 【請求項３４】 表面にトラッキンググルーブ及び該ト
    ラッキンググルーブで挟まれた記録トラックを有し、特
    定の領域のトラッキンググルーブの深さが他の領域のト
    ラッキンググルーブの深さよりも浅い光記録媒体用基板
    を成形する為のスタンパの製造方法であって、 ａ）マスター用基板上にフォトレジスト層を形成する工
    程 ｂ）該レジスト層に、該トラッキンググルーブのパター
    ンに対応して収束レーザ光を走査して露光する工程 Ｃ）露光後のレジスト層を現像してマスターを形成する
    工程 ｄ）マスターのレジスト層形成側の表面に導電化層を形
    成した後、該導電化層上に金属層を電着して導電化層を
    金属層と一体となし、次いで金属層をマスターから分離
    する工程 の各工程を有し、該露光工程に於て、該特定領域のトラ
    ッキンググルーブに対応するパターンを露光する収束レ
    ーザ光のパワーを、他の領域のトラッキンググルーブに
    対応するパターンを露光する収束レーザ光に比して低く
    変調することを特徴とするスタンパの製造方法。
35. 【請求項３５】 表面にトラッキンググルーブ及び該ト
    ラッキンググルーブで挟まれた記録トラックを有し、特
    定の領域の記録トラックの幅が他の領域の記録トラック
    の幅よりも広い光記録媒体用基板を成形するためのスタ
    ンパの製造方法であって、 ａ）マスター用基板上にフォトレジスト層を形成する工
    程 ｂ）該レジスト層に、該トラッキンググルーブのパター
    ンに対応して収束レーザ光を走査して露光する工程 Ｃ）露光後のレジスト層を現像してマスターを形成する
    工程 ｄ）マスターのレジスト層形成側の表面に導電化層を形
    成した後、該導電化層上に金属層を電着して導電化層を
    金属層と一体となし、次いで金属層をマスターから分離
    する工程 の各工程を有し、該露光工程に於て、該特定領域のトラ
    ッキンググルーブに対応するパターンを露光する収束レ
    ーザ光のスポット径を他の領域のトラッキンググルーブ
    に対応するパターンを露光する収束レーザ光のスポット
    径よりも小さくすることを特徴とするスタンパの製造方
    法。
36. 【請求項３６】 トラッキンググルーブ及び該トラッキ
    ンググルーブで挟まれた記録トラックを有し、該記録ト
    ラックの幅が特定の領域に於て、他の領域の記録トラッ
    クの幅よりも広い光記録媒体用基板を射出成形法で製造
    する方法であって、樹脂を射出成形して基板を成形する
    際に、スタンパーからの転写率を制御することを特徴と
    する光記録媒体用基板の製造方法。
37. 【請求項３７】 該転写率を制御するために金型温度を
    低くする請求項３６記載の光記録媒体用基板の製造方
    法。
38. 【請求項３８】 該光記録媒体用基板の材料がポリカー
    ボネートである請求項３６記載の光記録媒体用基板の製
    造方法。
39. 【請求項３９】 該金型の温度が９０℃である請求項３
    ７記載の光記録媒体用基板の製造方法。