JPH04272027A - 吸着ハンドラ - Google Patents

吸着ハンドラ

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Publication number
JPH04272027A
JPH04272027A JP3033163A JP3316391A JPH04272027A JP H04272027 A JPH04272027 A JP H04272027A JP 3033163 A JP3033163 A JP 3033163A JP 3316391 A JP3316391 A JP 3316391A JP H04272027 A JPH04272027 A JP H04272027A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
suction
air
plate
workpiece
suction plate
Prior art date
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Pending
Application number
JP3033163A
Other languages
English (en)
Inventor
Junzo Kawakami
順三 川上
Hisaya Hasegawa
長谷川 久也
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sharp Corp
Original Assignee
Sharp Corp
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Filing date
Publication date
Application filed by Sharp Corp filed Critical Sharp Corp
Priority to JP3033163A priority Critical patent/JPH04272027A/ja
Publication of JPH04272027A publication Critical patent/JPH04272027A/ja
Pending legal-status Critical Current

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  • Manipulator (AREA)
  • Hooks, Suction Cups, And Attachment By Adhesive Means (AREA)
  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、クリーンルーム等の清
浄度の高い空間に設置された製造装置で加工される例え
ばシリコンウエハやガラス板等の加工部材の搬送および
固定に使用される吸着ハンドラに関するものである。
【0002】
【従来の技術】高精細な加工が要求される例えばIC(
IntegratedCircuit) や液晶表示パ
ネルは、基材となるシリコンウエハやガラス板等に付着
する空気内のダストが生産性に大きな影響を与えるもの
である。従って、上記のシリコンウエハやガラス板等の
加工部材は、図4に示すように、空気濾過フィルタ34
を備えた清浄度の高いクリーンルーム38に設置された
製造装置31で加工されるようになっている。
【0003】従来、上記の製造装置31は、人間がダス
トの発生源になることが多いため、加工部材の搬送およ
び固定を吸着ハンドラ33で行わせるようになっており
、この吸着ハンドラ33は、製造装置31の装置本体3
2と装置上面部35との間に水平方向に配設された吸着
板37を有している。そして、この吸着ハンドラ33は
、吸着板37で載置された加工部材を吸引し、加工部材
を吸着板37に吸着させることで保持するようになって
おり、加工部材は、搬送や固定に人手が介在しないため
、ダストの付着が防止されるようになっている。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記従
来の吸着ハンドラ33では、加工部材へのダストの付着
の防止が不充分なものになっている。
【0005】即ち、通常、クリーンルーム38は、空気
濾過フィルタ34を製造装置31の上方に備えており、
この空気濾過フィルタ34で濾過された空気は、図5に
示すように、空気濾過フィルタ34から床36方向とな
る下方向へ流動され、床36に形成された排気孔36a
…から排気されるようになっている。これにより、製造
装置31の周囲に漂うダストは、濾過された空気の下降
気流と共に下方向に移動され、床36の排気孔36a…
から排出されることになり、クリーンルーム38内は、
清浄度の高い状態が維持されるようになっている。
【0006】ところが、加工部材を吸着して保持する吸
着ハンドラ33は、吸着板37が製造装置31内に水平
方向に配設されているため、吸着板37が下降気流とな
る空気の流れ方向に対して垂直方向になっている。従っ
て、この吸着板37は、吸着板37の上方に流動して来
た空気の流れを遮ることになり、結果として空気の流れ
を偏らせ、吸着板37の上方で空気の澱みを生じさせる
ことになる。
【0007】さらに、上記の空気の澱みは、装置上面部
35が吸着板37の上方に位置するため、一層大きなも
のになっており、これらの装置上面部35と吸着板37
とで形成される空気の澱みは、ダストを停滞させること
で、吸着板37から加工部材方向となる上方に位置する
空気の清浄度を低下させることになり、ひいては吸着板
37にダストを堆積させることになっている。
【0008】このように、従来の吸着ハンドラ33は、
クリーンルーム38で使用される場合でも、吸着板37
の上方に位置する空気が澱むため、吸着板37に載置さ
れる加工部材へのダストの付着を充分に防止することが
困難になっている。従って、本発明においては、吸着板
37から加工部材方向に位置する空気の澱みを防止する
ことができる吸着ハンドラを提供することを目的として
いる。
【0009】
【課題を解決するための手段】本発明の吸着ハンドラは
、上記課題を解決するために、清浄度の高いクリーンル
ーム等の空間で、例えばシリコンウエハやガラス板等の
加工部材を吸着板に吸着して搬送および固定する吸着ハ
ンドラにおいて、上記吸着板には、加工部材を吸引する
吸引部である吸引排出孔が形成されている。そして、こ
の吸引部は、真空吸引手段である真空源に連通可能にな
っていると共に、ダストを除去する空気濾過手段である
空気濾過フィルタを介して圧縮空気手段である圧縮空気
源に連通可能になっていることを特徴としている。
【0010】
【作用】上記の構成によれば、吸着ハンドラは、吸着板
の吸引部と真空吸引手段とを連通させることで、加工部
材を吸引して吸着板に吸着させることが可能になってお
り、吸着板に吸着された加工部材は、清浄度の高い空間
で人手を介在させずに搬送および固定されるようになっ
ている。
【0011】また、吸着ハンドラは、吸引部と圧縮空気
手段とを連通させることで、圧縮空気手段から空気を吸
引部に送出させ、さらに、この吸引部で吸着板から加工
部材方向に噴出させることが可能になっている。そして
、吸引部から空気が噴出された場合には、噴出された空
気が噴出方向の空間部に存在する空気を流動させ、空気
の澱みを防止することになる。この際、噴出された空気
は、空気濾過手段でダストが除去されており、清浄度が
高いものになっている。従って、噴出方向となる吸着板
から加工部材方向に位置する空間部は、ダストが除去さ
れた空気による澱みの解消で、高い清浄度を維持するこ
とが可能になっている。
【0012】
【実施例】本発明の一実施例を図1ないし図3に基づい
て説明すれば、以下の通りである。
【0013】本実施例に係る吸着ハンドラは、図1に示
すように、例えばICや液晶表示パネル等の基材となる
シリコンウエハやガラス板等の加工部材11が載置され
る吸着板10と、外部の空気を濾過して清浄な空気にす
る空気濾過手段である空気濾過フィルタ12(品名:H
EPAフィルタ)と、2方向に切り換え可能な切換バル
ブ13・15とを有している。
【0014】上記の吸着板10は、図2にも示すように
、加工部材11との当接面10dが例えば400mm×
400mmの四角形状に形成されており、この当接面1
0dには、多数の吸引部である吸引排出孔10a…が形
成されている。これらの吸引排出孔10aは、横断面が
直径4mmの円形状に形成されており、縦方向および横
方向に隣接する吸引排出孔10a間が10mmの間隔で
配置されている。そして、これらの吸引排出孔10a…
は、図1に示すように、当接面10dから吸着板10の
内部に形成された中空部10bに連通されており、この
中空部10bは、吸着板10の当接面10dとは反対側
の面となる下面に形成された導通孔10cに連通されて
いる。
【0015】上記の導通孔10cは、空気濾過フィルタ
12に接続されている。この空気濾過フィルタ12は、
空気が通過した際に、例えば0.3μmのダストを99
.99%の割合で除去するようになっており、清浄な空
気を吸着板10の吸引排出孔10a…から流出させるよ
うになっている。
【0016】上記の空気濾過フィルタ12は、上述の切
換バルブ13の共通接続部13cに接続されている。こ
の切換バルブ13は、共通接続部13cに連通可能な一
対の接続部13a・13bを有しており、一方の接続部
13aは、真空ポンプ等の真空吸引手段である真空源1
4に接続されている。また、他方の接続部13bは、上
記の切換バルブ13と同様の切換バルブ15の共通接続
部15cに接続されている。そして、上記の共通接続部
13cと接続部13aとは、加工部材11を吸着板10
に吸着させる際に、連通状態にされるようになっている
一方、共通接続部13cと接続部13bとは、加工部材
11と吸着板10との吸着を解除する際、および加工部
材11が吸着板10に載置されていないときに連通状態
にされるようになっている。
【0017】また、上記の切換バルブ13の他方の接続
部13bに接続された切換バルブ15は、一方の接続部
15aが大気圧よりも高い圧力を発生する圧縮空気手段
である圧縮空気源16に接続されており、他方の接続部
15bが外部に開放されている。そして、上記の接続部
15aと共通接続部15cとは、加工部材11が吸着板
10に載置されていないときに連通状態にされるように
なっている一方、接続部15bと共通接続部15cとは
、加工部材11と吸着板10との吸着を解除する際に連
通状態にされるようになっている。
【0018】上記の真空源14および圧縮空気源16に
接続される吸着ハンドラ3は、図3に示すように、シリ
コンウエハやガラス板等の加工部材11から例えばIC
や液晶表示パネル等を形成する製造装置1に設けられて
いる。この製造装置1は、吸着板10を移動させる図示
しない移動手段等を内蔵した装置本体2と、この装置本
体2の上方に支持部材7・7を介して設けられた装置上
面部5とからなっており、この装置上面部5は、吸着ハ
ンドラ3で保持された加工部材11を所定の仕様に形成
する加工手段等を内蔵している。
【0019】上記の製造装置1は、清浄度が高められた
空間を形成するクリーンルーム9に備えられており、こ
のクリーンルーム9は、製造装置1が載置された床6と
、この床6から立ち上げられた側壁8・8と、これらの
側壁8・8の上端部に設けられた空気濾過フィルタ4と
で形成されている。
【0020】上記の製造装置1の上方に位置する空気濾
過フィルタ4は、上述の図1の空気濾過フィルタ12と
同様に、外部の空気が通過した際に、例えば0.3μm
のダストを99.99%の割合で除去するようになって
おり、清浄な空気をクリーンルーム9内に送出するよう
になっている。一方、製造装置1の下方に位置する床6
には、多数の排気孔6a…が形成されている。これらの
排気孔6a…は、クリーンルーム9内の空気を外部に排
気させるようになっており、空気濾過フィルタ4で濾過
された空気を床6方向に流動させるようになっている。
【0021】上記の構成において、吸着ハンドラ3の動
作について以下に説明する。
【0022】先ず、加工部材11を加工する場合には、
図1に示すように、加工部材11が吸着ハンドラ3の吸
着板10に載置されることになる。この後、切換バルブ
13の共通接続部13cと接続部13aとが連通状態に
され、真空源14と吸着板10の中空部10bとが連通
状態にされることになる。この際、吸着板10の当接面
10dは、載置された加工部材11に当接しており、当
接面10dに形成された吸引排出孔10c…が閉栓され
た状態になっている。従って、中空部10bは、真空源
14で圧力が低下されることになり、この中空部10b
の圧力の低下は、吸引排出孔10c…を介して加工部材
11を吸引することになる。そして、吸引された加工部
材11は、吸着板10に吸着されて保持されることにな
り、吸着板10と共に搬送されたり、或いは加工時に固
定されることになる。
【0023】次に、加工部材11の加工が終了した場合
には、切換バルブ13の共通接続部13cと接続部13
bとが連通状態にされると共に、切換バルブ15の共通
接続部15cと接続部15bとが連通状態にされること
になる。これにより、吸着板10の中空部10bは、切
換バルブ13・15を介して外部と連通した状態になり
、減圧された状態から大気圧の状態に復帰されることに
なる。そして、この中空部10bの大気圧への復帰は、
加工部材11への吸引力を消失させることになり、加工
部材11と吸着板10との吸着を解除させることになる
【0024】上記の吸着の解除で、加工部材11が吸着
板10から取り除かれると、切換バルブ15が切り換え
られ、共通接続部15cと接続部15aとが連通状態に
されることになる。これにより、吸着板10の中空部1
0bは、空気濾過フィルタ12と切換バルブ13・15
とを介して圧縮空気源16に連通された状態にされるこ
とになる。
【0025】上記の圧縮空気源16が中空部10bに連
通されると、圧縮空気源16は、所定の圧力で空気を送
出することになる。この空気は、切換バルブ15・13
を介して空気濾過フィルタ12に到達し、空気濾過フィ
ルタ12を通過する際に、空気中に存在していたダスト
が除去されることになる。従って、中空部10bには、
濾過された清浄度の高い空気が流入されることになり、
この中空部10bに流入された空気は、図3に示すよう
に、吸引排出孔10c…を介して吸着板10から加工部
材11方向となる上方へ例えば0.3m/secの平均
流速で噴出されることになる。
【0026】一方、図3に示すように、クリーンルーム
9では、製造装置1の上方に備えられた空気濾過フィル
タ4で濾過された空気を例えば0.3m/secの平均
流速で下方向に流動させており、製造装置1の周囲に漂
うダストを空気の下降気流と共に下方向に移動させ、床
6の排気孔6a…から排出させている。この際、上記の
下降気流は、装置上面部5と下降気流の流れ方向に対し
て垂直な吸着板10とで、吸着板10の上方に位置する
空間部17への流動が遮られているため、この空間部1
7のダストを除去することができていない。
【0027】ところが、上述の吸着板10から上方向に
噴出された空気は、空間部17の空気を矢符方向となる
製造装置1の周囲へ押し出すことになり、空間部17の
ダストは、製造装置1の周囲の下降気流と共に床6の排
気孔6a…から排出されることになる。これにより、空
間部17には、図1の空気濾過フィルタ12で濾過され
た清浄度の高い空気が存在することになり、空間部17
の清浄度は、パーティクルカウンタで空気1立方フィー
ト当たりのダスト量を測定したところ、1個以下/立方
フィートの高い状態を維持していることが確認された。 また、空間部17の清浄度は、吸着板10へのダストの
堆積が観察されないことからも、高い状態を維持してい
ることが確認された。
【0028】このように、本実施例の吸着ハンドラ3は
、加工部材11の吸引に使用されていた吸着板10の吸
引排出孔10c…を濾過された空気の排出孔に利用する
ようになっている。従って、吸着板10の上方に位置す
る空間部17は、吸着板10の吸引排出孔10c…から
噴出された空気で流動するため、空気の澱みによるダス
トの停滞が解消されることになり、結果として高い清浄
度を維持することが可能になっている。
【0029】尚、本実施例においては、空気濾過フィル
タ12が真空源14と圧縮空気源16とに連通状態にさ
れているが、これに限定されることはなく、空気濾過フ
ィルタ12が圧縮空気源16のみに連通状態にされるよ
うになっていても良い。
【0030】
【発明の効果】本発明の吸着ハンドラは、以上のように
、吸着板には、加工部材を吸引する吸引部が形成されて
おり、この吸引部は、真空吸引手段に連通可能になって
いると共に、ダストを除去する空気濾過手段を介して圧
縮空気手段に連通可能になっている構成である。
【0031】これにより、吸引部と圧縮空気手段とを連
通させ、ダストが除去された高い清浄度の空気を吸引部
から噴出させることで、噴出方向の空間部に存在する空
気を流動させ、空気の澱みを防止することが可能になる
ことから、噴出方向となる吸着板から加工部材方向に位
置する空間部を高い清浄度に維持することが可能になる
という効果を奏する。
【図面の簡単な説明】
【図1】吸着ハンドラの概略構成図である。
【図2】吸着板の斜視図である。
【図3】クリーンルームの空気の流動状態を示す説明図
である。
【図4】クリーンルームに備えられた製造装置および吸
着ハンドラの位置関係を示す説明図である。
【図5】クリーンルームの空気の流動状態を示す説明図
である。
【符号の説明】
1    製造装置 2    装置本体 3    吸着ハンドラ 4    空気濾過フィルタ 5    装置上面部 6    床 7    支持部材 8    側壁 9    クリーンルーム 10    吸着板 10a  吸引排出孔(吸引部) 11    加工部材 12    空気濾過フィルタ(空気濾過手段)13 
   切換バルブ 14    真空源(真空吸引手段) 15    切換バルブ 16    圧縮空気源(圧縮空気手段)17    
空間部

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】清浄度の高い空間で加工部材を吸着板に吸
    着して搬送および固定する吸着ハンドラにおいて、上記
    吸着板には、加工部材を吸引する吸引部が形成されてお
    り、この吸引部は、真空吸引手段に連通可能になってい
    ると共に、ダストを除去する空気濾過手段を介して圧縮
    空気手段に連通可能になっていることを特徴とする吸着
    ハンドラ。
JP3033163A 1991-02-27 1991-02-27 吸着ハンドラ Pending JPH04272027A (ja)

Priority Applications (1)

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JP3033163A JPH04272027A (ja) 1991-02-27 1991-02-27 吸着ハンドラ

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