JPH059886U - 吸着ハンドラ - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【構成】 吸着板１内部の主吸引路５が真空吸引源と接
続され、吸着板１の吸着部３には独立した複数の吸着溝
４ａ〜４ｃが形成され、これら吸着溝４ａ〜４ｃが連通
路６ａ〜６ｃにて主吸引路５と連通する。各吸着溝４ａ
〜４ｃの主吸引路５側の開口部は主吸引路５方向に並設
され、主吸引路５には、主吸引路５方向に移動自在で、
その移動位置にて主吸引路５を遮断し、移動によって主
吸引路５の真空吸引源側部位と各吸着溝４ａ〜４ｃとの
連通状態を切り換える連通切換部材７が配される。 【効果】 吸着板１内部に複雑な加工をして吸着部３の
平滑度を損なうことなく、連通切換部材７を移動させる
だけで、被吸着部材の大きさあるいは形状が所定の範囲
で変化しても、これら被吸着部材を確実に吸着し、固定
できる。

Description

【考案の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】

本考案は、たとえばシリコンウエハやガラス板および金属板等の加工部材を吸 着して搬送し、また固定するために使用される吸着ハンドラに関するものである 。

【０００２】

【従来の技術】

高精度の加工が要求されるＩＣ（Integrated Circuit) や液晶表示パネルは、 基材となるシリコンウエハやガラス板および金属板等の加工部材の加工が、本考 案の説明図である図３に示すように、清浄度の高いクリーンルーム１６内に設置 された製造装置１１で行われる。この製造装置１１には、加工部材を吸着して搬 送し、また加工位置で固定するための吸着ハンドラが設けられている。上記の吸 着ハンドラは、加工部材を吸着するための吸着板を有し、この吸着板は、製造装 置１１の装置本体１２と装置上面部１５との間の位置に水平に配設されるように なっている。

【０００３】 上記のような従来の吸着ハンドラは、図６および図７に示すように、吸着板３ １を有し、この吸着板３１の内部には、吸着板３１の側面から中央部に向かって 中空状の主吸引路３２が形成されている。また、吸着板３１の上面側の吸着部３ ３には、独立した複数の吸着溝３４…が形成され、これら吸着溝３４…が各吸着 溝３４毎に形成された連通路３５によって主吸引路３２と連通されている。この 主吸引路３２には真空吸引源が接続され、これによって吸着部３３に載置された 加工部材に吸着溝３４…を通じて真空吸着力を作用させ、加工部材を吸着して保 持するようになっている。この場合、上記加工部材を１点で吸着するのではなく 、線、面あるいは多点で吸着することで、加工部材と吸着板３１との密着性を良 くし、確実に吸着できるように配慮されている。このような吸着ハンドラを用い ることによって、人手を介さずに加工部材の搬送や固定を行わせることができる ため、加工部材への歩留りを向上することが可能になる。

【０００４】

【考案が解決しようとする課題】

しかしながら、上記従来の吸着ハンドラでは、加工部材の大きさが変化したと きに、吸着できない場合が発生する。

【０００５】 すなわち、従来の吸着ハンドラでは、各吸着溝３４が連通路３５によって全て 同一の主吸引路３２に接続されており、全ての吸着溝３４…が主吸引路３２を通 じて真空吸引源と連通されることになる。従って、図８に示すように、１点鎖線 で示されるような、最も広い範囲で形成されている吸着溝３４よりも大きい加工 部材３６は容易に吸着できるものの、２点鎖線で示されるような、上記の吸着溝 ３４よりも小さい加工部材３７は、全ての吸着溝３４…を塞ぐことができないた め、開放されている吸着溝３４から大気が主吸引路３２へ流入して主吸引路３２ の真空度が上がらず、吸着できないという問題点を有している。

【０００６】 一方、上記の問題を解決する構造として、例えば、各連通路３５…対応して個 別に主吸引路３２…を設け、これら主吸引路３２…を個々に開閉弁を介して真空 吸引源と接続することも考えられるが、この場合には、吸着板３１内部に複雑な 加工を必要とし、吸着面の平滑度維持が困難であること、他の機構部分の組み込 みができなくなること等、容易に加工部材の大きさに対応できないという問題が 発生する。

【０００７】 本考案は、上記従来の問題点に鑑みなされたものであって、その目的は、大き さの異なる加工部材の吸着に容易に対応できる吸着ハンドラを提供することにあ る。

【０００８】

【課題を解決するための手段】

そこで、本考案の吸着ハンドラは、上記の課題を解決するために、真空吸引源 と接続される中空状の主吸引路を有する吸着板を備え、この吸着板の吸着部には 独立した複数の吸着溝が形成され、これら吸着溝が各吸着溝毎に形成された連通 路によって上記の主吸引路と連通されている吸着ハンドラにおいて、上記の各連 通路における主吸引路側の開口部は、主吸引路方向に並設され、主吸引路には、 主吸引路方向に移動自在であり、その移動位置にて主吸引路を遮断すると共に、 移動によって主吸引路における真空吸引源側部位と各連通路との連通状態を切り 換える連通切換部材が配されていることを特徴としている。

【０００９】

【作用】

上記の構成によれば、連通切換部材を移動させることにより、主吸引通路にお ける真空吸引源側部位と各連通路との連通状態が切り換わる。即ち、連通切換部 材を移動させることにより、真空吸引源と連通する吸着溝が切り換わる。従って 、加工部材、即ち被吸着部材の大きさあるいは形状に応じて、吸引作用を行う吸 着溝を切り換えることができ、被吸着部材の大きさあるいは形状が所定の範囲で 変化した場合であっても、これら被吸着部材を確実に吸着することができる。

【００１０】

【実施例】

本考案の一実施例について図１ないし図５に基づいて説明すれば、以下の通り である。

【００１１】 本実施例の吸着ハンドラは、図２に示すように、例えばＩＣや液晶表示パネル の基材となるシリコンウエハ、ガラス板および金属板等の加工部材２を吸着する ための吸着板１を備えている。この吸着板１は加工部材２の形状および寸法を考 慮して形成されている。本実施例においては、液晶表示パネルの基材である方形 のガラス板を加工部材２としており、吸着板１の上面側の吸着部３は、４００ｍ ｍ×４００ｍｍ程度の方形面を有するものとなっている。この吸着部３の形状に 対応して、吸着部３には、異なる大きさで方形状をなし、各々独立した複数の吸 着溝４ａ〜４ｃが同心状に形成されている。

【００１２】 上記吸着板１の内部には、図１に示すように、吸着板１の側面Ａの中央部から 、吸着板１内部の中心を通り、反対側の側面に達する円形孔状の主吸引路５が形 成されている。この主吸引路５の一端部、即ち同図における側面Ａ側とは反対側 の一端部１０は、図示しない真空ポンプ等の真空吸引源に接続されている。上記 の主吸引路５は、各吸着溝４ａ〜４ｃ毎に形成された連通路６ａ〜６ｃによって 吸着溝４ａ〜４ｃと連通されている。これら連通路６ａ〜６ｃは、吸着板１の中 心よりも上記の側面Ａ側位置において、主吸引路５方向に並設されている。さら に、連通路６ａ〜６ｃは、対応する吸着溝４ａ〜４ｃの大きさが小さいもの順に 、主吸引路５の一端部１０に近い側に位置するようになっている。

【００１３】 上記主吸引路５には、ピストン部８とロッド部９とからなる連通切換部材７が 設けられている。ピストン部８は、主吸引路５の内周面に沿う円柱形をなし、主 吸引路５の方向へ移動自在となっている。ピストン部８の外周面と主吸引路５の 内周面との間には、気密性を保持するオイルシールが施されている。ロッド部９ は、ピストン部８と連結されて吸着板１の側面Ａ方向へ延び、主吸引路５から外 方へ突出している。従って、ロッド部９を、例えば手動操作にて進退駆動させる ことにより、ピストン部８を移動させることができるようになっている。

【００１４】 図３に示すように、以上ような構成の吸着ハンドラ１３は、空気濾過フィルタ ー１４を備える清浄度の高いクリーンルーム１６内に設置された製造装置１１に 設けられている。この製造装置１１は加工部材２に所定の加工を施すものであり 、吸着ハンドラ１３は加工部材２を吸着して搬送し、固定するものとして使用さ れる。上記の製造装置１１は、吸着ハンドラ１３を移動させる図示しない移動手 段等を内蔵した装置本体１２と、この装置本体１２の上方に支持ポスト１７・１ ７を介して設けられた装置上面部１５とから成っている。この装置上面部１５は 、吸着ハンドラ１３で保持された加工部材２を上方から所定の仕様に形成する加 工手段等を内蔵している。

【００１５】 次に、本吸着ハンドラの動作について説明する。

【００１６】 まず、図４に示すように、吸着板１における吸着部３の全面を覆うような大き な加工部材２ａを加工する場合には、この加工部材２ａが吸着板１の吸着部３に おける最も大きい範囲で形成された吸着溝４ｃを覆うようにして、即ち全ての吸 着溝４ａ〜４ｃを覆うようにして吸着部３上に載置される。このとき、連通切換 部材７のピストン部８は、主吸引路５内において、吸着溝４ｃと対応する連通路 ６ｃよりも側面Ａ側寄り位置に配される。従って、全ての吸着溝４ａ〜４ｃが連 通路６ａ〜６ｃを通じて主吸引路５、即ち真空吸引源と連通する。これにより、 真空吸引源が作動すると、主吸引路５の圧力が低下し、この圧力低下により、連 通路６ａ〜６ｃおよび吸着溝４ａ〜４ｃを介して加工部材２ａに真空吸引力が作 用し、加工部材２ａが吸着板１に吸着されて保持される。この吸着保持状態で、 加工部材２ａは吸着板１と共に搬送され、また、加工時に所定の位置に固定され る。

【００１７】 一方、図５に示すように、最も小さい範囲で形成された吸着溝４ａよりも大き く、吸着溝４ｃよりも小さい加工部材２ｂを加工する場合には、加工部材２ｂが 吸着溝４ａを覆うようにして吸着板１の載置部３上に載置される。このとき、連 通切換部材７のピストン部８は、主吸引路５内において、吸着溝４ａに対応する 連通路６ａと吸着溝４ｂに対応する連通路６ｂとの間に配される。従って、吸着 溝４ａのみが真空吸引源と連通し、真空吸引源の圧力低下作用が吸着溝４ａを介 して加工部材２ｂに作用することにより、この加工部材２ｂが吸着板１に吸着し て保持される。これにより、加工部材２ｂを搬送し、固定するとができる。

【００１８】 このように、本実施例の吸着ハンドラは、主吸引路５に設けられた連通切換部 材７の移動により、加工部材２の大きさが所定の範囲で変化した場合であっても 、これら加工部材２を確実に吸着し、固定することができる。

【００１９】 なお、本実施例の吸着ハンドラにおいては、主吸引路５は、円形孔状に形成さ れているが、その形状は限定されるものではなく、例えば方形孔状であってもよ い。同様に、吸着溝４ａ〜４ｃは同心方形状に形成されているが、その形状はこ れに限定されることはなく、例えば平行線状に形成することもでき、加工部材２ の形状および大きさに合わせて、適宜選択すればよい。

【００２０】

【考案の効果】

以上のように、本考案の吸着ハンドラは、吸着溝と主吸引路とを連通させる各 連通路における主吸引路側の開口部が、主吸引路方向に並設され、主吸引路には 、主吸引路方向に移動自在であり、その移動位置にて主吸引路を遮断すると共に 、移動によって主吸引路における真空吸引源側部位と各連通路との連通状態を切 り換える連通切換部材が配されている構成である。

【００２１】 これにより、吸着板内部に複雑な加工をして吸着部の平滑度を損なうことなく 、連通切換部材を主吸引路で移動させるだけの簡単な操作により、被吸着部材の 大きさあるいは形状が所定の範囲で変化した場合であっても、これら被吸着部材 を確実に吸着し、固定することができるという効果を奏する。

【図面の簡単な説明】

【図１】本考案の一実施例における吸着ハンドラの内部
構造を縦断面で示した斜視図である。

【図２】上記吸着ハンドラの斜視図である。

【図３】上記吸着ハンドラが設けられるクリーンルーム
内の配置状態を示す説明図である。

【図４】上記吸着ハンドラにおける大きい加工部材を吸
着する際の状態を縦断面で示した斜視図である。

【図５】上記吸着ハンドラにおける小さい加工部材を吸
着する際の状態を縦断面で示した斜視図である。

【図６】従来の吸着ハンドラにおける吸着板の斜視図で
ある。

【図７】上記吸着ハンドラの吸着板の内部構造を縦断面
で示した斜視図である。

【図８】上記吸着ハンドラの吸着板に加工部材が載置さ
れた状態を縦断面で示した斜視図である。

【符号の説明】

１ 吸着板 ２ 加工部材 ２ａ〜２ｂ 加工部材 ３ 吸着部 ４ａ〜４ｃ 吸着溝 ６ａ〜６ｃ 連通路 ７ 連通切換部材

Claims (1)

1. 【実用新案登録請求の範囲】 【請求項１】真空吸引源と接続される中空状の主吸引路
   を有する吸着板を備え、この吸着板の吸着部には独立し
   た複数の吸着溝が形成され、これら吸着溝が各吸着溝毎
   に形成された連通路によって上記の主吸引路と連通され
   ている吸着ハンドラにおいて、 上記の各連通路における主吸引路側の開口部は、主吸引
   路方向に並設され、主吸引路には、主吸引路方向に移動
   自在であり、その移動位置にて主吸引路を遮断すると共
   に、移動によって主吸引路における真空吸引源側部位と
   各連通路との連通状態を切り換える連通切換部材が配さ
   れていることを特徴とする吸着ハンドラ。