JPH05114540A - レチクル搬送装置 - Google Patents
レチクル搬送装置Info
- Publication number
- JPH05114540A JPH05114540A JP27439491A JP27439491A JPH05114540A JP H05114540 A JPH05114540 A JP H05114540A JP 27439491 A JP27439491 A JP 27439491A JP 27439491 A JP27439491 A JP 27439491A JP H05114540 A JPH05114540 A JP H05114540A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- reticle
- arm
- slit
- sides
- air
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Withdrawn
Links
Landscapes
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 縮小投影露光装置内でレチクルを搬送する装
置の構造に関し、搬送中のレチクルへの塵埃付着防止を
目的とする。 【構成】 レチクル保持具11はそれぞれにスリット14を
有する第一のアーム12と第二のアーム13とをフォーク状
に備えており、第一のアーム12は第二のアーム13に対向
する面のスリット14の両側に噴気口15を有し、第二のア
ーム13は第一のアーム12に対向する面のスリット14の両
側に吸気口16を有し、噴気口15から吸気口16に向けて圧
気を流してスリット14部で保持するレチクル１の両面に
気流層を形成するように構成する。
置の構造に関し、搬送中のレチクルへの塵埃付着防止を
目的とする。 【構成】 レチクル保持具11はそれぞれにスリット14を
有する第一のアーム12と第二のアーム13とをフォーク状
に備えており、第一のアーム12は第二のアーム13に対向
する面のスリット14の両側に噴気口15を有し、第二のア
ーム13は第一のアーム12に対向する面のスリット14の両
側に吸気口16を有し、噴気口15から吸気口16に向けて圧
気を流してスリット14部で保持するレチクル１の両面に
気流層を形成するように構成する。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明はレチクル搬送装置、特に
半導体装置製造等に使用する縮小投影露光装置内でマス
クパターンを備えたレチクルを搬送する装置の構造に関
する。
半導体装置製造等に使用する縮小投影露光装置内でマス
クパターンを備えたレチクルを搬送する装置の構造に関
する。
【０００２】異物が付着したレチクルを使用して露光す
ると、転写パターンに欠陥を生じることが多い。通常、
一枚のレチクルで大量のウェーハを露光するから、レチ
クルに異物が付着していると、大量の不良品を作るおそ
れがある。従って、露光時、レチクルには異物付着が全
くないことが望まれている。
ると、転写パターンに欠陥を生じることが多い。通常、
一枚のレチクルで大量のウェーハを露光するから、レチ
クルに異物が付着していると、大量の不良品を作るおそ
れがある。従って、露光時、レチクルには異物付着が全
くないことが望まれている。
【０００３】
【従来の技術】縮小投影露光装置におけるレチクル搬送
装置の従来例を図２を参照しながら説明する。図２は従
来例の説明図であり、(a) は縮小投影露光装置の要部を
示す斜視図、(b) はレチクル保持具を示す斜視図であ
る。
装置の従来例を図２を参照しながら説明する。図２は従
来例の説明図であり、(a) は縮小投影露光装置の要部を
示す斜視図、(b) はレチクル保持具を示す斜視図であ
る。
【０００４】(a) 図において、１はレチクル、２はレチ
クルケース、３は異物検査器、４はレチクルステージ、
５は縮小投影レンズ、６はＸＹステージ、７はウェー
ハ、21はレチクル搬送装置のレチクル保持具である。複
数のレチクル１が個々にレチクルケース２に収められ、
これらがラック（図示は省略）に搭載されている。この
縮小投影露光装置の要部は、高度に清浄化された空気が
供給される精密空調チャンバ（図示は省略）内に設置さ
れている。
クルケース、３は異物検査器、４はレチクルステージ、
５は縮小投影レンズ、６はＸＹステージ、７はウェー
ハ、21はレチクル搬送装置のレチクル保持具である。複
数のレチクル１が個々にレチクルケース２に収められ、
これらがラック（図示は省略）に搭載されている。この
縮小投影露光装置の要部は、高度に清浄化された空気が
供給される精密空調チャンバ（図示は省略）内に設置さ
れている。
【０００５】レチクル保持具21は搬送ロボットからなる
レチクル搬送装置のハンドである。これは(b) 図に示す
ようにフォーク状に二本のアーム22を備えており、各ア
ーム22の上面には吸着孔23が開口している。この吸着孔
23は真空源に連通しており、アーム22の上面にレチクル
１を載置し、真空吸着する。
レチクル搬送装置のハンドである。これは(b) 図に示す
ようにフォーク状に二本のアーム22を備えており、各ア
ーム22の上面には吸着孔23が開口している。この吸着孔
23は真空源に連通しており、アーム22の上面にレチクル
１を載置し、真空吸着する。
【０００６】このようなレチクル保持具21を有するレチ
クル搬送装置は、先ず所望のレチクル１をレチクルケー
ス２から取り出し、これを異物検査器３に搬送する。こ
のレチクル１に異物が付着していないことが確認される
と、これをレチクルステージ４上に搬送する。露光はこ
の状態で行われる。
クル搬送装置は、先ず所望のレチクル１をレチクルケー
ス２から取り出し、これを異物検査器３に搬送する。こ
のレチクル１に異物が付着していないことが確認される
と、これをレチクルステージ４上に搬送する。露光はこ
の状態で行われる。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】上述のように、精密空
調チャンバ内には高度に清浄化された空気が供給される
が、搬送装置等からの発塵等のため、塵埃は皆無ではな
い。そのため、このような従来のレチクル搬送装置によ
りレチクルを搬送する場合、異物検査器からレチクルス
テージに至る搬送の途上でレチクルに異物が付着するこ
とがある、という問題があった。
調チャンバ内には高度に清浄化された空気が供給される
が、搬送装置等からの発塵等のため、塵埃は皆無ではな
い。そのため、このような従来のレチクル搬送装置によ
りレチクルを搬送する場合、異物検査器からレチクルス
テージに至る搬送の途上でレチクルに異物が付着するこ
とがある、という問題があった。
【０００８】本発明はこのような問題を解決して、搬送
中のレチクルに異物が付着することのないレチクル搬送
装置を提供することを目的とする。
中のレチクルに異物が付着することのないレチクル搬送
装置を提供することを目的とする。
【０００９】
【課題を解決するための手段】この目的は、本発明によ
れば、レチクル１をレチクル保持具11が保持して搬送す
るレチクル搬送装置であって、該レチクル保持具11はそ
れぞれにスリット14を有する第一のアーム12と第二のア
ーム13とをフォーク状に備えており、該第一のアーム12
は該第二のアーム13に対向する面の該スリット14の両側
に噴気口15を有し、該第二のアーム13は該第一のアーム
12に対向する面の該スリット14の両側に吸気口16を有
し、該噴気口15から該吸気口16に向けて圧気を流して該
スリット14部で保持する該レチクル１の両面に気流層を
形成するように構成されていることを特徴とするレチク
ル搬送装置とすることで、達成される。
れば、レチクル１をレチクル保持具11が保持して搬送す
るレチクル搬送装置であって、該レチクル保持具11はそ
れぞれにスリット14を有する第一のアーム12と第二のア
ーム13とをフォーク状に備えており、該第一のアーム12
は該第二のアーム13に対向する面の該スリット14の両側
に噴気口15を有し、該第二のアーム13は該第一のアーム
12に対向する面の該スリット14の両側に吸気口16を有
し、該噴気口15から該吸気口16に向けて圧気を流して該
スリット14部で保持する該レチクル１の両面に気流層を
形成するように構成されていることを特徴とするレチク
ル搬送装置とすることで、達成される。
【００１０】
【作用】本発明によれば、レチクル搬送時にレチクル両
面に気流層が形成されるから、たとえレチクルに向かう
塵埃があってもこの気流層に引き込まれ、吸気口から系
外に排気される。従って、レチクルへの異物付着が防止
される。
面に気流層が形成されるから、たとえレチクルに向かう
塵埃があってもこの気流層に引き込まれ、吸気口から系
外に排気される。従って、レチクルへの異物付着が防止
される。
【００１１】
【実施例】本発明に基づくレチクル搬送装置の実施例を
図１を参照しながら説明する。図１は本発明の実施例の
説明図であり、(a) 平面図、(b) は側面図、(c) はＡ−
Ａ断面図である。尚、この実施例は従来例とはレチクル
保持具の構造だけが異なるから、この図はレチクル保持
具だけを示している。
図１を参照しながら説明する。図１は本発明の実施例の
説明図であり、(a) 平面図、(b) は側面図、(c) はＡ−
Ａ断面図である。尚、この実施例は従来例とはレチクル
保持具の構造だけが異なるから、この図はレチクル保持
具だけを示している。
【００１２】同図において、１はレチクル、11はレチク
ル１を保持するレチクル保持具である。レチクル保持具
11は第一のアーム12と第二のアーム13とをフォーク状に
備えている。第一のアーム12と第二のアーム13には共に
各々の上下面に平行にスリット14が設けられており、こ
のスリット14内でレチクル１を保持する。
ル１を保持するレチクル保持具である。レチクル保持具
11は第一のアーム12と第二のアーム13とをフォーク状に
備えている。第一のアーム12と第二のアーム13には共に
各々の上下面に平行にスリット14が設けられており、こ
のスリット14内でレチクル１を保持する。
【００１３】第一のアーム12は第二のアーム13に対向す
る面のスリット14の両側にそれぞれ複数個の噴気口15を
有しており、この噴気口15は第一のアーム12を縦貫する
孔を介して窒素等の圧気源に連通している。その配管系
には流量調節器と０.1μm 程度のラインフィルタとを備
えている。個々の噴気口15は噴気が拡がるようにテーパ
孔となっている。
る面のスリット14の両側にそれぞれ複数個の噴気口15を
有しており、この噴気口15は第一のアーム12を縦貫する
孔を介して窒素等の圧気源に連通している。その配管系
には流量調節器と０.1μm 程度のラインフィルタとを備
えている。個々の噴気口15は噴気が拡がるようにテーパ
孔となっている。
【００１４】第二のアーム13は第一のアーム12に対向す
る面のスリット14の両側にそれぞれ複数個の吸気口16を
有しており、この吸気口16は第二のアーム13を縦貫する
孔を介して真空源に連通している。その配管系には流量
調節器を備えている。個々の吸気口16は長孔となってい
る。
る面のスリット14の両側にそれぞれ複数個の吸気口16を
有しており、この吸気口16は第二のアーム13を縦貫する
孔を介して真空源に連通している。その配管系には流量
調節器を備えている。個々の吸気口16は長孔となってい
る。
【００１５】このレチクル保持具11のスリット14部でレ
チクル１を保持し、第一のアーム12側に窒素等の清浄な
圧気を供給する( 例えば毎分６〜８リットル）と共に第
二のアーム13側を真空排気すると、噴気口15から吸気口
16に向けて圧気が流れ、レチクル１の両面に気流層が形
成される。
チクル１を保持し、第一のアーム12側に窒素等の清浄な
圧気を供給する( 例えば毎分６〜８リットル）と共に第
二のアーム13側を真空排気すると、噴気口15から吸気口
16に向けて圧気が流れ、レチクル１の両面に気流層が形
成される。
【００１６】尚、図１上では省略したが、第一のアーム
12と第二のアーム13のスリット14部のレチクル１接触面
には、従来のレチクル保持具21における吸着孔23に相当
する吸着孔を備えており、レチクル１を真空吸着する。
又、レチクル１の搬送経路は前述の従来の装置の場合と
同じである。
12と第二のアーム13のスリット14部のレチクル１接触面
には、従来のレチクル保持具21における吸着孔23に相当
する吸着孔を備えており、レチクル１を真空吸着する。
又、レチクル１の搬送経路は前述の従来の装置の場合と
同じである。
【００１７】本発明は以上の実施例に限定されることな
く、更に種々変形して実施することが出来る。
く、更に種々変形して実施することが出来る。
【００１８】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
レチクル搬送時にレチクル両面に気流層を形成すること
によりレチクルへの異物付着を防止することが可能なレ
チクル搬送装置を提供することが出来、半導体装置製造
の歩留り向上等に寄与する。
レチクル搬送時にレチクル両面に気流層を形成すること
によりレチクルへの異物付着を防止することが可能なレ
チクル搬送装置を提供することが出来、半導体装置製造
の歩留り向上等に寄与する。
【図１】 本発明の実施例の説明図である。
【図２】 従来例の説明図である。
１ レチクル ２ レチクルケース ３ 異物検査器 ４ レチクルステージ ５ 投影レンズ ６ ＸＹステージ ７ ウェーハ 11, 21 レチクル保持具 12 第一のアーム 13 第二のアーム 14 スリット 15 噴気口 16 吸気口 22 アーム 23 吸着孔
Claims (1)
- 【請求項１】 レチクル(1) をレチクル保持具(11)が保
持して搬送するレチクル搬送装置であって、 該レチクル保持具(11)はそれぞれにスリット(14)を有す
る第一のアーム(12)と第二のアーム(13)とをフォーク状
に備えており、 該第一のアーム(12)は該第二のアーム(13)に対向する面
の該スリット(14)の両側に噴気口(15)を有し、 該第二のアーム(13)は該第一のアーム(12)に対向する面
の該スリット(14)の両側に吸気口(16)を有し、 該噴気口(15)から該吸気口(16)に向けて圧気を流して該
スリット(14)部で保持する該レチクル(1) の両面に気流
層を形成するように構成されていることを特徴とするレ
チクル搬送装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP27439491A JPH05114540A (ja) | 1991-10-23 | 1991-10-23 | レチクル搬送装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP27439491A JPH05114540A (ja) | 1991-10-23 | 1991-10-23 | レチクル搬送装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05114540A true JPH05114540A (ja) | 1993-05-07 |
Family
ID=17541060
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP27439491A Withdrawn JPH05114540A (ja) | 1991-10-23 | 1991-10-23 | レチクル搬送装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH05114540A (ja) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2002041375A1 (fr) * | 2000-11-15 | 2002-05-23 | Nikon Corporation | Procedes et dispositfs de transfert et d'exposition et procede servant a fabriquer un composant |
| US6994507B2 (en) | 2002-11-28 | 2006-02-07 | Canon Kabushiki Kaisha | Transport apparatus |
| KR100819114B1 (ko) * | 2006-12-18 | 2008-04-02 | 세메스 주식회사 | 기판 이송 로봇 및 이를 포함하는 기판 가공 장치 |
| CN109994403A (zh) * | 2018-01-03 | 2019-07-09 | 台湾积体电路制造股份有限公司 | 半导体制造设备、气帘装置以及半导体元件的保护方法 |
| CN111324017A (zh) * | 2018-12-17 | 2020-06-23 | 夏泰鑫半导体(青岛)有限公司 | 掩模机械手及掩模传输方法 |
| CN112925174A (zh) * | 2021-01-28 | 2021-06-08 | 长鑫存储技术有限公司 | 半导体光刻设备 |
-
1991
- 1991-10-23 JP JP27439491A patent/JPH05114540A/ja not_active Withdrawn
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2002041375A1 (fr) * | 2000-11-15 | 2002-05-23 | Nikon Corporation | Procedes et dispositfs de transfert et d'exposition et procede servant a fabriquer un composant |
| US6994507B2 (en) | 2002-11-28 | 2006-02-07 | Canon Kabushiki Kaisha | Transport apparatus |
| US7507264B2 (en) | 2002-11-28 | 2009-03-24 | Canon Kabushiki Kaisha | Transport apparatus |
| KR100819114B1 (ko) * | 2006-12-18 | 2008-04-02 | 세메스 주식회사 | 기판 이송 로봇 및 이를 포함하는 기판 가공 장치 |
| CN109994403A (zh) * | 2018-01-03 | 2019-07-09 | 台湾积体电路制造股份有限公司 | 半导体制造设备、气帘装置以及半导体元件的保护方法 |
| CN109994403B (zh) * | 2018-01-03 | 2021-04-23 | 台湾积体电路制造股份有限公司 | 半导体制造设备、气帘装置以及半导体元件的保护方法 |
| CN111324017A (zh) * | 2018-12-17 | 2020-06-23 | 夏泰鑫半导体(青岛)有限公司 | 掩模机械手及掩模传输方法 |
| CN112925174A (zh) * | 2021-01-28 | 2021-06-08 | 长鑫存储技术有限公司 | 半导体光刻设备 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 19990107 |