JP7497150B2 - 搬送装置、リソグラフィ装置及び物品の製造方法 - Google Patents
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Description
図1は、リソグラフィシステム100の構成を示す概略図である。リソグラフィシステム100は、搬送装置10と、リソグラフィ装置200と、前処理装置300と、を有する処理システムである。なお、以下では、図1に示すように、基板1の表面に平行な方向をXY平面とするXYZ座標系で方向を示す。XYZ座標系におけるX軸、Y軸及びZ軸のそれぞれに平行な方向をX方向、Y方向及びZ方向とする。
図5(a)、図5(b)及び図5(c)は、リソグラフィ装置200(処理部210A乃至210Eのそれぞれ)に原版2を搬送する搬送装置50の構成の一例を示す概略図である。図5(a)は、搬送装置50の平面図であり、図5(b)は、搬送装置50の側面図であり、図5(c)は、搬送装置50の正面図である。原版2は、基板1に形成するパターンに対応するパターンを有する。なお、搬送装置50は、図1には示されていないが、リソグラフィシステム100を構成する装置の1つである。
本発明の実施形態における物品の製造方法は、例えば、デバイス(半導体素子、磁気記憶媒体、液晶表示素子など)などの物品を製造するのに好適である。かかる製造方法は、リソグラフィシステム100又はリソグラフィ装置200を用いて、基板にパターンを形成する工程と、パターンが形成された基板を処理する工程と、処理された基板から物品を製造する工程とを含む。また、かかる製造方法は、他の周知の工程(酸化、成膜、蒸着、ドーピング、平坦化、エッチング、レジスト剥離、ダイシング、ボンディング、パッケージングなど)を含みうる。本実施形態における物品の製造方法は、従来に比べて、物品の性能、品質、生産性及び生産コストの少なくとも1つにおいて有利である。
Claims (13)
- 物体を用いて処理を行う処理空間に前記物体を搬送する搬送装置であって、
前記物体を保持するハンドと、
前記処理空間において、前記ハンドを自在に移動させる移動部と、を有し、
前記ハンドは、
ベース部材と、
前記ベース部材から突出し、前記物体に接して前記物体を保持するための保持面を規定する保持部と、
前記保持部が設けられた、前記ベース部材の前記物体の側の第1面、前記第1面とは反対側の第2面、及び、前記第1面及び前記第2面に直交する第3面の少なくとも1つに、且つ、前記保持面から離隔した位置に、設けられた吸引孔と、
前記吸引孔と排気源とを連通し、前記排気源によって前記吸引孔を介して吸引された前記吸引孔の周囲の雰囲気を外部に排出するための第1流路と、
を含むことを特徴とする搬送装置。 - 前記雰囲気は、前記ハンドが前記保持面で前記物体を保持している状態で、前記第1流路を介して前記外部に排出されることを特徴とする請求項1に記載の搬送装置。
- 前記ハンドは、前記保持面で前記物体を真空吸着することを特徴とする請求項1又は2に記載の搬送装置。
- 物体を用いて処理を行う処理空間に前記物体を搬送する搬送装置であって、
前記物体を保持するハンドと、
前記処理空間において、前記ハンドを自在に移動させる移動部と、を有し、
前記ハンドは、
ベース部材と、
前記ベース部材から突出し、前記物体に接して前記物体を保持するための保持面を規定する保持部と、
前記保持部が設けられた、前記ベース部材の前記物体の側の第1面、前記第1面とは反対側の第2面、及び、前記第1面及び前記第2面に直交する第3面の少なくとも1つに設けられた吸引孔と、
前記吸引孔と排気源とを連通し、前記排気源によって前記吸引孔を介して吸引された前記吸引孔の周囲の雰囲気を外部に排出するための第1流路と、
前記保持面に設けられた吸着孔と、前記吸着孔と真空源とを連通する第2流路と、
を含み、
前記真空源によって前記第2流路の雰囲気を外部に排出することで、前記吸着孔を介して前記保持面で前記物体を真空吸着し、
前記第1流路と前記第2流路とは、互いに独立していることを特徴とする搬送装置。 - 物体を用いて処理を行う処理空間に前記物体を搬送する搬送装置であって、
前記物体を保持するハンドと、
前記処理空間において、前記ハンドを自在に移動させる移動部と、を有し、
前記ハンドは、
ベース部材と、
前記ベース部材から突出し、前記物体に接して前記物体を保持するための保持面を規定する保持部と、
前記保持部が設けられた、前記ベース部材の前記物体の側の第1面、前記第1面とは反対側の第2面、及び、前記第1面及び前記第2面に直交する第3面の少なくとも1つに設けられた複数の吸引孔と、
前記複数の吸引孔のそれぞれと排気源とを連通し、前記排気源によって前記複数の吸引孔を介して吸引された前記吸引孔の周囲の雰囲気を外部に排出するための複数の第1流路と、
を含み、
前記複数の第1流路は、互いに独立していることを特徴とする搬送装置。 - 前記複数の第1流路のそれぞれと前記排気源との連通を選択的に切り替える切替機構を更に有することを特徴とする請求項5に記載の搬送装置。
- 前記第1流路を介して前記外部に排出される前記雰囲気に含まれるパーティクルの数を計数する計数部を更に有することを特徴とする請求項1乃至6のうちいずれか1項に記載の搬送装置。
- 前記移動部は、前記処理空間の複数の位置のそれぞれに前記ハンドを移動させ、
前記計数部は、前記複数の位置のそれぞれについて、前記第1流路を介して前記外部に排出される前記雰囲気に含まれるパーティクルの数を計数し、
前記計数部によって計数された前記複数の位置のそれぞれにおける前記パーティクルの数に基づいて、前記処理空間における前記パーティクルの濃度分布を生成する生成部を更に有することを特徴とする請求項7に記載の搬送装置。 - 前記搬送装置は、前記物体を用いて処理を行う、互いに独立している複数の処理空間のそれぞれに前記物体を搬送することを特徴とする請求項1乃至8のうちいずれか1項に記載の搬送装置。
- 基板にパターンを形成するリソグラフィ装置であって、
前記基板を物体として搬送する請求項1乃至9のうちいずれか1項に記載の搬送装置と、
前記搬送装置によって搬送された前記基板を保持するステージと、
を有することを特徴とするリソグラフィ装置。 - 基板にパターンを形成するリソグラフィ装置であって、
前記基板に形成する前記パターンに対応するパターンを有する原版を物体として搬送する請求項1乃至9のうちいずれか1項に記載の搬送装置と、
前記搬送装置によって搬送された前記原版を保持するステージと、
を有することを特徴とするリソグラフィ装置。 - 前記リソグラフィ装置は、前記基板の上にインプリント材のパターンを形成するインプリント装置を含むことを特徴とする請求項10又は11に記載のリソグラフィ装置。
- 請求項10乃至12のうちいずれか1項に記載のリソグラフィ装置を用いて基板にパターンを形成する工程と、
前記工程で前記パターンが形成された前記基板を処理する工程と、
処理された前記基板から物品を製造する工程と、
を有することを特徴とする物品の製造方法。
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