JP2013120788A - 露光装置および露光方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】本発明は、所定サイズのウェハWを、マスクMを介して露光するマスクアライナ1であって、ウェハWおよびマスクMを搬送する搬送装置5と、この搬送装置5にて搬送されたウェハWが設置される露光ステージ3fと、この露光ステージ3fに対向して取り付けられ搬送装置5にて搬送されたマスクMが設置されるマスクホルダ3bと、このマスクホルダ3bを介して露光ステージ3fに対向して取り付けられたLED光源8cとを備えた構成にしてある。
【選択図】図5
Description
まず、搬送容器4の搬送容器本体4aから容器扉4bを取り外し、この容器扉4b上にマスクMをセットしてから、この容器扉4bを搬送容器本体4bに取り付けて、このマスクMを搬送容器4にセットする。
次いで、このマスクMがセットされた搬送容器4の容器扉4b側を下側に向けた状態とし、この搬送容器4をマスクアライナ1の前室2cのドッキングポート2dに嵌合させる。このとき、例えば手動モード等において、Zステージ3cおよびレベル調整機構3eを適宜駆動させ、露光ステージ3fの水平出しを行う。
次いで、露光処理前のウェハWが収容された搬送容器4を用意し、この搬送容器4の容器扉4b側を下側に向けて、マスクアライナ1のドッキングポート2dに嵌合させる。
そして、これらマスクMとウェハWとを密着させて重ねた後、例えば操作スイッチ(図示せず)を操作等して、駆動機構にてカメラ移動ステージ9を移動させ、これらマスクMおよびウェハW上にUV照射ユニット8を移動させる。
この後、露光ステージ3fをZステージ3cにてウェハ受け渡し位置へ移動させる。このとき、この露光ステージ3fは、マスクMとウェハWとのアライメント調整によって、露光ステージ3fの位置が微調整されているため、このアライメント調整前のウェハ受け渡し位置へ移動させる必要がある。
この後、空の搬送容器4を用意し、この搬送容器4の容器扉4b側を下側に向けて、マスクアライナ1のドッキングポート2dに嵌合させる。この状態で、このドッキングポート2dの装置扉2daを下方に移動させて、この装置扉2daとともに搬送容器4の容器扉4bを下方に移動させ、この搬送容器4から容器扉4bを取り外して開放させる。
上述のように、上記一実施形態のマスクアライナ1においては、マスクMおよびウェハWを同サイズとして、これらマスクMおよびウェハWの搬送容器4を同一とし、マスクアライナ1内へのマスクMとウェハWとの出入り口を同一とし、前室2cも1つであって、ウェハ処理室2eと前室2cとの間の、マスクMおよびウェハWを搬送する搬送装置5も同一であるため、これらに係る機械メカニズムについては、マスクMおよびウェハWのためにそれぞれ独立させて設ける場合に比べ、おおよそ1/2の機械メカニズムにすることができる。これにより、装置製造コスト、装置制御コスト、工場内装置搬送コストを大幅に削減することが可能であり、かつ装置内メカニズムが簡単にできるため、微粒子の発生源も1/2の量にでき、製造歩留まりを向上させることができる。さらに、マスクアライナ1内の搬送制御システムおよび工場搬送システムが1系統で済むので、システムがシンプルにできるとともに、応答を速くでき、かつバグを発生しにくくできる。
なお、上記一実施形態においては、マスクアライナ1の露光ユニット3にて露光するウェハWとマスクMとを等しい大きさの直径12.5mmの円盤状とした。ところが、本発明はこれに限定されるものではなく、例えばマスクMの大きさをウェハWより一回り大きくしたり、製造する半導体の大きさ等に適合させて、これらマスクMおよびウェハWそれぞれの大きさをより大きくしたり小さくしたりすることもできる。
2 筐体
2a 装置上部
2b 装置下部
2c 前室
2d ドッキングポート
2da 装置扉
2e ウェハ処理室
3 露光ユニット
3a 枠体
3b マスクホルダ
3ba マスク吸着固定機構
3c Zステージ
3d ロードセル
3e レベル調整機構
3ea 球面摺動部
3eb 保持部
3f 露光ステージ
3fa 試料吸着固定機構
4 搬送容器
4a 搬送容器本体
4b 容器扉
5 搬送装置
6 ワーク検出用カメラ
7 モニタリングカメラ
8 UV照射ユニット
8a 集光レンズ筒
8b インテグレータレンズ筒
8c LED光源
8d 第1集光レンズ
8e 第2集光レンズ
8f 第3集光レンズ
8g 第4集光レンズ
8h インテグレータレンズ
8i ロッドレンズ
9 カメラ移動ステージ
10 単位処理装置
12 ガイドウェイ
14 搬送手段
17 レイアウト装置
17a ガイドレール17a
17b 単位処理装置搬送部
A ボール待機位置
B ボール挿入位置
M マスク
W ウェハ
Claims (6)
- 所定サイズのウェハをマスクを介して露光する露光装置であって、
前記ウェハおよびマスクを搬送する搬送装置と、
この搬送装置にて搬送された前記ウェハが設置される露光ステージと、
この露光ステージに対向して取り付けられ前記搬送装置にて搬送された前記マスクが設置されるマスクホルダと、
このマスクホルダを介して前記露光ステージに対向して取り付けられた露光光源と
を備えていることを特徴とする露光装置。 - 請求項1記載の露光装置において、
前記搬送装置にて搬送される前記ウェハおよびマスクを設置する設置ポートを有する前室を備え、
前記搬送装置は、前記前室の設置ポートに設置されたウェハおよびマスクを前記露光ステージと前記マスクホルダとの間へ搬送する
ことを特徴とする露光装置。 - 請求項1または2記載の露光装置を備え、
前記マスクおよびウェハが同一サイズで、
これらマスクの搬送とウェハの搬送とを一つの装置間搬送システムで行う
ことを特徴とする半導体製造システム。 - 請求項1または2記載の露光装置の搬送装置にてマスクを搬送し、このマスクをマスクホルダの露光ステージに対向する側に設置するマスク搬入工程と、
前記搬送装置にてウェハを搬送し、このウェハを前記露光ステージの前記マスクホルダに対向する側に設置するウェハ搬入工程と、
前記露光光源から光を照射して前記マスクを介して前記ウェハを露光する露光工程と、
前記搬送装置にて前記ウェハを搬送し、このウェハを前記露光ステージから搬出させるウェハ搬出工程と、
前記搬送装置にてマスクを搬送し、このマスクをマスクホルダから搬出させるマスク搬出工程と
を備えていることを特徴とする露光方法。 - 請求項4記載の露光方法において、
前記マスク搬入工程は、前記前室の設置ポートに設置された前記マスクを前記搬送装置にて搬送し、
前記ウェハ搬入工程は、前記前室の設置ポートに設置された前記ウェハを前記搬送装置にて搬送し、
前記ウェハ搬出工程は、前記ウェハを前記露光ステージから前記前室の設置ポートへ搬送し、
前記マスク搬出工程は、前記マスクを前記マスクホルダから前記前室の設置ポートへ搬送する
ことを特徴とする露光方法。 - 請求項4または5記載の露光方法において、
前記露光工程は、前記ウェハを前記マスクに重ねた状態で、このマスクを介して前記ウェハを露光する
ことを特徴とする露光方法。
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Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2015050198A (ja) * | 2013-08-29 | 2015-03-16 | 株式会社ピーエムティー | 温度による露光焦点変動を補正する露光装置 |
KR101764836B1 (ko) | 2015-12-14 | 2017-08-14 | 한국기계연구원 | 바이오칩 제작용 자외선 노광 장치 |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP6361964B2 (ja) * | 2014-06-26 | 2018-07-25 | 大日本印刷株式会社 | デバイス製造装置 |
NL2015170B1 (en) * | 2015-07-15 | 2017-02-01 | Suss Microtec Lithography Gmbh | Spacer displacement device for a wafer illumination unit and wafer illumination unit. |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH07270123A (ja) * | 1993-09-27 | 1995-10-20 | Canon Inc | 位置ずれ検出方法及び光ヘテロダイン干渉測定方法及びそれらを用いた位置ずれ検出装置 |
JP2000091401A (ja) * | 1998-09-09 | 2000-03-31 | Toshiba Corp | カセット搬送システム、半導体露光装置、及びレチクル運搬方法 |
JP2000311850A (ja) * | 1999-02-26 | 2000-11-07 | Nikon Corp | 露光装置及びリソグラフィシステム、並びにデバイス製造方法及びデバイス |
JP2001237167A (ja) * | 2000-02-23 | 2001-08-31 | Nikon Corp | 露光方法及びデバイス製造方法 |
Family Cites Families (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0652487B1 (en) | 1993-10-29 | 2001-09-19 | Canon Kabushiki Kaisha | Rotational deviation detecting method and system using a periodic pattern |
WO1999028220A1 (fr) * | 1997-12-03 | 1999-06-10 | Nikon Corporation | Dispositif et procede de transfert de substrats |
AU2691800A (en) | 1999-02-26 | 2000-09-14 | Nikon Corporation | Exposure system, lithography system and conveying method, and device production method and device |
WO2003024673A1 (fr) * | 2001-09-12 | 2003-03-27 | Takehide Hayashi | Main de robot a fonction de positionnement pour tranche en semiconducteur et substrat de verre a cristaux liquides |
JP4261932B2 (ja) * | 2003-01-31 | 2009-05-13 | キヤノン株式会社 | 露光装置 |
JP4564742B2 (ja) * | 2003-12-03 | 2010-10-20 | キヤノン株式会社 | 露光装置及びデバイス製造方法 |
JP4474363B2 (ja) * | 2003-12-26 | 2010-06-02 | 株式会社フューチャービジョン | マイクロ波プラズマ処理装置及びそのプラズマヘッド |
KR101016577B1 (ko) * | 2004-03-13 | 2011-02-22 | 삼성전자주식회사 | 노광 장치 및 방법 |
US7428958B2 (en) * | 2004-11-15 | 2008-09-30 | Nikon Corporation | Substrate conveyor apparatus, substrate conveyance method and exposure apparatus |
US7766640B2 (en) * | 2005-08-12 | 2010-08-03 | Hewlett-Packard Development Company, L.P. | Contact lithography apparatus, system and method |
US7245350B2 (en) * | 2005-11-11 | 2007-07-17 | Canon Kabushiki Kaisha | Exposure apparatus |
JP5294488B2 (ja) * | 2009-12-03 | 2013-09-18 | 株式会社ブイ・テクノロジー | 露光装置 |
WO2013084575A1 (ja) * | 2011-12-06 | 2013-06-13 | 独立行政法人 産業技術総合研究所 | イエロールームシステム |
-
2011
- 2011-12-06 JP JP2011267030A patent/JP5867916B2/ja active Active
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2012
- 2012-12-04 US US14/363,489 patent/US9513567B2/en active Active
- 2012-12-04 WO PCT/JP2012/081413 patent/WO2013084898A1/ja active Application Filing
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH07270123A (ja) * | 1993-09-27 | 1995-10-20 | Canon Inc | 位置ずれ検出方法及び光ヘテロダイン干渉測定方法及びそれらを用いた位置ずれ検出装置 |
JP2000091401A (ja) * | 1998-09-09 | 2000-03-31 | Toshiba Corp | カセット搬送システム、半導体露光装置、及びレチクル運搬方法 |
JP2000311850A (ja) * | 1999-02-26 | 2000-11-07 | Nikon Corp | 露光装置及びリソグラフィシステム、並びにデバイス製造方法及びデバイス |
JP2001237167A (ja) * | 2000-02-23 | 2001-08-31 | Nikon Corp | 露光方法及びデバイス製造方法 |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JP2015050198A (ja) * | 2013-08-29 | 2015-03-16 | 株式会社ピーエムティー | 温度による露光焦点変動を補正する露光装置 |
KR101764836B1 (ko) | 2015-12-14 | 2017-08-14 | 한국기계연구원 | 바이오칩 제작용 자외선 노광 장치 |
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