JPS5990854A - 板状物エアブロ−機構 - Google Patents
板状物エアブロ−機構Info
- Publication number
- JPS5990854A JPS5990854A JP58184983A JP18498383A JPS5990854A JP S5990854 A JPS5990854 A JP S5990854A JP 58184983 A JP58184983 A JP 58184983A JP 18498383 A JP18498383 A JP 18498383A JP S5990854 A JPS5990854 A JP S5990854A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- glass plate
- holder
- dust
- air
- cartridge
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/708—Construction of apparatus, e.g. environment aspects, hygiene aspects or materials
- G03F7/70858—Environment aspects, e.g. pressure of beam-path gas, temperature
- G03F7/70866—Environment aspects, e.g. pressure of beam-path gas, temperature of mask or workpiece
Landscapes
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Atmospheric Sciences (AREA)
- Toxicology (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Environmental & Geological Engineering (AREA)
- Epidemiology (AREA)
- Public Health (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、エアプロー技術に関するもので、たとえば、
露光装置における板状物表面の清浄化に利用して有効な
技術に関するものである。
露光装置における板状物表面の清浄化に利用して有効な
技術に関するものである。
以下では、とくにフォトマスク露光装置に適用した場合
について説明する。
について説明する。
半導体装置、集積回路装置等の製造においては各種のパ
ターンを有するフォトマスクが用いられている。これら
のフォトマスクのパターンは露光装置を用いて製造され
ている。ところで、フォトマスクの一つとして、ガラス
プレートにエマルジョンを塗布し、このエマルジョンを
部分感光してパターンを形成したエマルジョンガラスプ
レートか知られている。このエマルジョンガラスプレー
トは、太ぎなガラスプレートをスクライプし割ったまま
の状態であることから、プレートエツジは鋭角で非常に
もろいものである。このため、ガラスプレートを露光装
置のホルダに移送機構（１１１１機）を用いて搬送する
場合、移送様構内でガラスプレートがガイド等に接触す
ることから、エツジが欠け、そのガラスチップやエマル
ジョン塵埃がガラスプレート上面の感光面に剛着する。
ターンを有するフォトマスクが用いられている。これら
のフォトマスクのパターンは露光装置を用いて製造され
ている。ところで、フォトマスクの一つとして、ガラス
プレートにエマルジョンを塗布し、このエマルジョンを
部分感光してパターンを形成したエマルジョンガラスプ
レートか知られている。このエマルジョンガラスプレー
トは、太ぎなガラスプレートをスクライプし割ったまま
の状態であることから、プレートエツジは鋭角で非常に
もろいものである。このため、ガラスプレートを露光装
置のホルダに移送機構（１１１１機）を用いて搬送する
場合、移送様構内でガラスプレートがガイド等に接触す
ることから、エツジが欠け、そのガラスチップやエマル
ジョン塵埃がガラスプレート上面の感光面に剛着する。
このような状態のままで露光すると、ガラスチ・ノブや
エマルジョン塵埃対応部の感光剤が感光しなくなり、正
確なパターンが形成されなくなる。
エマルジョン塵埃対応部の感光剤が感光しなくなり、正
確なパターンが形成されなくなる。
したがって、本発明の目的は板状物表面の塵埃を有効に
除去できるエアブロ−機構を提供することにある。
除去できるエアブロ−機構を提供することにある。
また本発明の目的は露光装置等に適用した場合、は正確
なパターンの露光を行なうことのできる露光装置を提供
することにある。
なパターンの露光を行なうことのできる露光装置を提供
することにある。
このような目的を達成するために本発明は、被処理物に
エアブローを施し、かつ、その時、ｈい上った塵埃を再
び降下させることなく排気口により吸い取るものであっ
て、以下実施例により本発明を具体的に説明する。
エアブローを施し、かつ、その時、ｈい上った塵埃を再
び降下させることなく排気口により吸い取るものであっ
て、以下実施例により本発明を具体的に説明する。
第１図および第２図に本発明を適用した露光装置の一実
施例を示す。これらの図では露光装置のカラスグレート
ホルダ、ガラスグレート移送機構およびガラスプレート
収容用カートリッジを示す。
施例を示す。これらの図では露光装置のカラスグレート
ホルダ、ガラスグレート移送機構およびガラスプレート
収容用カートリッジを示す。
第１図の左側にはガラスプレート１を保持するホルダ２
が示され、このホルダ２の上方にはホルダ２に保持され
るカラスグレート１にパターンを露光する光学系３が示
されている。また、同図の右側にはガラスプレート１を
収容するカートリッジ４と、このカートリッジ４を支持
する支持機構５が示されている。また、この支持機ｓ５
と前記ホルダ２との間にはガラスプレート１を搬送する
移送機構６が配設されている。ま１こ、この移送機構６
のホルダ２側上面にはブロー機構７が配設されつぎに、
これらの各機構について詳しく説明する。前言ｅカート
リッジ４は一側面（図中左側面）が開口され、多数の棚
８を有する箱となっている。
が示され、このホルダ２の上方にはホルダ２に保持され
るカラスグレート１にパターンを露光する光学系３が示
されている。また、同図の右側にはガラスプレート１を
収容するカートリッジ４と、このカートリッジ４を支持
する支持機構５が示されている。また、この支持機ｓ５
と前記ホルダ２との間にはガラスプレート１を搬送する
移送機構６が配設されている。ま１こ、この移送機構６
のホルダ２側上面にはブロー機構７が配設されつぎに、
これらの各機構について詳しく説明する。前言ｅカート
リッジ４は一側面（図中左側面）が開口され、多数の棚
８を有する箱となっている。
前記側８にはガラスプレート１の移動方向に沿う方向に
４条の噴射孔９群が設けられている。これらの噴射孔９
群は第２図に示すように、両側にそれぞれ２東ずつ設け
られ、内側の２灸の噴射孔９群はガラスプレート１をカ
ートリッジ４から送り出すように左上がりに傾斜した孔
（搬送用（ローダ用）エアートランスシュータ）となっ
ている。
４条の噴射孔９群が設けられている。これらの噴射孔９
群は第２図に示すように、両側にそれぞれ２東ずつ設け
られ、内側の２灸の噴射孔９群はガラスプレート１をカ
ートリッジ４から送り出すように左上がりに傾斜した孔
（搬送用（ローダ用）エアートランスシュータ）となっ
ている。
また、外側の２条の噴射孔９はカラスプレートｌをカー
トリッジ４内に送り込むように右上がりに傾斜し１こ孔
（搬送用（アンローダ用）エアートランスシュータ）と
なっている。ま１こ、−条の噴射孔９群は互いに連通し
、この連通孔ｌＯはそれぞれカートリッジ４０両側面に
開口している。ま１こ、支持機構５のカートリッジ載置
部両側には、前記開口し１こ連通孔１０に一致する空気
供給管１１がそれぞれ２本ずつ設けられている。したが
って、一方の供給管１１から空気を連通孔１０に送り込
み、搬送用（ローダ用）トランスシュータの噴射孔群か
らエアーを噴き出させることによって、棚８上のガラス
プレー＋−１は棚８上に浮いた状態でカートリッジ４か
ら送り出され、隣りの移送機構６のガイドテーブル１２
上に移る。また、ガイドテーブル１２上をカートリッジ
方向に移動して来るガラスプレート１は他方の空気供給
管１１から連通孔１０内に空気を送り込む操作によって
、搬送用（アンローダ用）エアートランスシュータの噴
射孔群の流れに乗り代えてカートリッジ４内に搬入され
る。さらに、一枚のガラスプレート１の搬出、処理、搬
入が終了すると、支持機構５は一般上昇又は下降して、
新たなガラスプレート１を前記同様の操作（手順）によ
って搬出、搬入するようになっている。
トリッジ４内に送り込むように右上がりに傾斜し１こ孔
（搬送用（アンローダ用）エアートランスシュータ）と
なっている。ま１こ、−条の噴射孔９群は互いに連通し
、この連通孔ｌＯはそれぞれカートリッジ４０両側面に
開口している。ま１こ、支持機構５のカートリッジ載置
部両側には、前記開口し１こ連通孔１０に一致する空気
供給管１１がそれぞれ２本ずつ設けられている。したが
って、一方の供給管１１から空気を連通孔１０に送り込
み、搬送用（ローダ用）トランスシュータの噴射孔群か
らエアーを噴き出させることによって、棚８上のガラス
プレー＋−１は棚８上に浮いた状態でカートリッジ４か
ら送り出され、隣りの移送機構６のガイドテーブル１２
上に移る。また、ガイドテーブル１２上をカートリッジ
方向に移動して来るガラスプレート１は他方の空気供給
管１１から連通孔１０内に空気を送り込む操作によって
、搬送用（アンローダ用）エアートランスシュータの噴
射孔群の流れに乗り代えてカートリッジ４内に搬入され
る。さらに、一枚のガラスプレート１の搬出、処理、搬
入が終了すると、支持機構５は一般上昇又は下降して、
新たなガラスプレート１を前記同様の操作（手順）によ
って搬出、搬入するようになっている。
前記移送機構６におけるガラスプレート１の移送は前記
カートリッジ４における棚８のエアートランスシュータ
機構と同様である。すなわち、ガイドテーブル１２上に
も移送方向に沿って４東の噴射孔１３群が設けられ、そ
れぞれの噴射孔１３群へは空気供給管１４および連通孔
１５を介して空気が供給噴射されるようになっている。
カートリッジ４における棚８のエアートランスシュータ
機構と同様である。すなわち、ガイドテーブル１２上に
も移送方向に沿って４東の噴射孔１３群が設けられ、そ
れぞれの噴射孔１３群へは空気供給管１４および連通孔
１５を介して空気が供給噴射されるようになっている。
これらの噴射孔１３群は内側２条がローダ用、外側２条
がアンローダ用となっている。
がアンローダ用となっている。
前記ブロー機構７はガラスプレート１の移動方向に直交
する方向に沼って延びろスリットノズル１６と、このス
リットノズル１６から噴き出された空気を上方に吸引す
る排気孔（塵埃収納ダクト）１７とを有するブロ一本体
１８からなっている。
する方向に沼って延びろスリットノズル１６と、このス
リットノズル１６から噴き出された空気を上方に吸引す
る排気孔（塵埃収納ダクト）１７とを有するブロ一本体
１８からなっている。
また、このブロ一本体１８の下面とガイドテーブル１２
との間隔はガラスプレート１が通過するに充分であり、
かつ必要以上広くならないように決定されている。換言
するならば、スリットノズル１６かも吹き出される空気
が勢いよくガラステーブル１２に噴き付けられる程度の
間隔となっている。また、前記スリットノズル１６はガ
ラスプレート１０幅よりも広く形成されているとともに
、ガラスプレート１のローディング方向にエアーが流れ
ないように、ローディング方向に逆らう流れとなるよう
に吹き出される。すなわち、これは、露光が施こされる
ホルダ側に塵埃が飛散しないように第１図中スリットノ
ズル１６は左上から右下に向かって吹き出される。この
傾斜は噴射空気の圧力（速度）等によって決定すればよ
い（たとえば１０度〜８０度）。この決定の因子は、ガ
ラスプレー）１に吹き伺けた空気がブロ一本体１８の下
面からガラスグレート１のローディング方向（ホルダ方
向）に流れないことと、スリットノズル１６から吹き付
けられる空気流によってガラスグレート１の移動が停止
し１こり極端に遅くならないようにすることにある。ま
た、ブロ一本体１８の排気孔１７は図示しない真空ポン
プ（排気ポンプ）に連通され、常にガラスプレート１上
に舞い上がった空気や塵埃を排気するようになっている
。
との間隔はガラスプレート１が通過するに充分であり、
かつ必要以上広くならないように決定されている。換言
するならば、スリットノズル１６かも吹き出される空気
が勢いよくガラステーブル１２に噴き付けられる程度の
間隔となっている。また、前記スリットノズル１６はガ
ラスプレート１０幅よりも広く形成されているとともに
、ガラスプレート１のローディング方向にエアーが流れ
ないように、ローディング方向に逆らう流れとなるよう
に吹き出される。すなわち、これは、露光が施こされる
ホルダ側に塵埃が飛散しないように第１図中スリットノ
ズル１６は左上から右下に向かって吹き出される。この
傾斜は噴射空気の圧力（速度）等によって決定すればよ
い（たとえば１０度〜８０度）。この決定の因子は、ガ
ラスプレー）１に吹き伺けた空気がブロ一本体１８の下
面からガラスグレート１のローディング方向（ホルダ方
向）に流れないことと、スリットノズル１６から吹き付
けられる空気流によってガラスグレート１の移動が停止
し１こり極端に遅くならないようにすることにある。ま
た、ブロ一本体１８の排気孔１７は図示しない真空ポン
プ（排気ポンプ）に連通され、常にガラスプレート１上
に舞い上がった空気や塵埃を排気するようになっている
。
ま１こ、ブロ一本体１８の下面周縁にはエアー洩れ防止
にラビリンス１９が設けられて（・る。
にラビリンス１９が設けられて（・る。
前記ガイドテーブル１２の外れにはガラスプレート２を
保持するホルダ２が位置している。このホルダ２はガイ
ドテーブル１２と同一面を成す移送テーブル部２０と、
この移送テーブル部２０の上方に設けられた矩形枠から
なるホルダ２１と、前記ホルダ部２１と移送テーブル部
２０とを一体的に連結する連結部２２とからなっている
。また、前記移送テーブル２０にも移動方向に沿って４
条の噴射孔２３が設けられ、それぞれの噴射孔２３群へ
は空気供給管２４および連通孔２５を介して空気が供給
噴射されるようになっている。これらの噴射孔２３群は
内側２灸がローダ用、外側２条がアンローダ用となって
いる。また、前記ホルダ部２１０枠状下面には周面に沼
って吸着孔２６が設けられている。これら吸着孔２６は
ホルダ部２１内で連通孔２７に繋がっている。また、こ
の連通孔２７は導管２８を介して図示しない真空ポンプ
に連通される。したがって、真空ポンプの作動によって
、ガラスプレート１はホルダ部２１下面に真空吸着保持
される。また、保持の状態では、ガラスプレート１０周
縁部がホルダ部２１に密着する。そして、この保持の状
態ではガラスプレート１上面にピントのあった像が結ば
れるようになっている。
保持するホルダ２が位置している。このホルダ２はガイ
ドテーブル１２と同一面を成す移送テーブル部２０と、
この移送テーブル部２０の上方に設けられた矩形枠から
なるホルダ２１と、前記ホルダ部２１と移送テーブル部
２０とを一体的に連結する連結部２２とからなっている
。また、前記移送テーブル２０にも移動方向に沿って４
条の噴射孔２３が設けられ、それぞれの噴射孔２３群へ
は空気供給管２４および連通孔２５を介して空気が供給
噴射されるようになっている。これらの噴射孔２３群は
内側２灸がローダ用、外側２条がアンローダ用となって
いる。また、前記ホルダ部２１０枠状下面には周面に沼
って吸着孔２６が設けられている。これら吸着孔２６は
ホルダ部２１内で連通孔２７に繋がっている。また、こ
の連通孔２７は導管２８を介して図示しない真空ポンプ
に連通される。したがって、真空ポンプの作動によって
、ガラスプレート１はホルダ部２１下面に真空吸着保持
される。また、保持の状態では、ガラスプレート１０周
縁部がホルダ部２１に密着する。そして、この保持の状
態ではガラスプレート１上面にピントのあった像が結ば
れるようになっている。
つぎに、露光作業について説明する。カートリッジ４の
棚８かも送り出されたガラスプレート１は移送機構６上
を浮いた状態で移動し、ホルダ２の移送テーブル２０上
に達し、真空ポンプの作動による吸着孔２６の吸着作用
でホルダ部２１下面に保持される。ここで、全てのロー
ダ用エアートランスシーータを停止させる。ところで移
送機構上を移動するガラスプレート１はブロー機構７に
よってその上面感光面の塵埃を吹き飛ばされ清浄化され
る。したがって、ホルダ２に達し１こガラスプレート１
の上面には麟埃は存在しなくなる。そこで、露光した後
、ガラスプレート１の真空吸着保持を停止した後、各ア
ンロー°ダ用エアートランスシュークを作動させ、ガラ
スプレート１を移送機構６上に移動させてカートリッジ
４内に収容させる。その後、各ローダ用エアートランス
シュータを停止させるとともに、支持機構５を一段上昇
又は下降させ、新１こなガラスプレート１を供給する用
意をする。
棚８かも送り出されたガラスプレート１は移送機構６上
を浮いた状態で移動し、ホルダ２の移送テーブル２０上
に達し、真空ポンプの作動による吸着孔２６の吸着作用
でホルダ部２１下面に保持される。ここで、全てのロー
ダ用エアートランスシーータを停止させる。ところで移
送機構上を移動するガラスプレート１はブロー機構７に
よってその上面感光面の塵埃を吹き飛ばされ清浄化され
る。したがって、ホルダ２に達し１こガラスプレート１
の上面には麟埃は存在しなくなる。そこで、露光した後
、ガラスプレート１の真空吸着保持を停止した後、各ア
ンロー°ダ用エアートランスシュークを作動させ、ガラ
スプレート１を移送機構６上に移動させてカートリッジ
４内に収容させる。その後、各ローダ用エアートランス
シュータを停止させるとともに、支持機構５を一段上昇
又は下降させ、新１こなガラスプレート１を供給する用
意をする。
また、この実施例によれば、搬送の最終段階でガラスプ
レート上面全域は清浄化されるので、仮りに上面感光面
に耐着している塵埃も除去される。
レート上面全域は清浄化されるので、仮りに上面感光面
に耐着している塵埃も除去される。
したがって、正確な露光ができることから歩留を向上さ
せることができる。たとえば、エアーブロー機構使用前
の露光装置は、塵埃サイズ１０μｍφ以上の欠陥密度が
０．７個／閤２であったのに対し、エアーブロー機構使
用後には欠陥密度は０．１個／漂２以下となった。
せることができる。たとえば、エアーブロー機構使用前
の露光装置は、塵埃サイズ１０μｍφ以上の欠陥密度が
０．７個／閤２であったのに対し、エアーブロー機構使
用後には欠陥密度は０．１個／漂２以下となった。
なお、本発明は前記実施例に限定されな（・。すなわち
、ガラスプレートを搬送する機構は必ずしもエアートラ
ンスシュータでなくともよい。まＴこ清浄化用のノズル
は円形ノズルを並べる構造でもよい。さらに、この処理
装置は被露光物としてガラスプレートに限定されない。
、ガラスプレートを搬送する機構は必ずしもエアートラ
ンスシュータでなくともよい。まＴこ清浄化用のノズル
は円形ノズルを並べる構造でもよい。さらに、この処理
装置は被露光物としてガラスプレートに限定されない。
以上のように、本発明の処理装置によれば、たとえば被
露光物の表面感光面を清浄化しＴこ後に所定のパターン
を露光することから、欠陥のない正確な感光パターンを
形成することができる。したがって、マスク製造の歩留
およびこれらのマスクを用いて製造する半導体回路素子
の歩留を向上させることができる。
露光物の表面感光面を清浄化しＴこ後に所定のパターン
を露光することから、欠陥のない正確な感光パターンを
形成することができる。したがって、マスク製造の歩留
およびこれらのマスクを用いて製造する半導体回路素子
の歩留を向上させることができる。
以上本発明の実施例においては主にマスク露光装置に適
用した場合について説明したが、本発明はそれに限定さ
れることなく、ウェーハのフォトレジスト関係工程その
他に適用できることはいうまでもない。
用した場合について説明したが、本発明はそれに限定さ
れることなく、ウェーハのフォトレジスト関係工程その
他に適用できることはいうまでもない。
第１図は本発明の処理装置の一実施例による主としてガ
ラスプレート移送機構部を示す一部断面図、第２図は同
じくガラスプレートを収容するカートリッジおよびガラ
スプレート搬送路の一部を示す一部断面平面図である。 １・・・ガラスプレート、２・・・ホルダ、３・・・光
学系、４・・・カー） ＩＪッジ、５・・・支持機構、
６・・・移送機構、７・・・ブロー機構、８・・・棚、
９・・・噴射孔、１０・・・連通孔、１１・・・空気供
給管、１２・・・ガイドテーブル、１３・・・噴射孔、
１４・・・空気供給管、１５・・・連通孔。 １６・・・スリットノズル、１７・・・排気孔、１８・
・・ブロ一本体、１９・・・ラビリンス、２０・・・移
送テーブル、２１・・・ホルダ部、２２・・・連結部、
２３・・・噴射孔、２４・・・空気供給管、２５・・・
連通孔、２６・・・吸着孔、２７・・・連通孔、２８・
・・導管。
ラスプレート移送機構部を示す一部断面図、第２図は同
じくガラスプレートを収容するカートリッジおよびガラ
スプレート搬送路の一部を示す一部断面平面図である。 １・・・ガラスプレート、２・・・ホルダ、３・・・光
学系、４・・・カー） ＩＪッジ、５・・・支持機構、
６・・・移送機構、７・・・ブロー機構、８・・・棚、
９・・・噴射孔、１０・・・連通孔、１１・・・空気供
給管、１２・・・ガイドテーブル、１３・・・噴射孔、
１４・・・空気供給管、１５・・・連通孔。 １６・・・スリットノズル、１７・・・排気孔、１８・
・・ブロ一本体、１９・・・ラビリンス、２０・・・移
送テーブル、２１・・・ホルダ部、２２・・・連結部、
２３・・・噴射孔、２４・・・空気供給管、２５・・・
連通孔、２６・・・吸着孔、２７・・・連通孔、２８・
・・導管。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、 （ａ） その直下にある被処理体に気体を吹
き付ける噴射口 （ｂ） 上記噴射口に近接して設けられた吹き付けら
れた気体を排気するための排気口 （ｃ） 上記噴射口の直下を被処理体を搬送するため
の搬送機構 よりなる板状物エアブロ−機構。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58184983A JPS5990854A (ja) | 1983-10-05 | 1983-10-05 | 板状物エアブロ−機構 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58184983A JPS5990854A (ja) | 1983-10-05 | 1983-10-05 | 板状物エアブロ−機構 |
Related Parent Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP52000377A Division JPS5943819B2 (ja) | 1977-01-07 | 1977-01-07 | 露光装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5990854A true JPS5990854A (ja) | 1984-05-25 |
Family
ID=16162742
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP58184983A Pending JPS5990854A (ja) | 1983-10-05 | 1983-10-05 | 板状物エアブロ−機構 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5990854A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6292642U (ja) * | 1985-11-29 | 1987-06-13 | ||
| KR100529897B1 (ko) * | 2003-04-25 | 2005-11-22 | 엘지전자 주식회사 | 노광기의 피딩장치 |
Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS4330550Y1 (ja) * | 1968-03-04 | 1968-12-12 | ||
| JPS4811639U (ja) * | 1971-06-19 | 1973-02-09 | ||
| JPS5142916A (ja) * | 1974-10-09 | 1976-04-12 | Sumitomo Metal Ind | |
| JPS51126130A (en) * | 1974-11-15 | 1976-11-04 | Bell & Howell Co | Device for feeding document in microfilm recording machine |
| JPS5386169A (en) * | 1977-01-07 | 1978-07-29 | Hitachi Ltd | Exposure apparatus |
-
1983
- 1983-10-05 JP JP58184983A patent/JPS5990854A/ja active Pending
Patent Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS4330550Y1 (ja) * | 1968-03-04 | 1968-12-12 | ||
| JPS4811639U (ja) * | 1971-06-19 | 1973-02-09 | ||
| JPS5142916A (ja) * | 1974-10-09 | 1976-04-12 | Sumitomo Metal Ind | |
| JPS51126130A (en) * | 1974-11-15 | 1976-11-04 | Bell & Howell Co | Device for feeding document in microfilm recording machine |
| JPS5386169A (en) * | 1977-01-07 | 1978-07-29 | Hitachi Ltd | Exposure apparatus |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6292642U (ja) * | 1985-11-29 | 1987-06-13 | ||
| KR100529897B1 (ko) * | 2003-04-25 | 2005-11-22 | 엘지전자 주식회사 | 노광기의 피딩장치 |
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