JPH058943U - 吸着ハンドラ - Google Patents

吸着ハンドラ

Info

Publication number
JPH058943U
JPH058943U JP5469791U JP5469791U JPH058943U JP H058943 U JPH058943 U JP H058943U JP 5469791 U JP5469791 U JP 5469791U JP 5469791 U JP5469791 U JP 5469791U JP H058943 U JPH058943 U JP H058943U
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
air
suction
processing member
plate
suction plate
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP5469791U
Other languages
English (en)
Inventor
順三 川上
宣親 谷澤
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sharp Corp
Original Assignee
Sharp Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Sharp Corp filed Critical Sharp Corp
Priority to JP5469791U priority Critical patent/JPH058943U/ja
Publication of JPH058943U publication Critical patent/JPH058943U/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Abstract

(57)【要約】 【構成】 吸着板10上への加工部材11載置時には吸
着板10を真空源14に接続して加工部材11を吸着す
る一方、非載置時には、吸着板10に圧縮空気源16を
接続して吸着板10の上方に空気を送出し、この空気送
出領域での空気の澱みを解消して停滞するダストを排除
するように動作する吸着ハンドラであって、加工部材1
1の吸着面および空気の送出面となる上面部12を焼結
金属等の多孔質体で形成する。 【効果】 上面部12の全体にわたって一様な空気の吹
出しが行われることから、従来、穿設加工にて離散的な
配置構造で吸着孔が設けられていた場合の吸着孔間の局
部的な空気の澱みが解消され、このため、吸着板10上
方空間の清浄度が向上する。

Description

【考案の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】
本考案は、例えば、クリーンルーム等の清浄度の高い空間内に設置された製造 装置で加工されるシリコンウエハやガラス板等の加工部材を吸着して搬送・固定 するために使用される吸着ハンドラに関するものである。
【0002】
【従来の技術】
高精度の加工が要求されるIC(Integrated Circuit) や液晶表示パネルは、 基材となるシリコンウエハやガラス板等の加工部材に付着する空気中のダストが 歩留りに大きな影響を与えることから、図5に示すように、空気濾過フィルター 34を備えた清浄度の高いクリーンルーム38内に設置された製造装置31で、 上記のような加工部材39に対する加工が行われる。そして、製造装置31には 、人間がダストの発生源になることが多いため、加工部材39を吸着して搬送や 加工位置で固定するための吸着ハンドラ33が設けられている。
【0003】 上記の吸着ハンドラ33は、製造装置31の装置本体32と装置上面部35と の間の位置に水平に配設される吸着板37を有している。この吸着板37は、図 6および図7に示すように、内部の中空部37aの上部を覆う平板材より成る上 面部37bに多数の吸着孔37c…を設けて構成され、中空部37aを真空源に 接続することによって、上面部37bに載置された加工部材39に吸着孔37c …を通して真空吸着力を作用させ、これによって、加工部材39を吸着して保持 できるようになっている。このような吸着ハンドラ33を用いることによって、 人手を介さずに加工部材39の搬送や固定を行わせることができるため、加工部 材39へのダストの付着が抑制され、歩留りを向上することが可能になる。
【0004】 一方、前記クリーンルーム38内では、通常、図8に示すように、天井面に設 けられた空気濾過フィルター34を通してダストの除去された空気が吹出され、 この空気は、床36に形成された排気孔36aを通して外部に排気される。した がって、クリーンルーム38内では、ダストの除去された清浄な空気が天井から 床36に向かって流れるようになっている。
【0005】 ところが、前記吸着ハンドラ33の吸着板37は、上記のように下降気流とな る空気の流れに対して直交するように水平に配設されているために、上方からの 空気の流れが吸着板37にて遮られ、この結果、吸着板37の上方で空気の澱み が生じる。特に、下降気流は吸着板37の上方に位置する装置上面部35におい ても遮られるために、この装置上面部35と吸着板37との間の空間領域におい て一層大きな空気の澱みを生じ、したがって、この領域でダストが停滞すること となって空気の清浄度が低下し、この結果、吸着板37上に載置される加工部材 39に多くのダストが付着するという不具合を生じている。
【0006】 そこで、上記の不具合を解消するために、本願発明者等は、加工部材の吸着時 以外のときに、吸着板への接続を真空源から圧縮空気源に切換え、図9に示すよ うに、吸着板40内の中空部41から、その上方の上面部42に多数形成されて いる吸着孔43…を通して空気を上方に送出する構成の吸着ハンドラを先に提案 した(特願平3−33163号参照)。このように、吸着板40の上面から上方 に空気を送出することで、吸着板40の上方空間での空気の澱みが解消され、こ れにより、停滞していたダストを排除できることから、この領域での空気の清浄 度を向上することが可能となる。
【0007】
【考案が解決しようとする課題】
しかしながら、上記のように吸着板40における吸着孔43…を通して空気を 上方に送出する構成とする場合においても、ダストの低減効果が必ずしも充分に は得られないという問題を生じている。つまり、上記のような吸着板40は、吸 着板40の上面部42に通常穿設加工にて多数の吸着孔43…を設けることで作 製されるが、このような吸着孔43…をより小径として密に設けることは、加工 コストや加工性能等によって制限されるため、各吸着孔43…間にある程度距離 をおいた離散的な吸着孔配置構造となっている。この結果、隣合う吸着孔43・ 43間での空気の吹出しを生じない局部的な領域の上方で、空気の澱みが依然と して残存し、したがって、この領域に滞留するダストが、上面部42に載置され た加工部材39に付着するという問題を生じているのである。
【0008】
【課題を解決するための手段】
本考案の吸着ハンドラは、上記の問題点を解決するために、真空源と圧縮空気 源とに切換接続される中空部を内部に有する吸着板が設けられ、例えばシリコン ウエハやガラス板等の加工部材が載置される上記中空部上方の上面部が、例えば 焼結金属等から成る多孔質体にて形成されると共に、加工部材の載置時に上記中 空ぶを真空源に連通させる一方、加工部材の非載置時には、上記中空部を圧縮空 気源に連通させて、上記多孔質体を通して圧縮空気を上方に送出させる連通切換 手段が設けられていることを特徴としている。
【0009】
【作用】
上記の構成によれば、加工部材の載置時には、吸着板の中空部が真空源に連通 することにより、上記加工部材が吸着板に吸着される。一方、非載置時には、中 空部を圧縮空気源に連通させて、この圧縮空気源から供給される空気を吸着板の 上面部を通して上方に送出し、これにより、吸着板の上方空間に滞留しているダ ストをこの領域から排除する操作が行われる。
【0010】 このとき、吸着板の上面部は、例えば焼結金属から成る多孔質体にて形成され ていることから、この上面部は、極く小径の孔が全面にわたって高密度で表面に 開口している。このため、上面部からは、その全面にわたって層流に近い一様な 流れの空気が上方に送出されることから、穿設加工により吸着孔を形成していた 場合に生じていた前述の吸着孔間の局部的な空気の澱み領域も解消される。この 結果、吸着板の上方はその全体にわたってダストの停滞領域が生じなくなるので 、吸着板の上方空間をより高い清浄度で維持することができる。
【0011】
【実施例】 本考案の一実施例について図1ないし図4に基づいて説明すれば、以下の通り である。
【0012】 本実施例の吸着ハンドラには、図1に示すように、例えばICや液晶表示パネ ルの基材となるシリコンウエハやガラス板等の加工部材11が載置される吸着板 10と、それぞれ電磁式の3ポート方向制御弁から成る第1・第2の2個の切換 弁(連通切換手段)13・15とが設けられている。
【0013】 上記各切換弁13・15は、それぞれ、出口ポート13c・15cを、入口ポ ート13a・15aと排気ポート13b・15bとに切換連通するように構成さ れている。第1切換弁13の出口ポート13cは、吸着板10の後述する導通孔 10bに接続されており、また、この第1切換弁13の排気ポート13bは例え ば真空ポンプ等の真空源14に接続される一方、入口ポート13aは第2切換弁 15の出口ポート15cに接続されている。この第2切換弁15の入口ポート1 5aは圧縮空気源16に接続され、また、排気ポート15bは大気開放されてい る。
【0014】 前記吸着板10は、図2に示すように、加工部材11の形状、この場合には、 液晶表示パネルの基材としての方形のガラス板に合わせて、例えば400mm× 400mm程度の方形形状に形成されている。内部には、図1に示すように、加 工部材11の載置面のほぼ全体にわたって広がる空間形状の中空部10aが形成 されている。この中空部10aの下側を覆う底壁には、この中空部10aに連通 する前記導通孔10bが穿設されており、この導通孔10bに前記第1切換弁1 3の出口ポート13cが接続されている。
【0015】 一方、上記吸着板10の中空部10aの上方を覆う上面部12は、例えば、S US316L相当品等を粒状金属にして高温で焼き固めて得られた焼結金属を、 中空部10aのほぼ全体を覆う平板状に形成し、これをその上面12aが加工部 材11の載置面を形成するように、吸着板10の上面側に取付けることによって 構成されている。
【0016】 上記のように、上面部12は焼結金属等の多孔質体から成ることにより、その 材料形成段階で生成される内部の連続気孔を通して、中空部10aと吸着板10 の上方空間領域との連通状態が与えられるものとなっている。また、上記のよう な多孔質金属板から成る上面部12は、これを通過する空気からダストを除去す るフィルター機能を備えており、例えば0.3μm以上のダストを99.99%の 割合で除去することができる。
【0017】 上記構成の吸着ハンドラは、図3に示すように、清浄度が高めれらた空間を形 成するクリーンルーム9内に設置される製造装置1に装備されている。上記クリ ーンルーム9は、製造装置1が載置される床6と、この床6から立上げられた側 壁8と、この側壁8の上端部に設けられた空気濾過フィルター4とで形成されて いる。
【0018】 上記空気濾過フィルター4は、外部の空気が通過した際に、例えば0.3μm以 上のダストを99.99%の割合で除去するようになっており、この空気濾過フ ィルター4を通過してダストの除去された清浄な空気がクリーンルーム9内に送 出される。
【0019】 一方、クリーンルーム9の床6には、多数の排気孔6a…が形成されており、 これら排気孔6a…を通してクリーンルーム9内の空気が外部に排気される。し たがって、クリーンルーム9内では、天井側の空気濾過フィルター4を通してダ ストの除去された空気が、例えば0.3m/secの平均流速で床6の方向に向か う下降気流となって流れるようになっている。
【0020】 前記製造装置1は、前記吸着ハンドラ3を上面側に備えて前記吸着板10を移 動させる図示しない移動手段等を内蔵した装置本体2と、この装置本体2の上方 に支持ポスト7・7を介して設けられた装置上面部5とから成っており、この装 置上面部5は、吸着ハンドラ3で保持された加工部材11を上方から所定の仕様 に形成する加工手段等を内蔵している。
【0021】 上記のように設けられた吸着ハンドラ3の動作について、次に説明する。
【0022】 まず、加工部材11を加工する場合には、図1に示すように、加工部材11が 吸着ハンドラ3の吸着板10上に載置される。その後 第1切換弁13に対し、 その出口ポート13cを、真空源14の接続された排気ポート13bに連通させ る操作が行われ、これにより、吸着板10の中空部10aは真空源14に連通し た状態となる。このとき、上面部12はその上面12aの全体にわたって加工部 材11に接しており、したがって、多孔質体から成る上面部12は上面12aで 閉栓された状態となっていることから、中空部10aは真空源14によって圧力 が低下する。この圧力低下によって、上面部12を介して加工部材11に真空吸 引力が作用し、この加工部材11は吸着板10に吸着して保持される。この吸着 保持状態で、加工部材11は吸着板10と共に搬送され、また、加工時における 所定の位置に移動されて固定される。
【0023】 上記の加工部材11に対する加工が終了すると、図1に示す第2切換弁15に 対し、その出口ポート15cを大気開放されている排気ポート15bに連通させ ると共に、第1切換弁13に対し、その出口ポート13cを上記第2切換弁15 の出口ポート15cに接続されている入口ポート13aに連通させる切換操作が 行われる。これにより、吸着板10の中空部10aは、両切換弁13・15を通 して大気に連通した状態になり、それまでの減圧状態から大気圧の状態に復帰す る。この結果、加工部材11に対する真空吸引力が消失し、加工部材11の吸着 状態が解除される。この吸着解除操作が行われた後、加工部材11が吸着板10 から取り除かれる。
【0024】 上記のように吸着板10から加工部材11が取り除かれると、次いで、第2切 換弁15に対し、その出口ポート15cを、圧縮空気源16に接続されている入 口ポート15aに連通させる切換操作が行われる。これにより、吸着板10の中 空部10aは、第1・第2切換弁13・15を通して圧縮空気源16に連通し、 圧縮空気源16から、所定の圧力の空気が中空部10aに供給される。そして、 この空気は、中空部10aから、図4に示すように、上面部12を通して吸着板 10の上方空間に送出される。
【0025】 上記のような吸着板10からの送出空気は、前記のように焼結金属から成る上 面部12を通過する際にダストが除去され、清浄な空気となって、例えば0.3m /secの平均流速で、上面部12の全面から上方に送出される。
【0026】 上記のように吸着板10からの送出空気が、従来、空気の澱みを生じていた吸 着板10と装置上面部5との間の空間に送られる結果、図3に示すように、上記 の従来澱みを生じていた空間部17の空気は製造装置1の周辺へと矢印方向に押 し出されることになり、上記空間部17のダストは製造装置1の周辺の下降気流 と共に床6の排気孔6aから外部に排出される。
【0027】 特に、本実施例の場合には、吸着板10の上面部12が、例えば焼結金属から 成る多孔質体にて形成されていることから、この上面部12は、極く小径の孔が 全面にわたって高密度で表面に開口するものとなっている。このため、前述のよ うに、穿設加工により吸着孔を形成していた場合に生じていた吸着孔間の局部的 な空気の澱み領域も解消されて、上面部12からは、その全面にわたって層流に 近い一様な流れとなって空気が上方に送出される。
【0028】 これにより、空間部17には、空気の澱み領域が生じることなく、全体にわた って、上面部12から吹出される清浄な空気が存在する。実際、上記空間部17 の清浄度をパーティクルカウンタで測定したところ、空気1立方フィート当たり の粒径0.3μm以上のダスト数は平均1個以下であり、高い清浄度が維持されて いることが確認された。また、吸着板10表面にダストの堆積が観察されないこ とからも、上記空間部17においても高い清浄度が維持されていることが確認さ れた。
【0029】 なお、新たな加工部材11が吸着板10に載置される場合には、吸着板10か らの空気の送出状態から、第2切換弁15に対して、その出口ポート15cを大 気開放側の排気ポート15bに連通させる切換操作がまず行われて、吸着板10 からの空気の送出が停止され、次いで、加工部材11が載置された後に、前記の ように、第1切換弁13における出口ポート13cを真空源14へと連通させる 切換操作が行われる。
【0030】 以上の説明のように、本実施例の吸着ハンドラは、加工部材11が載置される 上面部12に、焼結金属等の多孔質体を使用し、この多孔質体の連続気孔を加工 部材11の吸着と共に空気の送出孔として利用するようになっている。したがっ て、吸着板10の上方空間全体におけるダストの停滞が解消され、結果として高 い清浄度を維持することが可能になっている。
【0031】 なお、上記実施例においては、上面部12を構成する多孔質体として、クリー ンルーム9の空気濾過フィルター4と同程度にダストを除去する高性能フィルタ ー機能をも有するものを選定した例を挙げて説明したが、例えばクリーンルーム 9内への供給空気として必要な程度にダストを除去するフィルターを吸着板10 への圧縮空気源16の接続ラインに別途介設し、上面部12を構成する多孔質体 としては、これが格別のフィルター機能を備えていなくとも、空気を全面にわた って一様に送出し得る程度の目のあらいもので構成することも可能である。また 、上記実施例においては、焼結金属より成る多孔質体を例に挙げたが、例えば中 空糸を束ねたもの等の同様の機能を有するその他の材料を用いて構成することが できる。
【0032】
【考案の効果】
以上のように、本考案の吸着ハンドラは、真空源と圧縮空気源とに切換接続さ れる中空部を内部に有する吸着板が設けられ、加工部材が載置される上記中空部 上方の上面部が多孔質体にて形成されると共に、加工部材の載置時に上記中空部 を真空源に連通させる一方、加工部材の非載置時には、上記中空部を圧縮空気源 に連通させて、上記多孔質体を通して圧縮空気を上方に送出させる連通切換手段 が設けられている構成である。
【0033】 これにより、加工部材の非載置時には、極く小径の孔が全面にわたって高密度 で表面に開口する多孔質体から成る上面部を通して、空気が上方に送出される。
【0034】 この結果、穿設加工により吸着孔を離散的な配置で設けた場合の吸着孔間の局部 的な空気の澱み領域も解消され、したがって、吸着板の上方はその全体にわたっ てダストの停滞領域が生じなくなるので、吸着板の上方空間をより高い清浄度で 維持することができるという効果を奏する。
【図面の簡単な説明】
【図1】本考案の一実施例における吸着ハンドラの概略
構成図である。
【図2】上記吸着ハンドラにおける吸着板の斜視図であ
る。
【図3】上記吸着ハンドラが設けられるクリーンルーム
内を示す説明図である。
【図4】上記吸着板の要部拡大断面図である。
【図5】従来のクリーンルーム内の配置状態を示す説明
図である。
【図6】従来の吸着ハンドラにおける吸着板の平面図で
ある。
【図7】図6におけるX−X線矢視断面図である。
【図8】従来のクリーンルーム内の空気の流れを示す説
明図である。
【図9】従来の吸着板からの空気の送出状態を示す部分
拡大断面図である。
【符号の説明】
10 吸着板 10a 中空部 11 加工部材 12 上面部 13 第1切換弁(連通切換手段) 14 真空源 15 第2切換弁(連通切換手段) 16 圧縮空気源

Claims (1)

  1. 【実用新案登録請求の範囲】 【請求項1】真空源と圧縮空気源とに切換接続される中
    空部を内部に有する吸着板が設けられ、加工部材が載置
    される上記中空部上方の上面部が多孔質体にて形成され
    ると共に、加工部材の載置時に上記中空部を真空源に連
    通させる一方、加工部材の非載置時には、上記中空部を
    圧縮空気源に連通させて、上記多孔質体を通して圧縮空
    気を上方に送出させる連通切換手段が設けられているこ
    とを特徴とする吸着ハンドラ。
JP5469791U 1991-07-15 1991-07-15 吸着ハンドラ Pending JPH058943U (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP5469791U JPH058943U (ja) 1991-07-15 1991-07-15 吸着ハンドラ

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP5469791U JPH058943U (ja) 1991-07-15 1991-07-15 吸着ハンドラ

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH058943U true JPH058943U (ja) 1993-02-05

Family

ID=12978000

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP5469791U Pending JPH058943U (ja) 1991-07-15 1991-07-15 吸着ハンドラ

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH058943U (ja)

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5002027B2 (ja) ストッカー
JP3175185B2 (ja) 真空吸着装置および真空吸着装置の制御方法
JPH058943U (ja) 吸着ハンドラ
JP4333065B2 (ja) 基板保持装置
JP3697889B2 (ja) 電子部品実装装置
JPH04272027A (ja) 吸着ハンドラ
US6616526B2 (en) Clean room and method for fabricating semiconductor device
JP4062437B2 (ja) 基板洗浄装置および基板処理施設
JPH1142583A (ja) 多孔板吸着装置
JPH06178907A (ja) クリーンベンチ及びその配列構造
JPH05114540A (ja) レチクル搬送装置
JPH024145A (ja) クリーンブース
JP3503770B2 (ja) クリーンユニット及びクリーンルーム
JP4903948B2 (ja) 高清浄空間形成装置
JP2002280439A (ja) 搬送装置
JP2003031451A (ja) 半導体製造装置
JPH0738305Y2 (ja) 真空吸着プレート
JPH059886U (ja) 吸着ハンドラ
JP3929175B2 (ja) 静電吸着装置
CN209401607U (zh) 晶圆承载装置及曝光设备
TWI221756B (en) Local cleaning device
TW202313432A (zh) 基板保持裝置
JPS62154752A (ja) ウエハ−ス吸着器
TW546687B (en) Vacuum chuck device for particle reduction
JPH0761618B2 (ja) 製品製造装置