KR20210003673A - 처리 장치 - Google Patents

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슈지 닛타
나오카츠 우리타
가즈야 에스미
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가부시기가이샤 디스코
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Abstract

[과제] 웨이퍼를 유지 수단으로부터 이격시킬 때에, 정전기의 제전(除電)을 양호하게 행한다.
[해결수단] 다이싱 테이프(T1)의 하면에 있어서의 척 테이블(20)의 유지면(23)으로부터의 이격 부분의 면적을 서서히 크게 하면서, 이 부분으로, 이온화 에어(A1)를 내뿜음으로써, 다이싱 테이프(T1)에 대전되는 정전기를 제거한다. 이 때문에, 척 테이블(20)의 유지면(23)으로부터 이격되는 다이싱 테이프(T1)가 대전되는 것을 억제하면서, 또한, 다이싱 테이프(T1)에 대전된 정전기를 제거하면서, 유지면(23)으로부터 워크 셋트(W1)를 반출할 수 있다. 이에 의해, 척 테이블(20)의 유지면(23)으로부터 이격된 다이싱 테이프(T1)가, 정전기를 대전하기 어렵다. 이 때문에, 워크 셋트(W1)의 웨이퍼(W)에 형성된 디바이스의 품질의 저하를 억제할 수 있다.

Description

처리 장치{PROCESSING APPARATUS}
본 발명은 처리 장치에 관한 것이다.
특허문헌 1 및 특허문헌 2에 개시된 바와 같은 웨이퍼를 절삭하는 절삭 장치에서는, 웨이퍼는, 그 한쪽의 면에 접착되어 있는 다이싱 테이프를 통해 유지 수단에 유지된 상태에서, 절삭 가공된다.
이러한 절삭 장치에서는, 절삭 가공 후, 웨이퍼에 접착되어 있는 다이싱 테이프에 정전기가 대전됨으로써, 웨이퍼에 형성된 디바이스의 품질이 저하하는 경우가 있다. 그 때문에, 다이싱 테이프에 대전된 정전기를 제거하기 위해, 이온화된 에어를 다이싱 테이프로 내뿜고 있다.
예컨대, 특허문헌 1에 개시된 절삭 장치에서는, 유지 수단에 유지된 다이싱 테이프가 접착된 웨이퍼를, 반송 수단에 의해 유지 수단으로부터 이격시킨 후, 다이싱 테이프에 이온화된 에어가 닿도록, 반송 수단에 유지되어 상승하는 웨이퍼를 뒤쫓도록, 에어의 분사 방향이 변경된다.
특허문헌 1: 일본 특허 공개 제2012-049359호 공보 특허문헌 2: 일본 특허 공개 제2015-112552호 공보
그러나, 종래의 절삭 장치에서는, 웨이퍼가 유지면으로부터 완전히 이격된 후에, 이온화 에어를 다이싱 테이프로 내뿜고 있다. 이 때문에, 다이싱 테이프에 정전기가 잔존하는 경우가 있어, 디바이스의 품질이 저하할 가능성이 남는다.
따라서, 본 발명의 목적은, 웨이퍼를 유지 수단으로부터 이격시킬 때에, 정전기의 제전(除電)을 양호하게 행함으로써, 디바이스의 품질 저하를 억제하는 데 있다.
본 발명의 제1 처리 장치는, 링 프레임과 상기 링 프레임의 개구에 배치되는 피가공물과 다이싱 테이프를 접착하여 일체화한 워크 셋트를, 상기 다이싱 테이프를 통해 유지하는 유지면을 갖는 유지 수단과, 상기 유지면에 유지된 상기 워크 셋트의 피가공물을, 상기 피가공물에 물을 공급하면서 처리하는 처리 수단과, 상기 유지면에 유지된 상기 워크 셋트의 상기 링 프레임을 유지하는 적어도 3개의 유지부를 구비하는 프레임 유지부를, 상기 유지면에 수직인 방향으로 이동시키는 승강 수단과, 상기 다이싱 테이프의 하면으로 이온화 에어를 내뿜어, 상기 다이싱 테이프에 대전되는 정전기를 제거하는 이오나이저를 구비하는, 처리 장치로서, 상기 승강 수단은, 상기 워크 셋트의 상기 다이싱 테이프의 하면이, 외주 부분으로부터 중앙을 향하여 상기 유지면으로부터 서서히 이격되도록, 상기 워크 셋트의 상기 링 프레임을 유지하는 상기 프레임 유지부를 상승시키도록 구성되고, 상기 이오나이저는, 상기 다이싱 테이프의 하면에 있어서의 상기 유지면으로부터 이격되는 부분으로, 상기 유지면으로부터 상기 다이싱 테이프의 하면이 전부 이격되고, 또한, 상기 유지면으로부터 상기 다이싱 테이프의 하면이 미리 정해진 거리 이격될 때까지, 이온화 에어를 계속해서 내뿜도록 구성되며, 상기 다이싱 테이프에 대전된 정전기를 제거하면서, 상기 유지면으로부터 피가공물을 반출한다.
본 발명의 제2 처리 장치는, 한쪽의 면에 보호 부재를 갖는 피가공물을, 상기 보호 부재를 통해 유지하는 유지면을 갖는 유지 수단과, 상기 유지면에 유지된 피가공물을 처리하는 처리 수단과, 한쪽의 면이 상기 유지면에 유지된 피가공물의 다른쪽의 면을 흡착 유지하는 흡착면을 갖는 반송 패드를, 상기 유지면에 수직인 방향으로 이동시키는 승강 수단과, 상기 보호 부재의 하면으로 이온화 에어를 내뿜어, 상기 보호 부재에 대전되는 정전기를 제거하는 이오나이저를 구비하는 처리 장치로서, 상기 반송 패드의 상기 흡착면과 상기 유지면의 상대적인 기울기를 변경하는 기울기 변경 수단을 더 구비하고, 상기 기울기 변경 수단은, 상기 유지면에 유지되어 있는 피가공물을 흡착 유지한 상기 반송 패드의 상기 흡착면과 상기 유지면의 상대적인 기울기를, 상기 흡착면과 상기 유지면이 서로 평행인 상태로부터 서서히 크게 함으로써, 상기 피가공물의 상기 보호 부재의 하면에 있어서의 상기 유지면으로부터의 이격 부분의 면적을 서서히 크게 하도록 구성되며, 상기 이오나이저는, 상기 보호 부재의 하면에 있어서의 상기 유지면으로부터의 이격 부분으로, 상기 유지면으로부터 상기 보호 부재의 하면이 전부 이격되고, 또한, 상기 유지면으로부터 상기 보호 부재의 하면이 미리 정해진 거리 이격될 때까지, 이온화 에어를 계속해서 내뿜도록 구성되고, 상기 보호 부재에 대전된 정전기를 제거하면서, 상기 유지면으로부터 피가공물을 반출한다.
제1 처리 장치에서는, 다이싱 테이프의 하면에 있어서의 유지 수단의 유지면으로부터 이격되는 부분의 면적을 서서히 크게 하면서, 이 부분으로, 이오나이저가 이온화 에어를 내뿜음으로써, 다이싱 테이프에 대전되는 정전기를 제거한다. 이 때문에, 유지 수단의 유지면으로부터 이격되는 다이싱 테이프가 대전되는 것을 억제하면서, 또한, 다이싱 테이프에 대전된 정전기를 제거하면서, 유지면으로부터 워크 셋트를 반출할 수 있다. 이에 의해, 유지 수단의 유지면으로부터 이격된 다이싱 테이프가, 정전기로 대전되기 어렵다. 이 때문에, 워크 셋트의 피가공물에 형성된 디바이스의 품질의 저하를 억제할 수 있다.
제2 처리 장치에서는, 보호 부재의 하면에 있어서의 유지 수단의 유지면으로부터 이격되는 부분의 면적을 서서히 크게 하면서, 이 부분으로, 이오나이저가 이온화 에어를 내뿜음으로써, 보호 부재에 대전되는 정전기를 제거한다. 이 때문에, 유지 수단의 유지면으로부터 이격되는 보호 부재가 대전되는 것을 억제하면서, 또한, 보호 부재에 대전된 정전기를 제거하면서, 유지면으로부터 피가공물을 반출할 수 있다. 이에 의해, 유지 수단의 유지면으로부터 이격된 보호 부재가, 정전기로 대전되기 어렵다. 이 때문에, 피가공물에 형성된 디바이스의 품질의 저하를 억제할 수 있다.
도 1은 본 실시형태에 따른 가공 장치의 사시도이다.
도 2는 절삭 기구를 나타내는 설명도이다.
도 3은 이오나이저의 구성을 나타내는 사시도이다.
도 4는 척 테이블의 유지면에 유지된 워크 셋트 상에 반송 수단이 배치되어 있는 상태를 나타내는 설명도이다.
도 5는 워크 셋트의 링 프레임이, 반송 수단의 유지부에 의해 유지된 상태를 나타내는 설명도이다.
도 6은 워크 셋트의 링 프레임이, 반송 수단의 유지부에 의해 들어올려진 상태를 나타내는 설명도이다.
도 7은 워크 셋트에 있어서의 다이싱 테이프의 하면의 외주 부분이 유지면으로부터 이격된 상태를 나타내는 설명도이다.
도 8은 척 테이블의 유지면으로부터 다이싱 테이프의 하면이 미리 정해진 거리까지 이격된 상태를 나타내는 설명도이다.
도 9는 연삭 장치의 구성을 나타내는 블록도이다.
도 10은 척 테이블의 유지면에 유지된 웨이퍼 상에 반송 수단이 배치되어 있는 상태를 나타내는 설명도이다.
도 11은 웨이퍼의 보호 테이프의 하면의 일부가 척 테이블의 유지면으로부터 이격되어 있는 상태를 나타내는 설명도이다.
도 12는 척 테이블의 유지면으로부터 보호 테이프의 하면이 미리 정해진 거리까지 이격된 상태를 나타내는 설명도이다.
도 1에 나타내는 바와 같이, 본 실시형태에 따른 절삭 장치(1)는, 처리 장치의 일례이며, 피가공물인 웨이퍼(W)를 절삭 가공한다.
웨이퍼(W)는, 개략 원형상을 가지고, 표면에 격자형의 분할 예정 라인(L)이 형성된다. 분할 예정 라인(L)에 의해 구획된 각 영역에는, 각종 디바이스(도시하지 않음)가 형성된다.
웨이퍼(W)의 이면에는, 다이싱 테이프(T1)가 접착된다. 다이싱 테이프(T1)의 외주에는, 링 프레임(F)이 접착된다. 즉, 워크 셋트(W1)는, 링 프레임(F)과 링 프레임(F)의 개구에 배치되는 웨이퍼(W)에 다이싱 테이프(T1)를 접착하여 일체화함으로써 형성된다.
이와 같이, 웨이퍼(W)는, 다이싱 테이프(T1)를 통해 링 프레임(F)에 지지되는 워크 셋트(W1)의 상태로, 절삭 장치(1)에서 가공된다. 또한, 워크 셋트(W1)는, 도시하지 않는 카세트에 수용되어, 절삭 장치(1)에 반입된다.
절삭 장치(1)는, 지지대(10), 지지대(10)에 마련되는 척 테이블(20) 및 지지대(10)에 세워서 설치되는 직방체형의 케이스(12)를 갖는다.
지지대(10)의 일단측에는, 복수의 워크 셋트(W1)를 유지하는 카세트(도시하지 않음)가 배치되는 카세트 스테이지(16)가 마련된다.
카세트 스테이지(16)와 척 테이블(20) 사이에는, 워크 셋트(W1)를 반송하는 푸시풀 수단(17)이 마련된다. 푸시풀 수단(17)은, 카세트로부터 웨이퍼(W)를 출납하는 푸시풀 아암(171)과, 푸시풀 아암(171)을 Y축 방향으로 왕복 이동시키는 푸시풀 아암 이동 기구(172)를 구비한다.
또한, 척 테이블(20)의 케이스(12)측에는, 워크 셋트(W1)를 가배치하는 가배치 수단(18)이 마련된다. 푸시풀 수단(17)은, 카세트 스테이지(16) 상의 카세트로부터 가배치 수단(18)에, 가공 전의 워크 셋트(W1)를 반송 및 배치한다. 가배치 수단(18)은, 워크 셋트(W1)의 X축 방향의 위치 결정을 실시한다.
척 테이블(20)의 상부에 있어서의 케이스(12)의 전면에는, 반송 수단(30)이 마련된다. 반송 수단(30)은, 가배치 수단(18) 상의 워크 셋트(W1)를 유지하여, 척 테이블(20)에 반송 및 배치한다. 또한, 반송 수단(30)은, 척 테이블(20)과 스피너 세정 유닛(24) 사이에서, 워크 셋트(W1)를 반송한다.
반송 수단(30)은, 워크 셋트(W1)를 유지하는 프레임 유지부(31), 프레임 유지부(31)를 Y축 방향으로 이동시키는 프레임 유지부 이동 기구(33) 및 프레임 유지부(31)를 Z축 방향으로 승강시키는 프레임 유지부 승강 기구(35)를 구비한다.
프레임 유지부(31)는, 워크 셋트(W1)의 링 프레임(F)을 유지하는 4개의 유지부(32)를 구비한다. 유지부(32)는, 소위 흡반(吸盤)이며, 워크 셋트(W1)의 링 프레임(F)을 흡착 유지할 수 있다.
또한, 프레임 유지부 승강 기구(35)는, 프레임 유지부(31)를, 척 테이블(20)의 유지면(23)에 수직인 방향으로 이동시키는 것이며, 승강 수단의 일례이다.
척 테이블(20)은, 이동판(21) 상에 고정된다. 이동판(21)은, 주름상자형의 방수 커버(C)와 함께, 지지대(10)의 상면 중앙의 개구를 덮는다. 이동판(21) 및 방수 커버(C)의 하방에는, 이동판(21) 및 척 테이블(20)을 X축 방향으로 이동시키는, 예컨대 볼나사식의 절삭 이송 기구(도시하지 않음)가 마련된다.
척 테이블(20)은, 유지 수단의 일례이며, 포러스 세라믹재를 포함하는 유지면(23)을 갖는다. 이 유지면(23)에 생기는 부압에 의해, 워크 셋트(W1)가, 다이싱 테이프(T1)를 통해 흡인 유지된다. 척 테이블(20)의 주위에는, 4개의 클램프(22)가 마련된다. 각 클램프(22)에 의해, 워크 셋트(W1)의 링 프레임(F)이, 사방으로부터 협지 고정된다.
척 테이블(20)은, 워크 셋트(W1)를 유지한 상태에서, 이동판(21)과 함께, 절삭 이송 기구에 의해, 지지대(10) 상으로부터 케이스(12)의 내부의 가공 스페이스로 운반된다. 가공 스페이스에는, 도 2에 나타내는 절삭 기구(41)가 마련된다. 가공 스페이스에서, 웨이퍼(W)는, 절삭 기구(41)에 의해 절삭 가공된다.
절삭 기구(41)는, 척 테이블(20)의 유지면(23)에 유지되는 워크 셋트(W1)의 웨이퍼(W)를, 웨이퍼(W)에 물(절삭수)을 공급하면서 처리하는(절삭 가공하는) 것이며, 처리 수단의 일례이다.
도 2에 나타내는 바와 같이, 절삭 기구(41)는, 수평 방향의 회전축을 갖는 스핀들(42) 및 스핀들(42)과 함께 회전 가능한 절삭 블레이드(43)를 구비한다.
절삭 가공 시에는, 스핀들(42)이 회전하면서 절삭 블레이드(43)가 강하하여, 절삭 블레이드(43)가 웨이퍼(W)에 접촉한다. 절삭 블레이드(43)와 웨이퍼(W)의 접촉 부분에는, 도시하지 않는 절삭수 공급 수단에 의해, 절삭수가 공급된다. 또한, 워크 셋트(W1)를 유지하는 척 테이블(20)이, 수평면 내에서, 스핀들(42)의 회전축과 직교하는 방향으로 이동한다.
이와 같이 하여, 절삭 블레이드(43)가, 워크 셋트(W1)에 있어서의 웨이퍼(W)의 분할 예정 라인(L)(도 1 참조)을 따라, 웨이퍼(W)를 절삭 가공한다.
웨이퍼(W)가 절삭 가공된 후, 도 1에 나타내는 척 테이블(20) 및 이동판(21)은, 절삭 이송 기구에 의해 지지대(10) 상으로 복귀된다. 그리고, 워크 셋트(W1)는, 반송 수단(30)에 의해, 척 테이블(20)로부터, 척 테이블(20)의 안쪽의 스피너 세정 유닛(24)으로 보내진다.
스피너 세정 유닛(24)은, 워크 셋트(W1)를 유지하는 스피너 테이블(27) 및 스피너 테이블(27)에 유지되는 워크 셋트(W1)를 향하여 세정수 및 건조 에어를 분사하는 각종 노즐(도시하지 않음)을 구비한다.
스피너 테이블(27)는, 유지 수단의 일례이며, 다이싱 테이프(T1)를 통해 워크 셋트(W1)를 유지하는 스피너 유지면(28)을 갖는다.
스피너 세정 유닛(24)에서는, 워크 셋트(W1)를 유지한 스피너 테이블(27)이 고속 회전한다. 그리고, 고속 회전되고 있는 워크 셋트(W1)를 향하여 세정수가 분사되어, 워크 셋트(W1)가 세정된다. 그 후, 건조 에어가 분사되어, 워크 셋트(W1)가 건조된다.
건조된 워크 셋트(W1)는, 반송 수단(30)에 의해, 스피너 테이블(27)로부터 제거된다.
이와 같이, 스피너 세정 유닛(24)은, 스피너 테이블(27)의 스피너 유지면(28)에 유지되는 워크 셋트(W1)의 웨이퍼(W)를, 웨이퍼(W)에 물(세정수)을 공급하면서 처리하는(세정하는) 것이며, 처리 수단의 일례이다.
케이스(12)의 측면에는, 터치 패널(40)이 설치된다. 터치 패널(40)에는, 절삭 장치(1)에 관한 가공 조건 등의 각종 정보가 표시된다. 또한, 터치 패널(40)은, 가공 조건 등의 각종 정보를 설정하기 위해서도 이용된다. 이와 같이, 터치 패널(40)은, 각종 정보를 표시하는 표시 수단(표시 화면)으로서 기능하며, 정보를 입력하기 위한 입력 수단으로서도 기능한다.
또한, 케이스(12)의 내부에는, 절삭 장치(1)의 각 부재를 제어하는 제어부(14)가 구비된다.
또한, 척 테이블(20)에 있어서의 -Y 방향측 및 +Y 방향측에는, 한 쌍의 이오나이저(51)가, 척 테이블(20)을 Y축 방향을 따라 사이에 두도록 마련된다. 또한, 스피너 세정 유닛(24)에 있어서의 -Y 방향측 및 +Y 방향측에도, 한 쌍의 이오나이저(51)가, 스피너 테이블(27)를 Y축 방향을 따라 사이에 두도록 마련된다.
도 3에 나타내는 바와 같이, 이오나이저(51)는, 복수의 송풍구(53)를 갖는다. 이오나이저(51)는, 팬(도시하지 않음)을 내장하고, 팬을 회전시켜 외부로부터 공기를 취입하며, 이온화 에어로서 송풍구(53)로부터 분출하도록 구성된다.
또한, 이오나이저(51)는, 팬을 이용하지 않는 구성이어도 좋다. 그 경우는, 에어 공급원과 연통시켜, 에어 공급원으로부터 공급되는 에어를 이온화 에어로서 송풍구(53)로부터 분출한다.
척 테이블(20)을 사이에 두도록 마련되는 이오나이저(51)는, 척 테이블(20)에 송풍구(53)를 향하도록 하여 배치된다. 이들 이오나이저(51)는, 척 테이블(20)의 유지면(23)을 향하여, 이온화 에어를 분출한다. 따라서, 이오나이저(51)는, 워크 셋트(W1)가 유지면(23)으로부터 이격될 때에는, 워크 셋트(W1)에 있어서의 다이싱 테이프(T1)의 하면을 향하여, 이온화 에어를 분출한다. 이에 의해, 이오나이저(51)는, 다이싱 테이프(T1)에 대전되는 정전기를 제거한다.
한편, 스피너 세정 유닛(24)의 스피너 테이블(27)을 사이에 두도록 마련되는 이오나이저(51)는, 스피너 테이블(27)에 송풍구(53)를 향하도록 하여 배치된다. 이들 이오나이저(51)는, 스피너 테이블(27)의 스피너 유지면(28)을 향하여 이온화 에어를 분출한다. 따라서, 이오나이저(51)는, 워크 셋트(W1)가 스피너 유지면(28)으로부터 이격될 때에는, 워크 셋트(W1)에 있어서의 다이싱 테이프(T1)의 하면을 향하여, 이온화 에어를 분출한다. 이에 의해, 이오나이저(51)는, 다이싱 테이프(T1)에 대전되는 정전기를 제거한다.
다음에, 절삭 장치(1)에 있어서의 반송 수단(30)에 의한 워크 셋트(W1)의 반송 동작에 대해서 설명한다. 이하의 동작은, 예컨대, 제어부(14)의 제어에 의해 실시된다.
척 테이블(20)에 배치된 워크 셋트(W1)가, 도 2에 나타낸 절삭 기구(41)에 의해 절삭 가공되고, 척 테이블(20)이 지지대(10) 상으로 복귀된 후, 제어부(14)는, 반송 수단(30)을 제어하여, 워크 셋트(W1)를 척 테이블(20)로부터 제거하고, 스피너 세정 유닛(24)으로 반송한다.
즉, 먼저, 도 4에 나타내는 바와 같이, 반송 수단(30)이, 척 테이블(20)의 유지면(23)에 배치되는 워크 셋트(W1)의 상방에 배치된다. 이 도면에 나타내는 바와 같이, 프레임 유지부(31)의 유지부(32)는, 흡인 밸브(36)를 통해 흡인원(37)에 접속된다. 흡인 밸브(36)가 개방됨으로써, 유지부(32)가 흡인원(37)에 연통되어, 유지부(32)가 흡인력을 갖는다. 또한, 도 4에 나타내는 상태에서는, 흡인 밸브(36)는 폐쇄되어 있다.
그 후, 도 5에 나타내는 바와 같이, 워크 셋트(W1)의 링 프레임(F)을 고정하고 있는 클램프(22)가, 링 프레임(F)으로부터 빠진다. 또한, 흡인 밸브(36)가 개방되며, 반송 수단(30)의 프레임 유지부 승강 기구(35)가, 프레임 유지부(31)를, 그 유지부(32)가 링 프레임(F)을 흡착 유지할 때까지, 하방(-Z 방향)으로 이동시킨다.
유지부(32)가 링 프레임(F)을 흡착 유지한 후, 도 6에 나타내는 바와 같이, 프레임 유지부 승강 기구(35)는, 프레임 유지부(31)를, 상방(+Z 방향)으로 이동시킨다.
이때, 프레임 유지부 승강 기구(35)는, 도 6 및 도 7에 나타내는 바와 같이, 워크 셋트(W1)의 다이싱 테이프(T1)의 하면이, 외주 부분으로부터 중앙을 향하여, 유지면(23)으로부터 서서히 이격되도록, 링 프레임(F)을 유지하는 프레임 유지부(31)를 상승시킨다.
즉, 프레임 유지부(31)[워크 셋트(W1)]의 상승의 개시 시에는, 프레임 유지부(31)의 유지부(32) 및 링 프레임(F)을 통해, 유연한 다이싱 테이프(T1)의 외주 부분이 들어올려진다. 이에 의해, 다이싱 테이프(T1)의 중앙이 낮아지도록 휘고, 외주 부분이 상방으로 젖혀지록 변형된다. 그리고, 프레임 유지부(31)의 상승과 함께, 다이싱 테이프(T1)의 하면에 있어서의 유지면(23)으로부터 이격되는 부분이, 중앙 부분을 향하여 확대된다. 즉, 프레임 유지부(31)의 상승과 함께, 다이싱 테이프(T1)의 하면에 있어서의 척 테이블(20)의 유지면(23)으로부터 이격되는 부분의 면적이, 서서히 커진다.
또한, 이때, 도 7에 나타내는 바와 같이, 이오나이저(51)가, 예컨대 다이싱 테이프(T1)의 하면의 외주 부분이 유지면(23)으로부터 이격되기 시작할 때부터, 다이싱 테이프(T1)의 하면에 있어서의 유지면(23)으로부터 이격되는 부분으로, 이온화 에어(A1)를 내뿜는다.
그리고, 이오나이저(51)는, 도 7 및 도 8에 나타내는 바와 같이, 유지면(23)으로부터 다이싱 테이프(T1)의 하면이 전부 이격되고, 또한, 다이싱 테이프(T1)의 하면이 유지면(23)으로부터 미리 정해진 거리(D1)까지 이격될 때까지, 다이싱 테이프(T1)의 하면에 있어서의 유지면(23)으로부터 이격되는 부분으로, 이온화 에어(A1)를 계속해서 내뿜는다.
이 거리(D1)는, 예컨대, 유지면(23)과 다이싱 테이프(T1)의 하면 간에 있어서의 정전기의 상호 작용을 무시할 수 있을 정도로 작아지는 것 같은 거리이다.
이상과 같이, 본 실시형태에서는, 다이싱 테이프(T1)의 하면에 있어서의 척 테이블(20)의 유지면(23)으로부터의 이격 부분의 면적을 서서히 크게 하면서, 이 부분으로, 이오나이저(51)가 이온화 에어(A1)를 내뿜음으로써, 다이싱 테이프(T1)에 대전되는 정전기를 제거한다. 이 때문에, 척 테이블(20)의 유지면(23)으로부터 이격되는 다이싱 테이프(T1)가 대전되는 것을 억제하면서, 또한, 다이싱 테이프(T1)에 대전된 정전기를 제거하면서, 유지면(23)으로부터 워크 셋트(W1)를 반출할 수 있다. 이에 의해, 척 테이블(20)의 유지면(23)으로부터 이격된 다이싱 테이프(T1)가, 정전기로 대전되기 어렵다. 이 때문에, 워크 셋트(W1)의 웨이퍼(W)에 형성된 디바이스의 품질의 저하를 억제할 수 있다.
또한, 「다이싱 테이프(T1)의 하면이, 외주 부분으로부터 중앙을 향하여 유지면(23)으로부터 서서히 이격된다」란, 예컨대, 먼저, 다이싱 테이프(T1)의 하면에 있어서의 외주 부분만이 유지면(23)으로부터 떨어지는 한편, 다른 부분은 유지면(23)에 접하고 있고, 그 후, 다이싱 테이프(T1)의 하면에 있어서의 유지면(23)으로부터 이격되는 부분이, 프레임 유지부(31)의 상승과 함께 중앙 부분을 향하여 확대되어, 중앙 부분이 이격되었을 때에, 다이싱 테이프(T1)의 하면의 전체가 유지면(23)으로부터 이격되는 것을 의미한다.
또한, 본 실시형태에서는, 반송 수단(30)에 의한 워크 셋트(W1)의 반송 동작의 예로서, 척 테이블(20)의 유지면(23)으로부터 워크 셋트(W1)를 제거하는 동작에 대해서 설명하고 있다. 이에 관하여, 도 1에 나타낸 스피너 세정 유닛(24)에 있어서의 스피너 테이블(27)의 스피너 유지면(28)으로부터 워크 셋트(W1)를 제거할 때에도, 반송 수단(30) 및 이오나이저(51)는, 동일한 동작을 실시한다.
즉, 반송 수단(30)의 프레임 유지부 승강 기구(35)는, 도 4∼도 8을 이용하여 나타낸 동작과 마찬가지로, 다이싱 테이프(T1)의 하면에 있어서의 스피너 테이블(27)의 스피너 유지면(28)으로부터의 이격 부분의 면적을 서서히 크게 하도록, 스피너 유지면(28)으로부터 워크 셋트(W1)를 상승시킨다. 이때, 다이싱 테이프(T1)에 있어서의 스피너 유지면(28)으로부터 이격되는 부분으로, 스피너 세정 유닛(24)을 사이에 두도록 마련된 이오나이저(51)가, 이온화 에어를 내뿜는다.
이에 의해, 스피너 유지면(28)으로부터 이격되는 다이싱 테이프(T1)가 대전되는 것이 억제되며, 다이싱 테이프(T1)에 대전된 정전기가 제거된다. 이 때문에, 스피너 유지면(28)으로부터 이격된 다이싱 테이프(T1)가 정전기로 대전되기 어렵다. 따라서, 워크 셋트(W1)의 웨이퍼(W)에 형성된 디바이스의 품질의 저하를 억제할 수 있다.
또한, 본 실시형태에서는, 반송 수단(30)의 프레임 유지부(31)에 구비되는 유지부(32)가 흡반이다.
또한, 본 실시형태에서는, 프레임 유지부(31)가, 4개의 유지부(32)를 구비한다. 이에 관하여, 프레임 유지부(31)는, 적어도 3개의 유지부(32)를 구비하면 좋다.
또한, 본 실시형태에서는, 피가공물을 가공 처리하는 처리 장치로서, 웨이퍼(W)를 절삭 가공하는 절삭 장치(1)를 예시하고 있다. 이 대신에, 본 실시형태의 처리 장치는, 예컨대, 피가공물을 연삭 가공하는 연삭 장치, 피가공물을 레이저 광에 의해 가공하는 레이저 가공 장치, 피가공물을 바이트 절삭하는 바이트 절삭 장치, 피가공물을 칩으로 분할하기 위한 익스팬드 장치, 또는, 피가공물에 테이프를 부착하는 테이프 마운터여도 좋다.
여기서, 본 실시형태의 처리 장치가 연삭 장치인 경우에 대해서 설명한다.
도 9에 나타내는 바와 같이, 연삭 장치(2)는, 피가공물을 유지하기 위한 유지 수단으로서의 척 테이블(60), 피가공물을 연삭 처리하는 처리 수단(55), 척 테이블(60)에 대하여 피가공물을 반송(반입 및 반출)하기 위한 반송 기구(71), 도 3에 나타낸 이오나이저(51) 및 연삭 장치(2)의 각 부재를 제어하는 제어부(57)를 갖는다.
도 10에 나타내는 바와 같이, 피가공물로서의 웨이퍼(W)에는, 그 한쪽의 면인 표면(Wa)에, 도시하지 않은 디바이스가 형성되어 있다. 웨이퍼(W)의 표면(Wa)은, 도 10에 있어서는 하방을 향하고 있고, 보호 부재로서의 보호 테이프(T2)가 접착됨으로써 보호된다. 웨이퍼(W)의 다른쪽의 면인 이면(Wb)은, 연삭 처리가 실시되는 피가공면이 된다.
척 테이블(60)은, 포러스 세라믹재를 포함하는 유지면(63)을 갖는다. 이 유지면(63)에 생기는 부압에 의해, 웨이퍼(W)가, 보호 테이프(T2)를 통해 흡인 유지된다.
도 9에 나타낸 처리 수단(55)은, 이 유지면(63)에 유지되는 웨이퍼(W)를 연삭 처리한다.
또한, 도 10에 나타내는 바와 같이, 반송 기구(71)는, 웨이퍼(W)를 유지하는 반송 패드(72), 연결부(76)를 통해 반송 패드(72)를 유지하는 반송 아암(74) 및 반송 패드(72) 및 반송 아암(74)을 승강시키는 승강 수단(75)을 구비한다.
반송 패드(72)는, 웨이퍼(W)를 유지하기 위한, 척 테이블(60)의 유지면(63)에 평행인 하향의 흡착면(73)을 갖는다. 척 테이블(60)의 유지면(63)에 유지되는 웨이퍼(W)를 반송 기구(71)에 의해 반출할 때에는, 흡착면(73)은, 유지면(63)에 유지된 웨이퍼(W)의 이면(Wb)을 흡착 유지한다.
반송 패드(72)는, 반송 아암(74)의 선단에, 연결부(76)를 통해 부착된다.
연결부(76)는, 반송 아암(74)의 선단에 마련되는 관통 구멍(77)을 관통한 상태로, 반송 아암(74)에 부착된다. 연결부(76)는, 상단에 직경 확대부(81)를 가지고 있어, 관통 구멍(77)으로부터 누락되는 것이 억제된다.
연결부(76)의 하단은, 반송 패드(72)의 상면에 부착된다. 또한, 반송 아암(74)의 하면과 반송 패드(72)의 상면 사이에는, 연결부(76)를 둘러싸도록 마련되는 스프링(83)이 배치된다. 스프링(83)은, 반송 아암(74)의 하면과 반송 패드(72)의 상면을, 이들이 서로 멀어지는 것 같은 방향으로 탄성 지지한다.
반송 아암(74)의 기단측은, 승강 수단(75)에 부착된다. 승강 수단(75)은, 반송 패드(72) 및 반송 아암(74)을, 척 테이블(60)의 유지면(63)에 수직인 방향인 Z축 방향을 따라 승강시킨다.
또한, 반송 아암(74)의 상면(74a)에는, 반송 패드(72)의 흡착면(73)과 척 테이블(20)의 유지면(23)의 상대적인 기울기를 변경하는 기울기 변경 수단(85)이 부착된다. 기울기 변경 수단(85)은, 제어부(57)의 제어에 의해, 반송 아암(74)이 연장되는 방향을 따라 이동하는 것이 가능하도록 구성된다.
기울기 변경 수단(85)은, 그 선단에, 설형(楔形)의 웨지부(86)를 갖는다. 기울기 변경 수단(85)은, 반송 아암(74)의 상면(74a)에 있어서 반송 아암(74)의 선단 방향으로 이동함으로써, 상면(74a)과 연결부(76)의 직경 확대부(81) 사이에, 웨지부(86)를 진입시키는 것이 가능하다.
또한, 척 테이블(60)에 있어서의 -X측에는, 도 3에 나타낸 이오나이저(51)가, 그 송풍구(53)를 척 테이블(60)을 향하게 한 상태로 마련된다. 이오나이저(51)는, 척 테이블(60)의 유지면(63)을 향하여 이온화 에어를 분출한다.
따라서, 이오나이저(51)는, 반송 패드(72)에 의해 웨이퍼(W)가 유지면(63)으로부터 이격될 때에는, 웨이퍼(W)의 보호 테이프(T2)의 하면을 향하여, 이온화 에어를 분출한다. 이에 의해, 이오나이저(51)는, 보호 테이프(T2)에 대전되는 정전기를 제거한다.
여기서, 반송 기구(71)에 의한 웨이퍼(W)의 반송 동작에 대해서 설명한다. 이하의 동작은, 예컨대, 제어부(57)의 제어에 의해 실시된다.
척 테이블(60)에 배치된 웨이퍼(W)가, 도 9에 나타낸 처리 수단(55)에 의해 연삭 가공된 후, 제어부(57)는, 반송 기구(71)를 제어하여, 웨이퍼(W)를 척 테이블(60)로부터 제거한다.
즉, 먼저, 도 10에 나타내는 바와 같이, 반송 기구(71)가, 척 테이블(60)의 유지면(63)에 배치되는 웨이퍼(W)의 상방에 배치된다. 이 도면에 나타내는 바와 같이, 반송 아암(74)에 부착된 반송 패드(72)의 흡착면(73)은, 흡인 밸브(91)를 통해 흡인원(92)에 접속된다. 흡인 밸브(91)가 개방됨으로써, 흡착면(73)이 흡인원(92)에 연통되어, 흡착면(73)이 흡인력을 갖는다. 또한, 도 10에 나타내는 상태에서는, 흡인 밸브(91)는 폐쇄되어 있다.
그 후, 흡인 밸브(91)가 개방되며, 반송 기구(71)의 승강 수단(75)이, 반송 아암(74)을, 반송 패드(72)의 흡착면(73)이 웨이퍼(W)를 유지(흡착)할 때까지, 하방(-Z 방향)으로 이동시킨다.
흡착면(73)이 웨이퍼(W)를 유지한 후, 도 11에 나타내는 바와 같이, 기울기 변경 수단(85)이, 반송 아암(74)의 상면(74a)에 있어서 반송 아암(74)의 선단 방향(+X 방향)으로 이동함으로써, 상면(74a)과 연결부(76)의 직경 확대부(81) 사이에, 웨지부(86)를 진입시켜 간다.
반송 아암(74)의 상면(74a)과 연결부(76)의 직경 확대부(81) 사이에 웨지부(86)가 진입해 가면, 연결부(76)에 있어서의 반송 아암(74)의 기단측(-X 측)의 부분이, 웨지부(86)에 의해, 서서히 들어올려진다. 그 결과, 연결부(76)에 지지되어 있는 반송 패드(72)의 흡착면(73)이, -X측을 높게 하도록, 척 테이블(60)의 유지면(63)에 대하여 서서히 기운다.
이와 같이 하여, 기울기 변경 수단(85)은, 유지면(63)에 유지되어 있는 웨이퍼(W)를 흡착 유지한 반송 패드(72)의 흡착면(73)과 유지면(63)의 상대적인 기울기를, 흡착면(73)과 유지면(63)이 서로 평행인 상태로부터, 서서히 크게 한다. 즉, 기울기 변경 수단(85)은, 반송 패드(72)의 흡착면(73)을, 척 테이블(60)의 유지면(63)에 대하여 평행인 상태(경사차가 제로인 상태)로부터, 서서히 기울인다(경사차가 커지는 상태). 이에 의해, 웨이퍼(W)의 보호 테이프(T2)의 하면에 있어서의 -X측이, 유지면(63)으로부터, 조금씩 이격해 간다. 이와 같이 하여, 기울기 변경 수단(85)은, 웨이퍼(W)의 보호 테이프(T2)의 하면에 있어서의 유지면(63)으로부터의 이격 부분의 면적을, 서서히 크게 한다.
또한, 이때, 도 11에 나타내는 바와 같이, 척 테이블(60)의 -X측에 있는 이오나이저(51)가, 예컨대 보호 테이프(T2)의 일부가 유지면(63)으로부터 이격되기 시작할 때부터, 보호 테이프(T2)의 하면에 있어서의 유지면(63)으로부터의 이격 부분으로, 이온화 에어(A2)를 내뿜는다.
그 후, 승강 수단(75)이, 반송 아암(74)을, 상방(+Z 방향)으로 이동시킨다. 이에 의해, 보호 테이프(T2)의 하면에 있어서의 유지면(63)으로부터의 이격 부분이, 더욱 크게 노출된다.
그리고, 이오나이저(51)는, 도 11 및 도 12에 나타내는 바와 같이, 보호 테이프(T2)의 하면이 유지면(63)으로부터 전부 이격되고, 또한, 보호 테이프(T2)의 하면이 유지면(63)으로부터 미리 정해진 거리(D2)까지 이격될 때까지, 보호 테이프(T2)의 하면에 있어서의 유지면(63)으로부터 이격되는 부분으로, 이온화 에어(A2)를 계속해서 내뿜는다.
이 거리(D1)는, 예컨대, 유지면(63)과 보호 테이프(T2)의 하면 사이에서의 정전기의 상호 작용을 무시할 수 있을 정도로 작게 되는 것 같은 거리이다.
이와 같이, 연삭 장치(2)라도, 보호 테이프(T2)의 하면에 있어서의 유지면(63)으로부터의 이격 부분의 면적을 서서히 크게 하면서, 이 부분으로, 이오나이저(51)가 이온화 에어(A2)를 내뿜음으로써, 보호 테이프(T2)에 대전되는 정전기를 제거한다. 이 때문에, 척 테이블(60)의 유지면(63)으로부터 이격되는 보호 테이프(T2)가 대전되는 것을 억제하면서, 또한, 보호 테이프(T2)에 대전된 정전기를 제거하면서, 유지면(63)으로부터 웨이퍼(W)를 반출할 수 있다. 이에 의해, 유지면(63)으로부터 이격된 보호 테이프(T2)가, 정전기로 대전되기 어렵다. 이 때문에, 웨이퍼(W)에 형성된 디바이스의 품질의 저하를 억제할 수 있다.
또한, 연삭 장치(2)는, 하나의 이오나이저(51)를 구비한다. 이 대신에, 연삭 장치(2)는, 복수의 이오나이저(51)를 구비하여도 좋다.
또한, 본 실시형태에서는, 기울기 변경 수단(85)은, 반송 패드(72)의 흡착면(73)을 기울이도록 구성된다. 이에 한정되지 않고, 기울기 변경 수단은, 반송 패드(72)의 흡착면(73)과 척 테이블(60)의 유지면(63)의 상대적인 기울기를 변경할 수 있는 것이면 좋다. 예컨대, 연삭 장치(2)는, 이 기울기 변경 수단(85) 대신에, 척 테이블(60)의 유지면(63)의 기울기를 변경(조정)하는 기울기 변경 수단을 구비하여도 좋다. 이러한 기울기 변경 수단은, 예컨대, 일본 특허 공개 제2013-119123호 공보에 개시되어 있다.
이 구성에서는, 기울기 변경 수단은, 웨이퍼(W)를 유지하는 척 테이블(60)의 유지면(63)을, 웨이퍼(W)를 흡착 유지하는 반송 패드(72)의 흡착면(73)에 대하여 평행인 상태로부터, 서서히 기울인다. 이 구성이라도, 웨이퍼(W)의 보호 테이프(T2)의 하면에 있어서의 유지면(63)으로부터의 이격 부분의 면적을, 서서히 크게 할 수 있어, 이 부분으로, 이오나이저(51)가 이온화 에어를 내뿜을 수 있다.
1: 절삭 장치 12: 케이스
14: 제어부 16: 카세트 스테이지
20: 척 테이블 22: 클램프
23: 유지면 24: 스피너 세정 유닛
27: 스피너 테이블 28: 스피너 유지면
30: 반송 수단 31: 프레임 유지부
32: 유지부 33: 프레임 유지부 이동 기구
35: 프레임 유지부 승강 기구 41: 절삭 기구
42: 스핀들 43: 절삭 블레이드
51: 이오나이저 53: 송풍구
W1: 워크 셋트 F: 링 프레임
T1: 다이싱 테이프 2: 연삭 장치
55: 처리 수단 57: 제어부
60: 척 테이블 63: 유지면
71: 반송 기구 72: 반송 패드
73: 흡착면 74: 반송 아암
75: 승강 수단 76: 연결부
81: 직경 확대부 85: 기울기 변경 수단
86: 웨지부 W: 웨이퍼
T2: 보호 테이프

Claims (2)

  1. 링 프레임과 상기 링 프레임의 개구에 배치되는 피가공물과 다이싱 테이프를 접착하여 일체화한 워크 셋트를, 상기 다이싱 테이프를 통해 유지하는 유지면을 갖는 유지 수단과,
    상기 유지면에 유지된 상기 워크 셋트의 피가공물을, 상기 피가공물에 물을 공급하면서 처리하는 처리 수단과,
    상기 유지면에 유지된 상기 워크 셋트의 상기 링 프레임을 유지하는 적어도 3개의 유지부를 구비하는 프레임 유지부를, 상기 유지면에 수직인 방향으로 이동시키는 승강 수단과,
    상기 다이싱 테이프의 하면으로 이온화 에어를 내뿜어, 상기 다이싱 테이프에 대전되는 정전기를 제거하는 이오나이저를 구비하는, 처리 장치로서,
    상기 승강 수단은, 상기 워크 셋트의 상기 다이싱 테이프의 하면이, 외주 부분으로부터 중앙을 향하여 상기 유지면으로부터 서서히 이격되도록, 상기 워크 셋트의 상기 링 프레임을 유지하는 상기 프레임 유지부를 상승시키도록 구성되고,
    상기 이오나이저는, 상기 다이싱 테이프의 하면에 있어서의 상기 유지면으로부터 이격되는 부분으로, 상기 유지면으로부터 상기 다이싱 테이프의 하면이 전부 이격되고, 또한, 상기 유지면으로부터 상기 다이싱 테이프의 하면이 미리 정해진 거리 이격될 때까지, 이온화 에어를 계속해서 내뿜도록 구성되며,
    상기 다이싱 테이프에 대전된 정전기를 제거하면서, 상기 유지면으로부터 피가공물을 반출하는 것인, 처리 장치.
  2. 한쪽의 면에 보호 부재를 갖는 피가공물을, 상기 보호 부재를 통해 유지하는 유지면을 갖는 유지 수단과,
    상기 유지면에 유지된 피가공물을 처리하는 처리 수단과,
    한쪽의 면이 상기 유지면에 유지된 피가공물의 다른쪽의 면을 흡착 유지하는 흡착면을 갖는 반송 패드를, 상기 유지면에 수직인 방향으로 이동시키는 승강 수단과,
    상기 보호 부재의 하면으로 이온화 에어를 내뿜어, 상기 보호 부재에 대전되는 정전기를 제거하는 이오나이저를 구비하는, 처리 장치로서,
    상기 반송 패드의 상기 흡착면과 상기 유지면의 상대적인 기울기를 변경하는 기울기 변경 수단을 더 구비하고,
    상기 기울기 변경 수단은, 상기 유지면에 유지되는 피가공물을 흡착 유지한 상기 반송 패드의 상기 흡착면과 상기 유지면의 상대적인 기울기를, 상기 흡착면과 상기 유지면이 서로 평행인 상태로부터 서서히 크게 함으로써, 상기 피가공물의 상기 보호 부재의 하면에 있어서의 상기 유지면으로부터의 이격 부분의 면적을 서서히 크게 하도록 구성되며,
    상기 이오나이저는, 상기 보호 부재의 하면에 있어서의 상기 유지면으로부터의 이격 부분으로, 상기 유지면으로부터 상기 보호 부재의 하면이 전부 이격되고, 또한, 상기 유지면으로부터 상기 보호 부재의 하면이 미리 정해진 거리 이격될 때까지, 이온화 에어를 계속해서 내뿜도록 구성되고,
    상기 보호 부재에 대전된 정전기를 제거하면서, 상기 유지면으로부터 피가공물을 반출하는 것인, 처리 장치.
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