JPH04265805A - ｘ，ｙ，φ座標テーブル用測定装置 - Google Patents

ｘ，ｙ，φ座標テーブル用測定装置

Info

Publication number
JPH04265805A
JPH04265805A JP27404691A JP27404691A JPH04265805A JP H04265805 A JPH04265805 A JP H04265805A JP 27404691 A JP27404691 A JP 27404691A JP 27404691 A JP27404691 A JP 27404691A JP H04265805 A JPH04265805 A JP H04265805A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
sensor
measuring device
phase grating
plane
grating
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP27404691A
Other languages
English (en)
Inventor
Winfried Dr Suess
ヴィンフリート・ジュス
Paul Kaiser
パオル・カイザー
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Karl Suess KG Praezisionsgeraete fur Wissenschaft & Ind & Co GmbH
Original Assignee
Karl Suess KG Praezisionsgeraete fur Wissenschaft & Ind & Co GmbH
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Karl Suess KG Praezisionsgeraete fur Wissenschaft & Ind & Co GmbH filed Critical Karl Suess KG Praezisionsgeraete fur Wissenschaft & Ind & Co GmbH
Publication of JPH04265805A publication Critical patent/JPH04265805A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70691—Handling of masks or workpieces
    • G03F7/70775—Position control, e.g. interferometers or encoders for determining the stage position
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F9/00—Registration or positioning of originals, masks, frames, photographic sheets or textured or patterned surfaces, e.g. automatically
    • G03F9/70—Registration or positioning of originals, masks, frames, photographic sheets or textured or patterned surfaces, e.g. automatically for microlithography
    • G03F9/7049—Technique, e.g. interferometric
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/68—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for positioning, orientation or alignment
    • H01L21/682—Mask-wafer alignment

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
  • Length Measuring Devices With Unspecified Measuring Means (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、ｘ，ｙ，φ座標テーブ
ル用測定装置に関するものであり、特に、半導体技術と
座標測定技術に於いて有用なものである。
【０００２】
【従来の技術】半導体技術において、ｘ，ｙ，φ座標テ
ーブルは、ウェハーやマスクをｘ，ｙ方向に移動し、か
つ、ｚ軸を中心として角φだけ回転することにより、そ
れらを位置決めするのに用いられる。これに関連して、
５ｎｍ以下の範囲の分解能（ｒｅｓｏｌｕｔｉｏｎ）と
、３０ｎｍ以上の繰返し精度が達成される。
【０００３】位置測定は、一般にレーザ干渉計により行
われる。ここで要求される精度は、相当のスペースを必
要とする光路の広汎な測定によってのみ達成される。特
に、レーザ干渉計は、人工気候室（Ｃｌｉｍａｔｉｃ　
　Ｃｈａｍｂｅｒ）で測定を行うことにより干渉を与え
る環境的影響より保護する必要がある。レーザ干渉計に
より得られる精度に匹敵する精度は、相グリッド（ｐｈ
ａｚｅ　　ｇｒｉｄ）を用いるインクレメンタル測定シ
ステムにより干渉測定原理にしたがって、１軸方向にお
いて得られる。この様な測定システムが、クロステーブ
ル上に載置されると、１軸における正確な位置決めが可
能になる。しかし、測定方向に対し矩形状のテーブルの
偏差による案内エラーは検出されない。テーブルの回転
に伴うエラーも、又検出されない。それ故、２つのシス
テムが、ｘとｙ方向に配設されたとしても、上述のイン
クレメンタル測定システムによる正確な測定は、座標テ
ーブル上で実施できない。これは、１時に、１軸方向が
測定されるのみで、他の方向で同時に発生する変化は、
認識されないからである。
【０００４】ドイツ国特許第３４，２２，８５０号には
、レーザ干渉計を使用しない拡大コピー用干渉座標測定
装置が開示され、該装置により、互いに垂直な２つの軸
心での同時測定と、両軸心により限定される面における
回転の測定が可能になる。座標テーブルは、固定ベース
上に位置する。座標テーブルと共に移動する回折グリッ
ド（ｄｉｆｆｒａｃｔｉｏｎ　　ｇｒｉｄｓ）の上で、
ｘとｙ方向のテーブルの面に垂直な面内に位置する回折
グリッドや、照明装置や、回折グリッドの前に位置する
光検出装置等の後に配設されるリフレクターは、固定ベ
ースに接続されている。光学的に結合されて、それらは
、テーブルに伴う回折グリッドの移動に応答して、干渉
バンドの発生に対するセンサとして役立つ。座標テーブ
ルの回転は、２つの相対する回折グリッドのシフトによ
り決定される。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】位置検出の精度につい
て何ら表示は行われない。該特許には、２つの干渉バン
ド間のテーブルのシフト距離は、回折グリッドの線距離
に依存する定数に等しいと述べているのみである。しか
し、垂直にテーブル上に配列される回折グリッドの頑丈
な構成と、レフレクターの肉眼的な構成の為、レーザ干
渉計で通常得られる極端な位置決め精度が妨げられるこ
とになる。ｘとｙ方向へのテーブルのシフトは、回折グ
リッドからのレフレクターの距離で限定され、該距離は
、指向ビーム（ｄｉｒｅｃｔｅｄ　　ｂｅａｍ）を得る
為には、余り大きくできない。更に、テーブルの平面か
ら上方に突出する測定機器は、余りにも大型で、拡大コ
ピーの為に、特に設計されたものである。その為、この
座標測定装置は、互いに小距離の間離間された２つの平
面が、長距離にわたって互いに反対に移動する必要があ
る。写真製版用としてのマスクとウェハーの相互並列に
は適していない。
【０００６】
【課題を解決する為の手段】本発明の基礎としての課題
は、その精度がレーザ干渉計の１つに匹敵する、ｘ，ｙ
，φ座標テーブル用測定装置であって、安価で、環境条
件に影響されず、簡単なテーブル構成が可能な測定装置
を提供することにある。上記課題は、特許請求の範囲に
記載した特徴により達成されるものである。
【０００７】本発明による解決方法は、相グリッドとセ
ンサを有するインクレメンタル測定システムを、ｘ，ｙ
方向に配設するという基本的考え方に基づいており、そ
れらは、測定システムと、センサを１列に配置し、かつ
、相グリッドをこえて、隣接センサへと移るセンサ測定
値を、１つの位置メモリから、他の位置メモリへと伝達
することにより、座標テーブルの長いシフト距離にわた
って位置検出を可能にする手段とを用いて、テーブルの
シフトを、常に測定するのに必要な精度を提供するもの
である。
【０００８】上記解決方法は、シフト目標に対する相グ
リッド及びセンサの割り当てが可変で、使用者の希望に
より選択できるので特に有利である。測定機器は、実施
すべき長いシフト距離にわたって測定を可能とし、該測
定は、座標テーブルの中央に対して、センサとグリッド
の距離における変化に敏感ではない。本発明にかかる測
定機器は、例えば、マスク下のウェハーが、Ｘ線製版で
のＸ線ステッパ（Ｘ−ｒａｙ　　ｓｔｅｐｐｅｒｓ）に
おいて、数回動かされる様な場合に特に有利である。座
標テーブルの中央部に対する相グリッドやセンサの距離
における誤った変動も又検出可能である。
【０００９】
【実施例】以下に、本発明の構成を、１実施例について
、添付した図面に基づいて説明する。
【００１０】図１は、本発明にかかる測定機器の中央部
の詳細を示す斜視図である。相グリッド２とウェハー３
Ａが、平面３において、ｘとｙ方向に座標テーブル７上
に配設されている。センサとマスク４Ａは、平面３から
小距離の間離間した平面３と平行で、該平面３の上部に
位置する平面４上に配列されている。図中平面４は、透
明な材料でできた面平行板の１部を形成している。相グ
リッド２（図中では拡大）は１０μｍ以下の格子定数（
線の距離）を有する。説明の簡易化の為、図１及び図２
では、相グリッド２当り唯１つのセンサ１を図示してい
る。センサ１から発せられた光は、相グリッド２で回折
され、相グリッド２とセンサ１の相対的シフトにより干
渉を生じる。センサ１に反射された光の強度は、それら
に記憶され、マスク４Ａとウェハー３Ａとの相対移動の
尺度として役立つ。図１の構成は、平面４に対するｘと
ｙ方向の座標テーブルの移動、即ち、マスク４Ａとセン
サ１に対するウェハー３Ａと相グリッド２のシフトを検
出する。
【００１１】図２は、相グリッド２とウェハー３Ａ上の
センサ１とマスク４Ａとの構成のｘ方向の断面を示す。 センサ１は、光学的に、相グリッド２と係合している。 入射光及び回折光のビーム光路は、略式に図示されてい
る。
【００１２】図３は、写真製版用座標テーブルにおける
、本発明の測定機器を図示している。相グリッド２ｘ，
２ｙ及びセンサ１ｘ，１ｙは、２つの平行平面の１つで
、任意に、マスクホルダー４、又はウェハーホルダー３
の面に、それぞれ配置されている。相グリッド及び／又
はセンサ平面は、マスク平面４Ａ又はウェハー平面３Ａ
内又は、その逆に、対応する手段により、アッベ　エラ
（Ａｂｂｅ’　　ｅｒｒｏｒｓ）を避ける様に、正確に
載置される。相グリッド２ｘ，２ｙは、接線方向に配置
され、センサ１ｘ，１ｙの列は、座標テーブルの中央部
に対して半径方向に配置されている。センサ１ｘ，１ｙ
は、矢印の方向の、相グリッド２ｘ，２ｙのシフトを登
録する。相グリッド２ｘ，２ｙの長さは、例えば、＞２
２０ｍｍとすることができる。相グリッド２ｘ，２ｙの
巾と、センサ１ｘ，１ｙの距離は、少なくとも２つのセ
ンサ１ｘと１ｙが、１つの測定方向で、相グリッド２ｘ
と２ｙに同時に係合する様な寸法構成とする。相グリッ
ド２ｘと２ｙの接線方向配列は、好ましい１実施例によ
るものであり、この様にすれば、座標テーブルの中央部
に対するセンサ１ｘ，１ｙ、又は、相グリッド２ｘ，２
ｙの距離における誤った変化に対して、測定が敏感に影
響されないので、特に有利である。
【００１３】図４は、半径方向に配列された相グリッド
２と、座標テーブルの中央部に対し接線方向に配列され
たセンサ１の列とを有する図３による構成を示している
。この様な測定構成によると、移動経路に加えて、座標
テーブルの中央部に対するセンサ１又は、相グリッド２
の距離における変化が検出できる。
【００１４】図５は、マスクホルダー４の平面内で、セ
ンサ１をキャリア５上に位置せしめた本発明の１実施例
を示しており、図６では、相グリッド２は、ウェハーホ
ルダー３の面のキャリア６上に位置している。
【００１５】図７は、相互相対運動での測定における図
５と図６による２つの構成の配分を示している。
【００１６】図８は、相グリッド２の配列における他の
変形例を示している。相グリッド２は、マスクホルダー
４の平面に位置し、一方、センサ１は、図９に示す様に
ウェハーホルダー３の平面に位置している。
【００１７】図１０に示す本発明の他の実施例では、対
応する相グリッド２（図示せず）と共に、センサ１を２
列のみ使用することが可能となる。
【００１８】図１１は、ウェハー３Ａを有する測定装置
の２つの測定位置１，２の間の座標テーブルのシフト経
路上に、更に、センサ１Ａと１Ｂとを設けた本発明の他
の実施例を示す。この構成によると、シフト状態を常に
モニターーできると共に、位置２への極めて正確な接近
が可能となる。本発明の本実施例は、例えば、ウェハー
プローバ（ｗａｆｅｒ　　ｐｒｏｂｅｒ）に用いられる
。
【００１９】図３乃至図１１の実施例による相グリッド
に加えて、２つの１軸グリッドが平面内で重ねられ、チ
ェッカー型のパターンを形成する２軸クロス相グリッド
２を用いることも可能である。ｘとｙ方向のスキャニン
グに対して、１つづつのセンサ１が設けられる。２者択
一的に、両方向に対して、センサ１を１つだけ設けても
よい。
【００２０】本発明にかかる測定機器は、例えば、ドイ
ツ国、Ｔｒａｕｎｒｅｕｔ，ＨｅｉｄｅｎｈａｉｎＧｍ
ｂＨ社で製造される、＜１０μｍの格子定数と、例えば
、≧２２０ｍｍの長さを有する相グリッドよりなる市販
のインクレメンタル測定システムより構成することがで
きる。測定機器の寸法構成の変化につながる可能性のあ
る熱の影響は、その対称的構成と、低熱膨張係数材料例
えば、ＣＥＲＯＤＵＲという商品名で販売されるガラス
類の使用により最低とされる。製造中の格子誤差（ｇｒ
ａｔｉｎｇ　　ｅｒｒｏｒｓ）は、ソフトウエアにより
補償することができる。これに関連して、センサー面に
対する、スケール面の少量で、望ましい相対的傾きも、
又、検出される。
【００２１】本発明にかかる測定機器で位置測定を行う
為には、センサ１と相グリッド２は、座標テーブルが動
くのにつれて互いに反対方向に移動する。これに関連し
て、両座標方向でセンサは、相グリッド２とセンサ１の
位置の相対変化の尺度であるオプチカル信号を同時に受
け取る。座標テーブルが、例えば、図３に示す様に、１
方向のみ（例えば、ｙ方向）にシフトされると、この方
向は、相グリッド２にそってシフトする、この方向に割
り当てられたセンサ１ｙ（ｘ方向に並ぶ列）により登録
されるのみである。相グリッドの長手方向に垂直にシフ
トするセンサ１ｘ（ｙ方向の並ぶ列）は、位置の変化を
登録しない。しかし、これらのセンサ１ｘは、テーブル
が１方向（ｙ方向）に動くと、いかなる横方向の移動（
ｘ方向）をも検出し、座標テーブルの正しい案内をモニ
ターする。
【００２２】φ方向への座標テーブルの回転は、９０°
の角度で互いに配置されている相対する、又は、２つの
隣接する相グリッドにおけるセンサのシフトにより決定
される。又、回転は、単一相グリッドにおける２つの隣
接センサのシフトによっても決定できる。両座標軸で一
定のモニター状態を確保し、センサ１が、１方向に、相
グリッドの巾をこえて動いた時にシフト距離が大きくな
った場合、相グリッド面を、はなれるセンサ１の位置デ
ータは、相グリッドと係合している隣接センサ１に伝達
される。
【００２３】例えば、図３において、ｙ方向に延在する
上方の列のセンサ１ｘは、座標テーブルがｙ方向にシフ
トするにつれて、それらに割り当てられた相グリッド２
ｘをこえて移動する。かくして、相グリッド２ｘをこえ
て動くセンサ１ｘのセンサ位置メモリの位置データは、
未だ相グリッドと係合している隣接センサの位置メモリ
により取ってかわられる。この様にして、相グリッド２
ｘの巾は、センサ列のセンサ１ｘの１つにより常にスキ
ャンされ、全シフト長さの位置データが常に得られる。 座標テーブルが、ｘ方向にシフトされた場合、同様の状
態が、図３の右のセンサ列のセンサ１ｙにも発生する。
【００２４】図１１による第１の測定位置である「位置
１」から、第２の測定位置である「位置２」への測定機
器のシフトをモニターするのは、測定それ自体と同様な
座標で実施される。例えば、もしウェハー３Ａが相グリ
ッド２と共に、矢印の方向にシフトされると、センサ１
Ａは、水平に配置した相グリッド２と係合し、シフトを
登録する。垂直に配置した相グリッド２により、センサ
１Ｂは、同時に、シフトを調整する様に、シフトの方向
に垂直な偏差を検出する。
【００２５】
【発明の効果】本発明による測定機器は、更に、半導体
構造に対する位置テストセンサ、例えば、テストピンと
して、測定装置又はプローバ装置等に用いることができ
る。本発明の方法によれば、１０ｎｍ又は、それより良
好な繰返し精度を達成することができる。したがって、
本発明は、上記実施例に詳記した如き構成よりなり、所
期の目的を達成し得るものである。
【図面の簡単な説明】
【図１】　　測定位置における、本発明にかかる実施例
の大略斜視図である。
【図２】　　図１の線Ａ−Ｂにおける断面図である。
【図３】　　測定位置における、接線方向の配列した相
グリッドを有する本発明にかかる実施例の大略構成図で
ある。
【図４】　　測定位置における、半径方向に配列した相
グリッドを有する本発明にかかる実施例の大略構成図で
ある。
【図５】　　休止マスクホルダーの平面に配列したセン
サを有する、本発明にかかる実施例を示す図である。
【図６】　　可動ウェハーホルダーの平面に配列した相
グリッドを有する本発明にかかる実施例を示す図である
。
【図７】　　図５及び図６による構成を測定位置にて示
す図である。
【図８】　　マスクホルダーの平面に配列した相グリッ
ドを有する本発明にかかる実施例を示す図である。
【図９】　　ウェハーホルダーの平面に配列したセンサ
を有する本発明にかかる実施例を示す図である。
【図１０】　　２つのセンサアームを有する、本発明に
かかる実施例を示す図である。
【図１１】　　２つの測定位置の間に、追加のセンサを
有する本発明にかかる実施例を示す図である。
【図１２】　　相グリッドをクロスグリッドとして構成
した、本発明にかかる実施例を示す図である。 １　　　　　　センサ ２　　　　　　相グリッド ３，４　　　平面 ３Ａ　　　　ウェハー ４Ａ　　　　マスク ５　　　　　　キャリア

Claims (29)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】　　相互に移動可能な二つのキャリアから
    なる、ｘ，ｙ，φ座標テーブルのための測定装置であっ
    て、ａ）ｘおよびｙ方向に対する回折格子（２）と、ｂ
    ）光源および受信手段を備え、光信号を発生させるため
    にｘおよびｙ方向に回折格子（２）を光学的に同時にス
    キャンするセンサと、 ｃ）回折格子（２）およびセンサ（１）は、第１および
    第２のキャリア上にそれぞれ位置しており、ｄ）センサ
    （１）に対応する位置メモリを備え、光信号をｘ，ｙ方
    向および、ｘ，ｙ平面に垂直な軸の回りの回転角φにお
    ける位置表示に変換するための手段とを備え、ｅ）回折
    格子（２）は位相格子（２）として設計され、ｆ）セン
    サ（１）の列は、各位相格子（２）に割り当てられ、 ｇ）少なくとも二つのセンサ（１）は各位相格子（２）
    と同時に関係し、 ｈ）センサ（１）に対応する位置メモリ内の測定位置デ
    ータは、メモリからメモリへ転送可能として、ｘおよび
    ｙ方向への長い距離にわたって連続した測定を可能にす
    ることを特徴とする測定装置。
  2. 【請求項２】　　各位相格子（２）は共通の面に位置す
    る請求項１記載の測定装置。
  3. 【請求項３】　　各センサ（１）は共通の面に位置する
    請求項１もしくは２記載の測定装置。
  4. 【請求項４】　　位相格子（２）の面とセンサ（１）の
    面とは互いに直交している請求項２もしくは３記載の測
    定装置。
  5. 【請求項５】　　各センサ（１）は座標中心に関して対
    象的に回転可能に配される請求項１ないし４のいずれか
    に記載の測定装置。
  6. 【請求項６】　　各位相格子（２）は座標中心に関して
    対象的に回転可能に配される請求項１ないし５のいずれ
    かに記載の測定装置。
  7. 【請求項７】　　座標テーブルの中心に対して、位相格
    子（２）の格子ラインは接線方向に配され、センサ（１
    ）の列は放射状に配される請求項１ないし６のいずれか
    に記載の測定装置。
  8. 【請求項８】　　座標テーブルの中心に対して、位相格
    子（２）の格子ラインは放射状に配され、センサ（１）
    の列は接線方向に配される請求項１ないし６のいずれか
    に記載の測定装置。
  9. 【請求項９】　　センサ（１）は横方向にして縦に並べ
    られる請求項１ないし８のいずれかに記載の測定装置。
  10. 【請求項１０】　　位相格子（２）もしくはセンサ（１
    ）のためのキャリア（５）は欠くことのできない板であ
    る請求項１ないし８のいずれかに記載の測定装置。
  11. 【請求項１１】　　位相格子（２）は残りの部分に位置
    し、センサは可動部分上に配される請求項１ないし１０
    のいずれかに記載の測定装置。
  12. 【請求項１２】　　センサ（１）は残りの部分に位置し
    、位相格子（２）は可動部分上に配される請求項１ない
    し１０のいずれかに記載の測定装置。
  13. 【請求項１３】　　位相格子（２）およびセンサ（１）
    は可動部分上に配される請求項１ないし１０のいずれか
    に記載の測定装置。
  14. 【請求項１４】　　位相格子（２）およびセンサ（１）
    は中央から離れた位置に配列され、移動エリア内に位置
    する感応領域上に移動しないようにしている請求項１な
    いし１３のいずれかに記載の測定装置。
  15. 【請求項１５】　　位相格子（２）は、１０ミクロン以
    下の格子定数および２２０ミリメートル以上の長さを有
    する請求項１ないし１４のいずれかに記載の測定装置。
  16. 【請求項１６】　　別のセンサ（１Ａ，１Ｂ）が二つの
    測定位置（位置１，２）間の経路に位置する請求項１な
    いし１５のいずれかに記載の測定装置。
  17. 【請求項１７】　　位相格子（２）は十字の格子（２）
    であり、一つのセンサ（１）により、もしくは分離して
    二つのセンサ（１）により、ｘおよびｙ方向に同時にス
    キャンされる請求項１ないし１６のいずれかに記載の測
    定装置。
  18. 【請求項１８】　　請求項１ないし１７のいずれかによ
    る測定装置を備える座標テーブルのｘ，ｙおよびφ座標
    を決定するための方法であって、 ａ）座標テーブルが移動した時、位相格子（２）および
    センサ（１）が相互に移動され、 ｂ）センサ（１）が、位相格子（２）からの二つの座標
    方向における光信号を同時に受け、格子（２）とセンサ
    （１）との位置の相対変化のための測定をし、 ｃ）光信号を位置表示に変換する手段が、ｘ，ｙおよび
    ｘ，ｙ平面に垂直な軸の回りの回転角φの位置を決定し
    、 ｄ）位相格子（２）の表面を越えて移動する、センサ（
    １）の位置メモリにおける位置データは、位相格子（２
    ）と係合している接近したセンサ（１）の位置メモリに
    よって取り込まれることを特徴とする方法。
  19. 【請求項１９】　　回転角は、反対側の位相格子（２）
    により決定される請求項１８記載の方法。
  20. 【請求項２０】　　回転角は、９０°の角度で配列され
    た接近した二つの位相格子（２）により決定される請求
    項１８記載の方法。
  21. 【請求項２１】　　回転角は、接近した二つのセンサ（
    １）および一つの位相格子（２）により決定される請求
    項１８記載の方法。
  22. 【請求項２２】　　測定に供されないセンサ（１）の光
    源は測定の間、スイッチオフされる請求項１８ないし２
    １のいずれかに記載の方法。
  23. 【請求項２３】　　請求項１６による測定装置を第１の
    測定位置（位置１）から第２の測定位置（位置２）へシ
    フトさせることをモニターするための方法であって、セ
    ンサ（１Ａ）がシフト（矢印方向）を登録し、センサ（
    １Ｂ）が位相格子（２）の手段によるシフトの方向に垂
    直な偏差を登録することを特徴とする方法。
  24. 【請求項２４】　　リソグラフィに対する座標テーブル
    は特にＸ線のリソグラフィである請求項１ないし１７の
    いずれかに記載の測定装置の使用法。
  25. 【請求項２５】　　ウェハーホルダー（３）は位相格子
    （２）の面に配列され、マスクホルダー（４）はセンサ
    （１）の面に配列される請求項２４記載の使用法。
  26. 【請求項２６】　　マスクホルダー（４）は位相格子（
    ２）の面に配列され、ウェハーホルダー（３）はセンサ
    （１）の面に配列される請求項２４記載の使用法。
  27. 【請求項２７】　　センサの面は正確に、マスクの面（
    ４Ａ）内に、もしくはウェハーの面（３Ａ）内に、もし
    くは測定される対象物の面内にある請求項１ないし１７
    および２４ないし２６のいずれかに記載の測定装置の使
    用法。
  28. 【請求項２８】　　位相格子の面は正確に、マスクの面
    （４Ａ）内に、もしくはウェハーの面（３Ａ）内に、も
    しくは測定される対象物の面内にある請求項１ないし１
    ７および２４ないし２６のいずれかに記載の測定装置の
    使用法。
  29. 【請求項２９】　　位置決めのための測定用器具および
    プローブ装置が半導体構成に関するセンサを試験する請
    求項１ないし１７および２４ないし２８のいずれかに記
    載の測定装置の使用法。
JP27404691A 1990-10-22 1991-10-22 ｘ，ｙ，φ座標テーブル用測定装置 Pending JPH04265805A (ja)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE4033556.9 1990-10-22
DE19904033556 DE4033556A1 (de) 1990-10-22 1990-10-22 Messanordnung fuer x,y,(phi)-koordinatentische

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH04265805A true JPH04265805A (ja) 1992-09-22

Family

ID=6416804

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP27404691A Pending JPH04265805A (ja) 1990-10-22 1991-10-22 ｘ，ｙ，φ座標テーブル用測定装置

Country Status (3)

Country Link
EP (1) EP0482553A3 (ja)
JP (1) JPH04265805A (ja)
DE (1) DE4033556A1 (ja)

Cited By (39)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005203483A (ja) * 2004-01-14 2005-07-28 Nikon Corp ステージ装置及び露光装置
JP2007292735A (ja) * 2006-03-21 2007-11-08 Asml Netherlands Bv 変位測定システム、リソグラフィ装置およびデバイス製造方法
JP2007318119A (ja) * 2006-05-09 2007-12-06 Asml Netherlands Bv 変位測定システム、リソグラフィ装置、変位測定方法およびデバイス製造方法
JP2008009627A (ja) * 2006-06-28 2008-01-17 Canon Machinery Inc 認識画像創出方法および認識対象物の位置決め装置
WO2008026742A1 (fr) * 2006-08-31 2008-03-06 Nikon Corporation Procédé d'entraînement de corps mobile et système d'entraînement de corps mobile, procédé et appareil de mise en forme de motif, procédé et appareil d'exposition et procédé de fabrication de dispositif
WO2008026732A1 (fr) * 2006-08-31 2008-03-06 Nikon Corporation Système d'entraînement de corps mobile et procédé d'entraînement de corps mobile, appareil et procédé de mise en forme de motif, appareil et procédé d'exposition, procédé de fabrication de dispositif et procédé de décision
WO2008029757A1 (en) * 2006-09-01 2008-03-13 Nikon Corporation Mobile object driving method, mobile object driving system, pattern forming method and apparatus, exposure method and apparatus, device manufacturing method and calibration method
WO2009011356A1 (ja) * 2007-07-18 2009-01-22 Nikon Corporation 計測方法、ステージ装置、及び露光装置
JP2009055036A (ja) * 2007-08-24 2009-03-12 Nikon Corp 移動体駆動方法及び移動体駆動システム、パターン形成方法及び装置、露光方法及び装置、並びにデバイス製造方法
WO2009084196A1 (ja) * 2007-12-28 2009-07-09 Nikon Corporation 移動体駆動システム、パターン形成装置、露光装置及び露光方法、並びにデバイス製造方法
US7601947B2 (en) 2006-05-19 2009-10-13 Nikon Corporation Encoder that optically detects positional information of a scale
JP2009537795A (ja) * 2006-05-18 2009-10-29 ドクトル・ヨハネス・ハイデンハイン・ゲゼルシヤフト・ミツト・ベシユレンクテル・ハフツング 少なくとも一つのスライド方向に沿って移動可能な物体の位置を計測するための装置
JP2010074075A (ja) * 2008-09-22 2010-04-02 Nikon Corp 補正情報作成方法、露光方法及び露光装置、並びにデバイス製造方法
US7839485B2 (en) 2006-01-19 2010-11-23 Nikon Corporation Movable body drive method, movable body drive system, pattern formation method, pattern forming apparatus, exposure method, exposure apparatus, and device manufacturing method
US7999918B2 (en) 2006-09-29 2011-08-16 Nikon Corporation Movable body system, pattern formation apparatus, exposure apparatus and exposure method, and device manufacturing method
US8027021B2 (en) 2006-02-21 2011-09-27 Nikon Corporation Measuring apparatus and method, processing apparatus and method, pattern forming apparatus and method, exposure apparatus and method, and device manufacturing method
JP2013058796A (ja) * 2007-07-24 2013-03-28 Nikon Corp 露光装置及び露光方法、並びにデバイス製造方法
US8422015B2 (en) 2007-11-09 2013-04-16 Nikon Corporation Movable body apparatus, pattern formation apparatus and exposure apparatus, and device manufacturing method
US8488106B2 (en) 2009-12-28 2013-07-16 Nikon Corporation Movable body drive method, movable body apparatus, exposure method, exposure apparatus, and device manufacturing method
US8488109B2 (en) 2009-08-25 2013-07-16 Nikon Corporation Exposure method, exposure apparatus, and device manufacturing method
US20130271945A1 (en) 2004-02-06 2013-10-17 Nikon Corporation Polarization-modulating element, illumination optical apparatus, exposure apparatus, and exposure method
US8599359B2 (en) 2008-12-19 2013-12-03 Nikon Corporation Exposure apparatus, exposure method, device manufacturing method, and carrier method
US8665455B2 (en) 2007-11-08 2014-03-04 Nikon Corporation Movable body apparatus, pattern formation apparatus and exposure apparatus, and device manufacturing method
US8760629B2 (en) 2008-12-19 2014-06-24 Nikon Corporation Exposure apparatus including positional measurement system of movable body, exposure method of exposing object including measuring positional information of movable body, and device manufacturing method that includes exposure method of exposing object, including measuring positional information of movable body
US8902402B2 (en) 2008-12-19 2014-12-02 Nikon Corporation Movable body apparatus, exposure apparatus, exposure method, and device manufacturing method
US8937710B2 (en) 2006-08-31 2015-01-20 Nikon Corporation Exposure method and apparatus compensating measuring error of encoder due to grating section and displacement of movable body in Z direction
US9013681B2 (en) 2007-11-06 2015-04-21 Nikon Corporation Movable body apparatus, pattern formation apparatus and exposure apparatus, and device manufacturing method
US9207549B2 (en) 2011-12-29 2015-12-08 Nikon Corporation Exposure apparatus and exposure method, and device manufacturing method with encoder of higher reliability for position measurement
US9256140B2 (en) 2007-11-07 2016-02-09 Nikon Corporation Movable body apparatus, pattern formation apparatus and exposure apparatus, and device manufacturing method with measurement device to measure movable body in Z direction
US9341954B2 (en) 2007-10-24 2016-05-17 Nikon Corporation Optical unit, illumination optical apparatus, exposure apparatus, and device manufacturing method
JP2016136267A (ja) * 2006-09-01 2016-07-28 株式会社ニコン 露光装置及び露光方法、並びにデバイス製造方法
US9423698B2 (en) 2003-10-28 2016-08-23 Nikon Corporation Illumination optical apparatus and projection exposure apparatus
US9678437B2 (en) 2003-04-09 2017-06-13 Nikon Corporation Illumination optical apparatus having distribution changing member to change light amount and polarization member to set polarization in circumference direction
US9678332B2 (en) 2007-11-06 2017-06-13 Nikon Corporation Illumination apparatus, illumination method, exposure apparatus, and device manufacturing method
US9690214B2 (en) 2006-02-21 2017-06-27 Nikon Corporation Pattern forming apparatus and pattern forming method, movable body drive system and movable body drive method, exposure apparatus and exposure method, and device manufacturing method
US9857697B2 (en) 2006-02-21 2018-01-02 Nikon Corporation Pattern forming apparatus, mark detecting apparatus, exposure apparatus, pattern forming method, exposure method, and device manufacturing method
US9885872B2 (en) 2003-11-20 2018-02-06 Nikon Corporation Illumination optical apparatus, exposure apparatus, and exposure method with optical integrator and polarization member that changes polarization state of light
US9891539B2 (en) 2005-05-12 2018-02-13 Nikon Corporation Projection optical system, exposure apparatus, and exposure method
US10101666B2 (en) 2007-10-12 2018-10-16 Nikon Corporation Illumination optical apparatus, exposure apparatus, and device manufacturing method

Families Citing this family (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE4206544A1 (de) * 1992-03-02 1993-09-09 Lpkf Cad Cam Systeme In Thueri Zweikoordinaten-wegmesssystem
GB2312297B (en) * 1996-03-08 2000-07-12 Minoru Inaba Stereo slide mount
GB2346707B (en) * 1996-04-16 2000-10-11 Minoru Inaba Masking-amount guide apparatus for a stereo slide mount
DE19851941A1 (de) * 1998-11-11 2000-05-18 Schmid Gmbh & Co Geb Verfahren und Vorrichtung zur Positionierung eines Gegenstandes
US7512452B2 (en) 2005-06-13 2009-03-31 Mauro George E Positioning system for eliminating lost motion effect
DE102007023300A1 (de) * 2007-05-16 2008-11-20 Dr. Johannes Heidenhain Gmbh Positionsmesseinrichtung und Anordnung derselben
US8355116B2 (en) * 2009-06-19 2013-01-15 Nikon Corporation Exposure apparatus and device manufacturing method
CN110081837B (zh) * 2019-05-20 2021-05-07 中国科学院光电技术研究所 一种通过利用测角圆光栅及读数头检测轴系晃动及偏心误差的方法

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4233625A (en) * 1978-11-03 1980-11-11 Teledyne, Inc. Television monitoring system for automatically aligning semiconductor devices during manufacture
DE2910580C3 (de) * 1979-03-17 1982-01-21 Texas Instruments Deutschland Gmbh, 8050 Freising Ausrichtvorrichtung
DE2942990A1 (de) * 1979-10-24 1981-05-07 Siemens AG, 1000 Berlin und 8000 München Verfahren zur automatischen justierung von strukturen in zwei parallelen ebenen, insbesondere bei der herstellung von integrierten halbleiterschaltungen
JPS5918405A (ja) * 1982-07-23 1984-01-30 Toyoda Mach Works Ltd 光学的変位測定装置
DE3636744C1 (de) * 1986-10-29 1988-03-24 Heidenhain Gmbh Dr Johannes Lichtelektrische Laengen- oder Winkelmesseinrichtung

Cited By (152)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US9885959B2 (en) 2003-04-09 2018-02-06 Nikon Corporation Illumination optical apparatus having deflecting member, lens, polarization member to set polarization in circumference direction, and optical integrator
US9678437B2 (en) 2003-04-09 2017-06-13 Nikon Corporation Illumination optical apparatus having distribution changing member to change light amount and polarization member to set polarization in circumference direction
US9760014B2 (en) 2003-10-28 2017-09-12 Nikon Corporation Illumination optical apparatus and projection exposure apparatus
US9423698B2 (en) 2003-10-28 2016-08-23 Nikon Corporation Illumination optical apparatus and projection exposure apparatus
US10281632B2 (en) 2003-11-20 2019-05-07 Nikon Corporation Illumination optical apparatus, exposure apparatus, and exposure method with optical member with optical rotatory power to rotate linear polarization direction
US9885872B2 (en) 2003-11-20 2018-02-06 Nikon Corporation Illumination optical apparatus, exposure apparatus, and exposure method with optical integrator and polarization member that changes polarization state of light
JP4586367B2 (ja) * 2004-01-14 2010-11-24 株式会社ニコン ステージ装置及び露光装置
JP2005203483A (ja) * 2004-01-14 2005-07-28 Nikon Corp ステージ装置及び露光装置
US20130271945A1 (en) 2004-02-06 2013-10-17 Nikon Corporation Polarization-modulating element, illumination optical apparatus, exposure apparatus, and exposure method
US10007194B2 (en) 2004-02-06 2018-06-26 Nikon Corporation Polarization-modulating element, illumination optical apparatus, exposure apparatus, and exposure method
US10234770B2 (en) 2004-02-06 2019-03-19 Nikon Corporation Polarization-modulating element, illumination optical apparatus, exposure apparatus, and exposure method
US10241417B2 (en) 2004-02-06 2019-03-26 Nikon Corporation Polarization-modulating element, illumination optical apparatus, exposure apparatus, and exposure method
US9891539B2 (en) 2005-05-12 2018-02-13 Nikon Corporation Projection optical system, exposure apparatus, and exposure method
JP2013211564A (ja) * 2006-01-19 2013-10-10 Nikon Corp 露光装置及び露光方法、並びにデバイス製造方法
US10185227B2 (en) 2006-01-19 2019-01-22 Nikon Corporation Movable body drive method, movable body drive system, pattern formation method, pattern forming apparatus, exposure method, exposure apparatus, and device manufacturing method
US10185228B2 (en) 2006-01-19 2019-01-22 Nikon Corporation Movable body drive method, movable body drive system, pattern formation method, pattern forming apparatus, exposure method, exposure apparatus, and device manufacturing method
JP2012208937A (ja) * 2006-01-19 2012-10-25 Nikon Corp 移動体駆動方法及び移動体駆動システム、パターン形成方法及びパターン形成装置、露光方法及び露光装置、並びにデバイス製造方法
US7839485B2 (en) 2006-01-19 2010-11-23 Nikon Corporation Movable body drive method, movable body drive system, pattern formation method, pattern forming apparatus, exposure method, exposure apparatus, and device manufacturing method
US10203613B2 (en) 2006-01-19 2019-02-12 Nikon Corporation Movable body drive method, movable body drive system, pattern formation method, pattern forming apparatus, exposure method, exposure apparatus, and device manufacturing method
JP2015109461A (ja) * 2006-01-19 2015-06-11 株式会社ニコン 露光装置及び露光方法、並びにデバイス製造方法
US10133195B2 (en) 2006-01-19 2018-11-20 Nikon Corporation Movable body drive method, movable body drive system, pattern formation method, pattern forming apparatus, exposure method, exposure apparatus, and device manufacturing method
JP2012178570A (ja) * 2006-01-19 2012-09-13 Nikon Corp 露光装置及び露光方法、並びにデバイス製造方法
JP2014060448A (ja) * 2006-01-19 2014-04-03 Nikon Corp 露光装置及び露光方法、並びにデバイス製造方法
JP2014150285A (ja) * 2006-01-19 2014-08-21 Nikon Corp 露光装置及び露光方法、並びにデバイス製造方法
JP2015166882A (ja) * 2006-01-19 2015-09-24 株式会社ニコン 液浸露光装置及び液浸露光方法、並びにデバイス製造方法
JP2016105189A (ja) * 2006-01-19 2016-06-09 株式会社ニコン 露光装置及び露光方法、並びにデバイス製造方法
US8027021B2 (en) 2006-02-21 2011-09-27 Nikon Corporation Measuring apparatus and method, processing apparatus and method, pattern forming apparatus and method, exposure apparatus and method, and device manufacturing method
US9329060B2 (en) 2006-02-21 2016-05-03 Nikon Corporation Measuring apparatus and method, processing apparatus and method, pattern forming apparatus and method, exposure apparatus and method, and device manufacturing method
US10012913B2 (en) 2006-02-21 2018-07-03 Nikon Corporation Pattern forming apparatus and pattern forming method, movable body drive system and movable body drive method, exposure apparatus and exposure method, and device manufacturing method
US10088759B2 (en) 2006-02-21 2018-10-02 Nikon Corporation Pattern forming apparatus and pattern forming method, movable body drive system and movable body drive method, exposure apparatus and exposure method, and device manufacturing method
US10088343B2 (en) 2006-02-21 2018-10-02 Nikon Corporation Measuring apparatus and method, processing apparatus and method, pattern forming apparatus and method, exposure apparatus and method, and device manufacturing method
JP2013236104A (ja) * 2006-02-21 2013-11-21 Nikon Corp 露光装置及び露光方法、並びにデバイス製造方法
US9857697B2 (en) 2006-02-21 2018-01-02 Nikon Corporation Pattern forming apparatus, mark detecting apparatus, exposure apparatus, pattern forming method, exposure method, and device manufacturing method
US10132658B2 (en) 2006-02-21 2018-11-20 Nikon Corporation Measuring apparatus and method, processing apparatus and method, pattern forming apparatus and method, exposure apparatus and method, and device manufacturing method
US10139738B2 (en) 2006-02-21 2018-11-27 Nikon Corporation Pattern forming apparatus and pattern forming method, movable body drive system and movable body drive method, exposure apparatus and exposure method, and device manufacturing method
US9690214B2 (en) 2006-02-21 2017-06-27 Nikon Corporation Pattern forming apparatus and pattern forming method, movable body drive system and movable body drive method, exposure apparatus and exposure method, and device manufacturing method
US10409173B2 (en) 2006-02-21 2019-09-10 Nikon Corporation Pattern forming apparatus, mark detecting apparatus, exposure apparatus, pattern forming method, exposure method, and device manufacturing method
US10345121B2 (en) 2006-02-21 2019-07-09 Nikon Corporation Measuring apparatus and method, processing apparatus and method, pattern forming apparatus and method, exposure apparatus and method, and device manufacturing method
US10234773B2 (en) 2006-02-21 2019-03-19 Nikon Corporation Pattern forming apparatus, mark detecting apparatus, exposure apparatus, pattern forming method, exposure method, and device manufacturing method
US9989859B2 (en) 2006-02-21 2018-06-05 Nikon Corporation Measuring apparatus and method, processing apparatus and method, pattern forming apparatus and method, exposure apparatus and method, and device manufacturing method
JP2007292735A (ja) * 2006-03-21 2007-11-08 Asml Netherlands Bv 変位測定システム、リソグラフィ装置およびデバイス製造方法
JP2007318119A (ja) * 2006-05-09 2007-12-06 Asml Netherlands Bv 変位測定システム、リソグラフィ装置、変位測定方法およびデバイス製造方法
JP4660503B2 (ja) * 2006-05-09 2011-03-30 エーエスエムエル ネザーランズ ビー．ブイ． リソグラフィ装置
JP2009537795A (ja) * 2006-05-18 2009-10-29 ドクトル・ヨハネス・ハイデンハイン・ゲゼルシヤフト・ミツト・ベシユレンクテル・ハフツング 少なくとも一つのスライド方向に沿って移動可能な物体の位置を計測するための装置
US7601947B2 (en) 2006-05-19 2009-10-13 Nikon Corporation Encoder that optically detects positional information of a scale
JP2008009627A (ja) * 2006-06-28 2008-01-17 Canon Machinery Inc 認識画像創出方法および認識対象物の位置決め装置
JP2018041090A (ja) * 2006-08-31 2018-03-15 株式会社ニコン 露光装置及び露光方法、並びにデバイス製造方法
CN102520589A (zh) * 2006-08-31 2012-06-27 株式会社尼康 曝光方法和装置、以及组件制造方法
WO2008026742A1 (fr) * 2006-08-31 2008-03-06 Nikon Corporation Procédé d'entraînement de corps mobile et système d'entraînement de corps mobile, procédé et appareil de mise en forme de motif, procédé et appareil d'exposition et procédé de fabrication de dispositif
US10353301B2 (en) 2006-08-31 2019-07-16 Nikon Corporation Movable body drive method and movable body drive system, pattern formation method and apparatus, exposure method and apparatus, and device manufacturing method
EP2065920A4 (en) * 2006-08-31 2014-05-14 Nikon Corp MOBILE BODY DRIVING METHOD AND MOBILE BODY DRIVE SYSTEM, STRUCTURE MANUFACTURING METHOD AND DEVICE, EXPOSURE METHOD AND DEVICE AND CONSTRUCTION MANUFACTURING METHOD
US10353302B2 (en) 2006-08-31 2019-07-16 Nikon Corporation Movable body drive method and movable body drive system, pattern formation method and apparatus, exposure method and apparatus, and device manufacturing method
KR101400615B1 (ko) * 2006-08-31 2014-05-27 가부시키가이샤 니콘 이동체 구동 방법 및 이동체 구동 시스템, 패턴 형성 방법 및 장치, 노광 방법 및 장치, 그리고 디바이스 제조 방법
KR101409011B1 (ko) * 2006-08-31 2014-06-18 가부시키가이샤 니콘 이동체 구동 방법 및 이동체 구동 시스템, 패턴 형성 방법 및 장치, 노광 방법 및 장치, 그리고 디바이스 제조 방법
WO2008026732A1 (fr) * 2006-08-31 2008-03-06 Nikon Corporation Système d'entraînement de corps mobile et procédé d'entraînement de corps mobile, appareil et procédé de mise en forme de motif, appareil et procédé d'exposition, procédé de fabrication de dispositif et procédé de décision
TWI416269B (zh) * 2006-08-31 2013-11-21 尼康股份有限公司 Mobile body driving method and moving body driving system, pattern forming method and apparatus, exposure method and apparatus, and component manufacturing method
US10338482B2 (en) 2006-08-31 2019-07-02 Nikon Corporation Movable body drive method and movable body drive system, pattern formation method and apparatus, exposure method and apparatus, and device manufacturing method
JPWO2008026742A1 (ja) * 2006-08-31 2010-01-21 株式会社ニコン 移動体駆動方法及び移動体駆動システム、パターン形成方法及び装置、露光方法及び装置、並びにデバイス製造方法
KR101479347B1 (ko) * 2006-08-31 2015-01-05 가부시키가이샤 니콘 이동체 구동 시스템 및 이동체 구동 방법, 패턴 형성 장치 및 방법, 노광 장치 및 방법, 디바이스 제조 방법, 그리고 결정 방법
US8937710B2 (en) 2006-08-31 2015-01-20 Nikon Corporation Exposure method and apparatus compensating measuring error of encoder due to grating section and displacement of movable body in Z direction
US8947639B2 (en) 2006-08-31 2015-02-03 Nikon Corporation Exposure method and apparatus measuring position of movable body based on information on flatness of encoder grating section
CN104375390A (zh) * 2006-08-31 2015-02-25 株式会社尼康 移动体驱动系统及方法、图案形成装置及方法、曝光装置及方法、组件制造方法
JP2019020747A (ja) * 2006-08-31 2019-02-07 株式会社ニコン 露光装置及び露光方法、並びにデバイス製造方法
TWI649631B (zh) * 2006-08-31 2019-02-01 尼康股份有限公司 Exposure method and device, and component manufacturing method
JP2015109457A (ja) * 2006-08-31 2015-06-11 株式会社ニコン 露光方法及び露光装置、並びにデバイス製造方法
JPWO2008026732A1 (ja) * 2006-08-31 2010-01-21 株式会社ニコン 移動体駆動システム及び移動体駆動方法、パターン形成装置及び方法、露光装置及び方法、デバイス製造方法、並びに決定方法
KR20150092342A (ko) * 2006-08-31 2015-08-12 가부시키가이샤 니콘 이동체 구동 방법 및 이동체 구동 시스템, 패턴 형성 방법 및 장치, 노광 방법 및 장치, 그리고 디바이스 제조 방법
US10162274B2 (en) 2006-08-31 2018-12-25 Nikon Corporation Movable body drive method and system, pattern formation method and apparatus, exposure method and apparatus for driving movable body based on measurement value of encoder and information on flatness of scale, and device manufacturing method
JP2015179290A (ja) * 2006-08-31 2015-10-08 株式会社ニコン 露光方法及び露光装置、並びにデバイス製造方法
US10101673B2 (en) 2006-08-31 2018-10-16 Nikon Corporation Movable body drive method and system, pattern formation method and apparatus, exposure method and apparatus for driving movable body based on measurement value of encoder and information on flatness of scale, and device manufacturing method
JP2013258418A (ja) * 2006-08-31 2013-12-26 Nikon Corp 露光装置及び露光方法、並びにデバイス製造方法
US10073359B2 (en) 2006-08-31 2018-09-11 Nikon Corporation Movable body drive system and movable body drive method, pattern formation apparatus and method, exposure apparatus and method, device manufacturing method, and decision-making method
JP2016027414A (ja) * 2006-08-31 2016-02-18 株式会社ニコン 露光装置及び露光方法、並びにデバイス製造方法
JP2016028285A (ja) * 2006-08-31 2016-02-25 株式会社ニコン 露光装置及び露光方法、並びにデバイス製造方法
US10067428B2 (en) 2006-08-31 2018-09-04 Nikon Corporation Movable body drive system and movable body drive method, pattern formation apparatus and method, exposure apparatus and method, device manufacturing method, and decision-making method
KR20160043123A (ko) * 2006-08-31 2016-04-20 가부시키가이샤 니콘 이동체 구동 시스템 및 이동체 구동 방법, 패턴 형성 장치 및 방법, 노광 장치 및 방법, 디바이스 제조 방법, 그리고 결정 방법
CN103645608B (zh) * 2006-08-31 2016-04-20 株式会社尼康 曝光装置及方法、组件制造方法以及决定方法
JP2012138621A (ja) * 2006-08-31 2012-07-19 Nikon Corp 移動体駆動方法及び移動体駆動システム、パターン形成方法及び装置、露光方法及び装置、並びにデバイス製造方法
JP2012147012A (ja) * 2006-08-31 2012-08-02 Nikon Corp 移動体駆動システム及び移動体駆動方法、パターン形成装置及び方法、露光装置及び方法、デバイス製造方法、並びに決定方法
JP2012147026A (ja) * 2006-08-31 2012-08-02 Nikon Corp 移動体駆動方法及び移動体駆動システム、パターン形成方法及び装置、露光方法及び装置、並びにデバイス製造方法
JP2016106254A (ja) * 2006-08-31 2016-06-16 株式会社ニコン 露光装置及び露光方法、並びにデバイス製造方法
US9983486B2 (en) 2006-08-31 2018-05-29 Nikon Corporation Movable body drive method and movable body drive system, pattern formation method and apparatus, exposure method and apparatus, and device manufacturing method
US9958792B2 (en) 2006-08-31 2018-05-01 Nikon Corporation Movable body drive method and movable body drive system, pattern formation method and apparatus, exposure method and apparatus, and device manufacturing method
JP2016128929A (ja) * 2006-08-31 2016-07-14 株式会社ニコン 露光装置及び露光方法、並びにデバイス製造方法
JP5035245B2 (ja) * 2006-08-31 2012-09-26 株式会社ニコン 移動体駆動方法及び移動体駆動システム、パターン形成方法及び装置、露光方法及び装置、並びにデバイス製造方法
JP2017227919A (ja) * 2006-08-31 2017-12-28 株式会社ニコン 露光装置及び露光方法、並びにデバイス製造方法
TWI596444B (zh) * 2006-08-31 2017-08-21 尼康股份有限公司 Exposure method and device, and device manufacturing method
JP2017010043A (ja) * 2006-08-31 2017-01-12 株式会社ニコン 露光装置及び露光方法、並びにデバイス製造方法
JP2016180990A (ja) * 2006-08-31 2016-10-13 株式会社ニコン 露光装置及び露光方法、並びにデバイス製造方法
JP2016197244A (ja) * 2006-08-31 2016-11-24 株式会社ニコン 露光装置及び露光方法、並びにデバイス製造方法
JPWO2008029757A1 (ja) * 2006-09-01 2010-01-21 株式会社ニコン 移動体駆動方法及び移動体駆動システム、パターン形成方法及び装置、露光方法及び装置、デバイス製造方法、並びにキャリブレーション方法
KR101444632B1 (ko) * 2006-09-01 2014-09-26 가부시키가이샤 니콘 이동체 구동 방법 및 이동체 구동 시스템, 패턴 형성 방법 및 장치, 노광 방법 및 장치, 디바이스 제조 방법, 그리고 캘리브레이션 방법
EP2071613A4 (en) * 2006-09-01 2014-05-21 Nikon Corp MOBILE OBJECT CONTROL METHOD, MOBILE OBJECT CONTROL SYSTEM, PATTERN FORMATION METHOD AND APPARATUS, EXPOSURE METHOD AND APPARATUS, DEVICE MANUFACTURING METHOD, AND CALIBRATION METHOD
US10289012B2 (en) 2006-09-01 2019-05-14 Nikon Corporation Movable body drive method and movable body drive system, pattern formation method and apparatus, exposure method and apparatus, device manufacturing method, and calibration method
US10289010B2 (en) 2006-09-01 2019-05-14 Nikon Corporation Movable body drive method and movable body drive system, pattern formation method and apparatus, exposure method and apparatus, and device manufacturing method
US9625834B2 (en) 2006-09-01 2017-04-18 Nikon Corporation Movable body drive method and movable body drive system, pattern formation method and apparatus, exposure method and apparatus, device manufacturing method, and calibration method
WO2008029757A1 (en) * 2006-09-01 2008-03-13 Nikon Corporation Mobile object driving method, mobile object driving system, pattern forming method and apparatus, exposure method and apparatus, device manufacturing method and calibration method
KR101511929B1 (ko) * 2006-09-01 2015-04-13 가부시키가이샤 니콘 이동체 구동 방법 및 이동체 구동 시스템, 패턴 형성 방법 및 장치, 노광 방법 및 장치, 디바이스 제조 방법, 그리고 캘리브레이션 방법
US10197924B2 (en) 2006-09-01 2019-02-05 Nikon Corporation Movable body drive method and movable body drive system, pattern formation method and apparatus, exposure method and apparatus, device manufacturing method, and calibration method
JP2016191923A (ja) * 2006-09-01 2016-11-10 株式会社ニコン 露光装置及び露光方法、並びにデバイス製造方法
KR101323530B1 (ko) * 2006-09-01 2013-10-29 가부시키가이샤 니콘 이동체 구동 방법 및 이동체 구동 시스템, 패턴 형성 방법 및 장치, 노광 방법 및 장치, 디바이스 제조 방법, 그리고 캘리브레이션 방법
US9740114B2 (en) 2006-09-01 2017-08-22 Nikon Corporation Movable body drive method and movable body drive system, pattern formation method and apparatus, exposure method and apparatus, device manufacturing method, and calibration method
JP2018151646A (ja) * 2006-09-01 2018-09-27 株式会社ニコン 露光装置及び露光方法、並びにデバイス製造方法
US9760021B2 (en) 2006-09-01 2017-09-12 Nikon Corporation Movable body drive method and movable body drive system, pattern formation method and apparatus, exposure method and apparatus, device manufacturing method, and calibration method
JP2017010042A (ja) * 2006-09-01 2017-01-12 株式会社ニコン 露光装置及び露光方法、並びにデバイス製造方法
US9846374B2 (en) 2006-09-01 2017-12-19 Nikon Corporation Movable body drive method and movable body drive system, pattern formation method and apparatus, exposure method and apparatus, device manufacturing method, and calibration method
JP2016136267A (ja) * 2006-09-01 2016-07-28 株式会社ニコン 露光装置及び露光方法、並びにデバイス製造方法
US9971253B2 (en) 2006-09-01 2018-05-15 Nikon Corporation Movable body drive method and movable body drive system, pattern formation method and apparatus, exposure method and apparatus, device manufacturing method, and calibration method
US9377698B2 (en) 2006-09-01 2016-06-28 Nikon Corporation Movable body drive method and movable body drive system, pattern formation method and apparatus, exposure method and apparatus, device manufacturing method, and calibration method
TWI622084B (zh) * 2006-09-01 2018-04-21 Nikon Corp Mobile body driving method, moving body driving system, pattern forming method and device, exposure method and device, component manufacturing method, and correction method
US9874822B2 (en) 2006-09-01 2018-01-23 Nikon Corporation Movable body drive method and movable body drive system, pattern formation method and apparatus, exposure method and apparatus, and device manufacturing method
JP5035247B2 (ja) * 2006-09-01 2012-09-26 株式会社ニコン 移動体駆動方法及び移動体駆動システム、パターン形成方法及び装置、露光方法及び装置、デバイス製造方法、並びにキャリブレーション方法
JP2012169655A (ja) * 2006-09-01 2012-09-06 Nikon Corp 移動体駆動方法
US8514373B2 (en) 2006-09-29 2013-08-20 Nikon Corporation Movable body system, pattern formation apparatus, exposure apparatus and exposure method, and device manufacturing method
US7999918B2 (en) 2006-09-29 2011-08-16 Nikon Corporation Movable body system, pattern formation apparatus, exposure apparatus and exposure method, and device manufacturing method
JPWO2009011356A1 (ja) * 2007-07-18 2010-09-24 株式会社ニコン 計測方法、ステージ装置、及び露光装置
WO2009011356A1 (ja) * 2007-07-18 2009-01-22 Nikon Corporation 計測方法、ステージ装置、及び露光装置
JP2018063446A (ja) * 2007-07-18 2018-04-19 株式会社ニコン 露光装置、露光方法、及びデバイス製造方法
JP2016136268A (ja) * 2007-07-18 2016-07-28 株式会社ニコン 露光装置、露光方法、及びデバイス製造方法
US9372410B2 (en) 2007-07-18 2016-06-21 Nikon Corporation Measuring method, stage apparatus, and exposure apparatus
US9804506B2 (en) 2007-07-18 2017-10-31 Nikon Corporation Measuring method, stage apparatus, and exposure apparatus
KR20150121256A (ko) * 2007-07-18 2015-10-28 가부시키가이샤 니콘 계측 방법, 스테이지 장치, 및 노광 장치
US9316917B2 (en) 2007-07-18 2016-04-19 Nikon Corporation Measuring method, stage apparatus, and exposure apparatus
JP2013058796A (ja) * 2007-07-24 2013-03-28 Nikon Corp 露光装置及び露光方法、並びにデバイス製造方法
JP2013065861A (ja) * 2007-08-24 2013-04-11 Nikon Corp 移動体駆動方法及び移動体駆動システム、パターン形成方法及び装置、露光方法及び装置、並びにデバイス製造方法
JP2009055036A (ja) * 2007-08-24 2009-03-12 Nikon Corp 移動体駆動方法及び移動体駆動システム、パターン形成方法及び装置、露光方法及び装置、並びにデバイス製造方法
US8237919B2 (en) 2007-08-24 2012-08-07 Nikon Corporation Movable body drive method and movable body drive system, pattern formation method and apparatus, exposure method and apparatus, and device manufacturing method for continuous position measurement of movable body before and after switching between sensor heads
US10101666B2 (en) 2007-10-12 2018-10-16 Nikon Corporation Illumination optical apparatus, exposure apparatus, and device manufacturing method
US9857599B2 (en) 2007-10-24 2018-01-02 Nikon Corporation Optical unit, illumination optical apparatus, exposure apparatus, and device manufacturing method
US9341954B2 (en) 2007-10-24 2016-05-17 Nikon Corporation Optical unit, illumination optical apparatus, exposure apparatus, and device manufacturing method
US9678332B2 (en) 2007-11-06 2017-06-13 Nikon Corporation Illumination apparatus, illumination method, exposure apparatus, and device manufacturing method
US9013681B2 (en) 2007-11-06 2015-04-21 Nikon Corporation Movable body apparatus, pattern formation apparatus and exposure apparatus, and device manufacturing method
US9256140B2 (en) 2007-11-07 2016-02-09 Nikon Corporation Movable body apparatus, pattern formation apparatus and exposure apparatus, and device manufacturing method with measurement device to measure movable body in Z direction
US8665455B2 (en) 2007-11-08 2014-03-04 Nikon Corporation Movable body apparatus, pattern formation apparatus and exposure apparatus, and device manufacturing method
US8422015B2 (en) 2007-11-09 2013-04-16 Nikon Corporation Movable body apparatus, pattern formation apparatus and exposure apparatus, and device manufacturing method
JP5131281B2 (ja) * 2007-12-28 2013-01-30 株式会社ニコン 露光装置及び露光方法、並びにデバイス製造方法
WO2009084196A1 (ja) * 2007-12-28 2009-07-09 Nikon Corporation 移動体駆動システム、パターン形成装置、露光装置及び露光方法、並びにデバイス製造方法
JPWO2009084196A1 (ja) * 2007-12-28 2011-05-12 株式会社ニコン 移動体駆動システム、パターン形成装置、露光装置及び露光方法、並びにデバイス製造方法
US8237916B2 (en) 2007-12-28 2012-08-07 Nikon Corporation Movable body drive system, pattern formation apparatus, exposure apparatus and exposure method, and device manufacturing method
JP2010074075A (ja) * 2008-09-22 2010-04-02 Nikon Corp 補正情報作成方法、露光方法及び露光装置、並びにデバイス製造方法
US9594313B2 (en) 2008-12-19 2017-03-14 Nikon Corporation Movable body apparatus, exposure apparatus, exposure method, and device manufacturing method
US8902402B2 (en) 2008-12-19 2014-12-02 Nikon Corporation Movable body apparatus, exposure apparatus, exposure method, and device manufacturing method
US9690209B2 (en) 2008-12-19 2017-06-27 Nikon Corporation Movable body apparatus, exposure apparatus, exposure method, and device manufacturing method
US10254662B2 (en) 2008-12-19 2019-04-09 Nikon Corporation Exposure apparatus, exposure method, and device manufacturing method
US9442396B2 (en) 2008-12-19 2016-09-13 Nikon Corporation Exposure apparatus, exposure method, device manufacturing method, and carrier method
US9535339B2 (en) 2008-12-19 2017-01-03 Nikon Coporation Exposure apparatus, exposure method, and device manufacturing method
US8760629B2 (en) 2008-12-19 2014-06-24 Nikon Corporation Exposure apparatus including positional measurement system of movable body, exposure method of exposing object including measuring positional information of movable body, and device manufacturing method that includes exposure method of exposing object, including measuring positional information of movable body
US8599359B2 (en) 2008-12-19 2013-12-03 Nikon Corporation Exposure apparatus, exposure method, device manufacturing method, and carrier method
US9857701B2 (en) 2008-12-19 2018-01-02 Nikon Corporation Exposure apparatus, exposure method, and device manufacturing method
US8488109B2 (en) 2009-08-25 2013-07-16 Nikon Corporation Exposure method, exposure apparatus, and device manufacturing method
US8488106B2 (en) 2009-12-28 2013-07-16 Nikon Corporation Movable body drive method, movable body apparatus, exposure method, exposure apparatus, and device manufacturing method
US9207549B2 (en) 2011-12-29 2015-12-08 Nikon Corporation Exposure apparatus and exposure method, and device manufacturing method with encoder of higher reliability for position measurement

Also Published As

Publication number Publication date
EP0482553A2 (de) 1992-04-29
EP0482553A3 (en) 1992-06-17
DE4033556A1 (de) 1992-04-23

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JPH04265805A (ja) ｘ，ｙ，φ座標テーブル用測定装置
JP5627610B2 (ja) 基板の形状または厚さの情報を測定するための方法および装置
KR100632427B1 (ko) 시간절약형 높이측정을 이용하여 마스크패턴을 반복적으로 투영하는 방법 및 장치
CN103309169B (zh) 检测装置、曝光装置和制造器件的方法
US20110278768A1 (en) Imprint apparatus and method of manufacturing article
GB1571907A (en) Aligning a mark pattern relative to a substrate
KR20000070669A (ko) 간섭계 시스템 및 이를 포함하는 전사장치
KR20000075472A (ko) 2파장을 갖는 간섭계 시스템 및 그 시스템을 구비한 전사장치
JP2009509156A (ja) 物体の運動を検出するシステム
TW200806957A (en) Measurement method and apparatus, exposure apparatus
US20160377995A1 (en) Device and method for positioning a photolithography mask by a contactless optical method
JP2009264799A (ja) 測定装置、露光装置およびデバイス製造方法
US5550635A (en) Rotational deviation detecting method and system using a periodic pattern
CN101055430B (zh) 光刻设备、透镜干涉仪和装置制造方法
JPH08288193A (ja) 位置合わせ方法
JPH06310400A (ja) 軸上マスクとウェーハ直線配列システム
US4113388A (en) Optical apparatus for determining relative positioning of two members
US20100261106A1 (en) Measurement apparatus, exposure apparatus, and device fabrication method
JP2003197510A (ja) 収差測定装置、収差測定方法、光学系、および、露光装置
US5191465A (en) Optical apparatus for alignment of reticle and wafer in exposure apparatus
US4380395A (en) Reduction projection aligner system
TWI358529B (en) Shape measuring apparatus, shape measuring method,
US11644348B2 (en) Optical position measuring device
KR100295477B1 (ko) 물체의치수를측정하는장치
EP0019941B1 (en) Reduction projection aligner system