DE4206544A1 - Zweikoordinaten-wegmesssystem - Google Patents
Zweikoordinaten-wegmesssystemInfo
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- 238000005259 measurement Methods 0.000 title abstract description 10
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 claims abstract description 5
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 239000012780 transparent material Substances 0.000 claims description 2
- AYWNRWBCTZIUEZ-UHFFFAOYSA-N chromium(3+) oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[Cr+3].[Cr+3].[O-2].[Cr+3] AYWNRWBCTZIUEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 238000005286 illumination Methods 0.000 abstract description 4
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 abstract description 2
- 238000003754 machining Methods 0.000 abstract 1
- 238000010276 construction Methods 0.000 description 4
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 2
- 230000010363 phase shift Effects 0.000 description 2
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 2
- 235000010678 Paulownia tomentosa Nutrition 0.000 description 1
- 240000002834 Paulownia tomentosa Species 0.000 description 1
- 230000001419 dependent effect Effects 0.000 description 1
- 238000011161 development Methods 0.000 description 1
- 230000018109 developmental process Effects 0.000 description 1
- SDIXRDNYIMOKSG-UHFFFAOYSA-L disodium methyl arsenate Chemical compound [Na+].[Na+].C[As]([O-])([O-])=O SDIXRDNYIMOKSG-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 210000003734 kidney Anatomy 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
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-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01D—MEASURING NOT SPECIALLY ADAPTED FOR A SPECIFIC VARIABLE; ARRANGEMENTS FOR MEASURING TWO OR MORE VARIABLES NOT COVERED IN A SINGLE OTHER SUBCLASS; TARIFF METERING APPARATUS; MEASURING OR TESTING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
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- G01D5/26—Mechanical means for transferring the output of a sensing member; Means for converting the output of a sensing member to another variable where the form or nature of the sensing member does not constrain the means for converting; Transducers not specially adapted for a specific variable characterised by optical transfer means, i.e. using infrared, visible, or ultraviolet light
- G01D5/32—Mechanical means for transferring the output of a sensing member; Means for converting the output of a sensing member to another variable where the form or nature of the sensing member does not constrain the means for converting; Transducers not specially adapted for a specific variable characterised by optical transfer means, i.e. using infrared, visible, or ultraviolet light with attenuation or whole or partial obturation of beams of light
- G01D5/34—Mechanical means for transferring the output of a sensing member; Means for converting the output of a sensing member to another variable where the form or nature of the sensing member does not constrain the means for converting; Transducers not specially adapted for a specific variable characterised by optical transfer means, i.e. using infrared, visible, or ultraviolet light with attenuation or whole or partial obturation of beams of light the beams of light being detected by photocells
- G01D5/347—Mechanical means for transferring the output of a sensing member; Means for converting the output of a sensing member to another variable where the form or nature of the sensing member does not constrain the means for converting; Transducers not specially adapted for a specific variable characterised by optical transfer means, i.e. using infrared, visible, or ultraviolet light with attenuation or whole or partial obturation of beams of light the beams of light being detected by photocells using displacement encoding scales
- G01D5/34707—Scales; Discs, e.g. fixation, fabrication, compensation
- G01D5/34715—Scale reading or illumination devices
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Description
Die Erfindung betrifft ein Zweikoordinaten-Wegmeßsystem
für eine Vorrichtung zur Durchführung von Bewegungen eines Kör
pers in einer Ebene gemäß dem Oberbegriff des Anspruchs 1.
Zweikoordinaten-Positionierantriebe mit Positionsabwei
chungen im Bereich weniger Mikrometer erlangen immer mehr Bedeu
tung, z. B. bei der Strukturierung von Leiterplatten mittels me
chanischer Werkzeuge oder Laserstrahlen, beim Bonden in der Halb
leiterfertigung, bei x-y-Meßtischen und bei Werkzeugmaschinen, um
nur einige Beispiele zu nennen.
Beim Einsatz geregelter Servomotoren in diesen Antrie
ben ist es notwendig, die Lage des zu positionierenden Körpers in
einer Ebene zu messen. Diese Lagenmessung kann mit Hilfe zweier
linearer Wegmeßsysteme, die z. B. photoelektrisch inkremental ar
beiten, durchgeführt werden. Lineare Wegmeßsysteme verwenden
Linienraster als Maßstab. Aufgrund der begrenzten Ausdehnung des
Linienfeldes quer zur Richtung der Linien ist beim Einsatz dieser
Systeme in den oben genannten Antrieben eine konstruktive Tren
nung der Antriebsachsen notwendig. Außerdem wächst mit zunehmen
der Anforderung an die Genauigkeit dieser Positionierantriebe der
Justageaufwand der Antriebsachsen zueinander.
Lineare Wegmeßsysteme sind für Zweikoordinaten-Positio
nierantriebe, bei denen die Antriebsachsen konstruktiv in einer
Ebene angeordnet sein sollen, daher nicht einsetzbar.
Eine andere Möglichkeit zur Messung der Lage des Kör
pers in der Ebene ist in EP-A1-03 17 787 beschrieben. Der in dieser
Druckschrift gezeigte Zweikoordinaten-Antrieb bewegt sich plan
parallel auf einer Führungsebene. Zur Positionsmessung sind am
Läufer des Antriebs zwei Meßelemente angebracht, die mit in x-
und y-Richtung orientierten langen Stricheinheiten versehen sind.
Gegenüber diesen Meßelementen sind zwei Meßköpfe angeordnet. Je
der Meßkopf tastet die Stricheinheiten einer Richtung ab, wobei
die optronisch arbeitenden Meßköpfe von den Meßelementen stel
lungsabhängige Daten ermitteln und in Signale umwandeln, die den
elektromotorischen Antrieben oder einer Steuereinheit für die An
triebe zugeführt werden. Dieses bekannte System hat den Nachteil,
daß jeder Meßkopf einzeln bezüglich des Meßelements justiert wer
den muß.
Eine weitere Möglichkeit zur Lagemessung in der Ebene
besteht in der Abtastung eines Kreuzrasters als Maßstab. Der
Kreuzraster entsteht durch die Kombination zweier Linienraster
mit einer gleichen Rasterkonstante p oder mit ungleichen Raster
konstanten p und q, wobei zwei Gruppen von langen Linien mit end
licher Breite aufeinander senkrecht stehend auf dem Maßstabträger
aufgebracht werden. Die Rasterkonstante p bzw. q ist der Abstand
zwischen zwei Lücken oder zwei Linien des Rasters. Der Raster
kann symmetrisch aufgebaut sein, d. h. die Breite der Linien und
Lücken ist gleich, oder er kann unsymmetrisch aufgebaut sein.
Ein solcher Kreuzraster-Maßstab gestattet den Aufbau
eines integrierten Zweikoordinaten-Lagemeßsystems. Bei seinem
Einsatz in Positionierantrieben können die Antriebsachsen in
einer Ebene angeordnet werden, und der Läufer des Antriebs kann
sich planparallel in der Führungsebene bewegen.
In der DD-PS 2 39 013 ist eine Einrichtung zur Messung
der Verschiebung eines Körpers in der Ebene unter Verwendung
eines Kreuzrasters beschrieben. Die Abtasteinrichtung besteht aus
zwei lichtelektrischen Abtasteinheiten, deren Mittellinien senk
recht aufeinander stehen. Jede Abtasteinheit verfügt über mehrere
zeilen- oder matrixförmig angeordnete Empfängerelemente. Durch
diese Anordnung der Empfängerelemente ist die Abtasteinrichtung
unempfindlich gegenüber einer ungenauen Justage bezüglich des
Kreuzrasters. Dadurch verursachte Amplitudenunterschiede und Pha
senfehler der elektrischen Signale der Abtasteinrichtung sind mi
nimal.
Nachteilig bei dieser bekannten Einrichtung ist der
verhältnismäßig hohe Aufwand, die Verwendbarkeit der Einrichtung
nur im Durchlicht und die Realisierbarkeit einer akzeptablen Bau
größe nur durch Verwendung eines Halbleiterchips.
Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, ein Zweiko
ordinaten-Wegmeßsystem der im Oberbegriff des Anspruchs 1 genann
ten Art zu schaffen, das sowohl im Durchlicht als auch im Auf
licht arbeiten kann, das im Aufbau einfach ist, und das es ferner
ermöglicht, neben der Funktion der Wegmessung auch die Funktionen
der Erkennung von Endlagen- und Nullpunkt-Positionen zu überneh
men.
Die gestellte Aufgabe wird durch die im Anspruch 1 an
gegebenen Merkmale gelöst.
Vorteilhafte Weiterentwicklungen der Erfindung sind den
Unteransprüchen zu entnehmen.
Die erfindungsgemäße Rasterplatte stellt ein außeror
dentlich einfaches Element dar, das aber trotzdem alle für ein
Zweikoordinaten-Wegmeßsystem notwendigen Meßfunktionen in sich
vereinigt. Aufgrund der konstruktiven Trennung der Abtasteinrich
tung in eine Abtastrasterplatte und eine Ebene, in der die Photo
empfänger bei Durchlichtbetrieb bzw. die Strahlungsquellen (In
frarot-Emitterdioden) bei Auflichtbetrieb angeordnet sind, ist
ein thermisch isolierter Aufbau des Meßsystems möglich, d. h.
thermische Verluste der Strahlungsquellen beeinflussen die Genau
igkeit der Wegmessung nicht.
Die Erfindung wird nachfolgend anhand der beigefügten
Zeichnungen näher erläutert. In den Zeichnungen stellen dar:
Fig. 1 einen Kreuzraster-Maßstab mit einem
vergrößerten Ausschnitt,
Fig. 2 eine schematische perspektivische Dar
stellung des erfindungsgemäßen Meß
sytems,
Fig. 3 eine Draufsicht auf die Abtastraster
platte,
Fig. 4.1 ein Beispiel für den Phasenversatz des
Rasters in den Fenstern einer Gruppe
von zwei Fensterpaaren für eine Koor
dinate,
Fig. 4.2 ein weiteres Beispiel für den Phasen
versatz des Rasters in den Fenstern
einer Gruppe von zwei Fensterpaaren
für eine Koordinate,
Fig. 5 eine schematische perspektivische Dar
stellung eines erfindungsgemäßen, im
Durchlicht arbeitenden Meßsystems und
Fig. 6 eine Draufsicht auf eine Abtastraster
platte mit weiteren Meßfenstern.
Fig. 1 zeigt eine Trägerplatte 1 mit einem darauf an
gebrachten Kreuzraster 14, von dem in Fig. 1 unten ein Ausschnitt
dargestellt ist, aus dem ersichtlich ist, daß es sich um ein sym
metrisches Kreuzraster handelt, bei dem die Rasterkonstante p in
der einen Koordinate gleich der Rasterkonstanten q in der ande
ren, zur ersten Koordinate senkrecht stehenden Koordinate ist,
d. h. die Breite der Linien und Lücken ist gleich. Der Linienra
ster kann jedoch auch unsymmetrisch aufgebaut sein.
Das in Fig. 2 dargestellte Meßsystem besteht aus der
Trägerplatte 1, auf der der Kreuzraster 14 aufgebracht ist, einer
mit Fenstern versehenen Abtastrasterplatte 3 und Photoempfängern
2, die den Fenstern zugeordnet sind. Die Abtastrasterplatte 3 be
findet sich im Abstand h von der Trägerplatte 1, wobei die Trä
gerplatte 1 relativ zur Abtastrasterplatte 3 und den Photoempfän
gern 2 in zwei Freiheitsgraden in einer zur Abtastrasterplatte 3
parallelen Ebene verschiebbar ist.
Die in Fig. 3 in Draufsicht dargestellte Abtastraster
platte 3 besteht aus transparentem Material, z. B. Glas. Auf ihrer
dem Kreuzraster-Maßstab zugekehrten Seite ist bis auf Fenster 4
bis 11, die vorzugsweise eine rechteckige Form aufweisen, eine
lichtundurchlässige Schicht (z. B. Chrom oder Aluminium) oder eine
Schichtfolge, (z. B. Chromoxid-Chrom-Chromoxid), aufgebracht. In
der Abtastrasterplatte 3 sind zwei Gruppen von je zwei Fenster
paaren (4, 5; 6, 7) bzw. (8, 9; 10, 11) angeordet, die licht
durchlässig sind. Die Fenster 4 bis 7 sind jeweils mit einem
Linienraster versehen, das dieselbe Rasterkonstante sowie Linien-
und Lückenbreite der ihnen zugeordneten Koordinate des Kreuzra
sters 14 besitzt. Das gleiche gilt für die Fenster 8 bis 11. Die
Fenster 4 bis 7 sowie die Fenster 8 bis 11 sind so angeordnet,
daß deren Mittellinien A und B senkrecht aufeinander stehen. Die
Mittellinien schneiden sich in einem Punkt. In jeder Koordinate
können die Gruppen von zwei Fensterpaaren symmetrisch oder unsym
metrisch zum Schnittpunkt der Linien A und B liegen. Es kann die
dargestellte kreuzförmige Anordnung der Fenster vorgesehen wer
den. Es sind aber auch andere Konfigurationen möglich, z. B. eine
L-förmige Anordnung. Der Linienraster in den Fenstern 4 bis 7
verläuft parallel zur Mittellinie B der Fenster 8 bis 11, und der
Linienraster in den Fenstern 8 bis 11 verläuft parallel zur
Mittellinie A der Fenster 4 bis 7. Die Linien der Linienraster in
den Fenstern 4 bis 11 bestehen ebenfalls aus einer lichtundurch
lässigen Schicht (z. B. Chrom oder Aluminium) oder einer Schicht
folge (z. B. Chromoxid-Chrom-Chromoxid).
Die Linienraster in den Fenstern 4 bis 7 bzw. 8 bis 11
sind zueinander phasenversetzt aufgebracht. Eine Möglichkeit
zeigt Fig. 4.1. Der Abstand zwischen einer beliebigen Linie des
Linienrasters in einem der Fenster 4 bis 7 und einer beliebigen
Linie des Linienrasters in einem anderen der Fenster 4 bis 7 kann
ein ganzzahliges Vielfaches des Wertes der Rasterkonstanten p
addiert mit einem Viertel des Wertes der Rasterkonstanten p be
tragen. K, m und n sind ganze Zahlen.
Eine weitere Möglichkeit zeigt Fig. 4.2. Der Abstand
zwischen einer beliebigen Linie des Rasters im Fenster 4′ und
einer beliebigen Linie im Fenster 7′ beträgt ein ganzzahliges
Vielfaches der Rasterkonstanten p addiert mit der Hälfte des Wer
tes der Rasterkonstanten p. Dies gilt auch für den Versatz zwi
schen den Fenstern 5′ und 6′. Der Versatz des Linienrasters zwi
schen den Fenstern 4′ und 5′ beträgt ein Viertel der Rasterkon
stanten p.
Die zuvor gemachten Aussagen über den Phasenversatz des
Linienrasters in den Fenstern 4 bis 7 bzw. 4′ bis 7′ gelten eben
falls für die Fenster 8 bis 11 bzw. 8′ bis 11′.
Mit den beschriebenen Fenstern kann der Kreuzraster-
Maßstab 14 im Durch- oder Auflicht abgetastet werden. Die Funk
tionsweise für ein Durchlicht-Meßsystem soll im folgenden anhand
von Fig. 5 erläutert werden, in der das System schematisch darge
stellt ist. Das System besteht aus einer Beleuchtungsquelle 12,
einem Kondensor 13, dem Kreuzraster-Maßstab 14, der Abtastraster
platte 3 und den Photoempfängern 16. Der Maßstab 14 ist gegenüber
der Beleuchtungsquelle 12, dem Kondensor 13, der Abtastraster
platte 15 und den Photoempfängern 16 beweglich angeordnet. Die
Abtastrasterplatte mit den Photoempfängern ist gegenüber dem
Kreuzraster-Maßstab so auszurichten, daß die Linien des Linien
rasters in den Fenstern 4 bis 11 der Abtastrasterplatte parallel
zu den Linien des Kreuzrasters verlaufen. Der Phasenversatz des
Linienrasters in den Fenstern 4 bis 11 der Abtastrasterplatte 3
ist dabei so gewählt wie sie in Fig. 4.1 gezeigt ist.
Es ergeben sich bei den nachfolgend beschriebenen Po
sitionen die folgenden Signale:
- a) Den Linien des Linienrasters in den Fenstern 4 und 8 stehen Linien des Kreuzrasters gegenüber, d. h. die Fenster sind hell (Signal = 1),
- b) die Lücken des Linienrasters in den Fenstern 5 und 9 sowie 7 und 11 sind jeweils zur Hälfte ihrer Breite durch die Linien des Kreuzrasters abgedeckt (Signal=0.5) und
- c) die Lücken des Linienrasters in den Fenstern 6 und 10 sind in ihrer ganzen Breite durch die Linien des Kreuzrasters ab gedeckt (Signal=0).
Bewegt sich der Maßstab in X-Richtung um den Betrag X=p (p ent
spricht der Rasterkonsten) in Schritten von X=0.25*p zur Ab
tasteinrichtung, so ändern sich die Beleuchtungsverhältnisse in
den einzelnen Fenstern 4 bis 11 entsprechend den in Tafel 1 an
gegebenen Signalverläufen.
Der Verlauf der Beleuchtungsverhältnisse in den Fen
stern 4 bis 11 für eine Verschiebung des Maßstabes in Y-Richtung
ist in Tafel 2 gezeigt.
Bewegt sich der Maßstab von der beschriebenen Ausgangs
position gleichzeitig in X- und Y-Richtung, so ergibt sich der in
Tafel 3 angegebene Verlauf der Beleuchtungsverhältnisse in den
einzelnen Fenstern.
Der Verlauf der Beleuchtungsverhältnisse in den Fen
stern 4 bis 11 wird mit Hilfe der Photoempfänger 16 in elektri
sche Signale gewandelt, und diese können dann mit den entspre
chenden Verfahren, die z. B. auch bei linearen photoelektrischen
inkrementalen Wegmeßsystemen üblich sind, weiterverarbeitet wer
den.
Beim Einsatz einer Abtastrasterplatte mit dem in
Fig. 4.2 gezeigten Phasenversatz des Linienrasters in den Fen
stern 4′ bis 11′ entsprechen die Verläufe der Beleuchtungsver
hältnisse in den Fenstern 4, 5 bzw. 8, 9 denen in den Fenstern
4′, 5′ bzw. 8′, 9′, jedoch der Verlauf im Fenster 7 dem im Fen
ster 6′ sowie der im Fenster 11 dem im Fenster 10′.
Bei einem Auflichtsystem sind gegenüber dem beschrie
benen Durchlichtsystem anstelle der Photoempfänger jeweils ein
Photoempfänger und eine Beleuchtungsquelle, z. B. eine LED, vorge
sehen. Die Photoempfänger wandeln das von den Linien des Kreuz
rasters reflektierte Licht in elektrische Signale um. Beleuch
tungsquelle 12 und Kondensor 13 entfallen in einem Auflicht
system.
Inkrementale Wegmeßsysteme sind relative Meßsysteme,
d. h. zur Bestimmung der absoluten Position eines Objektes ist es
notwendig, sogenannte Referenzpunkte zu detektieren, deren abso
lute Position bekannt ist. Für hochdynamische Positionierantriebe
ist weiterhin das sichere Erkennen von Endlagen sehr wichtig.
Diese beiden Funktionen lassen sich ebenfalls in die
Abtastrasterplatte integrieren. Fig. 6 zeigt schematisch den Auf
bau einer solchen Platte.
Außer den aus Fig. 3 bekannten Fenstern 4 bis 11 sind
zum Detektieren der Endlagen die Fenster 19, 20, 23, 24, 27, 31,
32 und 35 vorgesehen. Sie können z. B. transparent sein. Eine de
finierte Kante des Kreuzraster-Maßstabes läßt sich somit leicht
erkennen.
Die Fenster 17, 18, 21, 22, 29, 30, 33 und 34, in denen
z. B. eine spezielle Rasterstruktur angeordnet sein kann, dienen
zum Erkennen eines oder mehrerer Referenzpunkte. Ist z. B. die
spezielle Rasterstruktur auf dem Kreuzraster ebenfalls vorhanden,
so kann sehr genau, z. B. bei Überdeckung der beiden Rasterstruk
turen, ein Referenzpunkt definiert werden.
Zur Gewinnung spezieller elektrischer Referenzsignale,
die für die elektronische Weiterverarbeitung der bei der Abta
stung gewonnenen elektrischen Signale notwendig sein können, sind
die Fenster 25, 26, 28 und 36 auf der Abtastrasterplatte 15 vor
gesehen. Diese Fenster können z. B. transparent oder mit einer
speziellen Rasterstruktur versehen sein. Durch eine spezielle
Rasterstruktur, die als Blende für den Photoempfänger wirkt, läßt
sich der Pegel des Referenzsignals festlegen. Änderungen der Be
leuchtungsstärke der Photoempfänger können so erkannt und ausge
glichen werden.
Zur einfacheren Montage der Abtasteinrichtung können
auf der Abtastrasterplatte 15 ferner eine oder mehrere Justier
marken angeordnet werden, wie sie z. B. in den Fenstern 37 bis 39
zu sehen sind.
Mit Hilfe der beschriebenen Abtastrasterplatte, die
alle Funktionen für die Messung beinhaltet, die auf einfache Wei
se herstellbar ist und nur wenig Raum einnimmt, ist es möglich,
sehr kompakte Meßanordnungen für integrierte Zweikoordinaten-
Wegmeßsysteme zu bauen.
Claims (11)
1. Zweikoordinaten-Wegmeßsystem für eine Vorrichtung zur
Durchführung von Bewegungen eines Körpers in einer Ebene, mit
einer photoelektrisch inkremental arbeitenden Abtasteinrichtung,
die ein Kreuzraster als Maßstab und eine relativ zu diesem be
wegbare Meßanordnung enthält, dadurch gekennzeichnet, daß die
Meßanordnung eine mit Ausnahme von zwei Gruppen von je zwei Fen
sterpaaren (4, 5 bzw. 6, 7; 8, 9 bzw. 10, 11) lichtundurchlässige
Abtastrasterplatte (3, 15) aufweist, daß die Mittellinie (A)
einer Gruppe von zwei Fensterpaaren (4, 5 bzw. 6, 7) die Mittel
linie (B) der anderen Gruppe von zwei Fensterpaaren (8, 9 bzw. 10,
11) im rechten Winkel schneidet und die Paare jeder Gruppe einan
der beidseits des Schnittpunktes der Mittellinie (A, B) gegen
überliegt, daß die Fenster (4 bis 11) mit einem Linienraster ver
sehen sind, der dieselbe Rasterkonstante (p) sowie Linien- und
Lückenbreite der ihnen zugeordneten Koordinate des Kreuzrasters
(14) besitzt, und daß die Linienraster in den Fenstern jeder
Gruppe von Fensterpaaren von Fenster zu Fenster um einen Bruch
teil der Rasterkonstanten (p) versetzt zueinander angeordnet
sind.
2. Meßsystem nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß
die Abtastrasterplatte (3, 15) aus transparentem Material besteht
und auf ihrer dem Kreuzraster-Maßstab (15) zugekehrten Seite mit
Ausnahme der Fenster (4 bis 11) mit einer lichtundurchlässigen
Schicht oder Schichtfolge versehen ist, und daß die Linien des
Linienrasters in den Fenstern ebenfalls aus einer lichtundurch
lässigen Schicht oder Schichtfolge bestehen.
3. Meßsystem nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß
die Schicht aus Chrom oder Aluminium besteht.
4. Meßsystem nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß
die Schichtfolge aus Chromoxid-Chrom-Chromoxid besteht.
5. Meßsystem nach einem der vorhergehenden Ansprüche,
dadurch gekennzeichnet, daß der Versatz der Linienraster zwischen
den Fenstern, die einer Koordinate zugeordnet sind, ein Viertel
des Wertes der Rasterkonstanten (p) beträgt.
6. Meßsystem nach einem der Ansprüche 1 bis 4, dadurch
gekennzeichnet, daß der Versatz der Linienraster zwischen den
Fenstern, die einer Koordinate zugeordnet sind, die Hälfte des
Wertes der Rasterkonstanten (p) zwischen dem ersten und vierten
sowie dem zweiten und dritten Fenster, und ein Viertel der
Rasterkonstanten (p) zwischen dem ersten und zweiten sowie zwi
schen dem dritten und vierten Fenster beträgt.
7. Meßsystem nach einem der vorhergehenden Ansprüche,
dadurch gekennzeichnet, daß in der Abtastrasterplatte (15) je
Koordinate wenigstens ein weiteres Fenster (19, 20, 23, 24, 27,
31, 32, 35) zur Feststellung der Endlagenposition angeordnet ist.
8. Meßsystem nach einem der vorhergehenden Ansprüche,
dadurch gekennzeichnet, daß in der Abtastrasterplatte (15) je
Koordinate wenigstens ein weiteres Fenster (17, 18, 21, 22, 29,
30, 33, 34) zur Definition von Referenzpunkten für das relativ
arbeitende inkrementale Meßsystem angeordnet ist.
9. Meßsystem nach einem der vorhergehenden Ansprüche,
dadurch gekennzeichnet, daß in der Abtastrasterplatte (15) je
Koordinate wenigstens ein weiteres Fenster (25, 26, 28, 36) zur
Gewinnung elektrischer Referenzsignale angeordnet ist.
10. Meßsystem nach Anspruch 6 bis 9, dadurch gekennzeich
net, daß die zusätzlichen Fenster transparent oder mit Raster-
bzw. Linienstrukturen versehen sind.
11. Meßsystem nach einem der vorhergehenden Ansprüche,
dadurch gekennzeichnet, daß auf der Abtastrasterplatte (15)
Fenster (36, 37, 38, 39) mit Justiermarken vorgesehen sind.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE19924206544 DE4206544A1 (de) | 1992-03-02 | 1992-03-02 | Zweikoordinaten-wegmesssystem |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE19924206544 DE4206544A1 (de) | 1992-03-02 | 1992-03-02 | Zweikoordinaten-wegmesssystem |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE4206544A1 true DE4206544A1 (de) | 1993-09-09 |
Family
ID=6453047
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE19924206544 Withdrawn DE4206544A1 (de) | 1992-03-02 | 1992-03-02 | Zweikoordinaten-wegmesssystem |
Country Status (1)
Country | Link |
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