JPH04261058A - 半導体素子のトリミング方法 - Google Patents

半導体素子のトリミング方法

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Publication number
JPH04261058A
JPH04261058A JP3007413A JP741391A JPH04261058A JP H04261058 A JPH04261058 A JP H04261058A JP 3007413 A JP3007413 A JP 3007413A JP 741391 A JP741391 A JP 741391A JP H04261058 A JPH04261058 A JP H04261058A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
trimming
temperature compensation
compensation resistor
semiconductor device
circuit
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP3007413A
Other languages
English (en)
Inventor
Masanori Tomioka
昌則 冨岡
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsubishi Electric Corp
Original Assignee
Mitsubishi Electric Corp
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Filing date
Publication date
Application filed by Mitsubishi Electric Corp filed Critical Mitsubishi Electric Corp
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Publication of JPH04261058A publication Critical patent/JPH04261058A/ja
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】この発明は半導体素子、例えばハ
イブリッドICの特性を調整する場合などに用いられる
レーザートリミング方法に関し、特に温度補償用抵抗を
もつ素子に適用されるトリミング方法に関する。
【0002】
【従来の技術】従来行われているこの種のトリミング方
法を図2を用いて説明する。同図において1はハイブリ
ッドICの厚膜基板、2はその上に形成された温度補償
用抵抗、3は同じく厚膜基板1の上に形成されたトリミ
ング用の厚膜抵抗を示す。
【0003】トリミングに際しては、はじめにこのハイ
ブリッドICを動作状態としておき、調整箇所の電圧値
をモニターしつつ、トリミング用の厚膜抵抗3の端部を
レーザーにより少しだけ焼き切る。これにより厚膜抵抗
3の抵抗値が増大し出力電圧値が変化する。このとき同
時に、レーザーの熱により温度補償用抵抗2が熱せられ
特性に変動が起こる。そこで厚膜基板1の温度が下がり
その影響が小さくなるのを待って再び厚膜抵抗3を焼き
切る。以上の作業を繰り返し行い、出力電圧値が所定の
目標値になったところでトリミングを終了する。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】上述した従来のレーザ
ートリミング方法では、少しトリミングを行っては基板
の温度が下がるのを待ち、また少しトリミングを行うと
いうことの繰り返しによるため、長時間を要し、しかも
なお温度補償用抵抗の影響を完全には除去し切れず精度
も良くなかった。この発明の目的は、レーザーの熱によ
る特性の変動を極力抑えて、特性が安定するまでの時間
を短縮するとともにトリミング精度を向上させることに
ある。
【0005】
【課題を解決するための手段】この発明は、トリミング
に際し素子基板上の温度補償用抵抗を回路から切り離し
、代わりの温度補償用抵抗を外付けした状態でトリミン
グを行うものである。
【0006】
【作用】トリミングの間、回路に接続されている温度補
償用抵抗は、外付けされたものであるためレーザーの熱
の影響を直接受けることがなく、素子の特性を大きく変
化させることがない。一方、素子基板上の温度補償用抵
抗は回路から切り離されており、その影響は除外できる
【0007】
【実施例】図1はこの発明の一実施例を示すハイブリッ
ドICの構成図であり、図2と同一符号は同一もしくは
相当部分を示す。本実施例では、厚膜基板1上に形成さ
れた温度補償用抵抗2は回路から切り離すことが可能な
構成を有し、またその代わりに温度補償用抵抗4を外部
から接続できるようにしてある。トリミング処理は次の
ように行われる。
【0008】厚膜基板1上の温度補償用抵抗2を図示の
ようにオープンにし、同じく図示のように外部回路とし
て温度補償用抵抗3を接続する。この状態でICを動作
状態とし、調整箇所の電圧値をモニターしつつ厚膜抵抗
3の端部を少しだけレーザーで焼き切る。これにより厚
膜抵抗3の抵抗値が増大し、出力電圧値が変化する。こ
のとき温度補償用抵抗4は厚膜基板1上にないため、レ
ーザーの熱による特性の変動はあまりない。一方、厚膜
基板1上の温度補償用抵抗2は回路から切り離されてい
るため特性に影響を及ぼさない。このため、従来のよう
に基板が冷えるのを待つことなく続けて上述した作業を
繰り返し行い、しかも精度の良いトリミングが行える。
【0009】出力電圧値が目標となったところでトリミ
ングを終了する。その後で本来の温度補償用抵抗2を回
路に接続するとともに外付けの温度補償用抵抗4を外す
【0010】
【発明の効果】以上のようにこの発明によれば、素子基
板上の温度補償用抵抗を回路から切り離し、代わりの温
度補償用抵抗を外付けした状態でトリミングを行うこと
により、短時間にしかも精度の良いトリミングが行える
効果がある。
【図面の簡単な説明】
【図1】ハイブリッドICのトリミング回路を示した構
成図である。
【図2】この発明によらない従来のトリミング方法に係
わるトリミング回路の一例を示した構成図である。
【符号の説明】
1    厚膜基板 2,4    温度補償用抵抗 3    トリミング用の厚膜抵抗

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】  素子を動作状態にし、調整箇所の出力
    電圧値をモニターしながら調整箇所の回路パターンにレ
    ーザー加工を施し、上記出力電圧値が目標値になるまで
    トリミングを行う半導体素子のトリミング方法において
    、素子基板上の温度補償用抵抗を回路から切り離し、代
    わりの温度補償用抵抗を外付けした状態でトリミングを
    行うことを特徴とする半導体素子のトリミング方法。
JP3007413A 1991-01-25 1991-01-25 半導体素子のトリミング方法 Pending JPH04261058A (ja)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008512872A (ja) * 2004-09-13 2008-04-24 エレクトロ サイエンティフィック インダストリーズ インコーポレーテッド 抵抗器へのレーザートリミングの間の熱電気ポテンシャルの解析方法

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP2008512872A (ja) * 2004-09-13 2008-04-24 エレクトロ サイエンティフィック インダストリーズ インコーポレーテッド 抵抗器へのレーザートリミングの間の熱電気ポテンシャルの解析方法
JP4785854B2 (ja) * 2004-09-13 2011-10-05 エレクトロ サイエンティフィック インダストリーズ インコーポレーテッド 抵抗器へのレーザートリミングの間の熱電気ポテンシャルの解析方法
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