JPH1064708A - 抵抗体のトリミング方法 - Google Patents
抵抗体のトリミング方法Info
- Publication number
- JPH1064708A JPH1064708A JP8260093A JP26009396A JPH1064708A JP H1064708 A JPH1064708 A JP H1064708A JP 8260093 A JP8260093 A JP 8260093A JP 26009396 A JP26009396 A JP 26009396A JP H1064708 A JPH1064708 A JP H1064708A
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- JP
- Japan
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- value
- resistor
- resistance
- trimming
- laser beam
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- Laser Beam Processing (AREA)
- Apparatuses And Processes For Manufacturing Resistors (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 抵抗値の微調整が図れ、高精度の抵抗器を得
る抵抗体のトリミング方法を提供すること。 【解決手段】 絶縁性基板１上に形成した膜状の抵抗体
３にＸ軸方向とＹ軸方向にレーザビームを走査して照射
し、抵抗値を調整する際、抵抗値が目標値に近づいた時
点でＹ軸ドライバ９及びＹ軸ミラー１１を駆動してＹ軸
方向にレーザビームを走査するとともに、測定装置５で
測定した抵抗値の変化量をコントローラ７で算出し、予
め設定された抵抗値の上昇率の最大値と最小値と比較
し、変化量が最大値よりも大きいとき、Ｘ軸ドライバ８
及びＸ軸ミラー１０を駆動してレーザビームの走査を抵
抗値の減少方向に、また、変化量が前記最小値よりも小
さいとき、Ｘ軸ドライバ８及びＸ軸ミラー１０を駆動し
てレーザビームの走査を抵抗値の増加方向に走査し抵抗
値変化量を小さくして徐々に目標値に近づける。
る抵抗体のトリミング方法を提供すること。 【解決手段】 絶縁性基板１上に形成した膜状の抵抗体
３にＸ軸方向とＹ軸方向にレーザビームを走査して照射
し、抵抗値を調整する際、抵抗値が目標値に近づいた時
点でＹ軸ドライバ９及びＹ軸ミラー１１を駆動してＹ軸
方向にレーザビームを走査するとともに、測定装置５で
測定した抵抗値の変化量をコントローラ７で算出し、予
め設定された抵抗値の上昇率の最大値と最小値と比較
し、変化量が最大値よりも大きいとき、Ｘ軸ドライバ８
及びＸ軸ミラー１０を駆動してレーザビームの走査を抵
抗値の減少方向に、また、変化量が前記最小値よりも小
さいとき、Ｘ軸ドライバ８及びＸ軸ミラー１０を駆動し
てレーザビームの走査を抵抗値の増加方向に走査し抵抗
値変化量を小さくして徐々に目標値に近づける。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、セラミック基板な
どの絶縁性基板上に形成された膜状の抵抗体にレーザ光
線を照射して抵抗値を調整する抵抗体のトリミング方法
に関する。
どの絶縁性基板上に形成された膜状の抵抗体にレーザ光
線を照射して抵抗値を調整する抵抗体のトリミング方法
に関する。
【０００２】
【従来の技】セラミック基板などの絶縁性基板上に膜状
の抵抗体を形成し、この抵抗体の抵抗値を所望の値に設
定するために、レーザ光線を抵抗体に照射して、レーザ
光線の照射された部分の抵抗体を焼失させることにより
行なわれている。図５は、レーザ光線を照射して抵抗値
が調整された従来の一例の抵抗器の平面図であり、絶縁
基板１上に形成した膜状の抵抗体３にレーザ光線を照射
して「Ｌ」字形のトリミング跡４が形成されている。
の抵抗体を形成し、この抵抗体の抵抗値を所望の値に設
定するために、レーザ光線を抵抗体に照射して、レーザ
光線の照射された部分の抵抗体を焼失させることにより
行なわれている。図５は、レーザ光線を照射して抵抗値
が調整された従来の一例の抵抗器の平面図であり、絶縁
基板１上に形成した膜状の抵抗体３にレーザ光線を照射
して「Ｌ」字形のトリミング跡４が形成されている。
【０００３】この図５を参照して従来の抵抗体のトリミ
ング方法について説明すると、まず、セラミック基板な
どの絶縁性基板１上に所定の間隔をもって一対の電極２
ａ，２ｂを形成し、この一対の電極２ａ，２ｂにまたが
って例えば厚膜法などにより抵抗体３を形成する。
ング方法について説明すると、まず、セラミック基板な
どの絶縁性基板１上に所定の間隔をもって一対の電極２
ａ，２ｂを形成し、この一対の電極２ａ，２ｂにまたが
って例えば厚膜法などにより抵抗体３を形成する。
【０００４】次いで、この抵抗体３の抵抗値が所望の値
（目標値）になるようにトリミングするトリミング工程
に移行し、図示しないレーザビームを抵抗体３の端縁か
ら抵抗体３の幅方向（Ｘ軸方向）に走査して、この抵抗
体３のＸ軸方向に目標値の近くまで焼失させる。つづい
てレーザビームを抵抗体３のＹ軸方向（抵抗体３の長さ
方向）に走査して、抵抗体３のＹ軸方向に所定の寸法焼
失させ、再びレーザビームを抵抗体３のＸ軸方向に走査
して、抵抗体３のＸ軸方向に所定の寸法焼失させ、次い
でＹ軸方向へと、以下、Ｘ軸方向Ｙ軸方向と走査を繰り
返して抵抗体３の抵抗値を目標値に調整する。
（目標値）になるようにトリミングするトリミング工程
に移行し、図示しないレーザビームを抵抗体３の端縁か
ら抵抗体３の幅方向（Ｘ軸方向）に走査して、この抵抗
体３のＸ軸方向に目標値の近くまで焼失させる。つづい
てレーザビームを抵抗体３のＹ軸方向（抵抗体３の長さ
方向）に走査して、抵抗体３のＹ軸方向に所定の寸法焼
失させ、再びレーザビームを抵抗体３のＸ軸方向に走査
して、抵抗体３のＸ軸方向に所定の寸法焼失させ、次い
でＹ軸方向へと、以下、Ｘ軸方向Ｙ軸方向と走査を繰り
返して抵抗体３の抵抗値を目標値に調整する。
【０００５】図６は、横軸に時間（ｔ）を取り、縦軸に
抵抗値（Ω）を取り、このトリミング方法により、抵抗
体３の抵抗値を調整した場合の一例の抵抗値の上昇カー
ブを示している。簡単に説明すれば、時間ｔ０でＸ軸方
向のトリミングが開始され時間ｔ１で抵抗体３の抵抗値
が目標値に近づくと、この時点でＹ軸方向へのトリミン
グに切り換えられる。この切換えによって抵抗値の変化
はＸ軸方向のトリミング時よりも時間に対して小さくな
って目標値に近づく。
抵抗値（Ω）を取り、このトリミング方法により、抵抗
体３の抵抗値を調整した場合の一例の抵抗値の上昇カー
ブを示している。簡単に説明すれば、時間ｔ０でＸ軸方
向のトリミングが開始され時間ｔ１で抵抗体３の抵抗値
が目標値に近づくと、この時点でＹ軸方向へのトリミン
グに切り換えられる。この切換えによって抵抗値の変化
はＸ軸方向のトリミング時よりも時間に対して小さくな
って目標値に近づく。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】上記のトリミング方法
は、Ｙ軸方向へのトリミング時の抵抗値の変化がＸ軸方
向のトリミング時よりも時間に対して小さいことを利用
して、目標値の近辺で時間に対する抵抗値の変化を小さ
くして抵抗体３の抵抗値を目標抵抗値に調整するもので
あるが、抵抗体３の抵抗値を目標値に正確に調整するに
は、時間に対しての抵抗値の変化は依然として大きく、
このトリミング方法で抵抗値の微調整すなわち高精度の
トリミングを行なうことは困難なものである。
は、Ｙ軸方向へのトリミング時の抵抗値の変化がＸ軸方
向のトリミング時よりも時間に対して小さいことを利用
して、目標値の近辺で時間に対する抵抗値の変化を小さ
くして抵抗体３の抵抗値を目標抵抗値に調整するもので
あるが、抵抗体３の抵抗値を目標値に正確に調整するに
は、時間に対しての抵抗値の変化は依然として大きく、
このトリミング方法で抵抗値の微調整すなわち高精度の
トリミングを行なうことは困難なものである。
【０００７】本発明は、このような実状に鑑みなされた
もので、抵抗値の微調整が図れ、高精度の抵抗器を得る
ことのできる抵抗体のトリミング方法を提供することを
目的とする。
もので、抵抗値の微調整が図れ、高精度の抵抗器を得る
ことのできる抵抗体のトリミング方法を提供することを
目的とする。
【０００８】
【課題を解決するための手段】本発明の目的は、絶縁性
基板上に形成された膜状の抵抗体の抵抗値をレーザビー
ムの走査により調整する抵抗体のトリミング方法におい
て、予め抵抗値の上昇率の最大値と最小値とを設定し、
トリミング時の抵抗値の変化量と前記最大値と最小値と
を比較し、前記変化量が前記最大値よりも大きいとき、
前記レーザビームの走査を抵抗値の減少方向に、また、
前記変化量が前記最小値よりも小さいとき、前記レーザ
ビームの走査を抵抗値の増加方向に走査してなることを
特徴とする抵抗体のトリミング方法とすることによって
達成される。
基板上に形成された膜状の抵抗体の抵抗値をレーザビー
ムの走査により調整する抵抗体のトリミング方法におい
て、予め抵抗値の上昇率の最大値と最小値とを設定し、
トリミング時の抵抗値の変化量と前記最大値と最小値と
を比較し、前記変化量が前記最大値よりも大きいとき、
前記レーザビームの走査を抵抗値の減少方向に、また、
前記変化量が前記最小値よりも小さいとき、前記レーザ
ビームの走査を抵抗値の増加方向に走査してなることを
特徴とする抵抗体のトリミング方法とすることによって
達成される。
【０００９】また、本発明の目的は、絶縁性基板上に形
成された膜状の抵抗体の抵抗値をレーザビームの走査に
より調整する抵抗体のトリミング方法において、予め抵
抗値の上昇率の最大値と最小値と目標値より小さい微調
整目標値とを設定し、トリミング時の抵抗値が前記微調
整目標値に到達したときから、トリミング時の抵抗値の
変化量と前記最大値と最小値とを比較し、前記変化量が
前記最大値よりも大きいとき、前記レーザビームの走査
を抵抗値の減少方向に、また、前記変化量が前記最小値
よりも小さいとき、前記レーザビームの走査を抵抗値の
増加方向に走査してなることを特徴とする抵抗体のトリ
ミング方法とすることによって達成される。
成された膜状の抵抗体の抵抗値をレーザビームの走査に
より調整する抵抗体のトリミング方法において、予め抵
抗値の上昇率の最大値と最小値と目標値より小さい微調
整目標値とを設定し、トリミング時の抵抗値が前記微調
整目標値に到達したときから、トリミング時の抵抗値の
変化量と前記最大値と最小値とを比較し、前記変化量が
前記最大値よりも大きいとき、前記レーザビームの走査
を抵抗値の減少方向に、また、前記変化量が前記最小値
よりも小さいとき、前記レーザビームの走査を抵抗値の
増加方向に走査してなることを特徴とする抵抗体のトリ
ミング方法とすることによって達成される。
【００１０】本発明の特徴によれば、抵抗値の上昇率の
最大値と最小値を設定しておき、トリミング時の抵抗値
の変化量と比較して、トリミングが実行されるので、ト
リミング時の抵抗値の変化量を任意に設定することがで
きる。従って、抵抗値の目標値の近辺から抵抗値の微調
整を図る場合、最大値と最小値を小さく設定して抵抗値
の変化量を小さくすることができるので、抵抗体の抵抗
値を目標抵抗値に正確に調整することが可能になる。
最大値と最小値を設定しておき、トリミング時の抵抗値
の変化量と比較して、トリミングが実行されるので、ト
リミング時の抵抗値の変化量を任意に設定することがで
きる。従って、抵抗値の目標値の近辺から抵抗値の微調
整を図る場合、最大値と最小値を小さく設定して抵抗値
の変化量を小さくすることができるので、抵抗体の抵抗
値を目標抵抗値に正確に調整することが可能になる。
【００１１】
【発明の実施の形態】以下、本発明に係る抵抗体のトリ
ミング方法の実施の形態について図を参照して説明す
る。図１は本発明に係る抵抗体のトリミング方法に適用
されるレーザトリミング制御回路の構成を示すブロック
図、図２は本発明に係るトリミング方法によりトリミン
グされた一例の抵抗体の平面図、図３は図１のトリミン
グ制御回路の動作を示す流れ図、図４は本発明に係る抵
抗体のトリミング方法における目標値付近の時間対抵抗
値の関係を示す説明図である。
ミング方法の実施の形態について図を参照して説明す
る。図１は本発明に係る抵抗体のトリミング方法に適用
されるレーザトリミング制御回路の構成を示すブロック
図、図２は本発明に係るトリミング方法によりトリミン
グされた一例の抵抗体の平面図、図３は図１のトリミン
グ制御回路の動作を示す流れ図、図４は本発明に係る抵
抗体のトリミング方法における目標値付近の時間対抵抗
値の関係を示す説明図である。
【００１２】図１において、１はセラミック基板などの
絶縁性基板、２ａ，２ｂは一対の電極、３は抵抗体であ
り、これらは図６を参照して説明した抵抗器と同様に構
成されている。５は測定装置、６ａ，６ｂは測定端子、
７はコントローラ、８はＸ軸ドライバー、９はＹ軸ドラ
イバー、１０はＸ軸ミラー、１１はＹ軸ミラーである。
絶縁性基板、２ａ，２ｂは一対の電極、３は抵抗体であ
り、これらは図６を参照して説明した抵抗器と同様に構
成されている。５は測定装置、６ａ，６ｂは測定端子、
７はコントローラ、８はＸ軸ドライバー、９はＹ軸ドラ
イバー、１０はＸ軸ミラー、１１はＹ軸ミラーである。
【００１３】Ｘ軸ミラー１０及びＹ軸ミラー１１はそれ
ぞれＸ軸ドライバー８及びＹ軸ドライバー９により駆動
され、レーザビームを、図２に示すように、抵抗体３の
幅方向であるＸ軸方向及び抵抗体３の長さ方向であるＹ
軸方向に走査するように構成されている。
ぞれＸ軸ドライバー８及びＹ軸ドライバー９により駆動
され、レーザビームを、図２に示すように、抵抗体３の
幅方向であるＸ軸方向及び抵抗体３の長さ方向であるＹ
軸方向に走査するように構成されている。
【００１４】測定装置５は、その入力端には、一対の電
極２ａ，２ｂのそれぞれに点接触された一対の測定端子
６ａ，６ｂの出力端が接続され、レーザビームの照射に
よるトリミング時の刻々の抵抗値を測定して、測定した
アナログ測定値をデジタル測定値に変換してコントロー
ラ７に出力するように構成されている。
極２ａ，２ｂのそれぞれに点接触された一対の測定端子
６ａ，６ｂの出力端が接続され、レーザビームの照射に
よるトリミング時の刻々の抵抗値を測定して、測定した
アナログ測定値をデジタル測定値に変換してコントロー
ラ７に出力するように構成されている。
【００１５】コントローラ７は、目標値及び目標値の近
く例えば９０パーセント（数値は適宜である。）の抵抗
値（以下、「微調整目標値」という。）並びに図４の点
線２３，２４で示すように、予め単位時間当たりの抵抗
値の上昇率の最大値αと最小値βが設定されてあり、測
定装置５から出力される測定値を入力してこれらの値と
比較し、Ｘ軸ドライバー８及びＹ軸ドライバー９に出力
するように構成されている。
く例えば９０パーセント（数値は適宜である。）の抵抗
値（以下、「微調整目標値」という。）並びに図４の点
線２３，２４で示すように、予め単位時間当たりの抵抗
値の上昇率の最大値αと最小値βが設定されてあり、測
定装置５から出力される測定値を入力してこれらの値と
比較し、Ｘ軸ドライバー８及びＹ軸ドライバー９に出力
するように構成されている。
【００１６】抵抗体３のトリミングが開始されると、Ｘ
軸ドライバー８が駆動され、Ｘ軸ミラー１０によってレ
ーザビームは抵抗体３の抵抗値が増加するＸ軸方向に走
査され、抵抗体３はそのレーザビームが照射された部分
を焼失して（図２の４ａ）抵抗値は増加する。測定装置
５からの測定値が微調整目標値に到達すると、コントロ
ーラ７はＸ軸ドライバー８の駆動からＹ軸ドライバー９
の駆動に切り換え、レーザビームの走査をＹ軸方向に切
り換え、抵抗体３はそのレーザビームが照射された部分
を焼失して抵抗値は増加する。
軸ドライバー８が駆動され、Ｘ軸ミラー１０によってレ
ーザビームは抵抗体３の抵抗値が増加するＸ軸方向に走
査され、抵抗体３はそのレーザビームが照射された部分
を焼失して（図２の４ａ）抵抗値は増加する。測定装置
５からの測定値が微調整目標値に到達すると、コントロ
ーラ７はＸ軸ドライバー８の駆動からＹ軸ドライバー９
の駆動に切り換え、レーザビームの走査をＹ軸方向に切
り換え、抵抗体３はそのレーザビームが照射された部分
を焼失して抵抗値は増加する。
【００１７】このレーザビームの走査をＹ軸方向に切り
換えた時点、すなわち抵抗体３の抵抗値が微調整目標値
に到達した時点からコントローラ７は、図３の流れ図に
示すように、測定装置５からの測定値に基づいて単位時
間当たりの抵抗値変化量ΔＲを算出して（Ｓ４）、抵抗
値上昇率の最大値αと比較し（Ｓ４）、抵抗値変化量Δ
Ｒが最大値αよりも大きい場合には、Ｘ軸ドライバー９
の駆動を行ない、最初の抵抗値が増加するＸ軸方向とは
逆方向、つまりに抵抗値が減少するＸ軸方向へレーザビ
ームの走査を行なう（Ｓ７）。
換えた時点、すなわち抵抗体３の抵抗値が微調整目標値
に到達した時点からコントローラ７は、図３の流れ図に
示すように、測定装置５からの測定値に基づいて単位時
間当たりの抵抗値変化量ΔＲを算出して（Ｓ４）、抵抗
値上昇率の最大値αと比較し（Ｓ４）、抵抗値変化量Δ
Ｒが最大値αよりも大きい場合には、Ｘ軸ドライバー９
の駆動を行ない、最初の抵抗値が増加するＸ軸方向とは
逆方向、つまりに抵抗値が減少するＸ軸方向へレーザビ
ームの走査を行なう（Ｓ７）。
【００１８】また、抵抗値変化量ΔＲが最大値α以下の
場合には、抵抗値変化量ΔＲと最小値βとを比較し（Ｓ
８）、抵抗値変化量ΔＲが最小値βよりも小さい場合に
は、Ｘ軸ドライバー９の駆動を行ない、抵抗値が増加す
るＸ軸方向へレーザビームの走査を行なう（Ｓ９）。抵
抗値変化量ΔＲが最大値αと最小値βの間にあるときに
は、レーザビームのＹ軸方向の走査をそのまま続行する
（Ｓ３）。
場合には、抵抗値変化量ΔＲと最小値βとを比較し（Ｓ
８）、抵抗値変化量ΔＲが最小値βよりも小さい場合に
は、Ｘ軸ドライバー９の駆動を行ない、抵抗値が増加す
るＸ軸方向へレーザビームの走査を行なう（Ｓ９）。抵
抗値変化量ΔＲが最大値αと最小値βの間にあるときに
は、レーザビームのＹ軸方向の走査をそのまま続行する
（Ｓ３）。
【００１９】以上の動作を繰り返しながら抵抗体３の抵
抗値を目標抵抗値に調整する。この場合、抵抗値の上昇
率の最大値αと最小値βを小さく設定しておくことによ
り、図４の実線２２に示すように、時間に対する抵抗値
の変化は緩やかとなり、抵抗体３の抵抗値を目標抵抗値
に正確に調整できる。すなわち抵抗値の微調整を正確に
行なうことができる。このようにして微調整のトリミン
グがされたときの一例のトリミング跡を図２の４ｂに示
されている。この場合、トリミング跡の全体形状はフ字
形状となってい。なお、図４の実線２１は従来の抵抗値
変化量を示している。
抗値を目標抵抗値に調整する。この場合、抵抗値の上昇
率の最大値αと最小値βを小さく設定しておくことによ
り、図４の実線２２に示すように、時間に対する抵抗値
の変化は緩やかとなり、抵抗体３の抵抗値を目標抵抗値
に正確に調整できる。すなわち抵抗値の微調整を正確に
行なうことができる。このようにして微調整のトリミン
グがされたときの一例のトリミング跡を図２の４ｂに示
されている。この場合、トリミング跡の全体形状はフ字
形状となってい。なお、図４の実線２１は従来の抵抗値
変化量を示している。
【００２０】上記説明は抵抗値の微調整について説明す
るものであり、トリミング当初から抵抗値変化量ΔＲを
算出し、抵抗値の上昇率の最大値αと最小値βと比較し
つつトリミングを実行するように構成されても良い。こ
の場合、抵抗値の上昇率の最大値αと最小値βを複数用
意し、トリミングの段階、すなわち目標抵抗値との偏差
に応じて時間に対する抵抗値の変化量ΔＲを調整すると
トリミング時間を効果的に短縮することができる。
るものであり、トリミング当初から抵抗値変化量ΔＲを
算出し、抵抗値の上昇率の最大値αと最小値βと比較し
つつトリミングを実行するように構成されても良い。こ
の場合、抵抗値の上昇率の最大値αと最小値βを複数用
意し、トリミングの段階、すなわち目標抵抗値との偏差
に応じて時間に対する抵抗値の変化量ΔＲを調整すると
トリミング時間を効果的に短縮することができる。
【００２１】
【発明の効果】以上のように、本発明によれば、トリミ
ング時の抵抗値を目標抵抗値に徐々に近づけることがで
き、抵抗体の抵抗値を目標抵抗値に簡単かつ正確に調整
することが可能になり、高精度の抵抗器を得ることがで
きる。
ング時の抵抗値を目標抵抗値に徐々に近づけることがで
き、抵抗体の抵抗値を目標抵抗値に簡単かつ正確に調整
することが可能になり、高精度の抵抗器を得ることがで
きる。
【図１】本発明に係る抵抗体のトリミング方法に適用す
る一例のトリミング制御回路のブロック図である。
る一例のトリミング制御回路のブロック図である。
【図２】本発明に係るトリミング方法によりトリミング
された一例の抵抗体の平面図である。
された一例の抵抗体の平面図である。
【図３】図１のトリミング制御回路の動作を示す流れ図
である。
である。
【図４】本発明に係る抵抗体のトリミング方法における
目標値付近の時間対抵抗値の関係を示す説明図である。
目標値付近の時間対抵抗値の関係を示す説明図である。
【図５】従来のトリミング方法によりトリミングされた
抵抗体の平面図である。
抵抗体の平面図である。
【図６】従来の抵抗体のトリミング方法の時間対抵抗値
の関係を示す説明図である。。
の関係を示す説明図である。。
１ 絶縁性基板 ２ａ、２ｂ 電極 ３ 抵抗体 ４ａ、４ｂ トリミング跡 ５ 測定装置 ６ａ、６ｂ 測定端子 ７ コントローラ ８ Ｘ軸ドライバ ９ Ｙ軸ドライバ １０ Ｘ軸ミラー １１ Ｙ軸ミラー
Claims (2)
- 【請求項１】 絶縁性基板上に形成された膜状の抵抗体
の抵抗値をレーザビームの走査により調整する抵抗体の
トリミング方法において、予め抵抗値の上昇率の最大値
と最小値とを設定し、トリミング時の抵抗値の変化量と
前記最大値と最小値とを比較し、前記変化量が前記最大
値よりも大きいとき、前記レーザビームの走査を抵抗値
の減少方向に、また、前記変化量が前記最小値よりも小
さいとき、前記レーザビームの走査を抵抗値の増加方向
に走査してなることを特徴とする抵抗体のトリミング方
法。 - 【請求項２】 絶縁性基板上に形成された膜状の抵抗体
の抵抗値をレーザビームの走査により調整する抵抗体の
トリミング方法において、予め抵抗値の上昇率の最大値
と最小値と目標値より小さい微調整目標値とを設定し、
トリミング時の抵抗値が前記微調整目標値に到達したと
きから、トリミング時の抵抗値の変化量と前記最大値と
最小値とを比較し、前記変化量が前記最大値よりも大き
いとき、前記レーザビームの走査を抵抗値の減少方向
に、また、前記変化量が前記最小値よりも小さいとき、
前記レーザビームの走査を抵抗値の増加方向に走査して
なることを特徴とする抵抗体のトリミング方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8260093A JPH1064708A (ja) | 1996-08-23 | 1996-08-23 | 抵抗体のトリミング方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8260093A JPH1064708A (ja) | 1996-08-23 | 1996-08-23 | 抵抗体のトリミング方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1064708A true JPH1064708A (ja) | 1998-03-06 |
Family
ID=17343208
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8260093A Pending JPH1064708A (ja) | 1996-08-23 | 1996-08-23 | 抵抗体のトリミング方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH1064708A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100896534B1 (ko) * | 2007-07-27 | 2009-05-08 | 한국표준과학연구원 | 직접 측정방법으로 얻은 다수의 변수를 비교하여 얻은비율값으로부터 각각의 변수값을 구하는 방법 |
-
1996
- 1996-08-23 JP JP8260093A patent/JPH1064708A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100896534B1 (ko) * | 2007-07-27 | 2009-05-08 | 한국표준과학연구원 | 직접 측정방법으로 얻은 다수의 변수를 비교하여 얻은비율값으로부터 각각의 변수값을 구하는 방법 |
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