JPH04230760A - 印刷板の後処理装置 - Google Patents
印刷板の後処理装置Info
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- JPH04230760A JPH04230760A JP3098146A JP9814691A JPH04230760A JP H04230760 A JPH04230760 A JP H04230760A JP 3098146 A JP3098146 A JP 3098146A JP 9814691 A JP9814691 A JP 9814691A JP H04230760 A JPH04230760 A JP H04230760A
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/26—Processing photosensitive materials; Apparatus therefor
- G03F7/38—Treatment before imagewise removal, e.g. prebaking
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/20—Exposure; Apparatus therefor
- G03F7/2022—Multi-step exposure, e.g. hybrid; backside exposure; blanket exposure, e.g. for image reversal; edge exposure, e.g. for edge bead removal; corrective exposure
- G03F7/2024—Multi-step exposure, e.g. hybrid; backside exposure; blanket exposure, e.g. for image reversal; edge exposure, e.g. for edge bead removal; corrective exposure of the already developed image
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- Solid-Sorbent Or Filter-Aiding Compositions (AREA)
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、加熱ステーシヨンを有
する、像を通して露光された印刷板の後処理装置に関す
る。
する、像を通して露光された印刷板の後処理装置に関す
る。
【０００２】
【従来の技術】印刷板の層上に感光層として沈着されそ
の感度が酸素分子の吸収によつて低下した光重合可能な
複写材料の感度を回復するため、感光層を、均一な入射
によつて光重合を開始するのに必要なアクチニウム輻射
線の輻射量の７０ないし９８％によつて露光することは
、ドイツ国特許Ｂ１，２１４，０８５号（米国特許第３
，１４４，３３１号）により公知である。露光は、たと
えば、透明な印刷板の層を通して実施され、輻射線の１
０ないし７０％だけが光重合層によつて吸収されるよう
な波長を有するアクチニウム輻射線が使用される。この
方法において、露光は、一回は散光により一回は像を通
して実施される。散光または予備露光は弱い強さで、す
なわち、 完全な露光作用を達成するのに必要な輻射
強度の７０ないし９８％によつて実施される。この予備
露光の後に全輻射強度の像を通る露光が続いて実施され
る。
の感度が酸素分子の吸収によつて低下した光重合可能な
複写材料の感度を回復するため、感光層を、均一な入射
によつて光重合を開始するのに必要なアクチニウム輻射
線の輻射量の７０ないし９８％によつて露光することは
、ドイツ国特許Ｂ１，２１４，０８５号（米国特許第３
，１４４，３３１号）により公知である。露光は、たと
えば、透明な印刷板の層を通して実施され、輻射線の１
０ないし７０％だけが光重合層によつて吸収されるよう
な波長を有するアクチニウム輻射線が使用される。この
方法において、露光は、一回は散光により一回は像を通
して実施される。散光または予備露光は弱い強さで、す
なわち、 完全な露光作用を達成するのに必要な輻射
強度の７０ないし９８％によつて実施される。この予備
露光の後に全輻射強度の像を通る露光が続いて実施され
る。
【０００３】米国特許第４，２９８，８０３号は、光レ
ジスト層が、その光レジストがある特定の点において完
全に分解される限界露光強度より弱い強度で予備露光さ
れる方法を開示している。この予備露光後、光レジスト
層は像を通つて露光される。予備露光と像を通る露光の
順序は反対にすることができる。いずれの場合にも、光
レジスト層の感度は改善され、その結果、処理時間はか
なり短縮される。この方法に使用される装置において、
像を通る露光ならびに光レジスト層の後露光は電子ビー
ムまたは紫外線もしくはＸ線輻射線源によつて実施する
ことができる。
ジスト層が、その光レジストがある特定の点において完
全に分解される限界露光強度より弱い強度で予備露光さ
れる方法を開示している。この予備露光後、光レジスト
層は像を通つて露光される。予備露光と像を通る露光の
順序は反対にすることができる。いずれの場合にも、光
レジスト層の感度は改善され、その結果、処理時間はか
なり短縮される。この方法に使用される装置において、
像を通る露光ならびに光レジスト層の後露光は電子ビー
ムまたは紫外線もしくはＸ線輻射線源によつて実施する
ことができる。
【０００４】米国特許第４，７１６，０９７号も同様に
染料を含有する光重合層がまず４００ｎｍ以上の少くと
も１５００ルーメン／ｍ２の強度の波長の光によつて散
光露光されついで像を通して露光される方法が開示され
ている。
染料を含有する光重合層がまず４００ｎｍ以上の少くと
も１５００ルーメン／ｍ２の強度の波長の光によつて散
光露光されついで像を通して露光される方法が開示され
ている。
【０００５】ドイツ国特許公開Ａ２，４１２，５７１号
は、まず露光が短時間散光によつて実施され、ついで像
を通してポリマ層が露光区域において実際に完全に硬化
される、印刷板を硬化する方法を開示している。散光露
光時間は、ポリマ層の完全な安定化が同じ輻射線の強度
で予備露光ならびに像を通る露光の双方において起こる
時間の９０％以下である。
は、まず露光が短時間散光によつて実施され、ついで像
を通してポリマ層が露光区域において実際に完全に硬化
される、印刷板を硬化する方法を開示している。散光露
光時間は、ポリマ層の完全な安定化が同じ輻射線の強度
で予備露光ならびに像を通る露光の双方において起こる
時間の９０％以下である。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、像を
通してすでに露光された印刷板の後処理装置を、印刷板
の像区域が、印刷板の像外区域が最初に橋掛け結合する
ことなく付加的に硬化されるように、一層改善すること
である。
通してすでに露光された印刷板の後処理装置を、印刷板
の像区域が、印刷板の像外区域が最初に橋掛け結合する
ことなく付加的に硬化されるように、一層改善すること
である。
【０００７】
【課題を解決するための手段】この目的は、本発明によ
れば、加熱ステーシヨンが後処理装置に内蔵された露光
ステーシヨンの前方に設けられ、露光ステーシヨンは印
刷板の全面積を露光する調節可能な輻射線源および露光
ステーシヨン下側の露光孔をカバーするフイルタ円板を
有し、加熱ステーシヨンはハウジング内に赤外輻射線源
を備え、ハウジングは三つの側面に断熱材を有しまた反
射テーブル上に下向きに開きテーブルを横切つて印刷板
が後処理装置を通つて供給される装置によつて達成され
る。
れば、加熱ステーシヨンが後処理装置に内蔵された露光
ステーシヨンの前方に設けられ、露光ステーシヨンは印
刷板の全面積を露光する調節可能な輻射線源および露光
ステーシヨン下側の露光孔をカバーするフイルタ円板を
有し、加熱ステーシヨンはハウジング内に赤外輻射線源
を備え、ハウジングは三つの側面に断熱材を有しまた反
射テーブル上に下向きに開きテーブルを横切つて印刷板
が後処理装置を通つて供給される装置によつて達成され
る。
【０００８】本発明の改良において、露光ステーシヨン
の輻射線源は螢光ランプでありその光度は電子調光機に
よつて３０％から１００％の最大光度まで無段階に調節
可能である。同時に螢光ランプのスペクトル成分は４０
０ないし７００ｎｍの波長範囲にありまた輻射線の８０
％は波長が５００ｎｍより長い。
の輻射線源は螢光ランプでありその光度は電子調光機に
よつて３０％から１００％の最大光度まで無段階に調節
可能である。同時に螢光ランプのスペクトル成分は４０
０ないし７００ｎｍの波長範囲にありまた輻射線の８０
％は波長が５００ｎｍより長い。
【０００９】本発明の一層の改善において、露光孔はス
リツトとして構成されその幅は調節機構によつて０．５
ｍｍから２０ｍｍまで調節可能である。フイルタ円板
はプラスチツク円板およびプラスチツク円板に接合され
たフイルタフイルムから構成され、フイルタフイルムは
５００ｎｍ以上のスペクトル範囲の輻射線に対して透明
でありかつ波長が５００ｎｍより短いかまたは等しい輻
射線に対して実際上不透明である。
リツトとして構成されその幅は調節機構によつて０．５
ｍｍから２０ｍｍまで調節可能である。フイルタ円板
はプラスチツク円板およびプラスチツク円板に接合され
たフイルタフイルムから構成され、フイルタフイルムは
５００ｎｍ以上のスペクトル範囲の輻射線に対して透明
でありかつ波長が５００ｎｍより短いかまたは等しい輻
射線に対して実際上不透明である。
【００１０】本発明のそれ以上の改善は請求項６ないし
１３に記載されている。
１３に記載されている。
【００１１】本発明による前記装置は光重合印刷板とく
に投影板および高度に感光性のレーザ板に使用され、き
わめて弱い光による後処理および後加熱の結果として、
ほヾそのように処理された印刷板の寿命または印刷工程
を改善する。このため、像を通して露光されまた、たと
えば、４８８ｍｍの波長を有するレーザ露光装置におい
て露光されたもしくは、水銀またはキセノン輻射器、フ
ラツシユランプ、カーボンランプ等による投影露光をう
けた印刷板は後処理装置において、ほヾ１００ないし８
００ルツクス秒のきわめて強さが弱い波長λ＝４５０ｎ
ｍないし５００ｎｍの光によつて第２の全面積露光をう
け、ついで同じ装置において８０ないし１２０℃に後加
熱される。この後処理装置の利点は露光ステーシヨンな
らびに加熱ステーシヨンを互いに別々に制御しうること
である。
に投影板および高度に感光性のレーザ板に使用され、き
わめて弱い光による後処理および後加熱の結果として、
ほヾそのように処理された印刷板の寿命または印刷工程
を改善する。このため、像を通して露光されまた、たと
えば、４８８ｍｍの波長を有するレーザ露光装置におい
て露光されたもしくは、水銀またはキセノン輻射器、フ
ラツシユランプ、カーボンランプ等による投影露光をう
けた印刷板は後処理装置において、ほヾ１００ないし８
００ルツクス秒のきわめて強さが弱い波長λ＝４５０ｎ
ｍないし５００ｎｍの光によつて第２の全面積露光をう
け、ついで同じ装置において８０ないし１２０℃に後加
熱される。この後処理装置の利点は露光ステーシヨンな
らびに加熱ステーシヨンを互いに別々に制御しうること
である。
【００１２】
【実施例】以下、本発明を図面に基づいて一層詳細に説
明する。
明する。
【００１３】本発明による後処理装置１は、必要なユニ
ツトとして、露光ステーシヨン２、反射テーブル７およ
びコンベアローラ対５、６を有し、これらのユニツトは
後処理装置のハウジング４に収容されている。その一つ
が図１に線図的に図示された印刷板３０は、コンベア軌
道１２に沿い後処理装置１を通つて移動する。印刷板３
０を後処理装置を通つて輸送するため、装入コンベアロ
ーラ対５が装置内側のコンベア軌道１２の初めに、また
、排出コンベアローラ対６が装置内側のコンベア軌道１
２の終わりに設けられている。これら二つのコンベアロ
ーラ対のコンベアローラの軸には、円筒形歯車２５、２
６、２７および２８が取付けられ、その上に無端循環歯
車チエーン２９が通つている。装入コンベアローラ対５
のコンベアローラの一つは、図示されないモータによつ
て駆動される。被動コンベアローラの円筒形歯車は歯車
チエーンを循環させ、装入ローラ対と排出ローラ対とを
確実に同期運転させる。
ツトとして、露光ステーシヨン２、反射テーブル７およ
びコンベアローラ対５、６を有し、これらのユニツトは
後処理装置のハウジング４に収容されている。その一つ
が図１に線図的に図示された印刷板３０は、コンベア軌
道１２に沿い後処理装置１を通つて移動する。印刷板３
０を後処理装置を通つて輸送するため、装入コンベアロ
ーラ対５が装置内側のコンベア軌道１２の初めに、また
、排出コンベアローラ対６が装置内側のコンベア軌道１
２の終わりに設けられている。これら二つのコンベアロ
ーラ対のコンベアローラの軸には、円筒形歯車２５、２
６、２７および２８が取付けられ、その上に無端循環歯
車チエーン２９が通つている。装入コンベアローラ対５
のコンベアローラの一つは、図示されないモータによつ
て駆動される。被動コンベアローラの円筒形歯車は歯車
チエーンを循環させ、装入ローラ対と排出ローラ対とを
確実に同期運転させる。
【００１４】加熱ステーシヨン３は、印刷板の輸送方向
に見て、露光ステーシヨン２の後方にある。露光ステー
シヨン２には印刷板３０の全面拡散露光用の調節可能な
輻射線源８が設けられている。前記輻射線源８は、たと
えば、露光ステーシヨン２の密閉ハウジング内に設けら
れた螢光ランプである。印刷板のコンベア軌道１２の方
向で後方に、露光ステーシヨン２のハウジングはフイル
タ円板９によつてカバーされた露光孔１３を有する。露
光孔１３は、幅が調節機構１４によつて０．５ｍｍから
２０ｍｍの範囲内で調節しうる露光スリツトとして構成
されている。調節機構１４はレール上を移動する角度ス
ライドとして構成されている。
に見て、露光ステーシヨン２の後方にある。露光ステー
シヨン２には印刷板３０の全面拡散露光用の調節可能な
輻射線源８が設けられている。前記輻射線源８は、たと
えば、露光ステーシヨン２の密閉ハウジング内に設けら
れた螢光ランプである。印刷板のコンベア軌道１２の方
向で後方に、露光ステーシヨン２のハウジングはフイル
タ円板９によつてカバーされた露光孔１３を有する。露
光孔１３は、幅が調節機構１４によつて０．５ｍｍから
２０ｍｍの範囲内で調節しうる露光スリツトとして構成
されている。調節機構１４はレール上を移動する角度ス
ライドとして構成されている。
【００１５】フイルタ円板９は、たとえば、ポリメチル
・メタアクリレートＰＭＭＡから作られたプラスチツク
円板１０およびそのプラスチック円板に接合されたフイ
ルタ・フイルム１１からなつている。フイルタフイルム
１１は５００ｎｍ以上の輻射線に対して透明で、５００
ｎｍに等しいかまたはそれ以下の波長を有する輻射線に
対して実際上不透明である。
・メタアクリレートＰＭＭＡから作られたプラスチツク
円板１０およびそのプラスチック円板に接合されたフイ
ルタ・フイルム１１からなつている。フイルタフイルム
１１は５００ｎｍ以上の輻射線に対して透明で、５００
ｎｍに等しいかまたはそれ以下の波長を有する輻射線に
対して実際上不透明である。
【００１６】またカツトオフ・フイルタであり、適当に
すず鍍金されたまたは、たとえば、シヨツト社（Ｓｈｏ
ｔｔ Ｃｏ．）から市販されている特殊な着色ガラス
であるＰＭＭＡ円板のみから構成することもできる。
すず鍍金されたまたは、たとえば、シヨツト社（Ｓｈｏ
ｔｔ Ｃｏ．）から市販されている特殊な着色ガラス
であるＰＭＭＡ円板のみから構成することもできる。
【００１７】露光ステーシヨン２の輻射線源の光度は、
印刷板３０に加えられる光量を正確に計測するため、調
光器を用いて電子的に３０％から最大光度１００％まで
無段階に調節可能である。この輻射線源の光度はデジタ
ル的に指示され、センサ２３が光度を計測するため露光
ステーシヨン２のハウジング内部に設置されている。ハ
ウジングの閉鎖構造は、センサ２３による光度の計測に
好ましくない影響を与える外部の干渉性輻射線の侵入を
防止する。
印刷板３０に加えられる光量を正確に計測するため、調
光器を用いて電子的に３０％から最大光度１００％まで
無段階に調節可能である。この輻射線源の光度はデジタ
ル的に指示され、センサ２３が光度を計測するため露光
ステーシヨン２のハウジング内部に設置されている。ハ
ウジングの閉鎖構造は、センサ２３による光度の計測に
好ましくない影響を与える外部の干渉性輻射線の侵入を
防止する。
【００１８】輻射線源８の光度を調節する調光器は、露
光ステーシヨン２の上方に線図的に図示された電子調節
器２４の一部である。
光ステーシヨン２の上方に線図的に図示された電子調節
器２４の一部である。
【００１９】輻射線源８のスペクトル成分は４００ｎｍ
から７００ｎｍの範囲の波長内にあり、放出された輻射
線の８０％は５００ｎｍ以上の波長を有する。フイルタ
円板９またはフイルタフイルム１１によるエネルギ損失
または輻射線の吸収したがつてこれらの要素の加熱は、
輻射線源８の選択されたスベクトル分布の結果、きわめ
て少ない。
から７００ｎｍの範囲の波長内にあり、放出された輻射
線の８０％は５００ｎｍ以上の波長を有する。フイルタ
円板９またはフイルタフイルム１１によるエネルギ損失
または輻射線の吸収したがつてこれらの要素の加熱は、
輻射線源８の選択されたスベクトル分布の結果、きわめ
て少ない。
【００２０】光度を計測するセンサ２３は通常露光ステ
ーシヨン２のハウジング内に設けられ、したがつて、た
とえば後処理装置１に侵入する日光のような、いかなる
干渉輻射線からも遮蔽された光電池である。
ーシヨン２のハウジング内に設けられ、したがつて、た
とえば後処理装置１に侵入する日光のような、いかなる
干渉輻射線からも遮蔽された光電池である。
【００２１】加熱ステーシヨン３は、ハウジング内に収
容された赤外輻射線源１８を備え、ハウジングは三つの
側面を断熱材２０、２１、２２によつて断熱されている
。ハウジングは下方に反射テーブル７上に開口し、その
テーブルを横切つて印刷板３０が後処理装置１を経て供
給される。加熱ステーシヨン３の輻射線源１８は、たと
えばセラミツクから作られた赤外線暗色輻射線源で、可
視波長範囲からならびに印刷板の輻射線感度範囲からは
るかに離れた波長の輻射線を放射する。赤外輻射線源１
８の上には反射装置１９が嵌合されている。赤外輻射線
源１８によつて放射された輻射線は１０００ｎｍから１
００００ｎｍ以上の波長範囲にある。熱輻射のこのスペ
クトル範囲のため、互いに完全に別々に、印刷板３０に
作用する電磁輻射線、すなわち一方では熱を発生する上
記赤外輻射線および他方ではすでに像を通して露光され
た印刷板のいわゆる“後露光”のため可視光による散光
露光を計測することが可能である。赤外輻射線源１８は
その放射出力を、印刷板３０を８０℃ないし１２０℃の
温度に加熱しうるように、調節することができる。
容された赤外輻射線源１８を備え、ハウジングは三つの
側面を断熱材２０、２１、２２によつて断熱されている
。ハウジングは下方に反射テーブル７上に開口し、その
テーブルを横切つて印刷板３０が後処理装置１を経て供
給される。加熱ステーシヨン３の輻射線源１８は、たと
えばセラミツクから作られた赤外線暗色輻射線源で、可
視波長範囲からならびに印刷板の輻射線感度範囲からは
るかに離れた波長の輻射線を放射する。赤外輻射線源１
８の上には反射装置１９が嵌合されている。赤外輻射線
源１８によつて放射された輻射線は１０００ｎｍから１
００００ｎｍ以上の波長範囲にある。熱輻射のこのスペ
クトル範囲のため、互いに完全に別々に、印刷板３０に
作用する電磁輻射線、すなわち一方では熱を発生する上
記赤外輻射線および他方ではすでに像を通して露光され
た印刷板のいわゆる“後露光”のため可視光による散光
露光を計測することが可能である。赤外輻射線源１８は
その放射出力を、印刷板３０を８０℃ないし１２０℃の
温度に加熱しうるように、調節することができる。
【００２２】反射テーブル７は樋状中空本体として形成
され、図２および図３から分かるように、印刷板３０の
コンベア軌道１２の高さに架線１５を有する。架線１５
は細い金属ワイヤまたはプラスチツク繊条のいずれかよ
りなり、Ｖ型に反射テーブルの上側において伸長され（
図３参照）そこで印刷板の前隅は後処理装置１を通つて
輸送される間、架線の下に達して印刷板を混乱させるこ
とはない。
され、図２および図３から分かるように、印刷板３０の
コンベア軌道１２の高さに架線１５を有する。架線１５
は細い金属ワイヤまたはプラスチツク繊条のいずれかよ
りなり、Ｖ型に反射テーブルの上側において伸長され（
図３参照）そこで印刷板の前隅は後処理装置１を通つて
輸送される間、架線の下に達して印刷板を混乱させるこ
とはない。
【００２３】印刷板３０に比較してきわめて低い架線１
５の熱容量は、印刷板の不均一な加熱を生ずる熱排出が
加熱ステーシヨン３下方における加熱中、印刷板のいず
れの点においても決して生ずることはない。反射テーブ
ル７内側は熱反射金属シートを内張されている。反射テ
ーブル下側には通常調節ねじからなる調節装置１６、１
７が設けられ、このように反射テーブル基板から印刷板
の下側の距離をある程度調節可能にするため、小さい範
囲内で樋状反射テーブル７の基板を上下することが可能
である。
５の熱容量は、印刷板の不均一な加熱を生ずる熱排出が
加熱ステーシヨン３下方における加熱中、印刷板のいず
れの点においても決して生ずることはない。反射テーブ
ル７内側は熱反射金属シートを内張されている。反射テ
ーブル下側には通常調節ねじからなる調節装置１６、１
７が設けられ、このように反射テーブル基板から印刷板
の下側の距離をある程度調節可能にするため、小さい範
囲内で樋状反射テーブル７の基板を上下することが可能
である。
【００２４】たとえば印刷板と反射テーブルの接触によ
る、印刷板からの熱排出は接触区域における部分的温度
低下、したがつて非均一な加熱および非均一な印刷板の
光重合層の不均一な後硬化を生ずる。
る、印刷板からの熱排出は接触区域における部分的温度
低下、したがつて非均一な加熱および非均一な印刷板の
光重合層の不均一な後硬化を生ずる。
【００２５】
【発明の効果】後処理装置は、露光ステーシヨン２の輻
射線源８が印刷板３０の作動幅に亘つてきわめて均一な
露光強度を発生し、電子調節装置は露光ステーシヨン２
の輻射線源８の長い寿命を確保し、露光線源の強度は無
段階に調節され、かつ印刷板の露光を正確に制御するた
めデジタル的に指示される利点を達成する。したがつて
この結果は、輻射線源の経時または温度変化により露光
強度が変化したときでさえもつねに再現可能である。さ
らに、後処理装置の別の利点はいかなる妨害輻射線も露
光ステーシヨンの区域にまた加熱ステーシヨンの区域に
出現しないこと、露光ステーシヨンの輻射線源のスペク
トルにおける好ましくない紫外線成分がガラスまたはＰ
ＭＭＡから作られた特殊なフイルタフイルムまたはカツ
トオフ・フイルムによつてフイルタされることおよび露
光孔が０・５から２０ｍｍの範囲に露光のため調節可能
であることである。
射線源８が印刷板３０の作動幅に亘つてきわめて均一な
露光強度を発生し、電子調節装置は露光ステーシヨン２
の輻射線源８の長い寿命を確保し、露光線源の強度は無
段階に調節され、かつ印刷板の露光を正確に制御するた
めデジタル的に指示される利点を達成する。したがつて
この結果は、輻射線源の経時または温度変化により露光
強度が変化したときでさえもつねに再現可能である。さ
らに、後処理装置の別の利点はいかなる妨害輻射線も露
光ステーシヨンの区域にまた加熱ステーシヨンの区域に
出現しないこと、露光ステーシヨンの輻射線源のスペク
トルにおける好ましくない紫外線成分がガラスまたはＰ
ＭＭＡから作られた特殊なフイルタフイルムまたはカツ
トオフ・フイルムによつてフイルタされることおよび露
光孔が０・５から２０ｍｍの範囲に露光のため調節可能
であることである。
【図１】本発明による後処理装置の線図的断面図。
【図２】後処理装置における反射テーブルの部分断面図
。
。
【図３】図２に示す反射テーブルの平面図。
１ 後処理装置
２ 露光ステーシヨン
３ 加熱ステーシヨン
５ 装入ローラ対
６ 排出ローラ対
７ 反射テーブル
８ 輻射線源
９ フイルタ円板
１０ プラスチツク円板
１１ フイルタフイルム
１２ コンベア軌道
１３ 露光孔
１４ 調節機構
１８ 赤外輻射線源
２０ 断熱材
２１ 断熱材
２２ 断熱材
２３ センサ
２９ 無端チエーン
３０ 印刷板
Claims (14)
- 【請求項１】加熱ステーシヨンを有する、像を通して露
光された印刷板の後処理装置において、前記加熱ステー
シヨン（３）は前記後処理装置（１）に内蔵された露光
ステーシヨン（２）の前方に設けられ、前記露光ステー
シヨン（２）は前記印刷板（３０）の全面積を露光する
調節可能な輻射線源（８）および露光ステーシヨン（２
）下側の露光孔（１３）をカバーするフイルタ円板を有
し、前記加熱ステーシヨン（３）はハウジング内に赤外
輻射線源（１８）を備え前記ハウジングは三つの側面に
断熱材（２０，２１，２２）を有しかつ反射テーブル（
７）上に下向きに開き前記テーブルを横切つて前記印刷
板（３０）が後処理装置を通つて供給される、印刷板の
後処理装置。 - 【請求項２】前記露光ステーシヨン（２）の前記輻射線
源（８）は螢光ランプでありその光度は電子調光機によ
つて３０％から１００％の最大光度まで無段階に調節可
能である、請求項１に記載の後処理装置。 - 【請求項３】螢光ランプのスペクトル成分は４００ない
し７００ｎｍの波長範囲にありまた放出される輻射線の
８０％は波長が５００ｎｍより長い請求項２に記載の後
処理装置。 - 【請求項４】露光孔（１３）はスリツトとして構成され
、その幅は調節機構（１４）によつて０．５ｍｍから２
０ｍｍまで調節可能である請求項１に記載の後処理装置
。 - 【請求項５】前記フイルタ円板（９）はプラスチツク円
板（１０）および前記プラスチツク円板に接合されたフ
イルタ・フイルム（１１）から構成されフイルタ・フイ
ルム（１１）は５００ｎｍ以上のスペクトル範囲の輻射
線に対して透明でありかつ５００ｎｍより短いかまたは
等しい波長を有する輻射線に対して実際上不透明である
請求項１に記載の後処理装置。 - 【請求項６】前記フイルタ円板（９）は特殊な着色ガラ
スまたは着色ポリメチル・メタアクリレートＰＭＭＡか
ら作られたカツトオフ・フイルタである請求項１に記載
の後処理装置。 - 【請求項７】センサ（２３）が輻射線源（８）の光度を
測定するため露光ステーシヨンハウジング内部に設けら
れ前記光度はデジタル的に指示される請求項１に記載の
後処理装置。 - 【請求項８】加熱ステーシヨン（３）の赤外輻射線源（
１８）は可視的波長範囲ならびに印刷板の輻射線感度範
囲から離れた波長範囲の輻射線を放出するセラミツクか
ら作られた赤外線暗黒輻射装置である請求項１に記載の
後処理装置。 - 【請求項９】前記赤外輻射線源（１８）は１，０００ｎ
ｍ から１０，０００ｎｍの波長範囲の輻射線を放出す
る請求項８に記載の後処理装置。 - 【請求項１０】前記赤外輻射線源（１８）はその輻射線
出力が印刷板（３０）を８０℃ないし１２０℃の温度に
加熱するように調節される請求項９に記載の後処理装置
。 - 【請求項１１】前記反射テーブル（７）は樋状中空体で
印刷板（１３）のコンベア軌道（１２）の高さに架線（
１５）を有する請求項１に記載の後処理装置。 - 【請求項１２】架線（１５）は薄い金属ワイヤまたは薄
いプラスチツク糸よりなり反射テーブル（７）の上側に
Ｖ型に伸長された請求項１１に記載の後処理装置。 - 【請求項１３】反射テーブル（７）内側は熱反射金属板
を内張された請求項１０に記載の後処理装置。 - 【請求項１４】装入コンベアローラ対および排出コンベ
アローラ対（５，６）は印刷板（３０）を前記後処理装
置を通るコンベア軌道（１２）に沿つて輸送するため設
けられ前記ローラ対はハウジング内部に設けられかつ円
筒形歯車（２５，２６，２７，２８）を通る無端循環歯
車チエーン（２９）によつて同期的に駆動され、前記円
筒形歯車は二つのコンベアローラ対のコンベアローラの
軸に着座し、装入コンベアローラ対（５）のコンベアロ
ーラの一方はモータによつて駆動される請求項１に記載
の後処理装置。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE4011023A DE4011023A1 (de) | 1990-04-05 | 1990-04-05 | Nachbehandlungsgeraet fuer druckplatten |
| DE4011023.0 | 1990-04-05 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04230760A true JPH04230760A (ja) | 1992-08-19 |
Family
ID=6403831
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3098146A Pending JPH04230760A (ja) | 1990-04-05 | 1991-04-03 | 印刷板の後処理装置 |
Country Status (13)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5124559A (ja) |
| EP (1) | EP0450486B1 (ja) |
| JP (1) | JPH04230760A (ja) |
| KR (1) | KR910018852A (ja) |
| AT (1) | ATE144331T1 (ja) |
| BR (1) | BR9101369A (ja) |
| CA (1) | CA2039811A1 (ja) |
| CS (1) | CS78391A2 (ja) |
| DE (2) | DE4011023A1 (ja) |
| DK (1) | DK0450486T3 (ja) |
| ES (1) | ES2092518T3 (ja) |
| FI (1) | FI911598A (ja) |
| ZA (1) | ZA912499B (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007033882A (ja) * | 2005-07-27 | 2007-02-08 | Hitachi Via Mechanics Ltd | 露光装置及び露光方法並びに配線基板の製造方法 |
| JP2008500577A (ja) * | 2004-05-25 | 2008-01-10 | マクダーミッド プリンティング ソリューションズ， エルエルシー | レリーフ画像印刷版を予備露光させる方法 |
Families Citing this family (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| RU2070211C1 (ru) * | 1990-09-27 | 1996-12-10 | Сам Янг Ко., Лтд. | Способ получения гидрофильной полимерной пленки и устройство для его осуществления |
| DE4134161C2 (de) * | 1991-10-11 | 1996-12-12 | Basys Gmbh | Verfahren und Gerät zur Nachbehandlung von Druckformen |
| DE4225831A1 (de) * | 1992-08-05 | 1994-02-10 | Hoechst Ag | Nachbehandlungsgerät für bildmäßig belichtete Druckplatten |
| DE4437631A1 (de) * | 1994-10-21 | 1996-04-25 | Decoufle Sarl | Vorrichtung zum Erwärmen der Klebnaht eines Stranges der tabakverarbeitenden Industrie |
| JPH10282681A (ja) * | 1997-04-04 | 1998-10-23 | Fuji Photo Film Co Ltd | 感光性印刷版材用合紙 |
| US6425926B1 (en) * | 1999-05-04 | 2002-07-30 | Jakobus Hindriks | Thermosol treatment of textiles carrying a dye |
| US6550989B1 (en) * | 1999-10-15 | 2003-04-22 | Kodak Polychrome Graphics Llc | Apparatus and methods for development of resist patterns |
| DE10115066B4 (de) * | 2001-03-27 | 2012-10-04 | Leica Biosystems Nussloch Gmbh | Vorrichtung zum Trocknen lösungsmittelbasierender Tinte |
Family Cites Families (14)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| BE611541A (ja) * | 1961-01-13 | |||
| CA765233A (en) * | 1965-04-21 | 1967-08-15 | Western Electric Company, Incorporated | Method of soldering with radiant energy |
| ZA739244B (en) * | 1973-04-19 | 1974-11-27 | Grace W R & Co | Preparation of printing of pattern plates |
| GB1509312A (en) * | 1974-04-01 | 1978-05-04 | Nippon Paint Co Ltd | Method and apparatus for curing photo-curable composition |
| US3958586A (en) * | 1974-12-04 | 1976-05-25 | Tasope' Limited | Combined washer and dryer unit |
| HU169051B (ja) * | 1974-12-20 | 1976-09-28 | ||
| DE2609273A1 (de) * | 1976-03-05 | 1977-09-08 | Mutzhas Maximilian F | Bestrahlungseinrichtung mit ultraviolett-strahlenquelle |
| DE2706913C3 (de) * | 1977-02-18 | 1980-03-06 | Basf Ag, 6700 Ludwigshafen | Vorrichtung zum Behändem von nach photochemischen Verfahren hergestellten Druckplatten |
| JPS5596942A (en) * | 1979-01-19 | 1980-07-23 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Method and apparatus for producing minute pattern |
| DE3044184A1 (de) * | 1980-11-24 | 1982-06-16 | Mutzhas Maximilian F | Vorrichtung zur phototherapeutischen behandlung der hyperbilirubinaemie |
| JPS5887556A (ja) * | 1981-11-20 | 1983-05-25 | Hitachi Ltd | 自動連続式ベ−ク炉 |
| US4665627A (en) * | 1985-11-01 | 1987-05-19 | Research, Incorporated | Dry film curing machine with ultraviolet lamp controls |
| US4716097A (en) * | 1986-02-03 | 1987-12-29 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Increased photopolymer photospeed employing yellow light preexposure |
| DE8810445U1 (ja) * | 1988-08-18 | 1988-11-17 | Koenings Elektronische Antriebstechnik Und Industrieanlagenbau Gmbh & Co. Kg, 4060 Viersen, De |
-
1990
- 1990-04-05 DE DE4011023A patent/DE4011023A1/de not_active Withdrawn
-
1991
- 1991-03-22 CS CS91783A patent/CS78391A2/cs unknown
- 1991-03-27 AT AT91104866T patent/ATE144331T1/de not_active IP Right Cessation
- 1991-03-27 ES ES91104866T patent/ES2092518T3/es not_active Expired - Lifetime
- 1991-03-27 EP EP91104866A patent/EP0450486B1/de not_active Expired - Lifetime
- 1991-03-27 DK DK91104866.8T patent/DK0450486T3/da active
- 1991-03-27 DE DE59108275T patent/DE59108275D1/de not_active Expired - Fee Related
- 1991-04-01 US US07/678,439 patent/US5124559A/en not_active Expired - Lifetime
- 1991-04-02 KR KR1019910005253A patent/KR910018852A/ko not_active Application Discontinuation
- 1991-04-03 FI FI911598A patent/FI911598A/fi not_active Application Discontinuation
- 1991-04-03 JP JP3098146A patent/JPH04230760A/ja active Pending
- 1991-04-04 ZA ZA912499A patent/ZA912499B/xx unknown
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- 1991-04-04 BR BR919101369A patent/BR9101369A/pt unknown
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008500577A (ja) * | 2004-05-25 | 2008-01-10 | マクダーミッド プリンティング ソリューションズ， エルエルシー | レリーフ画像印刷版を予備露光させる方法 |
| JP4754559B2 (ja) * | 2004-05-25 | 2011-08-24 | マクダーミッド プリンティング ソリューションズ， エルエルシー | レリーフ画像印刷版を予備露光させる方法 |
| JP2007033882A (ja) * | 2005-07-27 | 2007-02-08 | Hitachi Via Mechanics Ltd | 露光装置及び露光方法並びに配線基板の製造方法 |
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| KR910018852A (ko) | 1991-11-30 |
| DE4011023A1 (de) | 1991-10-10 |
| BR9101369A (pt) | 1991-11-26 |
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