CS78391A2 - Device for printing plants' additional treatment - Google Patents
Device for printing plants' additional treatment Download PDFInfo
- Publication number
- CS78391A2 CS78391A2 CS91783A CS78391A CS78391A2 CS 78391 A2 CS78391 A2 CS 78391A2 CS 91783 A CS91783 A CS 91783A CS 78391 A CS78391 A CS 78391A CS 78391 A2 CS78391 A2 CS 78391A2
- Authority
- CS
- Czechoslovakia
- Prior art keywords
- illumination
- radiation
- station
- radiation source
- printing plates
- Prior art date
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/26—Processing photosensitive materials; Apparatus therefor
- G03F7/38—Treatment before imagewise removal, e.g. prebaking
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/20—Exposure; Apparatus therefor
- G03F7/2022—Multi-step exposure, e.g. hybrid; backside exposure; blanket exposure, e.g. for image reversal; edge exposure, e.g. for edge bead removal; corrective exposure
- G03F7/2024—Multi-step exposure, e.g. hybrid; backside exposure; blanket exposure, e.g. for image reversal; edge exposure, e.g. for edge bead removal; corrective exposure of the already developed image
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
- Measuring Or Testing Involving Enzymes Or Micro-Organisms (AREA)
- Folding Of Thin Sheet-Like Materials, Special Discharging Devices, And Others (AREA)
- Printing Plates And Materials Therefor (AREA)
- Medicines Containing Antibodies Or Antigens For Use As Internal Diagnostic Agents (AREA)
- Investigating Or Analysing Biological Materials (AREA)
- Treatment Of Fiber Materials (AREA)
- Processing And Handling Of Plastics And Other Materials For Molding In General (AREA)
- Resistance Heating (AREA)
- Preparation Of Compounds By Using Micro-Organisms (AREA)
- Solid-Sorbent Or Filter-Aiding Compositions (AREA)
- Treating Waste Gases (AREA)
- Pile Receivers (AREA)
- Printing Methods (AREA)
Description
JUDr. MHoá VŠETEČKAadvokát íťfiM PRAHA 1, Žitná 25
Cr o -1-
ZAŘÍZEn/ PRO DODATEČNÍ ZPRACOVÍnÍ TISKOVÝCH
Cc 02
í>
Oblast techniky
Vynález se týká zařízení pro dodatečné zprGcovánf^fcá^siccyýrh /desek, které jsou obrazově osvětleny, s ohřívacím stanovištěm.
Dosavadní stav techniky Z patentového spisu DE-B 12 14 085 (US-PS 3,144,331) jeznámo, že pro obnovení citlivosti světlem polymerizovatelnýchkresebných materiálů, které jsou naneseny jako na světlo citlivávrstva na nosiči tiskové desky a jejichž citlivost se snížilaabsorpcí molekulárního kyslíku, se tyto materiály vrstvy citlivéna světlo osvětlí 70 až 98 % množství aktinického záření, kterépři rovnoměrném dopadu by bylo nutné ke způsobení fotopolymeri-zace. Osvětlení se provede skrze například průhledný nosič tis-kové desky, přičemž se použije sktinické záření takové vlnovédélky, že pouze 10 až 70 % záření je absorbováno světlem polyme-rizovatelnou vrstvou. Při tomto způsobu se v principu osvětlujejednou difusně a jednou obrazově. Difusní popřípadě předběžnéosvětlení se provede s menší intenzitou, totiž se 70 až 98 %intenzity záření, která je nutná k dosažení plného účinku osvět-lení. Na toto předběžné osvětlení navazuje potom obrazové osvět-lení s plnou intenzitou záření. V patentovém spise č. 4,298,803 Spojených států americkýchje popsán způsob, při kterém se fotoresistní vrstva předběžněosvětlí intenzitou, která je nižší než kritická intenzita osvět-lení, při které je fotoresistní látka na určitém místě úplněrozložena. Po tomto předběžném osvětlení následuje obrazovéosvětlení fotoresistní vrstvy. Pořadí předběžného osvětlení aobrazového osvětlení může být zaměněno. V obou případech se zlep-ší citlivost fotoresistní vrstvy, čímž se značně zkrátí dobazpracování. V zařízení používaném pro tento způsob může být jakobrazové osvětlení, tak předběžné nebo dodatečné osvětlení fo-toresistní látky provedeno elektronovým paprskem nebo zdrojemultrafialového záření nebo zdrojem roentgenového záření. Z patentového spisu č.4,716,097 Spojených států amerických je znám způsob, při kterém vrstva polymer!zovatelná světlem, která obsahuje barvivo, se napřed difusně osvětlí světlem vlno- vé délky nad 400 nm při intenzitě alespoň 1500 Lm.m”^ a potom se osvětlí obrazově.
Ve vykládacím spise č. PE-A 24 12 571 Spolkové republikyNěmecko je popsán způsob vytvrzení polymerové vrstvy tiskové des-ky vytvrditelné světlem, při kterém se osvětluje nejdříve difus-ně po krátkou dobu a potom obrazově tak dlouho, až je polymerovávrstva v osvětlených oblastech prakticky úplně vytvrzena. Dobadifusního osvětlení je rovna maximálně 90 % doby, během kterénastane úplné vytvrzení polymerové vrstvy při stejné intenzitězáření jak pro předběžné osvětlení tak pro obrazové osvětlení.
Podstata vynálezu Úkolem vynálezu je dále vyvinout zařízení pro dodatečnézpracování tiskových desek, které jsou již obrazově osvětleny,aby obrazová místa tiskových desek byla přídavně vytvrzena, snižby místa tiskových desek prostá obrazu byla zesítěna0
Vynález řeší úkol tím, že vytváří zařízení pro dodatečnézpracování tiskových desek, které jsou obrazově osvětleny, s ohří-vacím stanovištěm, jehož podstata spočívá v tom, že osvětlovacístanoviště zabudované do zařízení pro dodatečné zpracování tisko-vých desek je uspořádáno před ohřívacím stanovištěm, že osvětlo-vací stanoviště má regulovatelný zdroj záření pro celoplošnéosvětlení tiskové desky a filtrační kotouč, který zakrývá osvět-lovací otvor na spodní straně osvětlovacího stanoviště, a že oh-řívací stanoviště je opatřeno zdrojem infračerveného záření umís-těným v pouzdru, které je opatřeno na třech stranách izolací, akteré je otevřeno směrem dolů na odrazový stůl, nad kterým se ve-de tisková deska zařízením pro dodatečné zpracování.
Podle výhodného provedení vynálezu zdroj záření osvětlovací-ho stanoviště je zářivka, jejíž intenzita osvětlení je v mezíchod 30 do ICO % maximální intenzity osvětlení plynule regulovatel-ná elektronickým stmívačem.
Podle dalšího výhodného provedení vynálezu spektrální podílzářivky leží v rozsahu od 400 do 700 nm a 80 % vysílaného zářenímá vlnovou délku větší než 500 nm.
Podle dalšího výhodného provedení vynálezu je osvětlovacíotvoi' vytvořen jako štěrbina, jejíž šířka je nastavitelná stavě-cím mechanismem v rozsahu od 0,5 nm do 20 mm.
Podle dalšího výhodného vytvoření vynálezu filtrační kotouč sestává z kotouče z umělé hmoty a z filtrační folie na něj nale- pené a filtrační folie je propustná pro záření nad spektrálním _ o _ rozsahem 500 nm a pro záření o vlnové délce rovné nebo menší než500 nm je téměř nepropustná.
Podle dalšího výhodného provedení vynálezu filtrační kotoučje hranový filtr ze speciálně zbarveného skla popřípadě zbarve-ného polymethylmethakrylátu PMM.
Podle dalšího výhodného provedení vynálezu je uvnitř osvětlo-vacího stanoviště umístěno čidlo pro měření intenzity osvětlenízdroje záření a oznamování intenzity osvětlení se provádí číslicově.
Podle dalšího výhodného provedení vynálezu zdroj infračervenéhozáření ohřívacího stanoviště je infračervený temný zářič z keramic-kého materiálu, který vysílá záření v oblasti vlnových délek velmivzdálené jak od oblasti viditelného záření tak i od oblasti citli-vosti tiskových desek na záření.
Podle dalšího výhodného provedení vynálezu zdroj infračerve-ného záření vysílá záření v rozsahu vlnových délek od 1000 nm do10000 nm.
Podle dalšího výhodného provedení vynálezu je zářivý výkonzdroje infračerveného záření regulovatelný k ohřevu tiskové deskyna teplotu od 80 °C do 120 °C.
Podle dalšího výhodného provedení vynálezu je odrazový stůlvytvořen jako žlabovité duté těleso, které má ve výškové úrovnidopravní dráhy tiskových desek potah.
Podle dalšího výhodného provedení vynálezu potah sestáváz tenkého kovového drátu nebo z tenkého syntetického vlákna a jenapnut ve tvaru V na horní strsně odrazového stolu.
Podle dalšího výhodného provedení vynálezu je vnitřní stranaodrazového stolu vyložena kovovým plechem odrážejícím teplo.
Podle dalšího výhodného provedení vynálezu pro dopravu tis-kových desek podél dopravní dráhy je zařízení pro dodatečné zpra-cování opatřeno jedním vstupním párem a jedním výstupním páremdopravních válců umístěných uvnitř skříně a poháněných synchronněřetězem vedeným kolem čelních ozubených kol nasazených na hříde-lích dopravních válců vstupního péru a výstupního páru a jedendopravní válec vstupního páru je opatřen motorovým pohonem.
Zařízením pro dodatečné zpracování podle vynálezu se zpraco-vává jí tiskové desky z fotopolymerů, zejména projekční desky a la-serové desky vysoce citlivé na světlo, přičemž dodatečným zpraco-váním světlem velmi malé intenzity a dodatečným ohřevem mohou býtčasy stání popřípadě výška tiskového nákladu takto zpracovaných -4- tiskových desek značně zvýšeny. K tomu se obrazově osvětlené tis-kové desky, které byly například osvětleny v laserovém osvětlova-cím zařízení vlnovou délkou 4S8 nm nebo dostaly projekční osvět-lení rtutovým nebo xenonovým zářičem, bleskovým světlem, uhlíko-vou lampou npod., vystaví v zařízení pro dodatečné zpracovánídruhému, celoplošnému difušnímu osvětlení světlem vlnové délkyA= 450 nm až 650 nm velmi nízké intenzity asi od 100 do 800 Lx.sa potom se ve stejném zařízení zahřejí na teplotu 80 °C až 120 °C. U tohoto zařízení pro dodatečné zpracování je výhodné, že osvětlo-vací stanoviště i ohřívací stanoviště jsou navzájem nezávisle re-gulovatelné. Přehled obrázků na výkresech
Vynález je znázorněn na výkresech, kde obr.l je nárys zařízenípodle vynálezu v řezu, obr.2 je detail odrazového stolu zařízenípodle vynálezu znázorněný v řezu a obr.3 je půdorys odrazovéhostolu z obr.2. Přiklad provedení vynálezu
Zařízení 1 pro dodatečné zpracování obsahuje jako podstatnésoučásti osvětlovací stanoviště 2, ohřívací stanoviště 2» odrazo-vý stůl 2 a vstupní pár 2 a výstupní pár 6 dopravních válců, při-čemž tyto součásti jsou obklopeny skříní £ zařízení 1 pro dodateč-né zpracování. Tiskové desky 30. z nichž jedna je schematicky zná-zorněna v obr.l, probíhají podél dopravní dráhy 12 zařízením 1pro dodatečné zpracování. Pro dopravu tiskové desky 30 zařízením1 je na začátku dopravní dráhy 12 uvnitř zařízení 1 uspořádánvstupní pár 2 dopravních válců a na konci dopravní dráhy 12 uvnitřzařízení 1 je uspořádán výstupní pár 6 dopravních válců. Na hří-delích dopravních válců obou párů 2 a É jsou nasazena čelní ozube-ná kola 22,26,27 a 28, kolem kterých je veden bezkončitý řetěz 29.Jeden dopravní válec vstupního páru 2 <íe poháněn neznázorněnýmelektromotorem. Čelní ozubené kolo poháněného dopravního válceuvádí řetěz 29 do pohybu, čímž je zajištěn synchronní otáčivý po-hyb mezi vstupním párem 2 9 výstupním párem 6 dopravních válců.
Osvětlovací stanoviště 2 je vzhledem ke směru dopravy tisko- vé desky 30 předřazeno ohřívacímu stanovišti 2· V osvětlovacím stanovišti je umístěn regulovatelný zdroj 2 záření pro celoplošné -5- difusní osvětlení tiskové desky 22· Tento zdroj 8 záření je napří-klad zářivka, která je uložena v uzavřeném pouzdru osvětlovacíhostanoviště 2. Směrem dolů ve směru dopravní dráhy 12 pro tiskovédesky 30 má pouzdro osvětlovacího stanoviště 2 osvětlovací otvor13, který je zakryt filtračním kotoučem 2· Osvětlovací otvor 13je vytvořen jako štěrbina, jejíž šířka je nastavitelná stavěcímmechanismem 14 v rozsahu od 0,5 do 20 mm. Stavěči mechanismus 14je vytvořen jako úhlové šoupátko, které, běží v kolejnicích,,
Filtrační kotouč 2 sestává z kotouče 10 z umělé hmoty, napří-klad z polymethylmethakrylátu PMMA. a z na něj nalepené filtračnífolie 11. Filtrační folie 11 je zvolena tak, Že pro záření nadspektrálním rozsahem 500 nm je propustná a pro záření o vlnovédélce menší nebo rovné 500 nm je téměř nepropustná»
Rovněž mohou být použity filtrační kotouče 2, které jsou hra-novými filtry a sestávají pouze z jednoho kotouče PMMA příslušnězbarveného nebo ze speciálně zbarveného skla.
Intenzita osvětlení zdroje 8 záření osvětlovacího stanoviště2 je pro přesné dávkování množství světla přivedeného na tiskovoudesku 30 řiditelná elektronicky pomocí stmívače plynule mezi 30 %a 100 % maximální intenzity osvětlení. Oznamování intenzity osvět-lení tohoto zdroje záření se provádí číslicově, přičemž pro mě-ření intenzity osvětlení je uvnitř pouzdra osvětlovacího stanoviš-tě 2 umístěno Čidlo 23. Uzavřenost pouzdra zamezuje vznik vněj-ších rušivých záření, která by mohla nežádoucím způsobem ovlivnitměření intenzity osvětlení čidlem 23.
Stmívač pro nastavení intenzity osvětlení zdroje § záření jesoučástí elektronického regulátoru 24. který je schematicky znázorněn nad osvětlovacím stanovištěm 2.
Spektrální podíl zdroje 8 záření leží v rozsahu vlnových dé-lek od 400 do 700 nm, přičemž 80 % vysílaného záření má vlnovoudélku větší než 500 nm. Ztráta energie popřípadě absorpce zářenífiltračním kotoučem 2 popřípadě filtrační folií 11 a tím takéoteplení těchto součástí je velmi malé následkem zvoleného spekt-rálního rozdělení zdroje 8 záření. Čidlo 23 k měření intenzity osvětlení je obvykle fotobuňka,která je umístěna v pouzdru osvětlovacího stanoviště 2 a je tímodstíněna od jakéhokoli rušivého záření, například od denníhosvětla vnikajícího do zařízení 1 pro dodatečné zpracování.
Ohřívací stanoviště 2 ΰθ opatřeno zdrojem 18 infračervenéhozáření, který je umístěn vepebzdru, které je na třech stranáchtepelně izolováno izolací 20.21,22. Směrem dolů je pouzdro otev-řeno k odrazovému stolu 2, přes který se vede tisková deska 30zařízením 1 pro dodatečné zpracování. Zdroj 18 ohřívacího stano-viště 2 je například infračervený tmavý zářič z keramického mate-riálu, který vysílá záření v rozsahu vlnových délek vzdáleném jakod viditelného rozsahu vlnových délek tak od rozsahu citlivostitiskových desek 30 na záření. Nad zdrojem 18 infračerveného záře-ní je umístěn reflektor 19. Záření vysílané zdrojem 18 infračer-veného záření leží v rozsahu vlnových délek od 1000 nm až nad10000 nm. Tímto spektrálním rozsahem tepelného záření jsou možnénavzájem zcela nezávislé dávky elektromagnetických záření působí-cích na tiskové desky 22, totiž jednak dříve uvedené infračervenézáření pro vyvíjení tepla a na druhé straně difusní osvětlení vi-ditelným světlem pro tak zvané "dosvětlení" již obrazově osvět-lené tiskové desky 30.
Zdroj 18 infračerveného záření je v zářivém výkonu tak regu-lovatelný, že tisková deska 30 může být zahřáta na teplotu od 80do 120 °C.
Odrazový stůl 2 je vytvořen jako žlabovité duté těleso, kterémá na úrovni dopravní dráhy 12 tiskových desek 30 potah 12, jakje patrno z obr.2 a 3. Potah 13 sestává buď z tenkého kovovéhodrátu nebo z tenkého syntetického vlákna a je napnut ve tvaru Vna horní straně odrazového stolu 2 podle obr.3, aby přední rohytiskové desky 30 při dopravě zařízením 1 pro dodatečné zpracováníse nemohly dostat pod potah 12, což by mělo za následek nahroma-dění tiskových desek 30*
Vlivem velmi nepatrné tepelné jímavosti potahu 13 ve srovná-ní s tiskovou deskou 30 je zajištěno, že v žádné oblasti tiskovédesky 30 během ohřevu pod ohřívacím stanovištěm 2 nedojde k odvá-dění tepla, které by mohlo způsobit nestejnoměrný ohřev tiskovédesky 2Q. Vnitřní strana odrazového stolu 2 je vyložena kovovýmplechem odrážejícím teplo. Na spodní straně odrazového stolu 7jsou uspořádána přestavovací ústrojí 16,12» obvykle stavěči šrou-by, které umožňují v malém rozmezí zdvih a spuštění základní plo-chy odrazového stolu 2 tvaru žlabu, aby tak bylo možno nastavitv určité míře vzdálenost spodní strany tiskové desky 30 od základ-ní plochy odrazového stolu 2· -7-
Odvádění tepla z tiskové desky 22» například stykem mezitiskovou deskou 22 ® kovovým plechem odrazového stolu χ by moh-lo způsobit částečný pokles teploty v oblasti stykové plochy atím nerovnoměrný ohřev a také nestejnoměrné dodatečné vytvrzenífotopolymerové vrstvy tiskové desky 30»
Zařízením 1 pro dodatečné zpracování se dosáhnou výhody spo-čívající v tom, že zdroj 8 záření osvětlovacího stanoviště 2 vy-tváří v rozsahu pracovní šířky tiskové desky 30 velmi stejnoměr-nou intenzitu osvětlení, elektronický regulátor zajištuje dlouhouŽivotnost zdroje 8 záření osvětlovacího stanoviště 2, intenzitaosvětlení zdroje 8 záření může být regulována plynule a oznamová-na číslicově pro přesnou kontrolu osvětlení tiskové desky 30» Tím jsou i výsledky vždy reprodukovatelné i při výměně zdroje 8záření nebo při kolísání intenzity osvětlení způsobeném kolísánímteploty nebo poruchami sítě. Další výhody zařízení 1 pro dodateč-né zpracování spočívají v tom, že v oblasti osvětlovacího stano-viště 2 a ohřívacího stanoviště 2 nemohou vznikat žádná rušivázáření, že nežádoucí ultrafialové podíly ve spektru zdroje 8 zá-ření osvětlovacího stanoviště 2 jsou vyfiltrovány speciálnímifiltračními foliemi popřípadě hranovými filtry ze skla nebo PMMáa že pro osvětlení je osvětlovací otvor 13 nastavitelný v rozsa-hu od 0,5 do 20 mm.
Claims (13)
- PATENTOVÍ N Á R»r. NM VŠETEČKA advokát PRAHA1. Zařízení pro dodatečné zpracování tiskových desek, které JSOU —«=>obrazově osvětleny, s ohřívacím stanovištěm, vyznačující se tím, že osvětlovací stanoviště (2) zabudované do zařízení (1) pro do-datečné zpracování tiskových desek je uspořádáno před ohřívacímstanovištěm (3), že osvětlovací stanoviště (2) má regulovatelnýzdroj (8) záření pro celoplošné osvětlení tiskové desky (30) afiltrační kotouč (9), který zakrývá osvětlovací otvor (13) na spod-ní straně osvětlovacího stanoviště (2), a že ohřívací stanoviště(3) je opatřeno zdrojem (18) infračerveného záření umístěnýmv pouzdru, které je opatřeno na třech stranách izolací (20,21,22)a které je otevřeno směrem dolů na odrazový stůl (7), nad kterýmse tisková deska (30) vede zařízením (1) pro dodatečné zpracování.
- 2. Zařízení podle bodu 1, vyznačující se tím, že zdroj (8) zářeníosvětlovacího stanoviště (2) je zářivka, jejíž intenzita osvětleníje v mezích od 30 % do 100 % maximální intenzity osvětlení plynuleregulovatelná elektronickým stmívačem.
- 3. Zařízení podle bodu 2, vyznačující se tím, že spektrální podílzářivky leží v rozsahu od 400 do 700 nm a 80 % vysílaného zářenímá vlnovou délku větší než 500 nm.
- 4. Zařízení podle bodu 1, vyznačující se tím, že osvětlovací ot-vor (13) je vytvořen jako štěrbina, jejíž šířka je nastavitelnástavěcím mechanismem (14) v rozsahu od 0,5 mm do 20 mm.
- 5. Zařízení podle bodu 1, vyznačující se tím, že filtrační kotouč (9) sestává z kotouče (10) z umělé hmoty a z filtrační folie (11)na něj nalepené a že filtrační folie (11) je propustná pro zářenínad spektrálním rozsahem 500 nm a pro záření i vlnové délce rovnénebo menší než 500 nm je téměř nepropustná.
- 6. Zařízení podle bodu 1, vyznačující se tím, že filtrační kotouč(9) je hranový filtr ze speciálně zbarveného skla popřípadě zbar-veného polymethylmethakrylátu PMMA.
- 7. Zařízení podle bodu 1, vyznačující se tím, že uvnitř osvětlo-vacího stanoviště (2) je umístěno čidlo (23) pro měření intenzityosvětlení zdroje .(8) záření a že oznamování intenzity osvětleníse provádí číslicově.
- 8. Zařízení podle bodu 1, vyznačující se tím, že zdroj (18) infra-červeného záření ohřívacího stanoviště (3) je infračervený temný -9- zářič z keramického materiálu, který vysílá záření v oblastivlnových délek velmi vzdálené jak od oblasti viditelného zářenítak i od oblasti citlivosti tiskových desek (30) na záření,
- 9. Zařízení podle bodu 1, vyznačující se tím, že zdroj (18) in-fračerveného záření vysílá záření v rozsahu vlnových délek od 1000 nm do 10000 nm.
- 10. Zařízení podle bodu 9, vyznačující se tím, Že zářivý výkonzdroje (18) infračerveného záření je regulovatelný k ohřevu tis-kové desky (30) na teplotu od 80 °C do 120 °C.
- 11. Zařízení podle bodu 1, vyznačující se tím, že odrazový stůl(7) je vytvořen jako Žlabovité duté těleso, které ve výškovéúrovní dopravní dráhy (12) tiskových desek (30) má potah (15).
- 12. Zařízení podle bodu 11, vyznačující se tím, že potah (15)sestává z tenkého kovového drátu nebo z tenkého syntetickéhovlákna a je napnut ve tvaru V na horní straně odrazového stolu (7).13® Zařízení podle bodu 10, vyznačující se tím, že vnitřní stranaodrazového stolu (7) je vyložena kovovým plechem odrážejícímteplo.
- 14. Zařízení podle bodu 1, vyznačující se tím, že pro dopravutiskových desek (30) podél dopravní dráhy (12) je zařízení (1)pro dodatečné zpracování opatřeno jedním vstupním párem (5) ajedním výstupním párem (6) dopravních válců umístěných uvnitřskříně (4) a poháněných synchronně řetězem (29) vedeným kolemčelních ozubených kol (25,26,27,28) nasazených na hřídelích do-pravních válců vstupního páru (5) a výstupního péru (6) a jedendopravní válec vstupního páru (5) je o patřen motorovým pohonem. Zastupuje:
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE4011023A DE4011023A1 (de) | 1990-04-05 | 1990-04-05 | Nachbehandlungsgeraet fuer druckplatten |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CS78391A2 true CS78391A2 (en) | 1991-10-15 |
Family
ID=6403831
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CS91783A CS78391A2 (en) | 1990-04-05 | 1991-03-22 | Device for printing plants' additional treatment |
Country Status (13)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US5124559A (cs) |
EP (1) | EP0450486B1 (cs) |
JP (1) | JPH04230760A (cs) |
KR (1) | KR910018852A (cs) |
AT (1) | ATE144331T1 (cs) |
BR (1) | BR9101369A (cs) |
CA (1) | CA2039811A1 (cs) |
CS (1) | CS78391A2 (cs) |
DE (2) | DE4011023A1 (cs) |
DK (1) | DK0450486T3 (cs) |
ES (1) | ES2092518T3 (cs) |
FI (1) | FI911598A (cs) |
ZA (1) | ZA912499B (cs) |
Families Citing this family (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
RU2070211C1 (ru) * | 1990-09-27 | 1996-12-10 | Сам Янг Ко., Лтд. | Способ получения гидрофильной полимерной пленки и устройство для его осуществления |
DE4134161C2 (de) * | 1991-10-11 | 1996-12-12 | Basys Gmbh | Verfahren und Gerät zur Nachbehandlung von Druckformen |
DE4225831A1 (de) * | 1992-08-05 | 1994-02-10 | Hoechst Ag | Nachbehandlungsgerät für bildmäßig belichtete Druckplatten |
DE4437631A1 (de) * | 1994-10-21 | 1996-04-25 | Decoufle Sarl | Vorrichtung zum Erwärmen der Klebnaht eines Stranges der tabakverarbeitenden Industrie |
JPH10282681A (ja) * | 1997-04-04 | 1998-10-23 | Fuji Photo Film Co Ltd | 感光性印刷版材用合紙 |
US6425926B1 (en) * | 1999-05-04 | 2002-07-30 | Jakobus Hindriks | Thermosol treatment of textiles carrying a dye |
US6550989B1 (en) | 1999-10-15 | 2003-04-22 | Kodak Polychrome Graphics Llc | Apparatus and methods for development of resist patterns |
DE10115066B4 (de) * | 2001-03-27 | 2012-10-04 | Leica Biosystems Nussloch Gmbh | Vorrichtung zum Trocknen lösungsmittelbasierender Tinte |
US7632625B2 (en) * | 2004-05-25 | 2009-12-15 | Roberts David H | Method of pre-exposing relief image printing plate |
JP2007033882A (ja) * | 2005-07-27 | 2007-02-08 | Hitachi Via Mechanics Ltd | 露光装置及び露光方法並びに配線基板の製造方法 |
Family Cites Families (14)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
NL273451A (cs) * | 1961-01-13 | |||
NL134969C (cs) * | 1965-04-21 | |||
ZA739244B (en) * | 1973-04-19 | 1974-11-27 | Grace W R & Co | Preparation of printing of pattern plates |
GB1509312A (en) * | 1974-04-01 | 1978-05-04 | Nippon Paint Co Ltd | Method and apparatus for curing photo-curable composition |
US3958586A (en) * | 1974-12-04 | 1976-05-25 | Tasope' Limited | Combined washer and dryer unit |
HU169051B (cs) * | 1974-12-20 | 1976-09-28 | ||
DE2609273A1 (de) * | 1976-03-05 | 1977-09-08 | Mutzhas Maximilian F | Bestrahlungseinrichtung mit ultraviolett-strahlenquelle |
DE2706913C3 (de) * | 1977-02-18 | 1980-03-06 | Basf Ag, 6700 Ludwigshafen | Vorrichtung zum Behändem von nach photochemischen Verfahren hergestellten Druckplatten |
JPS5596942A (en) * | 1979-01-19 | 1980-07-23 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Method and apparatus for producing minute pattern |
DE3044184A1 (de) * | 1980-11-24 | 1982-06-16 | Mutzhas Maximilian F | Vorrichtung zur phototherapeutischen behandlung der hyperbilirubinaemie |
JPS5887556A (ja) * | 1981-11-20 | 1983-05-25 | Hitachi Ltd | 自動連続式ベ−ク炉 |
US4665627A (en) * | 1985-11-01 | 1987-05-19 | Research, Incorporated | Dry film curing machine with ultraviolet lamp controls |
US4716097A (en) * | 1986-02-03 | 1987-12-29 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Increased photopolymer photospeed employing yellow light preexposure |
DE8810445U1 (de) * | 1988-08-18 | 1988-11-17 | Könings Elektronische Antriebstechnik und Industrieanlagenbau GmbH & Co. KG, 4060 Viersen | Einbrenn-Tunnelofen |
-
1990
- 1990-04-05 DE DE4011023A patent/DE4011023A1/de not_active Withdrawn
-
1991
- 1991-03-22 CS CS91783A patent/CS78391A2/cs unknown
- 1991-03-27 DK DK91104866.8T patent/DK0450486T3/da active
- 1991-03-27 AT AT91104866T patent/ATE144331T1/de not_active IP Right Cessation
- 1991-03-27 EP EP91104866A patent/EP0450486B1/de not_active Expired - Lifetime
- 1991-03-27 DE DE59108275T patent/DE59108275D1/de not_active Expired - Fee Related
- 1991-03-27 ES ES91104866T patent/ES2092518T3/es not_active Expired - Lifetime
- 1991-04-01 US US07/678,439 patent/US5124559A/en not_active Expired - Lifetime
- 1991-04-02 KR KR1019910005253A patent/KR910018852A/ko not_active Application Discontinuation
- 1991-04-03 JP JP3098146A patent/JPH04230760A/ja active Pending
- 1991-04-03 FI FI911598A patent/FI911598A/fi not_active Application Discontinuation
- 1991-04-04 CA CA002039811A patent/CA2039811A1/en not_active Abandoned
- 1991-04-04 ZA ZA912499A patent/ZA912499B/xx unknown
- 1991-04-04 BR BR919101369A patent/BR9101369A/pt unknown
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
DE4011023A1 (de) | 1991-10-10 |
US5124559A (en) | 1992-06-23 |
EP0450486A3 (en) | 1992-05-27 |
CA2039811A1 (en) | 1991-10-06 |
ES2092518T3 (es) | 1996-12-01 |
DE59108275D1 (de) | 1996-11-21 |
ZA912499B (en) | 1991-12-24 |
FI911598A (fi) | 1991-10-06 |
KR910018852A (ko) | 1991-11-30 |
JPH04230760A (ja) | 1992-08-19 |
DK0450486T3 (cs) | 1997-03-24 |
EP0450486B1 (de) | 1996-10-16 |
ATE144331T1 (de) | 1996-11-15 |
EP0450486A2 (de) | 1991-10-09 |
BR9101369A (pt) | 1991-11-26 |
FI911598A0 (fi) | 1991-04-03 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
CS78391A2 (en) | Device for printing plants' additional treatment | |
CA2924672C (en) | Device and method for the in-line production of flexographic printing plates | |
CA2260217A1 (en) | Irradiating apparatus using a scanning light source for photodynamic treatment | |
EP1331519A3 (en) | Exposure control | |
US5667850A (en) | Method of curing with ultraviolet radiation on substrates requiring low heat | |
US5386268A (en) | Exposure unit and method for exposing photosensitive materials | |
US5455416A (en) | Preexposure device for printing forms to be imagewise exposed | |
US3397630A (en) | Diazotype copying apparatus | |
EP0312002B1 (en) | Exposure apparatus | |
KR101176085B1 (ko) | 필름 웹을 위한 노광 스테이션 | |
NL2023537B1 (en) | Apparatus and method for exposure of relief precursors | |
DK0975148T3 (da) | Fremgangsmåde til indgravering af billeder ved hjælp af stråling i et strålefölsomt lag, særligt til lasergravering | |
NL2024756B1 (en) | Apparatus and method for exposure of relief precursors | |
US5359201A (en) | Aftertreatment apparatus for imagewise exposed printing plates | |
US20230264466A1 (en) | Apparatus and Method for Exposure or Relief Precursors | |
US3385192A (en) | Photoprinting apparatus and process | |
US20030030015A1 (en) | Apparatus for irradiating articles | |
NL2034081B1 (en) | Exposure unit with improved light intensity uniformness for exposing a relief plate precursor | |
RU2813114C2 (ru) | Способ и устройство для экспонирования исходного материала для формирования рельефа | |
JPH03169338A (ja) | 紫外線照射装置 | |
DE2028419A1 (cs) | ||
JPH04140141A (ja) | 紫外線照射装置 | |
DE9210462U1 (de) | Nachbehandlungsgerät für bildmäßig belichtete Druckplatten | |
CN117836148A (zh) | 用于柔性版印刷元件的热处理的方法和系统 | |
GB1472979A (en) | Process and apparatus for preparing a relief image on a continuous support |