JPH01218631A - 多波長選択紫外線照射装置 - Google Patents
多波長選択紫外線照射装置Info
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- JPH01218631A JPH01218631A JP4454088A JP4454088A JPH01218631A JP H01218631 A JPH01218631 A JP H01218631A JP 4454088 A JP4454088 A JP 4454088A JP 4454088 A JP4454088 A JP 4454088A JP H01218631 A JPH01218631 A JP H01218631A
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Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J19/00—Chemical, physical or physico-chemical processes in general; Their relevant apparatus
- B01J19/08—Processes employing the direct application of electric or wave energy, or particle radiation; Apparatus therefor
- B01J19/12—Processes employing the direct application of electric or wave energy, or particle radiation; Apparatus therefor employing electromagnetic waves
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、紫外硬化樹脂に紫外線を照射して樹脂の硬化
特性を評価したり、各種材料に紫外線を照射して材料の
紫外線劣化度を評価する等の用途に使用する紫外線照射
装置に関し、特に、被照射体に幾つかの波長域の紫外線
を選択的に、かつ均一に照射できるようにした多波長選
択紫外線照射装置に関する。
特性を評価したり、各種材料に紫外線を照射して材料の
紫外線劣化度を評価する等の用途に使用する紫外線照射
装置に関し、特に、被照射体に幾つかの波長域の紫外線
を選択的に、かつ均一に照射できるようにした多波長選
択紫外線照射装置に関する。
紫外硬化樹脂に幾つかの波長域の紫外線を照射して樹脂
の硬化特性を評価する手段として、従来は例えば分光照
射器が使用されている。この分光照射器は紫外線発生装
置によって発生させた紫外線を分光装置により各波長域
の紫外線に分光し、必要な波長域の紫外線を選択的に取
り出して被照射体に照射するように構成したものである
。各種材料に紫外線を照射して材料の紫外線劣化度を評
価するのにも前記の分光照射器が用いられていた。
の硬化特性を評価する手段として、従来は例えば分光照
射器が使用されている。この分光照射器は紫外線発生装
置によって発生させた紫外線を分光装置により各波長域
の紫外線に分光し、必要な波長域の紫外線を選択的に取
り出して被照射体に照射するように構成したものである
。各種材料に紫外線を照射して材料の紫外線劣化度を評
価するのにも前記の分光照射器が用いられていた。
分光照射器以外の手段としては、反射鏡の内部に市販の
各波長用紫外線ランプを装着したり、これに波長選択用
フィルターを組合せた簡易型の紫外線照射器が使用され
ていた。例えば、シリコンウェハーのポジレヂスト材の
硬化用等にも一般的にはこのタイプの照射器が使用され
ていた。
各波長用紫外線ランプを装着したり、これに波長選択用
フィルターを組合せた簡易型の紫外線照射器が使用され
ていた。例えば、シリコンウェハーのポジレヂスト材の
硬化用等にも一般的にはこのタイプの照射器が使用され
ていた。
しかし、分光照射器は構造が複雑で極めて高価であるう
え、取扱い方が難かしいという大きな欠点がある。また
、簡易型の紫外線照射器は、照射しようとする紫外線波
長域に応じてランプやフィルターを交換しなければなら
ないだけでなく、被照射体に対する紫外線強度を必要に
応じて調整したり、照度分布を均一にすることが困難で
あるという欠点がある。
え、取扱い方が難かしいという大きな欠点がある。また
、簡易型の紫外線照射器は、照射しようとする紫外線波
長域に応じてランプやフィルターを交換しなければなら
ないだけでなく、被照射体に対する紫外線強度を必要に
応じて調整したり、照度分布を均一にすることが困難で
あるという欠点がある。
例えば、とい状の放物面反射鏡の内部に3kWの高圧水
銀ランプを装着してなる紫外線照射器を用いた場合、約
]OCm離れた被照射面における紫外線照射強度は30
0〜600 mW/ Cm’で、同一面内の均一性はプ
ラス・マイナス5〜9%程度とかなり悪く、シリコンウ
ェハーのポジレヂスト材硬化に用いる場合等は新規レヂ
スト材用としては使用できない。被照射面を紫外線照射
器から遠ざけると、ますまず均一性が悪くなり全く使用
できなくなる。
銀ランプを装着してなる紫外線照射器を用いた場合、約
]OCm離れた被照射面における紫外線照射強度は30
0〜600 mW/ Cm’で、同一面内の均一性はプ
ラス・マイナス5〜9%程度とかなり悪く、シリコンウ
ェハーのポジレヂスト材硬化に用いる場合等は新規レヂ
スト材用としては使用できない。被照射面を紫外線照射
器から遠ざけると、ますまず均一性が悪くなり全く使用
できなくなる。
本発明は、前記のような諸問題を解決して、安価で、操
作性が良(、被照射体に対して必要な波長域の紫外線を
選択的にかつ均一に照射することができる多波長選択紫
外線照射装置を提供することを目的とする。
作性が良(、被照射体に対して必要な波長域の紫外線を
選択的にかつ均一に照射することができる多波長選択紫
外線照射装置を提供することを目的とする。
本発明は前記目的を達成するため、紫外線照射装置を次
のような構成部分によって構成するものである。すなわ
ち、紫外線発生装置と、該紫外線発生装置により発生さ
せた紫外線のうち特定波長域のものを選択的に被照射体
の方向に反射させる波長選択ミラーと、該波長選択ミラ
ーと被照射体の間に設置されたスリット走行式シャッタ
ーと、該スリット走行式シャッターの後方に設置された
適数の補助反射板及び拡散板とによって装置を構成する
ものである。
のような構成部分によって構成するものである。すなわ
ち、紫外線発生装置と、該紫外線発生装置により発生さ
せた紫外線のうち特定波長域のものを選択的に被照射体
の方向に反射させる波長選択ミラーと、該波長選択ミラ
ーと被照射体の間に設置されたスリット走行式シャッタ
ーと、該スリット走行式シャッターの後方に設置された
適数の補助反射板及び拡散板とによって装置を構成する
ものである。
上記のように構成すると、紫外線発生装置により発生さ
せた紫外線のうち特定波長域のものは、波長選択ミラー
によって選択的に被照射体の方向に反射される。そして
波長選択ミラーと被照射体の間に設置されたスリット・
走行式シャッターを通過して、該スリット走行式シャッ
ターの後方に設置された適数の補助反射板及び拡散板の
間を通って被照射体に照射される。
せた紫外線のうち特定波長域のものは、波長選択ミラー
によって選択的に被照射体の方向に反射される。そして
波長選択ミラーと被照射体の間に設置されたスリット・
走行式シャッターを通過して、該スリット走行式シャッ
ターの後方に設置された適数の補助反射板及び拡散板の
間を通って被照射体に照射される。
これによって被照射体に、特定波長域の紫外線を必要な
照射強度で均一に照射することができる。
照射強度で均一に照射することができる。
第1図に本発明に係る多波長選択紫外線照射装置の一実
施例を示す。同図において、1は例えば高圧水銀ランプ
やメタルハライドランプのごとき紫外線発生装置、2は
紫外線発生装置1によって発生させた紫外線のうち、被
照射体3に照射すべき特定波長域の紫外線のみを選択的
に被照射体3の方向に反射させる波長選択ミラーである
。この波長選択ミラー2は例えばガラス板や金属板の表
面に光屈折率の異る金属酸化物の蒸着膜を多層に形成し
てなるもので、金属酸化物の種数や蒸着膜の厚み、層数
等を適宜選択することにより、特定波長域の紫外線のみ
を反射させることができる。
施例を示す。同図において、1は例えば高圧水銀ランプ
やメタルハライドランプのごとき紫外線発生装置、2は
紫外線発生装置1によって発生させた紫外線のうち、被
照射体3に照射すべき特定波長域の紫外線のみを選択的
に被照射体3の方向に反射させる波長選択ミラーである
。この波長選択ミラー2は例えばガラス板や金属板の表
面に光屈折率の異る金属酸化物の蒸着膜を多層に形成し
てなるもので、金属酸化物の種数や蒸着膜の厚み、層数
等を適宜選択することにより、特定波長域の紫外線のみ
を反射させることができる。
したがって、この波長選択ミラー2を交換可能にしてお
き、被照射体3に照射したい紫外線の波長域またはピー
ク波長に応じて適当な種類の波長選択ミラーを装着する
ようにしておけばよい。なお、4は紫外線発生装置1か
ら発生する可視光線や赤外線を後方に透過させ、紫外線
を効率よく波長選択ミラー2に送り出すために、紫外線
発生装置1の後方に設置されたコールドミラーである。
き、被照射体3に照射したい紫外線の波長域またはピー
ク波長に応じて適当な種類の波長選択ミラーを装着する
ようにしておけばよい。なお、4は紫外線発生装置1か
ら発生する可視光線や赤外線を後方に透過させ、紫外線
を効率よく波長選択ミラー2に送り出すために、紫外線
発生装置1の後方に設置されたコールドミラーである。
また、5は波長選択ミラー2と被照射体3の間に設置さ
れたスリット走行式シャッターである。
れたスリット走行式シャッターである。
このシャッター5は第2図に示すように、2つのローラ
ー6a、6bによって駆動されるシャッター幕7に一対
のスリット8a、8bを設けておき、シャッター幕7を
一方的に駆動させて一対のスリット8a、8bの位置が
重なり会った時に該スリットを通して被照射体が露光さ
れるように構成したものである。このスリット走行式シ
ャッター5は第1図に示すようにパルスモータ9等によ
って駆動するようにしである。
ー6a、6bによって駆動されるシャッター幕7に一対
のスリット8a、8bを設けておき、シャッター幕7を
一方的に駆動させて一対のスリット8a、8bの位置が
重なり会った時に該スリットを通して被照射体が露光さ
れるように構成したものである。このスリット走行式シ
ャッター5は第1図に示すようにパルスモータ9等によ
って駆動するようにしである。
なお、11は波長選択ミラー2によって反射された紫外
線の通路の一部(被照射体への照射の妨げとならない位
置)に設置された紫外線検知器であって、この紫外線検
知器の出力信号に応じてスリット走行式シャッター5の
シャッター速度及びシャッター開放時間を調整するよう
に構成すれば露光量の微少な調整が可能となる。12は
スリット走行式シャッター5の後方に設置された補助反
射板。13は同じく拡散板である。
線の通路の一部(被照射体への照射の妨げとならない位
置)に設置された紫外線検知器であって、この紫外線検
知器の出力信号に応じてスリット走行式シャッター5の
シャッター速度及びシャッター開放時間を調整するよう
に構成すれば露光量の微少な調整が可能となる。12は
スリット走行式シャッター5の後方に設置された補助反
射板。13は同じく拡散板である。
補助反射板12は内面を鏡面又は散光面とした板体によ
って構成されており、拡散板13は石英ガラスのごとに
耐熱性紫外線透過材で構成されている。そして、前記補
助反射板12と拡散板13とを図のように交互に配置す
ることにより、被照射面における紫外線の照射強度と照
度分布を調整することができる。これに加えて、補助反
射板12の前部に第3図及び第4図17示すような遮光
体14を設置することにより、紫外線の照射強度と照度
分布をより適切に調整することができる。
って構成されており、拡散板13は石英ガラスのごとに
耐熱性紫外線透過材で構成されている。そして、前記補
助反射板12と拡散板13とを図のように交互に配置す
ることにより、被照射面における紫外線の照射強度と照
度分布を調整することができる。これに加えて、補助反
射板12の前部に第3図及び第4図17示すような遮光
体14を設置することにより、紫外線の照射強度と照度
分布をより適切に調整することができる。
第3図は格子状の網体からなる遮光体であって、中央部
分の格子を密にし、両側に向って次第に粗に構成し、こ
れを紫外線ランプlに対して図のように配置する。格子
の巾や本数及び配列方法等により紫外線の照射強度や照
度分布を制御することができる。第4図は紫外線透過フ
ィルム15に塗料等により紫外線非透過部16を形成し
た、別の遮光体の例を示す。なお、第3図及び第4図の
例において、格子や非透過部を紫外線ランプの長手軸と
平行緋林に形成したり、縦横組合せた構成のものを使用
してもよい。
分の格子を密にし、両側に向って次第に粗に構成し、こ
れを紫外線ランプlに対して図のように配置する。格子
の巾や本数及び配列方法等により紫外線の照射強度や照
度分布を制御することができる。第4図は紫外線透過フ
ィルム15に塗料等により紫外線非透過部16を形成し
た、別の遮光体の例を示す。なお、第3図及び第4図の
例において、格子や非透過部を紫外線ランプの長手軸と
平行緋林に形成したり、縦横組合せた構成のものを使用
してもよい。
以上述べたような第1図に示す装置において、紫外線発
生装置1として3kWのロングアーク式高圧水銀ランプ
を用い、スリット走行式シャッター5としてシャッター
幕にガラス繊維を四フッ化樹脂で含浸した布を使いシャ
ッター速度を往復で04秒以下に設定したものを用い、
さらに、遮光板14としてステンレス製の格子状網体を
用い、補助反射板12には内面を陽極酸化処理したアル
ミ級 ニウム≠の円筒状反射板を、拡散板13にはフロスト加
工を施した石英ガラス板をそれぞれ用いた。
生装置1として3kWのロングアーク式高圧水銀ランプ
を用い、スリット走行式シャッター5としてシャッター
幕にガラス繊維を四フッ化樹脂で含浸した布を使いシャ
ッター速度を往復で04秒以下に設定したものを用い、
さらに、遮光板14としてステンレス製の格子状網体を
用い、補助反射板12には内面を陽極酸化処理したアル
ミ級 ニウム≠の円筒状反射板を、拡散板13にはフロスト加
工を施した石英ガラス板をそれぞれ用いた。
かかる装置における被照射面の紫外線照射強度は約10
0 mW/ Cm以下で、同一面内の均一性はプラス・
マイナス3%以内であった。
0 mW/ Cm以下で、同一面内の均一性はプラス・
マイナス3%以内であった。
なお、第1図において、17は装置本体、18は紫外線
発生装置例えば、高圧水銀ランプを収納した灯具、19
は波長選択ミラー用冷却ファンである。装置本体17に
は給気孔20を通じてフレッシュエア−が供給され、排
気孔21を通じて装置内のエアーが排気される。
発生装置例えば、高圧水銀ランプを収納した灯具、19
は波長選択ミラー用冷却ファンである。装置本体17に
は給気孔20を通じてフレッシュエア−が供給され、排
気孔21を通じて装置内のエアーが排気される。
本発明に係る紫外線照射装置は、紫外線発生装置で発生
した紫外線を波長選択ミラー、スリット走行式シャッタ
ー、補助反射板及び拡散板を介して被照射体に照射する
だけの簡単な構成なので、分光照射器に比べて極めて安
価であり、しかも取扱い易いという利点がある。
した紫外線を波長選択ミラー、スリット走行式シャッタ
ー、補助反射板及び拡散板を介して被照射体に照射する
だけの簡単な構成なので、分光照射器に比べて極めて安
価であり、しかも取扱い易いという利点がある。
また、波長選択ミラーを交換することにより任意の波長
域の紫外線を選択することができ、しかも、被照射面に
おける照射強度を巾広く調整することができ、それぞれ
の照射強度において均一な照度分布を得ることができる
ので、紫外硬化樹脂の特性評価、各種材料の紫外線劣化
度評価、及びシリコンウェハーのポジレヂスト材の硬化
等、多くの用途に使用することが可能である。
域の紫外線を選択することができ、しかも、被照射面に
おける照射強度を巾広く調整することができ、それぞれ
の照射強度において均一な照度分布を得ることができる
ので、紫外硬化樹脂の特性評価、各種材料の紫外線劣化
度評価、及びシリコンウェハーのポジレヂスト材の硬化
等、多くの用途に使用することが可能である。
第1図は本発明に係る多波長選択紫外線照射装置の断面
図、第2図は同装置に用いるスリット走行式シャッター
の斜視図、第3図及び第4図は同じく遮光体の平面であ
る。 第1図において、 1・・・紫外線発生装置、2 ・波長選択ミラー、3・
・・被照射体、5・・・スリット走行式シャッター、1
2・・補助反射板、I3・・・拡散板。 第1図 第2図 第3
図、第2図は同装置に用いるスリット走行式シャッター
の斜視図、第3図及び第4図は同じく遮光体の平面であ
る。 第1図において、 1・・・紫外線発生装置、2 ・波長選択ミラー、3・
・・被照射体、5・・・スリット走行式シャッター、1
2・・補助反射板、I3・・・拡散板。 第1図 第2図 第3
Claims (6)
- (1)紫外線発生装置(1)と該紫外線発生装置(1)
により発生させた紫外線のうち特定波長域のものを選択
的に被照射体(3)の方向に反射させる波長選択ミラー
(2)と該波長選択ミラー(2)と被照射体(3)の間
に設置されたスリット走行式シャッター(5)と、該ス
リット走行式シャッター(5)の後方に設置された適数
の補助反射板(12)及び拡散板(13)とを具備した
多波長選択紫外線照射装置。 - (2)紫外線発生装置(1)の後方に、可視光線及び赤
外線を透過させ紫外線を波長選択ミラー(2)の方向に
反射させるコールドミラー(4)を設置した特許請求の
範囲第1項記載の多波長選択紫外線照射装置。 - (3)波長選択ミラー(2)によって反射された紫外線
通路に紫外線検知器(11)を設置し、該紫外線検知器
(11)の出力信号に応じてスリット走行式シャッター
(5)のシャッター速度及びシャッター開放時間を調整
するように構成した特許請求の範囲第1項記載の多波長
選択紫外線照射装置。 - (4)スリット走行式シャッター(5)の後方に設置さ
れた適数の補助反射板(12)は内面を鏡面または散光
面とした板体によって構成されており、また、拡散板(
13)は石英ガラスによって構成されており、これらを
前記位置に交互に配置した特許請求の範囲第1項記載の
多波長選択紫外線照射装置。 - (5)スリット走行式シャッター(5)と補助反射板(
12)及び拡散板(13)との間に紫外線の照射強度及
び照度分布を調整する遮光体(14)を配置した特許請
求の範囲第1項記載の多波長選択紫外線照射装置。 - (6)波長選択ミラー(2)を交換可能に構成した特許
請求の範囲第1項記載の多波長選択紫外線照射装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP4454088A JPH01218631A (ja) | 1988-02-29 | 1988-02-29 | 多波長選択紫外線照射装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP4454088A JPH01218631A (ja) | 1988-02-29 | 1988-02-29 | 多波長選択紫外線照射装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH01218631A true JPH01218631A (ja) | 1989-08-31 |
Family
ID=12694343
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP4454088A Pending JPH01218631A (ja) | 1988-02-29 | 1988-02-29 | 多波長選択紫外線照射装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH01218631A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2011025170A (ja) * | 2009-07-27 | 2011-02-10 | Lintec Corp | 光照射装置および光照射方法 |
WO2018003830A1 (ja) * | 2016-06-28 | 2018-01-04 | 千代田工販株式会社 | 紫外線照射装置 |
-
1988
- 1988-02-29 JP JP4454088A patent/JPH01218631A/ja active Pending
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2011025170A (ja) * | 2009-07-27 | 2011-02-10 | Lintec Corp | 光照射装置および光照射方法 |
WO2018003830A1 (ja) * | 2016-06-28 | 2018-01-04 | 千代田工販株式会社 | 紫外線照射装置 |
JPWO2018003830A1 (ja) * | 2016-06-28 | 2019-07-04 | 千代田工販株式会社 | 紫外線照射装置 |
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