KR20030058744A - 노광장치 - Google Patents

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KR20030058744A
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아이티에스테크놀러지 주식회사
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Abstract

본 발명은 노광장치에 관한 것으로, 빛을 발광하기 위한 램프와 이 램프의 주위를 둘러싸는 형태로 배치되어 발광되는 빛을 집광하기 위한 엘립티컬 미러가 구비된 광원과, 상기 엘립티컬 미러에서 집광된 빛으로부터 자외선 영역의 빛을 추출하여 반사시키기 위한 콜드미러와, 상기 콜드미러에서 반사된 빛을 평행광으로 변화시키는 플래노 콘벡스 렌즈와, 상기 플래노 콘벡스 렌즈에서 나오는 빛을 상,하부로 분리시켜 진행시키기 위한 광 분할기와, 상기 광 분할기에서 분할된 빛의 경로를 변화시키기 위한 상,하부 미러와, 플라이아이 렌즈를 종,횡으로 다수개 배열하여 이루어지고 상기 상,하부 미러에 의해 반사되는 빛의 조명 균일도를 높이기 위한 상,하부 플라이아이 렌즈 집합체와, 기판 이송정치수단에 의해 노광할 정위치에 놓이게 되는 기판의 상,하부에 설치되고, 상기 상,하부 플라이아이 렌즈 집합체에서 투사된 빛을 소정 넓이를 가지는 기판의 상면과 하면에 전면적으로 조사하여 노광하기 위한 상,하부 구면거울을 포함하여 구성된다. 이러한 본 발명은 반도체 제조 및 인쇄회로기판 제조를 위한 기판이 상,하면을 균일하게 노광할 수 있는 효과가 있다.

Description

노광장치{EXPOSURE APPARATUS}
본 발명은 노광장치에 관한 것으로, 특히 반도체 제조 및 인쇄회로기판 제조를 위한 노광공정에서 기판의 상, 하면을 균일하게 노광할 수 있도록 한 노광장치에 관한 것이다.
일반적으로 인쇄회로기판 및 반도체를 제조하면서 기판에 만들고자 하는 패턴을 사진 전사에 의해 형성해주는 포토리소그래피 공정 중에서 사용되는 노광장치는 감광성 물질인 포토레지스트가 도포되고 회로패턴이 형성된 마스크를 덮은 기판의 양면(또는 단면)에 필요한 부분의 패턴을 형성하기 위하여 자외선과 같은 광선을 조사하는 장치이다.
그리고, 기판에 패턴을 정밀하게 형성하기 위해서는 노광면적에 균일한 조도로 노광하는 것이 필요하고, 최근에 기판의 면적이 증가하고 패턴이 세밀해지는 추세이므로 노광 조도의 균일성이 더욱 중요해지고 있다.
그러나, 통상의 노광장치는 노광되는 기판의 노광면 전체에 걸쳐서 균일한 조도로 노광되지 않고, 기판의 중앙부의 조도가 주변부의 조도 보다 높게 노광되는 경우가 대부분이다.
노광 조도의 분포를 균일하게 하기 위하여 종래에도 여러 가지 시도가 있었으며, 일본공개특허 평5-34926호에는 광원과 기판 사이에 균일한 요철이 형성된 확산판을 설치하여 빛이 기판에 고르게 퍼지도록 하는 방법이 알려지고 있다. 그러나이 방법에 의해서는 부분적인 조도 균일화는 이룰 수 있으나 대면적의 기판의 경우에는 효과가 적다. 또, 일본공개특허 평2-17630호에는 광원에 직선 또는 곡선이 조합된 단면을 갖는 반사갓을 설치하는 방식이 알려지고 있으나, 이 방식에 의해서도 빛의 방향을 바꿀 수는 있으나 완전히 균일한 조도를 얻을 수 없다.
본 발명은 위와 같은 종래의 결함 및 문제점을 해소하기 위하여 창안한 것으로, 반도체 제조 및 인쇄회로기판 제조를 위한 노광공정에서 기판의 상, 하면을 균일하게 노광할 수 있게 되는 노광장치를 제공하고자 함에 목적이 있다.
도 1 내지 도 5는 본 발명에 의한 노광장치의 일 실시예를 보인 도면으로서,
도 1 내지 도 3은 노광장치의 평면도, 정면도 및 측면도.
도 4 및 도 5는 노광장치의 요부 구성을 보인 측면도 및 광경로도.
도 6 내지 도 13은 본 발명의 다른 실시예를 보인 도면으로서,
도 6은 노광장치의 정면도.
도 7 및 도 8은 노광장치의 부분 사시도 및 광경로도.
도 9는 기판 이송장치의 부분 사시도.
도 10 내지 도 13은 프리즘과 플라이아이 렌즈 유니트를 회전시키기 위한 회전수단을 그 후방부에서 바라본 평면도, 정면도, 좌측면도 및 우측면도.
도 14 및 도 15는 본 발명의 장치에 의해 노광을 행한 후 노광량을 측정하여 보인 노광량 측정표.
< 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명>
100 : 광원101 : 램프
102 : 엘립티컬 미러103 : 경통
110 : 콜드미러120 : 원통형 렌즈하우징
130 : 플래노 콘벡스 렌즈140 : 광 분할기
141 : 지지판150 : 상,하부 미러
160 : 상,하부 플라이아이 렌즈 집합체
170 : 상,하부 구면거울180 : 셔터
181 : 승강수단190 : 반사경
200 : 프리즘220 : 셔터
210 : 플라이아이 렌즈 집합체300 : 정렬수단
500 : 회전수단501 : 프레임
502 : 모터503 : 구동기어
504 : 링형 종동기어505 : 지지체
506 : 축507 : 베어링
508 : 롤러600 : 이송수단
601,602 : 레일610 : 이송모터
611 : 벨트612 : 풀리
이와 같은 목적을 달성하기 위하여 본 발명에 의한 노광장치의 일 실시형태는 빛을 발광하기 위한 램프와 이 램프의 주위를 둘러싸는 형태로 배치되어 발광되는 빛을 집광하기 위한 엘립티컬 미러(elliptical mirror)가 구비된 광원과, 상기 엘립티컬 미러에서 집광된 빛으로부터 자외선 영역의 빛을 추출하여 반사시키기 위한 콜드미러(cold mirror)와, 상기 콜드미러에서 반사된 빛을 평행광으로 변화시키는 플래노 콘벡스 렌즈(plano convex lens)와, 상기 플래노 콘벡스 렌즈에서 나오는 빛을 상,하부로 분리시켜 진행시키기 위한 광 분할기(divider reflector)와, 상기 광 분할기에서 분할된 빛의 경로를 변화시키기 위한 상,하부 미러와, 플라이아이 렌즈(fly eye lens)를 종,횡으로 다수개 배열하여 이루어지고 상기 상,하부 미러에 의해 반사되는 빛의 조명 균일도를 높이기 위한 상,하부 플라이아이 렌즈 집합체와, 기판 이송정치수단에 의해 노광할 정위치에 놓이게 되는 기판의 상,하부에설치되고, 상기 상,하부 플라이아이 렌즈 집합체에서 투사된 빛을 소정 넓이를 가지는 기판의 상면과 하면에 전면적으로 조사하여 노광하기 위한 상,하부 구면거울(spherical mirror)을 포함하여 구성된다.
그리고 본 발명의 다른 실시형태는 상기 플래노 콘벡스 렌즈에서 나오는 빛의 경로를 변화시키기 위한 반사경과, 이 반사경에서 반사된 빛의 경로를 변화시키기 위한 프리즘과, 이 프리즘에서 투사된 빛의 조명 균일도를 높이기 위한 플라이아이 렌즈 집합체와, 상기 프리즘과 플라이아이 렌즈 집합체를 하나의 지지체에 결합하여 빛의 경로가 변화될 수 있도록 회전시키는 회전수단과, 상기 광원 설치부의 일측부에 설치되는 셔터와, 상기 상,하부 플라이아이 렌즈 집합체에서 투사된 빛을 소정 넓이를 가지는 기판의 상면과 하면에 전면적으로 조사하여 노광하기 위한 상,하부 구면거울을 포함하여 구성된다.
이하, 본 발명을 첨부한 도면에 실시예를 들어 보다 상세히 설명하면 다음과 같다.
도 1 내지 도 5는 본 발명에 의한 노광장치의 일 실시예를 보인 도면으로서, 도 1 내지 도 3에는 노광장치의 평면도, 정면도 및 측면도가 각각 도시되고, 도 4 및 도 5에는 노광장치의 요부 구성을 보인 측면도 및 광경로도가 각각 도시되어 있다.
이에 도시한 바와 같이, 빛을 발광하기 위한 램프(101)와 이 램프(101)의 주위를 둘러싸는 형태로 배치되어 발광되는 빛을 집광하기 위한 엘립티컬 미러(102)가 구비된 광원(100)과, 상기 엘립티컬 미러(102)에서 집광된 빛으로부터 자외선영역의 빛을 추출하여 반사시키기 위한 콜드미러(110)와, 상기 콜드미러(110)에서 반사된 빛을 평행광으로 변화시키는 플래노 콘벡스 렌즈(130)와, 상기 플래노 콘벡스 렌즈(130)에서 나오는 빛을 상,하부로 분리시켜 진행시키기 위한 광 분할기(140)와, 상기 광 분할기(140)에서 분할된 빛의 경로를 변화시키기 위한 상,하부 미러(150)와, 플라이아이 렌즈를 종,횡으로 다수개 배열하여 이루어지고 상기 상,하부 미러(150)에 의해 반사되는 빛의 조명 균일도를 높이기 위한 상,하부 플라이아이 렌즈 집합체(160)와, 기판 이송정치수단(400)에 의해 노광할 정위치에 놓이게 되는 기판(P)의 상,하부에 설치되고, 상기 상,하부 플라이아이 렌즈 집합체(160)에서 투사된 빛을 소정 넓이를 가지는 기판(P)의 상면과 하면에 전면적으로 조사하여 노광하기 위한 상,하부 구면거울(170)을 포함하여 구성되어 있다.
상기 콜드미러(110)는 광원(100)의 경통(103) 하부에 통상의 각도조절수단에 의해 각도 조절이 가능하게 결합된다.
상기 상,하부 미러(150)와 상,하부 플라이아이 렌즈 집합체(160)는 지지판(141)에 결합되고, 통상의 각도조절수단에 의해 각도 조절이 가능하게 결합된다.
상기 플래노 콘벡스 렌즈(130)는 내면이 반사면으로 형성된 원통형 렌즈하우징(120)의 선단부에 결합되어 사용될 수 있으며, 이렇게 하면 빛의 노이즈를 감소시켜 전달할 수 있게 된다. 상기 원통형 렌즈하우징(120)은 경통(103)의 하부에 결합되고 원통형 렌즈하우징(120)의 중간부에는 빛을 필요에 따라 차단하기 위한 셔터(180)가 설치되며, 상기 셔터(180)는 통상의 승강수단(181)에 의해 위,아래로 이동하도록 작동된다.
상기 광 분할기(140)는 상,하부 미러(150)와 상,하부 플라이아이 렌즈 집합체(160)가 결합되는 지지판(141)에 결합된다.
상기 기판 이송정치수단(400)은 기판(P)의 이송 및 정치를 위한 통상의 수단으로 기판(P)을 정렬하기 위한 정렬수단(300)과 기판(P)을 가이드(또는 레일)를 따라 이송시키기 위한 이송수단(310) 등이 이용된다.
상기한 바와 같은 본 발명의 노광장치는 기판 이송정치수단(400)의 로딩부에서 정렬수단(300)에 의해 노광하고자 하는 기판(P)을 정렬하고 이송수단(310)에 의해 이송시켜 노광위치로 이동시켜 정위치에 유지한 후, 광원(100)을 작동시키면, 램프(101)에서 빛이 발생되고, 이 빛이 엘립티컬 미러(102)에 의해 초점에 집광되며, 초점 위치에 설치된 콜드미러(110)에 의해 자외선 영역의 빛이 추출되어 반사된다.
상기 콜드미러(110)에 의해 반사된 빛은 직각 방향으로 설치된 플래노 콘벡스 렌즈(130)에 의해 평행광으로 변화되고, 광 분할기(140)에 의해 분리되어 상,하부로 진행되며, 상,하부 미러(150)에 의해 반사된다.
상기 상,하부 미러(150)에 의해 반사된 빛은 상,하부 플라이아이 렌즈 집합체(160)에 의해 조명 균일도가 향상되어 상,하부 구면거울(170)에 입사되고, 이 상,하부 구면거울(170)에 의해 기판 정치장치(400)에 의해 일정한 위치에 놓여진 소정 넓이를 가지는 기판(P)의 상,하면에 입사되어 노광이 행하여진다.
그리고, 노광이 완료되면 노광 초기부터 완료시까지 일정한 위치에 놓여져있던 기판(P)을 이송수단(310)에 의해 이송시켜 언로딩시킨다.
도 14는 이상에서 설명한 바와 같은 본 발명의 일실시예에 의한 노광장치로 노광을 행한 후, 그 성능을 측정하여 보인 노광량 측정표로서, 사이즈가 200mm x 800mm인 상,하부 구면거울(170)을 이용하여 기판(P)에 노광면적 200mm x 700mm의 범위로 노광을 실시한 후, 노광면을 가로로 다섯 영역(A=20mm, B=60mm, C=100mm, D=140mm, E=180mm)으로 나누고, 세로로 50mm 간격으로 13개 영역으로 나누어 노광량(mW/cm2)을 측정하여 그 측정수치를 보인 것으로, 이 노광량 측정표에 보인 바와 같이 본 발명의 장치는 노광이 전면에 걸쳐 균일하게 되어 그 성능이 양호함을 알 수 있다.
도 6 내지 도 13은 본 발명의 다른 실시예를 보인 도면으로서, 도 6에는 노광장치의 정면도, 도 7 및 도 8에는 노광장치의 부분 사시도 및 광경로도가 각각 도시되어 있으며, 도 9에는 기판 이송장치의 부분 사시도가 도시되고, 도 10 내지 도 13에는 프리즘과 플라이아이 렌즈 유니트를 회전시키기 위한 회전수단을 그 후방부에서 바라본 평면도, 정면도, 좌측면도 및 우측면도가 각각 도시되어 있다.
본 발명의 다른 실시예에 의한 노광장치는 먼저, 도 6 내지 도 8을 참조하면, 기판 이송정치수단(400)의 하측부에 구비된 광원 설치부(410)의 내부에 광원(100)이 설치되어 장치의 크기를 줄인 구성으로 되어 있다.
또한, 이 다른 실시예의 노광장치는 도 6 내지 도 13에는 나타나지 않으나, 위에서 설명한 일 실시예에 의한 노광장치의 광원(100)으로부터 플래노 콘벡스 렌즈(130)까지의 구성은 동일하게 채용하고 있으며, 상,하부 구면거울(170)도 동일하게 채용하고 있다.
즉, 본 발명의 다른 실시예에서는 빛을 발광하기 위한 램프(101)와 이 램프(101)의 주위를 둘러싸는 형태로 배치되어 발광되는 빛을 집광하기 위한 엘립티컬 미러(102)가 구비된 광원(100)과, 상기 엘립티컬 미러(102)에서 집광된 빛으로부터 자외선 영역의 빛을 추출하여 반사시키기 위한 콜드미러(110)와, 상기 콜드미러(110)에서 반사된 빛을 평행광으로 변화시키는 플래노 콘벡스 렌즈(130)와, 상,하부 구면거울(170)을 동일하게 채용하고 있다.
이하, 도 6 내지 도 13을 함께 참조하면, 본 발명의 다른 실시예에 의한 노광장치는 빛의 경로를 변화시키기 위한 반사경(190)과, 이 반사경(190)에서 반사된 빛의 경로를 변화시키기 위한 프리즘(200)과, 이 프리즘(200)에서 투사된 빛의 조명 균일도를 높이기 위한 플라이아이 렌즈 집합체(210)와, 상기 프리즘(200)과 플라이아이 렌즈 집합체(210)를 하나의 지지체(505)에 결합하여 빛의 경로가 변화될 수 있도록 회전시키는 회전수단(500)을 위 일 실시예와 다르게 채용하고 있으며, 상기 광원 설치부(401)에는 통과공(221)이 구비된 셔터(220)가 설치된 구성으로 되어 있다.
상기 회전수단(500)은 도 10 내지 도 13과 같이, 회전부 지지용 프레임(501)에 고정된 모터(502)와, 이 모터(502)의 축에 고정된 구동기어(503)와, 상기 프리즘(200)과 플라이아이 렌즈 집합체(210)가 결합된 지지체(505)와, 상기 지지체(505)의 일단부에 고정된 축(506)을 상기 회전부 지지용 프레임(501)에 회전 가능하게 결합하기 위한 베어링(507)과, 상기 지지체(505)의 타단부에 고정되어 상기 회전부 지지용 프레임(501)에 설치된 복수개의 롤러(508)에 의지하여 회전 가능하게 결합되는 링형 종동기어(504)를 포함하여 구성되어 있다.
상기 반사경(190)은 상기 회전부 지지용 프레임(501)과 분리되어 설치될 수도 있으나, 회전부 지지용 프레임(501)에 결합되는 것이 바람직하다.
그리고 이 다른 실시예에서 이송수단(600)은 기판(P)을 상부 레일(601)과, 하부 레일(602)을 따라 각각 이송시키는 통상의 장치가 이용된다.
이 이송수단(600)의 한 형태는 도 6 및 도 9와 같이 장치의 메인프레임(10)에 고정되는 상,하부 레일(601),(602)과, 각 레일(601),(602)의 단부측에 각각 고정되는 이송모터(610)와, 이 양측 이송모터(610)에 의해 엔드리스형으로 회동되는 벨트(611)와, 이 벨트(611)의 회동을 안내하는 풀리(612)를 포함한 통상의 구성으로 이루어진다.
상기 상부 레일(601)은 도면에 하나만 도시되어 있으나, 메인프레임(10)의 전,후방부에 두개가 평행하게 설치되고, 하부 레일(602)도 역시 메인프레임(10)의 전,후방부에 두개가 평행하게 설치된다.
상기 각각 한쌍의 상,하부 레일(601),(602)에는 기판(P)을 탑재하여 이송시키기 위한 이송프레임(301)이 각각 하나씩 좌우로 직선 이동하도록 결합되며, 이송프레임(301)은 그 일측부에 고정된 연결편(302)으로 상기 벨트(611)에 각각 연결됨으로써 이송모터(610)의 구동력에 의해 좌우로 이동할 수 있게 된다.
이와 같은 본 발명의 다른 실시예의 노광장치는 기판(P)을 이송시키면서 노광을 실시하고, 회전수단(500)에 의해 프리즘(200)과 반사경(190)의 위치를 변경시켜 기판(P)의 상면을 노광시킬 때에는 프리즘(200)과 반사경(190)이 상부에 위치하도록 하고, 하면을 노광시킬 때에는 하부에 위치하도록 하면서 기판(P)의 상면과 하면을 차례로 노광하게 된다.
그리고, 이 다른 실시예의 노광장치에서 광원(100)으로부터 플래노 콘벡스 렌즈(130)까지의 노광작용은 상기한 일 실시예와 같으므로 이하 다른 실시예에 의한 노광장치의 작용을 설명하면서 플래노 콘벡스 렌즈(130) 다음의 다른 작용에 대해서만 설명하기로 한다.
이 다른 실시예의 노광장치를 이용하여 노광을 하는 경우에는 먼저, 도 6 및 도 9의 상부 레일(601)에 올려진 이송프레임(301)에 노광하고자 하는 기판(P)이 정렬되고 진공으로 고정된 후, 노광시작 버튼(도시되지 않음)을 눌러 노광이 시작되면, 이송프레임(301)이 통상의 이송수단(600)에 의해 전진 이동된다.
그리고, 광원(100)에서 발생되어 플래노 콘벡스 렌즈(130)를 통과한 빛은 도 6 내지 도 8에서 반사경(190)에서 경로가 변화되어 프리즘(200)에 입사되고, 프리즘(200)에 의해 굴절되어 플라이아이 렌즈 집합체(210)에 입사된다.
또, 플라이아이 렌즈 집합체(210)를 통과하면서 조명 균일도가 향상되고, 광원 설치부(410)의 일측부에 설치된 셔터(220)의 통과공(221)을 통하여 상부 구면거울(170)에 입사되고, 상기 이송수단(600)에 의해 이송프레임(301)이 전진 이송됨에 따라 이송프레임(301)에 결합되어 있는 기판(P)이 이송되면서 상기 상부 구면거울(170)에서 반사되는 빛이 기판(P)의 상면에 조사되어 기판(P)의 상면이 먼저 노광된다.
이와 같이 하여 기판(P)의 상면이 노광되면, 프리즘(200)과 반사경(190)은 회전수단(500)에 의해 90도 회전하여 광원 설치부(410)의 일측에 구비된 셔터(220)에 의해 빛이 차단된다.
이어서, 작업자가 하부 이송프레임(301)에 기판(P)을 장착하고, 버튼을 누르면 프리즘(200)과 반사경(190)이 회전수단(500)에 의해 다시 90도(전체 180도) 회전되어 프리즘(200)과 반사경(190)을 통과한 빛이 하부 구면거울(170)에 의해 반사되고, 하부 이송프레임(301)에 결합된 기판(P)이 전진 이동되면서 상기 하부 구면거울(170)에서 반사된 빛이 기판(P)의 하면에 조사되어 기판(P)의 하면이 노광된다.
이와 같이 하여 기판(P)의 하면의 노광이 끝나면 프리즘(200)과 반사경(190)은 회전수단(500)에 의해 다시 90도 회전(전체 270도 위치)되어 빛이 셔터(220)에 의해 차단되고, 프리즘(200)과 반사경(190)이 다시 90도 회전해서 상면 노광 위치로 변경된 후, 위와 같은 노광 작업이 반복된다.
그리고, 이와 같은 노광작업 중 상기 회전수단(500)에 의해 회전하는 셔터(220)는 프리즘(200)과 반사경(190)이 상,하부 노광위치(0도 및 180도 위치)로 유지되는 때에만 셔터(220)의 통과공(221)을 통하여 빛이 투사되고, 측방향을 향하는 90도 및 270도 위치에 유지되는 경우에는 빛을 차단하게 된다.
도 15는 이상에서 설명한 바와 같은 본 발명의 다른 실시예에 의한 노광장치로 노광을 행한 후, 그 성능을 측정하여 보인 노광량 측정표로서, 사이즈가 800mm x 800mm인 기판(P)에 노광을 실시한 후, 노광면(510mm x 610mm)에서의 광량을 측정한 것으로, 노광량 측정표에 보인 바와 같이 본 발명의 장치는 노광이 전면에 걸쳐 균일하게 되고, 평균 노광량이 35.71mW/cm2로서 그 성능이 양호함을 알 수 있다.
이상에서 설명한 바와 같은 본 발명의 노광장치는 반도체 제조 및 인쇄회로기판 제조를 위한 노광공정에서 기판의 상,하면을 매우 균일하게 노광할 수 있는 효과가 있다.

Claims (5)

  1. 빛을 발광하기 위한 램프(101)와 이 램프(101)의 주위를 둘러싸는 형태로 배치되어 발광되는 빛을 집광하기 위한 엘립티컬 미러(102)가 구비된 광원(100)과, 상기 엘립티컬 미러(102)에서 집광된 빛으로부터 자외선 영역의 빛을 추출하여 반사시키기 위한 콜드미러(110)와, 상기 콜드미러(110)에서 반사된 빛을 평행광으로 변화시키는 플래노 콘벡스 렌즈(130)와, 상기 플래노 콘벡스 렌즈(130)에서 나오는 빛을 상,하부로 분리시켜 진행시키기 위한 광 분할기(140)와, 상기 광 분할기(140)에서 분할된 빛의 경로를 변화시키기 위한 상,하부 미러(150)와, 플라이아이 렌즈를 종,횡으로 다수개 배열하여 이루어지고 상기 상,하부 미러(150)에 의해 반사되는 빛의 조명 균일도를 높이기 위한 상,하부 플라이아이 렌즈 집합체(160)와, 기판 이송정치수단(400)에 의해 노광할 정위치에 놓이게 되는 기판(P)의 상,하부에 설치되고, 상기 상,하부 플라이아이 렌즈 집합체(160)에서 투사된 빛을 소정 넓이를 가지는 기판(P)의 상면과 하면에 전면적으로 조사하여 노광하기 위한 상,하부 구면거울(170)을 포함하여 구성된 것을 특징으로 하는 노광장치.
  2. 제 1 항에 있어서, 상기 광 분할기(140)는 상,하부 미러(150)와 상,하부 플라이아이 렌즈 집합체(160)가 결합되는 지지판(141)에 결합되어 구성된 것을 특징으로 하는 노광장치.
  3. 제 1 항에 있어서, 상기 플래노 콘벡스 렌즈(130)는 내면이 반사면으로 형성된 원통형 렌즈하우징(120)의 선단부에 결합되며, 상기 원통형 렌즈하우징(120)은 경통(103)의 하부에 결합되고 원통형 렌즈하우징(120)의 중간부에는 빛을 필요에 따라 차단하기 위한 셔터(180)가 설치되어 구성된 것을 특징으로 하는 노광장치.
  4. 빛을 발광하기 위한 램프(101)와 이 램프(101)의 주위를 둘러싸는 형태로 배치되어 발광되는 빛을 집광하기 위한 엘립티컬 미러(102)가 구비된 광원(100)과, 상기 엘립티컬 미러(102)에서 집광된 빛으로부터 자외선 영역의 빛을 추출하여 반사시키기 위한 콜드미러(110)와, 상기 콜드미러(110)에서 반사된 빛을 평행광으로 변화시키는 플래노 콘벡스 렌즈(130)와, 빛의 경로를 변화시키기 위한 반사경(190)과, 이 반사경(190)에서 반사된 빛의 경로를 변화시키기 위한 프리즘(200)과, 이 프리즘(200)에서 투사된 빛의 조명 균일도를 높이기 위한 플라이아이 렌즈 집합체(210)와, 상기 프리즘(200)과 플라이아이 렌즈 집합체(210)를 하나의 지지체(505)에 결합하여 빛의 경로가 변화될 수 있도록 회전시키는 회전수단(500)과, 상기 광원 설치부(401)의 일측부에 설치되는 셔터(220)와, 상기 상,하부 플라이아이 렌즈 집합체(210)에서 투사된 빛을 소정 넓이를 가지는 기판(P)의 상면과 하면에 전면적으로 조사하여 노광하기 위한 상,하부 구면거울(170)을 포함하여 구성된 것을 특징으로 하는 노광장치.
  5. 제 4 항에 있어서, 상기 회전수단(500)은 회전부 지지용 프레임(501)에 고정된 모터(502)와, 이 모터(502)의 축에 고정된 구동기어(503)와, 상기 프리즘(200)과 플라이아이 렌즈 집합체(210)가 결합된 지지체(505)와, 상기 지지체(505)의 일단부에 고정된 축(506)을 상기 회전부 지지용 프레임(501)에 회전 가능하게 결합하기 위한 베어링(507)과, 상기 지지체(505)의 타단부에 고정되어 상기 회전부 지지용 프레임(501)에 설치된 복수개의 롤러(508)에 의지하여 회전 가능하게 결합되는 링형 종동기어(504)를 포함하여 구성된 것을 특징으로 하는 노광장치.
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100861001B1 (ko) * 2006-11-30 2008-09-30 한국전기연구원 대면적 초정밀 롤 노광 장치

Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0547637A (ja) * 1991-08-19 1993-02-26 Toshiba Corp 光源装置
JPH05232306A (ja) * 1991-03-15 1993-09-10 Olympus Optical Co Ltd 露光装置
KR960008355A (ko) * 1994-08-25 1996-03-22 오노 시게오 투영 광학계 및 그것을 구비한 노광 장치
KR970028855A (ko) * 1995-11-06 1997-06-24 김광호 노광방법 및 이에 사용되는 노광장치
KR19980056936A (ko) * 1996-12-30 1998-09-25 오상수 ER(Electro-Rheological)유체를 이용한 제동력 조절장치
JPH11340126A (ja) * 1998-05-28 1999-12-10 Nikon Corp 照明装置及び露光装置
JP2000021748A (ja) * 1998-06-30 2000-01-21 Canon Inc 露光方法および露光装置

Patent Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH05232306A (ja) * 1991-03-15 1993-09-10 Olympus Optical Co Ltd 露光装置
JPH0547637A (ja) * 1991-08-19 1993-02-26 Toshiba Corp 光源装置
KR960008355A (ko) * 1994-08-25 1996-03-22 오노 시게오 투영 광학계 및 그것을 구비한 노광 장치
KR970028855A (ko) * 1995-11-06 1997-06-24 김광호 노광방법 및 이에 사용되는 노광장치
KR19980056936A (ko) * 1996-12-30 1998-09-25 오상수 ER(Electro-Rheological)유체를 이용한 제동력 조절장치
JPH11340126A (ja) * 1998-05-28 1999-12-10 Nikon Corp 照明装置及び露光装置
JP2000021748A (ja) * 1998-06-30 2000-01-21 Canon Inc 露光方法および露光装置

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100861001B1 (ko) * 2006-11-30 2008-09-30 한국전기연구원 대면적 초정밀 롤 노광 장치

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