JP2009150919A - 露光装置及び基板の製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】照明光学系70は、複数の光源部73と、それぞれ構成の異なる切替え自在な複数のインテグレータ74A,74Bと、を備え、複数の光源部73は、選択されるインテグレータ74A,74Bに応じて、各ランプの点灯と消灯を切り替える。
【選択図】図2
Description
(1) 被露光材としての基板を保持する基板保持部と、
前記基板と対向するようにマスクを保持するマスク保持部と、
発光部と該発光部から発生された光に指向性をもたせて射出する反射光学系をそれぞれ含む複数の光源部と、該複数の光源部から射出された光束が入射されるインテグレータと、を有する照明光学系と、
を備え、前記基板に対して前記照明光学系からの光を前記マスクを介して照射する露光装置であって、
前記インテグレータは、それぞれ構成の異なる切替え自在な複数のインテグレータを備え、
前記複数の光源部は、選択される前記インテグレータに応じて、前記各発光部の点灯と消灯を切り替えることを特徴とする露光装置。
(2) 前記複数のインテグレータは、同じ光学機能を持ったレンズエレメントを複数備えたフライアイインテグレータによってそれぞれ構成され、該各フライアイインテグレータに使用される前記レンズエレメントは、入射開口角が互いに異なり、
前記複数の光源部は、選択される前記レンズエレメントの入射開口角に応じて、前記各発光部の点灯と消灯を切り替えることを特徴とする(1)に記載の露光装置。
(3) 前記複数のインテグレータは、コア断面の大きさ、材質、構成の少なくとも一つがそれぞれ異なるロッドインテグレータによってそれぞれ構成され、
前記複数の光源部は、選択される前記インテグレータのコア断面の大きさと前記インテグレータの入射開口角の少なくとも一方に応じて、前記各発光部の点灯と消灯を切り替えることを特徴とする(1)に記載の露光装置。
(4) 被露光材としての基板を保持する基板保持部と、前記基板と対向するようにマスクを保持するマスク保持部と、発光部と該発光部から発生された光に指向性をもたせて射出する反射光学系をそれぞれ含む複数の光源部と、該複数の光源部から射出された光束が入射され、それぞれ構成の異なる切替え自在な複数のインテグレータと、を有する照明光学系と、を備える露光装置を使用する基板の製造方法であって、
前記複数のインテグレータのいずれかを選択する工程と、
前記選択されるインテグレータに応じて、前記複数の光源部の各発光部の点灯と消灯を切り替える工程と、
前記基板に対して前記照明光学系からの光を前記マスクを介して照射する工程と、
を備えることを特徴とする基板の製造方法。
図1及び図2に示すように、第1実施形態の分割逐次近接露光装置PEは、マスクMを保持するマスクステージ10と、ガラス基板(被露光材)Wを保持する基板ステージ20と、パターン露光用の光を照射する照明光学系70と、を備えている。
次に、本発明の第2実施形態に係る近接スキャン露光装置について、図10〜図15を参照して説明する。
本実施形態は、切替装置によって2つのインテグレータを切り替える構成を説明したが、2つ以上のインテグレータを使用するものであればよく、露光領域のアスペクト比に応じて多数のインテグレータを用意して切り替えるようにしてもよい。
例えば、上記実施形態では、露光装置として分割逐次近接露光装置と走査式近接露光装置とを説明したが、これに限定されず、本発明は、ミラープロジェクション式露光装置、レンズ投影式露光装置にも適用することができる。また、本発明は、一括式、逐次式、走査式等のいずれの露光方法にも適用することができる。
18 アライメントカメラ
20 基板ステージ
70 照明光学系
74,74A,74B,74C,74D インテグレータ
101 近接スキャン露光装置(露光装置)
120 基板搬送機構
121 浮上ユニット
140 基板駆動ユニット
150 基板プリアライメント機構
160 基板アライメント機構
170 マスク保持機構
171 マスク保持部
172 マスク駆動部
180 照射部
190 遮光装置
M マスク
P パターン
PE 逐次近接露光装置(露光装置)
W ガラス基板(被露光材、基板)
Claims (4)
- 被露光材としての基板を保持する基板保持部と、
前記基板と対向するようにマスクを保持するマスク保持部と、
発光部と該発光部から発生された光に指向性をもたせて射出する反射光学系をそれぞれ含む複数の光源部と、該複数の光源部から射出された光束が入射されるインテグレータと、を有する照明光学系と、
を備え、前記基板に対して前記照明光学系からの光を前記マスクを介して照射する露光装置であって、
前記インテグレータは、それぞれ構成の異なる切替え自在な複数のインテグレータを備え、
前記複数の光源部は、選択される前記インテグレータに応じて、前記各発光部の点灯と消灯を切り替えることを特徴とする露光装置。 - 前記複数のインテグレータは、同じ光学機能を持ったレンズエレメントを複数備えたフライアイインテグレータによってそれぞれ構成され、該各フライアイインテグレータに使用される前記レンズエレメントは、入射開口角が互いに異なり、
前記複数の光源部は、選択される前記レンズエレメントの入射開口角に応じて、前記各発光部の点灯と消灯を切り替えることを特徴とする請求項1に記載の露光装置。 - 前記複数のインテグレータは、コア断面の大きさ、材質、構成の少なくとも一つがそれぞれ異なるロッドインテグレータによってそれぞれ構成され、
前記複数の光源部は、選択される前記インテグレータのコア断面の大きさと前記インテグレータの入射開口角の少なくとも一方に応じて、前記各発光部の点灯と消灯を切り替えることを特徴とする請求項1に記載の露光装置。 - 被露光材としての基板を保持する基板保持部と、前記基板と対向するようにマスクを保持するマスク保持部と、発光部と該発光部から発生された光に指向性をもたせて射出する反射光学系をそれぞれ含む複数の光源部と、該複数の光源部から射出された光束が入射され、それぞれ構成の異なる切替え自在な複数のインテグレータと、を有する照明光学系と、を備える露光装置を使用する基板の製造方法であって、
前記複数のインテグレータのいずれかを選択する工程と、
前記選択されるインテグレータに応じて、前記複数の光源部の各発光部の点灯と消灯を切り替える工程と、
前記基板に対して前記照明光学系からの光を前記マスクを介して照射する工程と、
を備えることを特徴とする基板の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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Applications Claiming Priority (1)
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Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
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JP2009150919A true JP2009150919A (ja) | 2009-07-09 |
JP5057382B2 JP5057382B2 (ja) | 2012-10-24 |
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JP (1) | JP5057382B2 (ja) |
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