JPH03165023A - 露光装置 - Google Patents
露光装置Info
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- JPH03165023A JPH03165023A JP1303226A JP30322689A JPH03165023A JP H03165023 A JPH03165023 A JP H03165023A JP 1303226 A JP1303226 A JP 1303226A JP 30322689 A JP30322689 A JP 30322689A JP H03165023 A JPH03165023 A JP H03165023A
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- Japan
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- 238000012545 processing Methods 0.000 abstract description 6
- 239000000758 substrate Substances 0.000 abstract description 6
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 9
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 5
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 description 3
- 238000013461 design Methods 0.000 description 2
- 238000005286 illumination Methods 0.000 description 2
- 238000011161 development Methods 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
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- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 1
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 description 1
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- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70691—Handling of masks or workpieces
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
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- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70216—Mask projection systems
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
［産業上の利用分野］
この発明は、内部にインテグレータレンズを内蔵し、ワ
ークに対して均一な充て露光を行う露光装置に関するも
のである。
ークに対して均一な充て露光を行う露光装置に関するも
のである。
［従来の技術］
従来より、フォトリソグラフィに用いられるパターン転
写のための露光装置があり、例えば現像処理の均一性の
要請から均一な露光処理を行うことか必要となっている
。従って４それぞれのワークに対しては均一な照度を保
つためにインテグレータレンズ（フライアイレンズとも
いう）を露光光学系に具備している。
写のための露光装置があり、例えば現像処理の均一性の
要請から均一な露光処理を行うことか必要となっている
。従って４それぞれのワークに対しては均一な照度を保
つためにインテグレータレンズ（フライアイレンズとも
いう）を露光光学系に具備している。
第４図は従来、及びこの発明におけるインテグレータレ
ンズを用いた露光装置の概略構成を示す説明図であり、
ｌは超高圧水銀灯等のショートアーク型の放電灯、２は
この放電灯１の光を集光して反射する楕円集光鏡、３は
平面鏡、４は楕円集光鏡２の第２焦点の位置に設けられ
て前述の作用をするインテグレータレンズ、５は平面鏡
、６はコンデンサレンズ、７はフィルム回路基板等のパ
ターンからなるレチクル、８は結像レンズ、９はフィル
ム回路基板等のワークである。
ンズを用いた露光装置の概略構成を示す説明図であり、
ｌは超高圧水銀灯等のショートアーク型の放電灯、２は
この放電灯１の光を集光して反射する楕円集光鏡、３は
平面鏡、４は楕円集光鏡２の第２焦点の位置に設けられ
て前述の作用をするインテグレータレンズ、５は平面鏡
、６はコンデンサレンズ、７はフィルム回路基板等のパ
ターンからなるレチクル、８は結像レンズ、９はフィル
ム回路基板等のワークである。
第４図の露光装置において、放電灯ｌからの光は楕円集
光鏡２、平面鏡３を経て楕円集光鏡２の第２焦点に位置
するインテグレータレンズ４に投影される。さらに、イ
ンテグレータレンズ４て均一の明るさにされた光は、平
面ｔＩ１．５、コンデンサレンズ６を経て、レチクル７
のパターンを結像しンズ８によってワークであるフィル
ム回路基板９に露光する。
光鏡２、平面鏡３を経て楕円集光鏡２の第２焦点に位置
するインテグレータレンズ４に投影される。さらに、イ
ンテグレータレンズ４て均一の明るさにされた光は、平
面ｔＩ１．５、コンデンサレンズ６を経て、レチクル７
のパターンを結像しンズ８によってワークであるフィル
ム回路基板９に露光する。
インテグレータレンズは、例えば実開昭６：ｌ−１２５
８０１号に開示されているように、数十水のロッドレン
ズを束ねて構成されたちのてあり、各ロッドレンズか入
射光を分割し、さらに照射面てインチグレートすること
により照度の均一化が達成される。即ち、インテグレー
タレンズに入射する光か不均一なものであり、各ロッド
レンズ間て入射光の強さか異なっても、その出射光か同
一照射面を重ねて照射することによって、均一な照度と
なる。
８０１号に開示されているように、数十水のロッドレン
ズを束ねて構成されたちのてあり、各ロッドレンズか入
射光を分割し、さらに照射面てインチグレートすること
により照度の均一化が達成される。即ち、インテグレー
タレンズに入射する光か不均一なものであり、各ロッド
レンズ間て入射光の強さか異なっても、その出射光か同
一照射面を重ねて照射することによって、均一な照度と
なる。
［発明が解決しようとする課題］
上記のような従来の露光装置に対し、露光の対象物は色
々なものかあり、装置の汎用性という点ては、種々の対
象物を自在に露光てきることか好ましい。例えば、ＴＡ
Ｂ （Ｔａｐｅ Ａｕｔｏｍａｔｅｄ Ｂｏｎｄｉｎ
ｇ）方式の電子部品の実装に必要なフィルム回路基板の
製作に使用される露光装置ては、フィルムの幅が７０ｍ
ｍと３５ｍｍと２つのタイプがあり、この異なる２つの
タイプのフィルムの両方を、一つの露光装置で露光でき
ることか望ましい。
々なものかあり、装置の汎用性という点ては、種々の対
象物を自在に露光てきることか好ましい。例えば、ＴＡ
Ｂ （Ｔａｐｅ Ａｕｔｏｍａｔｅｄ Ｂｏｎｄｉｎ
ｇ）方式の電子部品の実装に必要なフィルム回路基板の
製作に使用される露光装置ては、フィルムの幅が７０ｍ
ｍと３５ｍｍと２つのタイプがあり、この異なる２つの
タイプのフィルムの両方を、一つの露光装置で露光でき
ることか望ましい。
この点について、従来の露光装置中の露光光学系の設計
に関しては、露光すべき面積の大きな対象物に合わせる
ことにより大きな照射面積になるよう設計を行っておけ
ば、面積の小さい対象物にも対応できるので充分である
ということもてきる。
に関しては、露光すべき面積の大きな対象物に合わせる
ことにより大きな照射面積になるよう設計を行っておけ
ば、面積の小さい対象物にも対応できるので充分である
ということもてきる。
しかし、露光すべき面積の小さい対象物を大きな照射面
積で露光した場合、それたけ光の無駄が発生してしまう
のみであって露光時間は変らず、露光のための処理時間
の短縮には何ら影響しないという問題かあった。
積で露光した場合、それたけ光の無駄が発生してしまう
のみであって露光時間は変らず、露光のための処理時間
の短縮には何ら影響しないという問題かあった。
この発明はかかる従来の課題を解決するためになされた
もので、照射面積の異なる露光を可能にして装置の汎用
性を保つと共に、照射光の無駄をなくして、露光処理の
効率を高めることのてきる露光装置を提供することを目
的とする。
もので、照射面積の異なる露光を可能にして装置の汎用
性を保つと共に、照射光の無駄をなくして、露光処理の
効率を高めることのてきる露光装置を提供することを目
的とする。
［課題を解決するための手段］
上記の目的を達成するために、この発明の露光装置にお
けるインテグレータレンズは、発散角度の異なる別のイ
ンテグレータレンズと交換可能に設けられた構成を有す
るものである。
けるインテグレータレンズは、発散角度の異なる別のイ
ンテグレータレンズと交換可能に設けられた構成を有す
るものである。
［作用］
上記の構成を有することにより、例えば広い露光面積の
ワークから狭い露光面積（１／ｎ ）のワークに変った
とき、発散角度の大きいインテグレータレンズから、発
散角度の小さいインテグレータレンズを用いることによ
り、無駄な照射光はなくなり、その上、露光面積の縮小
に反比例して照度はｎ倍強くなるので、それに応じて露
光処理時間はｌ ／ ｎに短縮されて、露光効率は高く
なる。
ワークから狭い露光面積（１／ｎ ）のワークに変った
とき、発散角度の大きいインテグレータレンズから、発
散角度の小さいインテグレータレンズを用いることによ
り、無駄な照射光はなくなり、その上、露光面積の縮小
に反比例して照度はｎ倍強くなるので、それに応じて露
光処理時間はｌ ／ ｎに短縮されて、露光効率は高く
なる。
［実施例］
第１図は本発明の一実施例である２つのインテグレータ
レンズを交換可能に構成したインテグレータレンズ部を
示す斜視図で、第２図は第１図の側断面図である。
レンズを交換可能に構成したインテグレータレンズ部を
示す斜視図で、第２図は第１図の側断面図である。
第１図、第２図において、インテグレータレンズ部は、
ホルダ１２内に板ばね１３，１４．１５によって鉛直方
向と垂直方向に押圧された基板１１かあり、この基板１
１上の貫通孔と、基板１１１７）前面の第１Ｊ）Ｖｌｌ
ｌｌａ、第２＋７）Ｖｉｌｌｌｂとて保持及び位置決め
された第１のインテグレータレンズ４ａ、第２のインテ
グレータレンズ４ｂとを具備している。また、１０は露
光装置の光路の光軸を示している。
ホルダ１２内に板ばね１３，１４．１５によって鉛直方
向と垂直方向に押圧された基板１１かあり、この基板１
１上の貫通孔と、基板１１１７）前面の第１Ｊ）Ｖｌｌ
ｌｌａ、第２＋７）Ｖｉｌｌｌｂとて保持及び位置決め
された第１のインテグレータレンズ４ａ、第２のインテ
グレータレンズ４ｂとを具備している。また、１０は露
光装置の光路の光軸を示している。
従って、露光すべきワークの露光面積に応じて、基板１
１をホルダ１２内で左右に移動させることによって、必
要な第１のインテグレータレンズ４ａまたは第２のイン
テグレータレンズ４ｂが光軸ｌＯ上に切換えられ、配置
されることになる。この際、ホルダ１２が予め光路上の
所定の場所に正しく配置されることにより第１のインテ
グレータレンズ４ａまたは第２のインテグレータレンズ
４ｂがこのホルダ１２の前部の第１のＶ溝１１ａに正し
く保持された状態になったとき、上記いずれか一方のイ
ンテグレータレンズか光軸ｌＯ上に正確に位置決めされ
るこになる。
１をホルダ１２内で左右に移動させることによって、必
要な第１のインテグレータレンズ４ａまたは第２のイン
テグレータレンズ４ｂが光軸ｌＯ上に切換えられ、配置
されることになる。この際、ホルダ１２が予め光路上の
所定の場所に正しく配置されることにより第１のインテ
グレータレンズ４ａまたは第２のインテグレータレンズ
４ｂがこのホルダ１２の前部の第１のＶ溝１１ａに正し
く保持された状態になったとき、上記いずれか一方のイ
ンテグレータレンズか光軸ｌＯ上に正確に位置決めされ
るこになる。
従って、インテグレータレンズの切換えは、単に基板１
１を左右に移動することにより、所望のインテグレータ
レンズが第１のＶ＠ｌｌａに完全に嵌入され、その状態
で位置決めか正確に行われたことになる。
１を左右に移動することにより、所望のインテグレータ
レンズが第１のＶ＠ｌｌａに完全に嵌入され、その状態
で位置決めか正確に行われたことになる。
次にインテグレータレンズの切換えによって、露光光学
系による照射面積か変化する理由について以下に説明す
る。
系による照射面積か変化する理由について以下に説明す
る。
第３図（ａ）は第１のインテグレータレンズ４ａを構成
する複数のロッドレンズのうちの１本についての発散角
と照射面積を示す説明図て、同図（ｂ）は第２のインテ
グレータレンズ４ｂを構成する複数のロッドレンズのう
ちの１本についての発散角と照射面積を示す説明図であ
る。
する複数のロッドレンズのうちの１本についての発散角
と照射面積を示す説明図て、同図（ｂ）は第２のインテ
グレータレンズ４ｂを構成する複数のロッドレンズのう
ちの１本についての発散角と照射面積を示す説明図であ
る。
第３図において、インテグレータレンズ４ａ。
４ｂを構成するロッドレンズ４１ａ、４１ｂの入射面４
１ａｔ、４１ｂ＋が、出射面４１ａ２，４１ｂ２を介し
て照射面に投影されるという結像関係かある。従って、
第３図に示す発散角θ８．θ２を適宜選定することによ
り照射面の面積を設定することかてきる。発散角θ１．
θ２は、入射面４１ａ、、４１ｂ、及び出射面４１ａ２
，４１ｂ２の曲率、ロッドレンズの長さ１．、ｌｂによ
り決定できる。
１ａｔ、４１ｂ＋が、出射面４１ａ２，４１ｂ２を介し
て照射面に投影されるという結像関係かある。従って、
第３図に示す発散角θ８．θ２を適宜選定することによ
り照射面の面積を設定することかてきる。発散角θ１．
θ２は、入射面４１ａ、、４１ｂ、及び出射面４１ａ２
，４１ｂ２の曲率、ロッドレンズの長さ１．、ｌｂによ
り決定できる。
第３図において、第１のインテグレータレンズ４ａを構
成するロッドレンズ４１ａの入射光量と第２のインテグ
レータレンズ４ｂを構成するロッドレンズ４１ｂの入射
光量は同じであるが、ロッドレンズ４１ａの発散角θ、
とロッドレンズ４１ｂの発散角θ２は異なる。いまθ１
〉θ２とすると、ロッドレンズ４１ａによる照射面ａＳ
、と、ロッドレンズ４１ｂによる照射面ｓｉ Ｓ ２ど
の関係はＳ□＞Ｓ、どなる。
成するロッドレンズ４１ａの入射光量と第２のインテグ
レータレンズ４ｂを構成するロッドレンズ４１ｂの入射
光量は同じであるが、ロッドレンズ４１ａの発散角θ、
とロッドレンズ４１ｂの発散角θ２は異なる。いまθ１
〉θ２とすると、ロッドレンズ４１ａによる照射面ａＳ
、と、ロッドレンズ４１ｂによる照射面ｓｉ Ｓ ２ど
の関係はＳ□＞Ｓ、どなる。
そして、ロッドレンズ４１ａと４１ｂのそれぞれの入射
光量は同じであるから、ロッドレンズ４１ａと４１ｂに
よって照射される部分の照度はそれぞれ照射面積Ｓ、と
ｓ２に反比例することになる。従って、ロッドレンズの
発散角の大小によって、照射面積が異なり、さらに照射
面積の大小によって、照度か異なることになる。その結
果、照射面積の広いワークに対して、照射面積の狭いワ
ークは照度か強い分たけ露光時間は短かくてよいのて、
露光効率か上昇する。いま例えば、第１のインテグレー
タレンズ４ａによって、レチクル上ての照射径１００ｍ
ｍ、ワーク上での照度１００ｗ八、２のとき、露光時間
２ｓｅｃの状態から、照射面積の小さなワークにかわっ
たとき、第２のインテグレータレンズ４ｂに取換えるこ
とにより、レチクル上での照射径７０ｍｍ、ワーク上で
の照度２００ｗ八、２になり、露光時間は１ ｓｅｃに
短縮され、露光効率はあがる。
光量は同じであるから、ロッドレンズ４１ａと４１ｂに
よって照射される部分の照度はそれぞれ照射面積Ｓ、と
ｓ２に反比例することになる。従って、ロッドレンズの
発散角の大小によって、照射面積が異なり、さらに照射
面積の大小によって、照度か異なることになる。その結
果、照射面積の広いワークに対して、照射面積の狭いワ
ークは照度か強い分たけ露光時間は短かくてよいのて、
露光効率か上昇する。いま例えば、第１のインテグレー
タレンズ４ａによって、レチクル上ての照射径１００ｍ
ｍ、ワーク上での照度１００ｗ八、２のとき、露光時間
２ｓｅｃの状態から、照射面積の小さなワークにかわっ
たとき、第２のインテグレータレンズ４ｂに取換えるこ
とにより、レチクル上での照射径７０ｍｍ、ワーク上で
の照度２００ｗ八、２になり、露光時間は１ ｓｅｃに
短縮され、露光効率はあがる。
また、上記実施例はインテグレータレンズを二つ用いた
場合について述べたか、露光すべきワークの種類（露光
面積）に応じて、必要な個数のインテグレータレンズを
具備したインテグレータレンズ部を設置することは勿論
可能である。そして、ワークに応して適切なインテグレ
ータレンズと取換えることにより、露光効率をあげるこ
とがてきる。
場合について述べたか、露光すべきワークの種類（露光
面積）に応じて、必要な個数のインテグレータレンズを
具備したインテグレータレンズ部を設置することは勿論
可能である。そして、ワークに応して適切なインテグレ
ータレンズと取換えることにより、露光効率をあげるこ
とがてきる。
さらに、交換して配置するインテグレータレンズは、必
ずしも装置内にある必要はなく、装置外から持ってきて
交換しても良い。
ずしも装置内にある必要はなく、装置外から持ってきて
交換しても良い。
［発明の効果］
以上説明したとおり、この発明の露光装置においてはイ
ンテグレータレンズは、発散角度の異なる別のインテグ
レータレンズと交換可能に設けられた構成を有するもの
で、インテグレータレンズを交換するのみで照射面積を
かえることができ、それにともなって照度もかわるので
、照射面積に応じた露光時間を設定することかてき、露
光効果は上昇する。
ンテグレータレンズは、発散角度の異なる別のインテグ
レータレンズと交換可能に設けられた構成を有するもの
で、インテグレータレンズを交換するのみで照射面積を
かえることができ、それにともなって照度もかわるので
、照射面積に応じた露光時間を設定することかてき、露
光効果は上昇する。
第１図は本発明の一実施例である２つのインテグレータ
レンズを交換可能に構成したインテグレータレンズ部を
示す斜視図、第２図は第１図の側断面図、第３図（ａ）
は第１のインテグレータレンズ４ａを構成する複数のロ
ッドレンズのうちの１本についての発散角と照射面積を
示す説明図で、同図（ｂ）は第２のインテグレータレン
ズ４ｂを構成する複数のロッドレンズのうちのｌ木につ
いての発散角と照射面積を示す説明図、第４図は従来、
及びこの発明におけるインテグレータレンズを用いた露
光装置の概略構成を示す説明図である。 図中。 １：放電灯 ２：楕円集光鏡 ３．５：平面鏡 ４．４ａ、４ｂ：インテグレータレンズ６：コンデンサ
レンズ ７：レチクル ８：結像レンズ ９：ワーク ＩＯ＝光軸 １１：基板 １１ａ 、 ｌｌｂ ： Ｖ溝１
２：ホルダ １：ｌ、 １４．１５：板ばね ４１ａ 、 ４１ｂ ：ロットレンズ θ１．θ２ ：発散角 Ｓ□、Ｓ２ ：照射面積
レンズを交換可能に構成したインテグレータレンズ部を
示す斜視図、第２図は第１図の側断面図、第３図（ａ）
は第１のインテグレータレンズ４ａを構成する複数のロ
ッドレンズのうちの１本についての発散角と照射面積を
示す説明図で、同図（ｂ）は第２のインテグレータレン
ズ４ｂを構成する複数のロッドレンズのうちのｌ木につ
いての発散角と照射面積を示す説明図、第４図は従来、
及びこの発明におけるインテグレータレンズを用いた露
光装置の概略構成を示す説明図である。 図中。 １：放電灯 ２：楕円集光鏡 ３．５：平面鏡 ４．４ａ、４ｂ：インテグレータレンズ６：コンデンサ
レンズ ７：レチクル ８：結像レンズ ９：ワーク ＩＯ＝光軸 １１：基板 １１ａ 、 ｌｌｂ ： Ｖ溝１
２：ホルダ １：ｌ、 １４．１５：板ばね ４１ａ 、 ４１ｂ ：ロットレンズ θ１．θ２ ：発散角 Ｓ□、Ｓ２ ：照射面積
Claims (1)
- ショートアーク型の放電灯とこの放電灯からの光を集
光する集光鏡と、この集光鏡からの光の集光位置に設け
られたインテグレータレンズとを具備した露光装置にお
いて、前記インテグレータレンズは、発散角度の異なる
別のインテグレータレンズと交換可能に設けられたこと
を特徴とする露光装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1303226A JP2759890B2 (ja) | 1989-11-24 | 1989-11-24 | 露光装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1303226A JP2759890B2 (ja) | 1989-11-24 | 1989-11-24 | 露光装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03165023A true JPH03165023A (ja) | 1991-07-17 |
| JP2759890B2 JP2759890B2 (ja) | 1998-05-28 |
Family
ID=17918399
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1303226A Expired - Lifetime JP2759890B2 (ja) | 1989-11-24 | 1989-11-24 | 露光装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2759890B2 (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2003076030A (ja) * | 2001-09-06 | 2003-03-14 | Hitachi Electronics Eng Co Ltd | 露光装置における光照射装置 |
| JP2009150919A (ja) * | 2007-12-18 | 2009-07-09 | Nsk Ltd | 露光装置及び基板の製造方法 |
| KR20190046920A (ko) | 2016-09-13 | 2019-05-07 | 캐논 가부시끼가이샤 | 조명 장치, 노광 장치 및 물품의 제조 방법 |
| KR20200095390A (ko) | 2019-01-31 | 2020-08-10 | 캐논 가부시끼가이샤 | 조명 광학계, 노광 장치 및 물품의 제조 방법 |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP4470558B2 (ja) * | 2004-03-31 | 2010-06-02 | ウシオ電機株式会社 | 光照射装置 |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63111931U (ja) * | 1987-01-06 | 1988-07-19 |
-
1989
- 1989-11-24 JP JP1303226A patent/JP2759890B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63111931U (ja) * | 1987-01-06 | 1988-07-19 |
Cited By (5)
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