JPH04226559A - 樹脂組成物 - Google Patents
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Landscapes
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- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
- Polymers With Sulfur, Phosphorus Or Metals In The Main Chain (AREA)
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- Epoxy Resins (AREA)
- Macromolecular Compounds Obtained By Forming Nitrogen-Containing Linkages In General (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、耐熱性、耐クラック性
に優れた樹脂組成物に関する。すなわち、電子・電気材
料分野、半導体分野等の絶縁材料、積層板材料、樹脂封
止材料として、耐熱性、耐クラック性の向上をはかる樹
脂組成物に関わり、特に耐半田クラック性を要求される
半導体装置を封止するのに適した樹脂組成物に関する。
に優れた樹脂組成物に関する。すなわち、電子・電気材
料分野、半導体分野等の絶縁材料、積層板材料、樹脂封
止材料として、耐熱性、耐クラック性の向上をはかる樹
脂組成物に関わり、特に耐半田クラック性を要求される
半導体装置を封止するのに適した樹脂組成物に関する。
【0002】
【従来の技術】電気機器、電子部品、とりわけ半導体の
分野では、高密度実装化、多機能化の傾向にあり、これ
を封止する材料には、実装工程における高温半田に対し
て、耐熱性に優れた樹脂組成物の開発が強く望まれてい
る。
分野では、高密度実装化、多機能化の傾向にあり、これ
を封止する材料には、実装工程における高温半田に対し
て、耐熱性に優れた樹脂組成物の開発が強く望まれてい
る。
【0003】従来、半導体封止用樹脂組成物としては、
o−クレゾールノボラック型エポキシ樹脂に代表される
エポキシ樹脂、その硬化剤およびシリカを主成分とする
樹脂組成物が成形性、信頼性の点で優れているため、主
流となっている。「垣内弘編著;エポキシ樹脂、80頁
(株)昭晃堂」
o−クレゾールノボラック型エポキシ樹脂に代表される
エポキシ樹脂、その硬化剤およびシリカを主成分とする
樹脂組成物が成形性、信頼性の点で優れているため、主
流となっている。「垣内弘編著;エポキシ樹脂、80頁
(株)昭晃堂」
【0004】
【発明が解決しようとする課題】最近の傾向として樹脂
封止型半導体装置については、前述の高密度実装化の流
れにより、表面実装型の半導体装置に変わりつつある。 このような表面実装型の半導体装置においては、従来の
挿入型半導体装置と違って、基盤への半田付け工程にお
いて半導体装置全体が200℃以上の半田付け温度に曝
される。この際、封止樹脂にクラックが発生し、半導体
装置の信頼性を大幅に低下させるという問題が生じて来
た。「雑誌;日経エレクトロニクス,1986年6月1
3日号114〜118頁」この点から、樹脂強度の向上
を目的として耐熱性に優れたイミド系の樹脂を使用する
研究が多くなされて来たが、イミド樹脂の硬化物は、可
撓性、成形性の点で問題があり、硬化剤と併用すること
により成形性と耐熱性のバランスを取ることが検討され
て来た。
封止型半導体装置については、前述の高密度実装化の流
れにより、表面実装型の半導体装置に変わりつつある。 このような表面実装型の半導体装置においては、従来の
挿入型半導体装置と違って、基盤への半田付け工程にお
いて半導体装置全体が200℃以上の半田付け温度に曝
される。この際、封止樹脂にクラックが発生し、半導体
装置の信頼性を大幅に低下させるという問題が生じて来
た。「雑誌;日経エレクトロニクス,1986年6月1
3日号114〜118頁」この点から、樹脂強度の向上
を目的として耐熱性に優れたイミド系の樹脂を使用する
研究が多くなされて来たが、イミド樹脂の硬化物は、可
撓性、成形性の点で問題があり、硬化剤と併用すること
により成形性と耐熱性のバランスを取ることが検討され
て来た。
【0005】しかしながら、特開平1−213335号
公報、特開平1−254735号公報および特開平2−
32117号公報などに記載されている通り、通常のイ
ミド樹脂と硬化剤では、必ずしも安定した性能が得られ
難く、かつ吸湿率が高いのが実情であった。
公報、特開平1−254735号公報および特開平2−
32117号公報などに記載されている通り、通常のイ
ミド樹脂と硬化剤では、必ずしも安定した性能が得られ
難く、かつ吸湿率が高いのが実情であった。
【0006】本発明の目的は、耐熱性、成形性のバラン
スが良好でかつ低吸湿率の性能を兼ね備えた半田耐熱性
を要求される樹脂封止型半導体装置に適用できる封止用
樹脂組成物を提供することにある。
スが良好でかつ低吸湿率の性能を兼ね備えた半田耐熱性
を要求される樹脂封止型半導体装置に適用できる封止用
樹脂組成物を提供することにある。
【0007】
【課題を解決するための手段】本発明者等は、本目的達
成のためイミド樹脂と硬化剤を併用することで樹脂組成
物の耐熱性を向上させ、かつ低吸湿性とする目的で鋭意
研究を重ねた結果、ある特殊なビスマレイミド樹脂を使
用することにより、優れた耐熱性と低吸湿性が得られる
ことを見出し、本発明を完成するに到った。
成のためイミド樹脂と硬化剤を併用することで樹脂組成
物の耐熱性を向上させ、かつ低吸湿性とする目的で鋭意
研究を重ねた結果、ある特殊なビスマレイミド樹脂を使
用することにより、優れた耐熱性と低吸湿性が得られる
ことを見出し、本発明を完成するに到った。
【0008】すなわち、本発明は、
(1) 一般式(1)〔化4〕
【0009】
【化4】
で表わされるビスマレイミド10〜100重量%を含む
ビスマレイミド化合物100重量部に対して、100〜
900重量部の無機充填剤を含有する樹脂組成物、(2
) 式(I)〔化5〕のビスマレイミド10〜100
重量%を含むビスマレイミド化合物100重量部に対し
て、10〜500重量部の硬化剤および該ビスマレイミ
ド化合物と該硬化剤の総量100重量部に対して、10
0〜900重量部の無機充填剤を含む樹脂組成物、
ビスマレイミド化合物100重量部に対して、100〜
900重量部の無機充填剤を含有する樹脂組成物、(2
) 式(I)〔化5〕のビスマレイミド10〜100
重量%を含むビスマレイミド化合物100重量部に対し
て、10〜500重量部の硬化剤および該ビスマレイミ
ド化合物と該硬化剤の総量100重量部に対して、10
0〜900重量部の無機充填剤を含む樹脂組成物、
【0
010】
010】
【化5】
(3) ビスマレイミド化合物が、100重量部の式
(1)のビスマレイミドと、0〜900重量部の一般式
(2)で表わされる式(1)以外のビスマレイミドを含
む1項または2項に記載の樹脂組成物、
(1)のビスマレイミドと、0〜900重量部の一般式
(2)で表わされる式(1)以外のビスマレイミドを含
む1項または2項に記載の樹脂組成物、
【0011】
【化6】
(式中、mは正の整数であり、R1 は、少なくとも2
個の炭素原子を有するm価の有機基である。)(4)
硬化剤がエポキシ樹脂、フェノール樹脂、ポリアミ
ンおよびジアリル化合物からなる群より選ばれた少なく
とも1種である1〜3項に記載の樹脂組成物、(5)
無機充填剤が、シリカ、アルミナ、窒化ケイ素、炭化
ケイ素、タルク、珪酸カルシウム、炭酸カルシウム、マ
イカ、クレー、チタンホワイト、ガラス繊維およびカー
ボン繊維からなる群より選ばれた少なくとも1種である
1〜4項に記載の樹脂組成物、(6) 1〜5項に記
載の樹脂組成物を半導体の樹脂封止用に使用することを
特徴とする半導体封止用樹脂組成物である。
個の炭素原子を有するm価の有機基である。)(4)
硬化剤がエポキシ樹脂、フェノール樹脂、ポリアミ
ンおよびジアリル化合物からなる群より選ばれた少なく
とも1種である1〜3項に記載の樹脂組成物、(5)
無機充填剤が、シリカ、アルミナ、窒化ケイ素、炭化
ケイ素、タルク、珪酸カルシウム、炭酸カルシウム、マ
イカ、クレー、チタンホワイト、ガラス繊維およびカー
ボン繊維からなる群より選ばれた少なくとも1種である
1〜4項に記載の樹脂組成物、(6) 1〜5項に記
載の樹脂組成物を半導体の樹脂封止用に使用することを
特徴とする半導体封止用樹脂組成物である。
【0012】本発明で使用されるビスマレイミド化合物
は一般式(I)で表わされるビスマレイミドを含むもの
であり、具体的には、1,4−ビス〔4−(4−マレイ
ミドフェノキシ)−α,α−ジメチルベンジル〕ベンゼ
ンおよび1,3−ビス〔4−(4−マレイミドフェノキ
シ)−α,α−ジメチルベンジル〕ベンゼン、1,4−
ビス〔4−(3−マレイミドフェノキシ)−α,α−ジ
メチルベンジル〕ベンゼンおよび1,3−ビス〔4−(
3−マレイミドフェノキシ)−α,α−ジメチルベンジ
ル〕ベンゼン、1,4−ビス〔4−(4−マレイミドフ
ェノキシ)−3,5−ジメチル−α,α−ジメチルベン
ジル〕ベンゼンおよび1,3−ビス〔4−(4−マレイ
ミドフェノキシ)−3,5−ジメチル−α,α−ジメチ
ルベンジル〕ベンゼン、1,4−ビス〔4−(3−マレ
イミドフェノキシ)−3,5−ジメチル−α,α−ジメ
チルベンジル〕ベンゼンおよび1,3−ビス〔4−(3
−マレイミドフェノキシ)−3,5−ジメチル−α,α
−ジメチルベンジル〕ベンゼンがある。これらのビスマ
レイミドは、一般式(3)〔化7〕
は一般式(I)で表わされるビスマレイミドを含むもの
であり、具体的には、1,4−ビス〔4−(4−マレイ
ミドフェノキシ)−α,α−ジメチルベンジル〕ベンゼ
ンおよび1,3−ビス〔4−(4−マレイミドフェノキ
シ)−α,α−ジメチルベンジル〕ベンゼン、1,4−
ビス〔4−(3−マレイミドフェノキシ)−α,α−ジ
メチルベンジル〕ベンゼンおよび1,3−ビス〔4−(
3−マレイミドフェノキシ)−α,α−ジメチルベンジ
ル〕ベンゼン、1,4−ビス〔4−(4−マレイミドフ
ェノキシ)−3,5−ジメチル−α,α−ジメチルベン
ジル〕ベンゼンおよび1,3−ビス〔4−(4−マレイ
ミドフェノキシ)−3,5−ジメチル−α,α−ジメチ
ルベンジル〕ベンゼン、1,4−ビス〔4−(3−マレ
イミドフェノキシ)−3,5−ジメチル−α,α−ジメ
チルベンジル〕ベンゼンおよび1,3−ビス〔4−(3
−マレイミドフェノキシ)−3,5−ジメチル−α,α
−ジメチルベンジル〕ベンゼンがある。これらのビスマ
レイミドは、一般式(3)〔化7〕
【0013】
【化7】
(式中、Rは、HまたはCH3 を意味する。)で表わ
されるジアミンと無水マレイン酸を酸性触媒存在下に縮
合・脱水反応させて容易に製造できる。ここで使用する
ジアミンは、具体的には1,4−ビス〔4−(4−アミ
ノフェノキシ)−α,α−ジメチルベンジル〕ベンゼン
および1,3−ビス〔4−(4−アミノフェノキシ)−
α,α−ジメチルベンジル〕ベンゼン、1,4−ビス〔
4−(3−アミノフェノキシ)−α,α−ジメチルベン
ジル〕ベンゼンおよび1,3−ビス〔4−(3−アミノ
フェノキシ)−α,α−ジメチルベンジル〕ベンゼン、
1,4−ビス〔4−(4−アミノフェノキシ)−3,5
−ジメチル−α,α−ジメチルベンジル〕ベンゼンおよ
び1,3−ビス〔4−(4−アミノフェノキシ)−3,
5−ジメチル−α,α−ジメチルベンジル〕ベンゼン、
1,4−ビス〔4−(3−アミノフェノキシ)−3,5
−ジメチル−α,α−ジメチルベンジル〕ベンゼンおよ
び1,3−ビス〔4−(3−アミノフェノキシ)−3,
5−ジメチル−α,α−ジメチルベンジル〕ベンゼンで
ある。
されるジアミンと無水マレイン酸を酸性触媒存在下に縮
合・脱水反応させて容易に製造できる。ここで使用する
ジアミンは、具体的には1,4−ビス〔4−(4−アミ
ノフェノキシ)−α,α−ジメチルベンジル〕ベンゼン
および1,3−ビス〔4−(4−アミノフェノキシ)−
α,α−ジメチルベンジル〕ベンゼン、1,4−ビス〔
4−(3−アミノフェノキシ)−α,α−ジメチルベン
ジル〕ベンゼンおよび1,3−ビス〔4−(3−アミノ
フェノキシ)−α,α−ジメチルベンジル〕ベンゼン、
1,4−ビス〔4−(4−アミノフェノキシ)−3,5
−ジメチル−α,α−ジメチルベンジル〕ベンゼンおよ
び1,3−ビス〔4−(4−アミノフェノキシ)−3,
5−ジメチル−α,α−ジメチルベンジル〕ベンゼン、
1,4−ビス〔4−(3−アミノフェノキシ)−3,5
−ジメチル−α,α−ジメチルベンジル〕ベンゼンおよ
び1,3−ビス〔4−(3−アミノフェノキシ)−3,
5−ジメチル−α,α−ジメチルベンジル〕ベンゼンで
ある。
【0014】本発明では前記のビスマレイミド以外に、
他のビスマレイミドまたはポリマレイミドを混合して使
用することができる。この場合、前記のビスマレイミド
の使用割合は、全ビスマレイミド中の10〜100重量
%、好ましくは50重量%以上が好ましい。
他のビスマレイミドまたはポリマレイミドを混合して使
用することができる。この場合、前記のビスマレイミド
の使用割合は、全ビスマレイミド中の10〜100重量
%、好ましくは50重量%以上が好ましい。
【0015】前記以外のビスマレイミドまたはポリマレ
イミドとしては、例えば、一般式(2)〔化8〕で表わ
される。
イミドとしては、例えば、一般式(2)〔化8〕で表わ
される。
【0016】
【化8】
(式中、mは正の整数であり、R1 は、少なくとも2
個の炭素原子を有するm価の有機基である。)これらの
具体例としては、N,N’−エチレンビスマレイミド、
N,N’−ヘキサメチレンビスマレイミド、N,N’−
(1,3−フェニレン)ビスマレイミド、N,N’−(
1,4−フェニレン)ビスマレイミド、ビス(4−マレ
イミドフェニル)メタン、ビス(4−マレイミドフェニ
ル)エーテル、ビス(3−クロロ−4−マレイミドフェ
ニル)メタン、ビス(4−マレイミドフェニル)スルホ
ン、ビス(4−マレイミドシクロヘキシル)メタン、1
,4−ビス(マレイミドメチル)シクロヘキサン、1,
4−ビス(マレイミドフェニル)シクロヘキサン、1,
4−ビス(マレイミドメチル)ベンゼン、1,3−ビス
(3−マレイミドフェノキシ)ベンゼン、1,3−ビス
(4−マレイミドフェノキシ)ベンゼン、ビス〔4−(
3−マレイミドフェノキシ)フェニル〕メタン、ビス〔
4−(4マレイミドフェノキシ)フェニル〕メタン、1
,1−ビス〔4−(3−マレイミドフェノキシ)フェニ
ル〕エタン、1,1−ビス〔4−(4−マレイミドフェ
ノキシ)フェニル〕エタン、1,2−ビス〔4−(3−
マレイミドフェノキシ)フェニル〕エタン、1,2−ビ
ス〔4−(4−マレイミドフェノキシ)フェニル〕エタ
ン、2,2−ビス〔4−(3−マレイミドフェノキシ)
フェニル〕プロパン、2,2−ビス〔4−(4−マレイ
ミドフェノキシ)フェニル〕プロパン、2,2−ビス〔
4−(3−マレイミドフェノキシ)フェニル〕ブタン、
2,2−ビス〔4−(4−マレイミドフェノキシ)フェ
ニル〕ブタン、2,2−ビス〔4−(3−マレイミドフ
ェノキシ)フェニル〕−1,1,1,3,3,3−ヘキ
サフルオロプロパン、2,2−ビス〔4−(4−マレイ
ミドフェノキシ)フェニル〕−1,1,1,3,3,3
−ヘキサフルオロプロパン、4,4’−(3−マレイミ
ドフェノキシ)ビフェニル、4,4’−(4−マレイミ
ドフェノキシ)ビフェニル、ビス〔4−(3−マレイミ
ドフェノキシ)フェニル〕ケトン、ビス〔4−(4−マ
レイミドフェノキシ)フェニル〕ケトン、ビス〔4−(
3−マレイミドフェノキシ)フェニル〕スルフィド、ビ
ス〔4−(4−マレイミドフェノキシ)フェニル〕スル
フィド、ビス〔4−(3−マレイミドフェノキシ)フェ
ニル〕スルホキシド、ビス〔4−(4−マレイミドフェ
ノキシ)フェニル〕スルホキシド、ビス〔4−(3−マ
レイミドフェノキシ)フェニル〕スルホン、ビス〔4−
(4−マレイミドフェノキシ)フェニル〕スルホン、ビ
ス〔4−(3−マレイミドフェノキシ)フェニル〕エー
テル、ビス〔4−(4−マレイミドフェノキシ)フェニ
ル〕エーテル、ポリマレイミドフェニルメチレン、及び
一般式(4)〔化9〕
個の炭素原子を有するm価の有機基である。)これらの
具体例としては、N,N’−エチレンビスマレイミド、
N,N’−ヘキサメチレンビスマレイミド、N,N’−
(1,3−フェニレン)ビスマレイミド、N,N’−(
1,4−フェニレン)ビスマレイミド、ビス(4−マレ
イミドフェニル)メタン、ビス(4−マレイミドフェニ
ル)エーテル、ビス(3−クロロ−4−マレイミドフェ
ニル)メタン、ビス(4−マレイミドフェニル)スルホ
ン、ビス(4−マレイミドシクロヘキシル)メタン、1
,4−ビス(マレイミドメチル)シクロヘキサン、1,
4−ビス(マレイミドフェニル)シクロヘキサン、1,
4−ビス(マレイミドメチル)ベンゼン、1,3−ビス
(3−マレイミドフェノキシ)ベンゼン、1,3−ビス
(4−マレイミドフェノキシ)ベンゼン、ビス〔4−(
3−マレイミドフェノキシ)フェニル〕メタン、ビス〔
4−(4マレイミドフェノキシ)フェニル〕メタン、1
,1−ビス〔4−(3−マレイミドフェノキシ)フェニ
ル〕エタン、1,1−ビス〔4−(4−マレイミドフェ
ノキシ)フェニル〕エタン、1,2−ビス〔4−(3−
マレイミドフェノキシ)フェニル〕エタン、1,2−ビ
ス〔4−(4−マレイミドフェノキシ)フェニル〕エタ
ン、2,2−ビス〔4−(3−マレイミドフェノキシ)
フェニル〕プロパン、2,2−ビス〔4−(4−マレイ
ミドフェノキシ)フェニル〕プロパン、2,2−ビス〔
4−(3−マレイミドフェノキシ)フェニル〕ブタン、
2,2−ビス〔4−(4−マレイミドフェノキシ)フェ
ニル〕ブタン、2,2−ビス〔4−(3−マレイミドフ
ェノキシ)フェニル〕−1,1,1,3,3,3−ヘキ
サフルオロプロパン、2,2−ビス〔4−(4−マレイ
ミドフェノキシ)フェニル〕−1,1,1,3,3,3
−ヘキサフルオロプロパン、4,4’−(3−マレイミ
ドフェノキシ)ビフェニル、4,4’−(4−マレイミ
ドフェノキシ)ビフェニル、ビス〔4−(3−マレイミ
ドフェノキシ)フェニル〕ケトン、ビス〔4−(4−マ
レイミドフェノキシ)フェニル〕ケトン、ビス〔4−(
3−マレイミドフェノキシ)フェニル〕スルフィド、ビ
ス〔4−(4−マレイミドフェノキシ)フェニル〕スル
フィド、ビス〔4−(3−マレイミドフェノキシ)フェ
ニル〕スルホキシド、ビス〔4−(4−マレイミドフェ
ノキシ)フェニル〕スルホキシド、ビス〔4−(3−マ
レイミドフェノキシ)フェニル〕スルホン、ビス〔4−
(4−マレイミドフェノキシ)フェニル〕スルホン、ビ
ス〔4−(3−マレイミドフェノキシ)フェニル〕エー
テル、ビス〔4−(4−マレイミドフェノキシ)フェニ
ル〕エーテル、ポリマレイミドフェニルメチレン、及び
一般式(4)〔化9〕
【0017】
【化9】
(式中、Iは平均値で0〜10であり、Imは前記に同
じ。)で表わされるポリマレイミド等が挙げられる。ま
た、これらの1種類または2種類以上が使用される。
じ。)で表わされるポリマレイミド等が挙げられる。ま
た、これらの1種類または2種類以上が使用される。
【0018】本発明の組成物に適用できる硬化剤は、ビ
スマレイミドの硬化剤として一般的に使用されているも
のが広く適用可能である。例えば、ポリアミン、エポキ
シ樹脂、フェノール樹脂、ジアリル化合物、エポキシ樹
脂とフェノール樹脂の併用等が挙げられる。
スマレイミドの硬化剤として一般的に使用されているも
のが広く適用可能である。例えば、ポリアミン、エポキ
シ樹脂、フェノール樹脂、ジアリル化合物、エポキシ樹
脂とフェノール樹脂の併用等が挙げられる。
【0019】特に本発明の組成物に好適に使用される硬
化剤としては、エポキシ樹脂とフェノール樹脂の併用が
流動性、電気特性、硬化バランス等の点から好ましい。
化剤としては、エポキシ樹脂とフェノール樹脂の併用が
流動性、電気特性、硬化バランス等の点から好ましい。
【0020】本発明で使用される硬化剤としてのエポキ
シ樹脂は、1分子中に少なくとも2個のエポキシ基を有
するものであれば全て使用可能である。具体的には、フ
ェノール、クレゾール、レゾルシノール等のフェノール
類とアルデヒド類との反応生成物であるノボラック樹脂
から誘導されるノボラックエポキシ樹脂、および上記の
フェノール類とアラルキルエーテル類との反応生成物で
あるアラルキル樹脂から誘導されるアラルキルエポキシ
樹脂が耐熱性、電気特性の点から好ましい。またナフト
ール骨格を有するエポキシ樹脂、ノボラックエポキシ樹
脂、ナフール骨格を有するアラルキルエポキシ樹脂も低
吸湿性の点で好ましい。
シ樹脂は、1分子中に少なくとも2個のエポキシ基を有
するものであれば全て使用可能である。具体的には、フ
ェノール、クレゾール、レゾルシノール等のフェノール
類とアルデヒド類との反応生成物であるノボラック樹脂
から誘導されるノボラックエポキシ樹脂、および上記の
フェノール類とアラルキルエーテル類との反応生成物で
あるアラルキル樹脂から誘導されるアラルキルエポキシ
樹脂が耐熱性、電気特性の点から好ましい。またナフト
ール骨格を有するエポキシ樹脂、ノボラックエポキシ樹
脂、ナフール骨格を有するアラルキルエポキシ樹脂も低
吸湿性の点で好ましい。
【0021】その他、1分子中に2個以上の活性水素を
有する化合物から誘導されるエポキシ樹脂、例えば、ビ
スフェノールA、ビスフェノールF、レゾルシン、ビス
ヒドロキシジフェニルエーテル、テトラブロムビスフェ
ノールA、トリヒドロキシフェニルメタン、テトラヒド
ロキシフェニルエタン、アルカンテトラキスフェノール
等の多価フェノール類;エチレングリコール、ネオペン
チルグリコール、グリセリン、トリメチロールプロパン
、ペンタエリスリトール、ジエチレングリコール、ポリ
プロピレングリコール等の多価アルコール類;エチレン
ジアミン、アニリン、ビス(4−アミノフェニル)メタ
ン等のアミン類;アジピン類、フタル酸、イソフタル酸
等の多価カルボン酸類とエピクロルヒドリンまたは2−
メチルエピクロルヒドリンを反応させて得られるエポキ
シ樹脂、および一般式(5)〔化10〕、(6)〔化1
1〕;
有する化合物から誘導されるエポキシ樹脂、例えば、ビ
スフェノールA、ビスフェノールF、レゾルシン、ビス
ヒドロキシジフェニルエーテル、テトラブロムビスフェ
ノールA、トリヒドロキシフェニルメタン、テトラヒド
ロキシフェニルエタン、アルカンテトラキスフェノール
等の多価フェノール類;エチレングリコール、ネオペン
チルグリコール、グリセリン、トリメチロールプロパン
、ペンタエリスリトール、ジエチレングリコール、ポリ
プロピレングリコール等の多価アルコール類;エチレン
ジアミン、アニリン、ビス(4−アミノフェニル)メタ
ン等のアミン類;アジピン類、フタル酸、イソフタル酸
等の多価カルボン酸類とエピクロルヒドリンまたは2−
メチルエピクロルヒドリンを反応させて得られるエポキ
シ樹脂、および一般式(5)〔化10〕、(6)〔化1
1〕;
【0022】
【化10】
【0023】
【化11】
(式中、Xは0〜5の整数を示す。)等が挙げられ、こ
れらのエポキシ樹脂の1種類または2種類以上が使用さ
れる。また、前記エポキシ樹脂として、オイル状、ゴム
状等のシリコーン化合物で変性したエポキシ樹脂を使用
することもできる。例えば、特開昭62−270617
号、特開昭62−273222号に開示されたごとく、
エポキシ樹脂とビニルポリマーとの反応物中にシリコー
ンポリマー微粒子を分散させることにより製造されるシ
リコーン変性エポキシ樹脂等がある。更に一般式(7)
〔化12〕
れらのエポキシ樹脂の1種類または2種類以上が使用さ
れる。また、前記エポキシ樹脂として、オイル状、ゴム
状等のシリコーン化合物で変性したエポキシ樹脂を使用
することもできる。例えば、特開昭62−270617
号、特開昭62−273222号に開示されたごとく、
エポキシ樹脂とビニルポリマーとの反応物中にシリコー
ンポリマー微粒子を分散させることにより製造されるシ
リコーン変性エポキシ樹脂等がある。更に一般式(7)
〔化12〕
【0024】
【化12】
(R5 〜R8 は水素原子または炭素数1〜4のアル
キル基を示す。)で表わされるエポキシ樹脂を用いるこ
ともできる。上記一般式(6)で表わされるエポキシ樹
脂としては、具体例としては、4,4’−ビス(2,3
−エポキシプロポキシ)ビフェニル、4,4’−ビス(
2,3−エポキシプロポキシ)−3,3’,5,5’−
テトラメチルビフェニル、4,4’−ビス(2,3−エ
ポキシプロポキシ)−3,3’,5,5’−テトラエチ
ルビフェニル、4,4’−ビス(2,3−エポキシプロ
ポキシ)−3,3’,5,5’−テトラプロピルビフェ
ニル、4,4’−ビス(2,3−エポキシプロポキシ)
−3,3’,5,5’−テトラブチルビフェニル等であ
り、これらの1種類または2種類以上が使用される。
キル基を示す。)で表わされるエポキシ樹脂を用いるこ
ともできる。上記一般式(6)で表わされるエポキシ樹
脂としては、具体例としては、4,4’−ビス(2,3
−エポキシプロポキシ)ビフェニル、4,4’−ビス(
2,3−エポキシプロポキシ)−3,3’,5,5’−
テトラメチルビフェニル、4,4’−ビス(2,3−エ
ポキシプロポキシ)−3,3’,5,5’−テトラエチ
ルビフェニル、4,4’−ビス(2,3−エポキシプロ
ポキシ)−3,3’,5,5’−テトラプロピルビフェ
ニル、4,4’−ビス(2,3−エポキシプロポキシ)
−3,3’,5,5’−テトラブチルビフェニル等であ
り、これらの1種類または2種類以上が使用される。
【0025】また、本発明に使用される硬化剤としての
フェノール樹脂については、1分子中に2個以上のフェ
ノール性水酸基を有する化合物であり、具体的には、フ
ェノール、クレゾール、レゾルシノール等のフェノール
類とアルデヒド類との反応生成物であるノボラックフェ
ノール樹脂、上記のフェノール類とアラルキルエーテル
類との反応生成物であるアラルキルフェノール樹脂、ナ
フトール骨格を有するナフトール類、フェノール類、ナ
フトール骨格を有するアラルキル類、トリヒドロキシフ
ェニルメタン、テトラヒドロキシフェニルエタン、アル
カンテトラキスフェノール等の多価フェノール類等が挙
げられる。これらのフェノール樹脂は1種類または2種
類以上が使用される。また、上記化合物にアミン類、酸
無水物を併用することもできる。
フェノール樹脂については、1分子中に2個以上のフェ
ノール性水酸基を有する化合物であり、具体的には、フ
ェノール、クレゾール、レゾルシノール等のフェノール
類とアルデヒド類との反応生成物であるノボラックフェ
ノール樹脂、上記のフェノール類とアラルキルエーテル
類との反応生成物であるアラルキルフェノール樹脂、ナ
フトール骨格を有するナフトール類、フェノール類、ナ
フトール骨格を有するアラルキル類、トリヒドロキシフ
ェニルメタン、テトラヒドロキシフェニルエタン、アル
カンテトラキスフェノール等の多価フェノール類等が挙
げられる。これらのフェノール樹脂は1種類または2種
類以上が使用される。また、上記化合物にアミン類、酸
無水物を併用することもできる。
【0026】エポキシ樹脂およびまたはフェノール樹脂
を硬化剤として使用する本発明の組成物において、ビス
マレイミド、エポキシ樹脂およびフェノール樹脂の配合
量は、ビスマレイミド100重量部に対して、エポキシ
樹脂とフェノール樹脂の合計量が、10〜500重量部
、好ましくは25〜300重量部である。また、エポキ
シ樹脂とフェノール樹脂とを併用するとき、これらの割
合は、エポキシ樹脂に対してフェノール樹脂が当量比で
0.1〜10の範囲、好ましくは0.5〜2の範囲であ
る。
を硬化剤として使用する本発明の組成物において、ビス
マレイミド、エポキシ樹脂およびフェノール樹脂の配合
量は、ビスマレイミド100重量部に対して、エポキシ
樹脂とフェノール樹脂の合計量が、10〜500重量部
、好ましくは25〜300重量部である。また、エポキ
シ樹脂とフェノール樹脂とを併用するとき、これらの割
合は、エポキシ樹脂に対してフェノール樹脂が当量比で
0.1〜10の範囲、好ましくは0.5〜2の範囲であ
る。
【0027】さらに、本発明の組成物において、硬化剤
にポリアミンを使用する場合は、一般式(8)H2 N
−R−NH2 (8)(
式中、Rは、少なくとも2個の炭素数を有する2価の有
機基を示す)で表わされるジアミン化合物が好ましく、
具体的には、本発明に記載の一般式(3)のジアミン、
1,3−ビス(3−アミノフェノキシ)ベンゼン、ビス
(3−アミノフェノキシ)メタン、4,4’−ビス(3
−アミノフェノキシ)ビフェニル、ビス〔4−(3−ア
ミノフェノキシ)フェニル〕スルフィド、ビス〔4−(
3−アミノフェノキシ)フェニル〕エーテル、4,4’
−ジアミノジシクロヘキシルメタン、1,4−ジアミノ
シクロヘキサン、2,6−ジアミノピリジン、p−フェ
ニレンジアミン、4,4’−ジアミノジフェニルメタン
、4,4’−ジアミノジフェニルオキシド、4,4’−
ジアミノフェニルスルホン、ビス(4−アミノフェニル
)フェニルホスフィンオキシド、1,5−ジアミノナフ
タレン、m−キシレンジアミン、ヘキサメチレンジアミ
ン、ビス(4−アミノフェニル)2フェニルメタン、1
,1−ビス(4−アミノフェニル)2−シクロヘキサン
、2,5−(m−アミノフェニル)1,3,4−オキサ
ジアゾール、4,4’−ジアミノジフェニルエーテル、
4,4’−ジアミノフェニルベンゾエート等が挙げられ
る。これらは少なくとも1種または2種以上のものを混
合して用いられる。
にポリアミンを使用する場合は、一般式(8)H2 N
−R−NH2 (8)(
式中、Rは、少なくとも2個の炭素数を有する2価の有
機基を示す)で表わされるジアミン化合物が好ましく、
具体的には、本発明に記載の一般式(3)のジアミン、
1,3−ビス(3−アミノフェノキシ)ベンゼン、ビス
(3−アミノフェノキシ)メタン、4,4’−ビス(3
−アミノフェノキシ)ビフェニル、ビス〔4−(3−ア
ミノフェノキシ)フェニル〕スルフィド、ビス〔4−(
3−アミノフェノキシ)フェニル〕エーテル、4,4’
−ジアミノジシクロヘキシルメタン、1,4−ジアミノ
シクロヘキサン、2,6−ジアミノピリジン、p−フェ
ニレンジアミン、4,4’−ジアミノジフェニルメタン
、4,4’−ジアミノジフェニルオキシド、4,4’−
ジアミノフェニルスルホン、ビス(4−アミノフェニル
)フェニルホスフィンオキシド、1,5−ジアミノナフ
タレン、m−キシレンジアミン、ヘキサメチレンジアミ
ン、ビス(4−アミノフェニル)2フェニルメタン、1
,1−ビス(4−アミノフェニル)2−シクロヘキサン
、2,5−(m−アミノフェニル)1,3,4−オキサ
ジアゾール、4,4’−ジアミノジフェニルエーテル、
4,4’−ジアミノフェニルベンゾエート等が挙げられ
る。これらは少なくとも1種または2種以上のものを混
合して用いられる。
【0028】硬化剤としてポリアミンを使用する本発明
の組成物において、ビスマレイミド化合物とポリアミン
化合物の使用割合は、通常、モル比でビスマレイミド化
合物:ポリアミンが、10:1〜1:3の範囲である。 さらに、硬化物として、ジアリルフタレート、o,o’
−ジアリルビスフェノールA等のジアリル化合物を使用
することもできる。この場合プレポリマー化して使用す
ることが好ましい。
の組成物において、ビスマレイミド化合物とポリアミン
化合物の使用割合は、通常、モル比でビスマレイミド化
合物:ポリアミンが、10:1〜1:3の範囲である。 さらに、硬化物として、ジアリルフタレート、o,o’
−ジアリルビスフェノールA等のジアリル化合物を使用
することもできる。この場合プレポリマー化して使用す
ることが好ましい。
【0029】本発明の樹脂組成物は、ビスマレイミド成
分および硬化剤を通常のように配合、混練してもよいし
、マレイミド化合物を硬化剤成分の一部または全部に予
め溶解させておいてもよく、またこれらを反応させたプ
レポリマーとして使用してもよい。
分および硬化剤を通常のように配合、混練してもよいし
、マレイミド化合物を硬化剤成分の一部または全部に予
め溶解させておいてもよく、またこれらを反応させたプ
レポリマーとして使用してもよい。
【0030】本発明に使用される無機充填剤としては、
シリカ、アルミナ、窒化ケイ素、炭化ケイ素、タルク、
ケイ酸カルシウム、炭酸カルシウム、マイカ、クレー、
チタンホワイト等の粉体;ガラス繊維、カーボン繊維等
の繊維体等の単独または混合が例示される。これらの中
で熱膨張率と熱伝導率の点から、結晶性シリカおよび/
または溶融性シリカが好ましい。更に、樹脂組成物の成
形時の流動性を考えると、その形状は球状、または球状
と不定形の混合物が好ましい。
シリカ、アルミナ、窒化ケイ素、炭化ケイ素、タルク、
ケイ酸カルシウム、炭酸カルシウム、マイカ、クレー、
チタンホワイト等の粉体;ガラス繊維、カーボン繊維等
の繊維体等の単独または混合が例示される。これらの中
で熱膨張率と熱伝導率の点から、結晶性シリカおよび/
または溶融性シリカが好ましい。更に、樹脂組成物の成
形時の流動性を考えると、その形状は球状、または球状
と不定形の混合物が好ましい。
【0031】無機充填剤の配合量は、ビスマレイミド成
分、エポキシ樹脂およびまたはフェノール樹脂またはそ
の他の硬化成分の合計量100重量部に対して100〜
900重量部であることが必要であり、好ましくは20
0〜600重量部である。100重量部未満では強度が
低下し、熱膨張率、熱伝導率などにおいても十分な効果
が得られない。また900重量部を超えると樹脂の流動
性が低下し、成形性が悪く実用に供し難い。
分、エポキシ樹脂およびまたはフェノール樹脂またはそ
の他の硬化成分の合計量100重量部に対して100〜
900重量部であることが必要であり、好ましくは20
0〜600重量部である。100重量部未満では強度が
低下し、熱膨張率、熱伝導率などにおいても十分な効果
が得られない。また900重量部を超えると樹脂の流動
性が低下し、成形性が悪く実用に供し難い。
【0032】また上記無機充填剤は、機械的強度、耐熱
性等の点から、樹脂との接着性向上の目的でカップリン
グ剤を併用することが好ましく、かかるカップリング剤
としては、シラン系、チタネート系、アルミネート系お
よびジルコアルミネート系等のカップリング剤が使用で
きるが、中でもシラン系カップリング剤が好ましく、特
に、熱硬化性樹脂と反応する官能基を有するシラン系カ
ップリング剤が最も好ましい。
性等の点から、樹脂との接着性向上の目的でカップリン
グ剤を併用することが好ましく、かかるカップリング剤
としては、シラン系、チタネート系、アルミネート系お
よびジルコアルミネート系等のカップリング剤が使用で
きるが、中でもシラン系カップリング剤が好ましく、特
に、熱硬化性樹脂と反応する官能基を有するシラン系カ
ップリング剤が最も好ましい。
【0033】かかるシラン系カップリング剤の例として
は、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシ
ラン、N−(2−アミノエチル)3−アミノプロピルメ
チルジメトキシシラン、N−(2−アミノエチル)3−
アミノプロピルトリメトキシシラン、3−アミノプロピ
ルトリエトキシシラン、3−アニリノプロピルトリメト
キシシラン、3−グリシドキシプロピルトリメトキシシ
ラン、3−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラ
ン、2−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルト
リメトキシシラン、3−メタクリロキシプロピルトリメ
トキシシラン、3−メルカプトプロピルトリメトキシシ
ラン等を挙げられる。これらは1種類または2種類以上
を使用することができる。また、これらのシランカップ
リング剤は、予め無機充填剤表面に吸着ないしは反応に
より固定されていることが好ましい。
は、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシ
ラン、N−(2−アミノエチル)3−アミノプロピルメ
チルジメトキシシラン、N−(2−アミノエチル)3−
アミノプロピルトリメトキシシラン、3−アミノプロピ
ルトリエトキシシラン、3−アニリノプロピルトリメト
キシシラン、3−グリシドキシプロピルトリメトキシシ
ラン、3−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラ
ン、2−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルト
リメトキシシラン、3−メタクリロキシプロピルトリメ
トキシシラン、3−メルカプトプロピルトリメトキシシ
ラン等を挙げられる。これらは1種類または2種類以上
を使用することができる。また、これらのシランカップ
リング剤は、予め無機充填剤表面に吸着ないしは反応に
より固定されていることが好ましい。
【0034】本発明において、樹脂組成物を硬化するに
あたっては、硬化促進剤を使用することが望ましい。こ
のような硬化促進剤としては、2−メチルイミダゾール
、2−メチル−4−エチルイミダゾール、2−ヘプタデ
シルイミダゾール等のイミダゾール類;トリエタノール
アミン、トリエチレンジアミン、N−メチルモルホリン
等のアミン類;トリブチルホスフィン、トリフェニルホ
スフィン、トリトリルホスフィン、トリ−4−メチルフ
ェニルホスフィン、トリ−4−メトキシフェニルホスフ
ィン、トリ−オクチルホスフィン、トリ−2−シアノエ
チルホスフィン、1,2−ビス(ジフェニルホスフィノ
)エタン、1,4−ビス(ジフェニルホスフィノ)ブタ
ン等の有機ホスフィン類;テトラフェニルホスホニウム
テトラフェニルボレート、トリエチルアンモニウムテト
ラフェニルボレート等のテトラフェニルボロン塩類;1
,8−ジアザ−ビシクロ(5,4,0)ウンデセン−7
およびその誘導体がある。これらの硬化促進剤は、単独
で用いても2種類以上を併用してもよい。これら硬化促
進剤の使用量はビスマレイミド成分、エポキシ樹脂およ
びまたはフェノール樹脂の合計量100重量部に対して
0.01〜10重量部の範囲で用いられる。また、必要
に応じて有機過酸化物やアゾ化合物等のラジカル開始剤
を併用することもできる。
あたっては、硬化促進剤を使用することが望ましい。こ
のような硬化促進剤としては、2−メチルイミダゾール
、2−メチル−4−エチルイミダゾール、2−ヘプタデ
シルイミダゾール等のイミダゾール類;トリエタノール
アミン、トリエチレンジアミン、N−メチルモルホリン
等のアミン類;トリブチルホスフィン、トリフェニルホ
スフィン、トリトリルホスフィン、トリ−4−メチルフ
ェニルホスフィン、トリ−4−メトキシフェニルホスフ
ィン、トリ−オクチルホスフィン、トリ−2−シアノエ
チルホスフィン、1,2−ビス(ジフェニルホスフィノ
)エタン、1,4−ビス(ジフェニルホスフィノ)ブタ
ン等の有機ホスフィン類;テトラフェニルホスホニウム
テトラフェニルボレート、トリエチルアンモニウムテト
ラフェニルボレート等のテトラフェニルボロン塩類;1
,8−ジアザ−ビシクロ(5,4,0)ウンデセン−7
およびその誘導体がある。これらの硬化促進剤は、単独
で用いても2種類以上を併用してもよい。これら硬化促
進剤の使用量はビスマレイミド成分、エポキシ樹脂およ
びまたはフェノール樹脂の合計量100重量部に対して
0.01〜10重量部の範囲で用いられる。また、必要
に応じて有機過酸化物やアゾ化合物等のラジカル開始剤
を併用することもできる。
【0035】有機過酸化物としては、ジ−t−ブチルパ
ーオキサイド、t−ブチクミルパーオキサイド、ジクミ
ルパーオキサイド、1,3−ビス−(t−ブチルパーオ
キシ−イソプロピル)ベンゼン、1,1−ジ−t−ブチ
ルパーオキシ3,3,5−トリメチルシクロヘキサン、
1,1−ジ−t−ブチルパーオキシシクロヘキサン等の
ジアルキルパーオキサイド、t−ブチルパーベンゾエー
トなどのアルキルパーエステル等を挙げることができる
。また、アゾ化合物としては、アゾビスイソブチロニト
リル、アゾビスジメチルバレロニトリル等を挙げること
ができる。
ーオキサイド、t−ブチクミルパーオキサイド、ジクミ
ルパーオキサイド、1,3−ビス−(t−ブチルパーオ
キシ−イソプロピル)ベンゼン、1,1−ジ−t−ブチ
ルパーオキシ3,3,5−トリメチルシクロヘキサン、
1,1−ジ−t−ブチルパーオキシシクロヘキサン等の
ジアルキルパーオキサイド、t−ブチルパーベンゾエー
トなどのアルキルパーエステル等を挙げることができる
。また、アゾ化合物としては、アゾビスイソブチロニト
リル、アゾビスジメチルバレロニトリル等を挙げること
ができる。
【0036】本発明の樹脂組成物には、上記各成分の他
、必要に応じて、脂肪酸、脂肪酸塩、ワックス等の離型
剤、ブロム化合物、アンチモン、リン等の難燃剤、カー
ボンブラック等の着色剤、各種シリコーンオイル、トリ
アリルイソシアヌレート、トリアリルトリメリテート等
を配合し、混合・混練し成形材料とすることができる。
、必要に応じて、脂肪酸、脂肪酸塩、ワックス等の離型
剤、ブロム化合物、アンチモン、リン等の難燃剤、カー
ボンブラック等の着色剤、各種シリコーンオイル、トリ
アリルイソシアヌレート、トリアリルトリメリテート等
を配合し、混合・混練し成形材料とすることができる。
【0037】
【実施例】以下、本発明を実施例により具体的に説明す
る。なお、成形物の性能についての試験方法は次の通り
である。・ガラス転移温度:TMA法 ・曲げ強度:JIS K−6911 ・スパイラルフロー:EMMI 1−66・V.P.
S.テスト:試験用の半導体装置を85℃、85%の条
件下で168時間放置した後、直ちに260℃の溶融半
田浴に投入し、パッケージ樹脂にクラックの発生した半
導体装置の数を数えた。試験値を分数で示し、分子はク
ラックの発生した半導体装置の数、分母は試験に供した
半導体装置の総数である。
る。なお、成形物の性能についての試験方法は次の通り
である。・ガラス転移温度:TMA法 ・曲げ強度:JIS K−6911 ・スパイラルフロー:EMMI 1−66・V.P.
S.テスト:試験用の半導体装置を85℃、85%の条
件下で168時間放置した後、直ちに260℃の溶融半
田浴に投入し、パッケージ樹脂にクラックの発生した半
導体装置の数を数えた。試験値を分数で示し、分子はク
ラックの発生した半導体装置の数、分母は試験に供した
半導体装置の総数である。
【0038】合成例1
攪拌機、温度計、水分離器付還流冷却器及び滴下漏斗を
装着した反応容器に、無水マレイン酸26.5g(0.
27モル)、p−トルエンスルホン酸1.6gおよびト
ルエン150mlを装入し、昇温してトルエンの還流状
態に保った。これにあらかじめ1,3−ビス〔4−(4
−アミノフェノキシ)−α,α−ジメチルベンジル〕ベ
ンゼン52.8g(0.1モル)をトルエン100ml
に溶解した溶液を滴下漏斗により滴下した。全量を7時
間かけて滴下し、滴下終了後、更に2時間熟成した。滴
下開始から熟成終了までの間、反応で生成する水を還流
冷却器に備えつけてある水分離器によって補修した。反
応終了後、70℃まで冷却した後、温水100mlを加
え、同温度で30分攪拌を行った。静置後、2層に分離
した下層の部分(水槽)を抜き取り、再び温水100m
lを加えて同様な洗浄、分液を行った。
装着した反応容器に、無水マレイン酸26.5g(0.
27モル)、p−トルエンスルホン酸1.6gおよびト
ルエン150mlを装入し、昇温してトルエンの還流状
態に保った。これにあらかじめ1,3−ビス〔4−(4
−アミノフェノキシ)−α,α−ジメチルベンジル〕ベ
ンゼン52.8g(0.1モル)をトルエン100ml
に溶解した溶液を滴下漏斗により滴下した。全量を7時
間かけて滴下し、滴下終了後、更に2時間熟成した。滴
下開始から熟成終了までの間、反応で生成する水を還流
冷却器に備えつけてある水分離器によって補修した。反
応終了後、70℃まで冷却した後、温水100mlを加
え、同温度で30分攪拌を行った。静置後、2層に分離
した下層の部分(水槽)を抜き取り、再び温水100m
lを加えて同様な洗浄、分液を行った。
【0039】この上層のトルエン溶液を、最終的に13
0℃を越えない温度範囲で真空濃縮して目的物である赤
褐色透明な樹脂状の粗1,3−ビス〔4−(4−マレイ
ミドフェノキシ)−α,α−ジメチルベンジル〕ベンゼ
ン68gを得た。収率は定量的、HCLによる純度は9
1%であった。このものを再結晶により精製して淡黄色
粉末状の純品を得た。融点172〜175℃
0℃を越えない温度範囲で真空濃縮して目的物である赤
褐色透明な樹脂状の粗1,3−ビス〔4−(4−マレイ
ミドフェノキシ)−α,α−ジメチルベンジル〕ベンゼ
ン68gを得た。収率は定量的、HCLによる純度は9
1%であった。このものを再結晶により精製して淡黄色
粉末状の純品を得た。融点172〜175℃
【0040
】合成例2 合成例1と同じ反応器に無水マレイン酸26.5g(0
.27モル)リン酸0.7gおよび混合キシレン150
mlを装入し、キシレン還流下で、これにあらかじめ1
,4−ビス〔4−(4−アミノフェノキシ)−α,α−
ジメチルベンジル〕ベンゼン52.8g(0.1モル)
を混合キシレン100mlとN,N−ジメチルホルムア
ミド50mlに加熱溶解させた溶液を滴下した。滴下時
間5時間、熟成時間2時間行って反応を終了した。 この反応液を約1/2量まで濃縮した後、冷却して80
℃になった時点で水50gを加えた。この後、攪拌しな
がら除冷すると結晶が析出した。室温まで冷却してから
濾過して冷メタノールで洗浄することにより目的物の粗
1,4−ビス〔4−(4−マレイミドフェノキシ)−α
,α’−ジメチルベンジル〕ベンゼン66.5gを得た
。収率は96.7%、HCLによる純度は97.5%で
あった。このものを再結晶により精製して淡黄色粉末状
の純品を得た。融点214〜216℃
】合成例2 合成例1と同じ反応器に無水マレイン酸26.5g(0
.27モル)リン酸0.7gおよび混合キシレン150
mlを装入し、キシレン還流下で、これにあらかじめ1
,4−ビス〔4−(4−アミノフェノキシ)−α,α−
ジメチルベンジル〕ベンゼン52.8g(0.1モル)
を混合キシレン100mlとN,N−ジメチルホルムア
ミド50mlに加熱溶解させた溶液を滴下した。滴下時
間5時間、熟成時間2時間行って反応を終了した。 この反応液を約1/2量まで濃縮した後、冷却して80
℃になった時点で水50gを加えた。この後、攪拌しな
がら除冷すると結晶が析出した。室温まで冷却してから
濾過して冷メタノールで洗浄することにより目的物の粗
1,4−ビス〔4−(4−マレイミドフェノキシ)−α
,α’−ジメチルベンジル〕ベンゼン66.5gを得た
。収率は96.7%、HCLによる純度は97.5%で
あった。このものを再結晶により精製して淡黄色粉末状
の純品を得た。融点214〜216℃
【0041】合成
例3 合成例1と同じ反応器に無水マレイン酸26.5g(0
.27モル)、p−トルエンスルホン酸1.6gおよび
トルエン150mlを装入し、トルエン還流下で、これ
にあらかじめ1,4−ビス〔4−(4−アミノフェノキ
シ)−3,5−ジメチル−α,α−ジメチルベンジル〕
ベンゼン58.8g(0.1モル)をトルエン100m
lに溶解させた溶液を滴下漏斗により滴下した。全量を
7時間かけて滴下し、滴下終了後更に、熟成時間2時間
行って反応を終了した。滴下開始から熟成終了までの間
、反応で生成する水を還流冷却器に備えつけてある水分
離器によって補修した。反応終了後、70℃まで冷却し
た後、温水100mlを加え、同温度で30分攪拌を行
った。静置後、2層に分離した下層の部分(水槽)を抜
き取り、再び温水100mlを加えて同様な洗浄、分液
を行った。
例3 合成例1と同じ反応器に無水マレイン酸26.5g(0
.27モル)、p−トルエンスルホン酸1.6gおよび
トルエン150mlを装入し、トルエン還流下で、これ
にあらかじめ1,4−ビス〔4−(4−アミノフェノキ
シ)−3,5−ジメチル−α,α−ジメチルベンジル〕
ベンゼン58.8g(0.1モル)をトルエン100m
lに溶解させた溶液を滴下漏斗により滴下した。全量を
7時間かけて滴下し、滴下終了後更に、熟成時間2時間
行って反応を終了した。滴下開始から熟成終了までの間
、反応で生成する水を還流冷却器に備えつけてある水分
離器によって補修した。反応終了後、70℃まで冷却し
た後、温水100mlを加え、同温度で30分攪拌を行
った。静置後、2層に分離した下層の部分(水槽)を抜
き取り、再び温水100mlを加えて同様な洗浄、分液
を行った。
【0042】この上層のトルエン溶液を冷却すると、淡
黄色の沈澱が析出した。これは粗1,4−ビス〔4−(
4−マレイミドフェノキシ)−3,5−ジメチル−α,
α−ジメチルベンジル〕ベンゼンであり、濾過、乾燥し
て65.2gを得た。収率は87.5%、HLCによる
純度は96.4%であった。このものを再結晶により精
製して淡黄色粉末状の純品を得た。融点232.5〜2
35℃
黄色の沈澱が析出した。これは粗1,4−ビス〔4−(
4−マレイミドフェノキシ)−3,5−ジメチル−α,
α−ジメチルベンジル〕ベンゼンであり、濾過、乾燥し
て65.2gを得た。収率は87.5%、HLCによる
純度は96.4%であった。このものを再結晶により精
製して淡黄色粉末状の純品を得た。融点232.5〜2
35℃
【0043】合成例4
攪拌機、温度計、水分離器付還流冷却器及び滴下漏斗を
装着した反応容器に、無水マレイン酸26.5g(0.
27モル)、p−トルエンスルホン酸1.6gおよびト
ルエン150mlを装入し、昇温してトルエンの還流状
態に保った。これにあらかじめ1,3−ビス〔4−(3
−アミノフェノキシ)−α,α−ジメチルベンジル〕ベ
ンゼン52.8g(0.1モル)をトルエン100ml
に溶解した溶液を滴下漏斗より滴下した。全量を7時間
かけて滴下し、滴下終了後、更に2時間熟成した。滴下
開始から熟成終了までの間、反応で生成する水を還流冷
却器に備えつけてある水分離器によって補修した。反応
終了後、70℃まで冷却した後、温水100mlを加え
、同温度で30分攪拌を行った。静置後、2層に分離し
た下層の部分(水槽)を抜き取り、再び温水100ml
を加えて同様な洗浄、分液を行った。
装着した反応容器に、無水マレイン酸26.5g(0.
27モル)、p−トルエンスルホン酸1.6gおよびト
ルエン150mlを装入し、昇温してトルエンの還流状
態に保った。これにあらかじめ1,3−ビス〔4−(3
−アミノフェノキシ)−α,α−ジメチルベンジル〕ベ
ンゼン52.8g(0.1モル)をトルエン100ml
に溶解した溶液を滴下漏斗より滴下した。全量を7時間
かけて滴下し、滴下終了後、更に2時間熟成した。滴下
開始から熟成終了までの間、反応で生成する水を還流冷
却器に備えつけてある水分離器によって補修した。反応
終了後、70℃まで冷却した後、温水100mlを加え
、同温度で30分攪拌を行った。静置後、2層に分離し
た下層の部分(水槽)を抜き取り、再び温水100ml
を加えて同様な洗浄、分液を行った。
【0044】この上層のトルエン溶液を、最終的に13
0℃を越えない温度範囲で真空濃縮して目的物である赤
褐色透明な樹脂状の粗1,3−ビス〔4−(3−マレイ
ミドフェノキシ)−α,α−ジメチルベンジル〕ベンゼ
ン68.2gを得た。収率は定量的、HLCによる純度
は96.3%であった。このものを再結晶により精製し
て淡黄色粉末状の純品を得た。
0℃を越えない温度範囲で真空濃縮して目的物である赤
褐色透明な樹脂状の粗1,3−ビス〔4−(3−マレイ
ミドフェノキシ)−α,α−ジメチルベンジル〕ベンゼ
ン68.2gを得た。収率は定量的、HLCによる純度
は96.3%であった。このものを再結晶により精製し
て淡黄色粉末状の純品を得た。
【0045】合成例5
合成例4と同じ反応器に無水マレイン酸26.5g(0
.27モル)リン酸0.7gおよび混合キシレン150
mlを装入し、キシレン還流下で、これにあらかじめ1
,4−ビス〔4−(3−アミノフェノキシ)−α,α−
ジメチルベンジル〕ベンゼン52.8g(0.1モル)
を混合キシレン100mlとN,N−ジメチルホルムア
ミド50mlに加熱溶解させた溶液を滴下した。滴下時
間5時間、熟成時間2時間行って反応を終了した。 この反応液を約1/2量まで濃縮した後、冷却して80
℃になった時点で水50gを加えた。この後、攪拌しな
がら除冷すると結晶が析出した。室温まで冷却してから
濾過して冷メタノールで洗浄することにより目的物の粗
1,4−ビス〔4−(3−マレイミドフェノキシ)−α
,α’−ジメチルベンジル〕ベンゼン67.1gを得た
。収率は94.8%、HLCによる純度は92.0%で
あった。このものを再結晶により精製して淡黄色粉末状
の純品を得た。融点192〜193℃
.27モル)リン酸0.7gおよび混合キシレン150
mlを装入し、キシレン還流下で、これにあらかじめ1
,4−ビス〔4−(3−アミノフェノキシ)−α,α−
ジメチルベンジル〕ベンゼン52.8g(0.1モル)
を混合キシレン100mlとN,N−ジメチルホルムア
ミド50mlに加熱溶解させた溶液を滴下した。滴下時
間5時間、熟成時間2時間行って反応を終了した。 この反応液を約1/2量まで濃縮した後、冷却して80
℃になった時点で水50gを加えた。この後、攪拌しな
がら除冷すると結晶が析出した。室温まで冷却してから
濾過して冷メタノールで洗浄することにより目的物の粗
1,4−ビス〔4−(3−マレイミドフェノキシ)−α
,α’−ジメチルベンジル〕ベンゼン67.1gを得た
。収率は94.8%、HLCによる純度は92.0%で
あった。このものを再結晶により精製して淡黄色粉末状
の純品を得た。融点192〜193℃
【0046】実施
例1〜10及び比較例1〜3合成例で得られたビスマレ
イミド、無機充填剤を、表1に示す組成の配合物にし、
ヘンシェルミキサーで混合し、更に適温にて熱ロールで
1〜5分溶融混練した。この混合物を冷却、粉砕し、打
錠して成形用樹脂組成物を得た。以上のようにして得ら
れた成形用樹脂組成物を用いてトランスファー成形によ
り、物性測定用の試験片を成形した。
例1〜10及び比較例1〜3合成例で得られたビスマレ
イミド、無機充填剤を、表1に示す組成の配合物にし、
ヘンシェルミキサーで混合し、更に適温にて熱ロールで
1〜5分溶融混練した。この混合物を冷却、粉砕し、打
錠して成形用樹脂組成物を得た。以上のようにして得ら
れた成形用樹脂組成物を用いてトランスファー成形によ
り、物性測定用の試験片を成形した。
【0047】また、フラットパッケージ型半導体装置用
リードフレームの素子搭載部に、10mm×10mm角
の試験用素子を搭載し、トランスファー成形(175℃
、30kg/cmU、3分間)により、試験用の半導体
装置を得た。これらの試験用成形物は、各試験を行う前
に、第1表のごとく後硬化を行った。試験結果を第2表
に示す。
リードフレームの素子搭載部に、10mm×10mm角
の試験用素子を搭載し、トランスファー成形(175℃
、30kg/cmU、3分間)により、試験用の半導体
装置を得た。これらの試験用成形物は、各試験を行う前
に、第1表のごとく後硬化を行った。試験結果を第2表
に示す。
【0048】
【表1】
【0049】
【表2】
【0050】実施例11〜20及び比較例4〜5合成例
で得られたビスマレイミド、無機充填剤を、表3に示す
組成の配合物にし、ヘンシェルミキサーで混合し、更に
適温にて熱ロールで1〜5分溶融混練した。この混合物
を冷却、粉砕し、打錠して成形用樹脂組成物を得た。以
上のようにして得られた成形用樹脂組成物を用いてトラ
ンスファー成形により、物性測定用の試験片を成形した
。また、フラットパッケージ型半導体装置用リードフレ
ームの素子搭載部に、10mm×10mm角の試験用素
子を搭載し、トランスファー成形(175℃、30kg
/cmU、3分間)により、試験用の半導体装置を得た
。これらの試験用成形物は、各試験を行う前に、第3表
のごとく後硬化を行った。試験結果を第4表に示す。
で得られたビスマレイミド、無機充填剤を、表3に示す
組成の配合物にし、ヘンシェルミキサーで混合し、更に
適温にて熱ロールで1〜5分溶融混練した。この混合物
を冷却、粉砕し、打錠して成形用樹脂組成物を得た。以
上のようにして得られた成形用樹脂組成物を用いてトラ
ンスファー成形により、物性測定用の試験片を成形した
。また、フラットパッケージ型半導体装置用リードフレ
ームの素子搭載部に、10mm×10mm角の試験用素
子を搭載し、トランスファー成形(175℃、30kg
/cmU、3分間)により、試験用の半導体装置を得た
。これらの試験用成形物は、各試験を行う前に、第3表
のごとく後硬化を行った。試験結果を第4表に示す。
【0051】
【表3】
【0052】
【表4】
【0053】
【発明の効果】実施例および比較例にて説明したごとく
、本発明による半導体封止用樹脂組成物は、高耐熱性で
かつ低吸湿性でしかも流動性も良く、この樹脂組成物で
リフローおよびフロー半田付け方法が適用される表面実
装型の半導体装置を封止した場合、優れた半田耐熱性と
成形性を示し、信頼性の高い樹脂封止型半導体装置を得
ることができ、工業的に有益な発明である。
、本発明による半導体封止用樹脂組成物は、高耐熱性で
かつ低吸湿性でしかも流動性も良く、この樹脂組成物で
リフローおよびフロー半田付け方法が適用される表面実
装型の半導体装置を封止した場合、優れた半田耐熱性と
成形性を示し、信頼性の高い樹脂封止型半導体装置を得
ることができ、工業的に有益な発明である。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 【請求項1】 一般式(1)〔化1〕【化1】 で表わされるビスマレイミド10〜100重量%を含む
ビスマレイミド化合物100重量部に対して、100〜
900重量部の無機充填剤を含有する樹脂組成物。 【請求項2】 式(I)〔化2〕のビスマレイミド1
0〜100重量%を含むビスマレイミド化合物100重
量部に対して、10〜500重量部の硬化剤および該ビ
スマレイミド化合物と該硬化剤の総量100重量部に対
して、100〜900重量部の無機充填剤を含む樹脂組
成物。 【化2】 【請求項3】 ビスマレイミド化合物が、100重量
部の式(1)のビスマレイミドと、0〜900重量部の
一般式(2)で表わされる式(1)以外のビスマレイミ
ドを含む請求項1または2に記載の樹脂組成物。 【化3】 (式中、mは正の整数であり、R1 は、少なくとも2
個の炭素原子を有するm価の有機基である。)【請求項
4】 硬化剤がエポキシ樹脂、フェノール樹脂、ポリ
アミンおよびジアリル化合物からなる群より選ばれた少
なくとも1種である請求項1〜3に記載の樹脂組成物。 【請求項5】 無機充填剤が、シリカ、アルミナ、窒
化ケイ素、炭化ケイ素、タルク、珪酸カルシウム、炭酸
カルシウム、マイカ、クレー、チタンホワイト、ガラス
繊維およびカーボン繊維からなる群より選ばれた少なく
とも1種である請求項1〜4に記載の樹脂組成物。 【請求項6】 請求項1〜5に記載の樹脂組成物を半
導体の樹脂封止用に使用することを特徴とする半導体封
止用樹脂組成物。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3133930A JPH04226559A (ja) | 1990-08-24 | 1991-06-05 | 樹脂組成物 |
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2-221029 | 1990-08-24 | ||
JP22102990 | 1990-08-24 | ||
JP3133930A JPH04226559A (ja) | 1990-08-24 | 1991-06-05 | 樹脂組成物 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH04226559A true JPH04226559A (ja) | 1992-08-17 |
Family
ID=26468157
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP3133930A Pending JPH04226559A (ja) | 1990-08-24 | 1991-06-05 | 樹脂組成物 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH04226559A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US20200166844A1 (en) * | 2017-05-15 | 2020-05-28 | Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc. | Film forming material for lithography, composition for film formation for lithography, underlayer film for lithography, and method for forming pattern |
-
1991
- 1991-06-05 JP JP3133930A patent/JPH04226559A/ja active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US20200166844A1 (en) * | 2017-05-15 | 2020-05-28 | Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc. | Film forming material for lithography, composition for film formation for lithography, underlayer film for lithography, and method for forming pattern |
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