JPH0422508B2 - - Google Patents

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JPH0422508B2
JPH0422508B2 JP59116337A JP11633784A JPH0422508B2 JP H0422508 B2 JPH0422508 B2 JP H0422508B2 JP 59116337 A JP59116337 A JP 59116337A JP 11633784 A JP11633784 A JP 11633784A JP H0422508 B2 JPH0422508 B2 JP H0422508B2
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carbon atoms
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weight
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Ei Ripuson Meruin
Ei Deriko Jiin
Yan Taaku Sun
Yamazaki Toshio
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Dynachem Corp
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Publication of JPH0422508B2 publication Critical patent/JPH0422508B2/ja
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Description

【発明の詳細な説明】
〔発明の分野〕 本発明は、柔軟な、迅速処理の、光重合できる
組成物及びこの組成物から作られたシート又はロ
ール（巻いたもの）に関する。本発明はまた、基
体上の柔軟な、迅速処理の、光重合しうる組成物
より成るコーテイングされた複合体及び、柔軟
な、迅速処理の、光重合しうる組成物を用いてプ
リント回路板を作る方法に関する。 〔従来技術の説明〕 光重合しうる組成物は古くから知られている。
その発展において種々の化合物が組成物の光重合
しうる成分として用いられた。該分野での一つの
進歩が米国特許No.2760863明細書に開示されてい
る。この特許は、印刷版を作るのに有用な光重合
しうる組成物に関し、それはエチレン性不飽和の
光重合しうるモノマー、光開始剤、重合禁止剤及
びポリマー状結合剤を含む。この組成物は基体上
にコーテイングされ、乾燥され、ステンシル即ち
ネガを通して活性化照射に曝され、そして現像し
て曝露されなかつた部分の組成物を除去し、それ
により印刷版を形成する。 米国特許No.3469982は、米国特許No.2760863明細
書に記載される光重合しうる組成物より優れた進
歩を示す。液体として施用されるのではなくて、
この前者の特許は柔軟なフイルムベース即ち支持
体上にコーテイナグされそして取外しうるカバー
フイルムで被われるところの光重合しうる組成物
を開示する。使用の際にこのカバーフイルムを剥
し、光重合しうる組成物に基体に積層し、ネガを
通して活性化照射に曝し、フイルム支持体を剥離
しそして組成物を有機溶剤中で現像する。プリン
ト回路板を形成するために、基体上の現像された
組成物をエツチングに対し、最後に別の有機溶剤
でストリツプする。 米国特許No.3036914明細書において、印刷版を
作るのに有用な改善された柔軟性を持つ光重合し
うる組成物が開示されている。この組成物は、(1)
付加重合しうるエチレン性不飽和化合物たとえば
ポリアルキレングリコールのジアクリレート及び
アクリル−又はメタクリル酸エステル；(2)光開始
剤；(3)高分子量ポリエチレンオキサイド；及び(4)
少くとも一種のほぼ線形のセルロースエステルよ
り成る。 改善された柔軟性はソ連特許No.190211の目標で
もある。この目標は、光重合しうるオリゴマー、
光開始剤及びコポリマー混合物（ひとつはメタク
リル酸とメチルメタクルレートのコポリマー、も
うひとつはメタクリル酸又はアクリル酸とブチル
アクリレート、アルキル基中に５〜８個の炭素原
子を含むアルキルメタクリレート又はアルキルア
クリレートとのコポリマー）より成る光重合しう
る組成物により達成されると云われる。 米国特許No.3887450及び分割の米国特許No.
3953309明細書において、この分野での重要な進
歩が記載されている。これら特許は、フイルム支
持体上の貯蔵しうるシート又はロールへと作るこ
とができる光重合しうる組成物を開示する。この
組成物は、プリント回路板を作るために用いるこ
とができ、やはり現像しそしてアルカリ性剤を含
む水溶液を用いて除去することができる。この光
重合しうる組成物は、光重合しうるエチレン性不
飽和モノマー、光開始剤、重合禁止剤及び結合剤
（これは一又は二つ以上の特定のスチレン又はビ
ニルモノマーと一つ又は二つ以上の特定のα，β
−エチレン性不飽和カルボン酸−又は酸無水物含
有モノマーとのポリマーである）より成る。モノ
マーの比は、要求される性能特性を与えるように
選ばれる。 米国特許No.4239849明細書に、この分野の別の
進歩が開示されている。この特許は、コールドフ
ローに抵抗する柔軟な光重合しうる組成物を記載
し、これはフイルム支持体上の乾いたフイルムへ
と形成することができ、そして活性化照射に曝し
た後に希アルカリ性水溶液中で現像することがで
きる。この組成物は、一又は二種以上の付加重合
しうるエチレン性不飽和化合物、光開始剤及び予
め形成した高分子量のポリマー結合剤より成る。
結合剤は、スチレン酸モノマー、アクリレート型
モノマー及び不飽和カルボキシル含有モノマーの
コポリマーである。 〔本発明の目的及び構成〕 光重合しうる組成物の分野における本質的進歩
を与えることが本発明の一般的目的である。 本発明のより詳しい目的は、高度の柔軟性を持
つ光重合しうる組成物を与えることである。 本発明の別の目的は、基体の曝露された表面を
能率的に処理できるように、より迅速かつ明瞭に
現像される光重合しうる組成物を与えることであ
る。 本発明の別の目的は、光重合された後に基体か
らより迅速に除去することができ、それにより基
体の回収を容易にするところの光重合しうる組成
物を与えることである。 本発明の別の目的は、フイルム支持体上の光重
合しうる組成物の高度に柔軟なシート又はロール
を与えることである。 本発明のさらに別の目的は、基体上に積層され
た、改善された光重合しうる組成物を与えること
である。 また本発明の別の目的は、改善された光重合し
うる組成物を用いることによりプリント回路板を
作る方法を与えることである。 本発明はその一面として、100部当たり (A) （） 式 （ここでｍは１〜４、ｎは１〜12であり、
R1はＨ、CH3及びこれらの混合物から成る
群から選ばれ、R2はフエニル基、ハロフエ
ニル基、シクロヘキシル基及びこれらの混合
物から成る群から選ばれる。）で示されるア
クリレート５〜50重量部、及び （） 少なくとも二つの末端エチレン基を含
みかつ100℃以上の沸点を持つ一種以上の非
ガス状化合物５〜50重量部 を含む付加重合しうる物質10〜60重量部、 (B) 光開始される、フリーラジカルを発生する付
加重合開始系0.001〜20重量部、 (C) 熱付加重合禁止剤0.001〜５重量部、及び (D) （） 一般式
【式】及び
【式】 （ここでＲは水素原子、１〜６個の炭素原
子を持つアルキル基又はハロゲン原子であ
り、Ｘが水素原子であるときＹはOOCR1、
OR1、OCR1、COOR1、CN、CH＝CH2
【式】又はClであり、Ｘがメチル基で あるときＹはCOOR1、CN、CH＝CH2、又
は
【式】であり、Ｘが塩素原子である ときＹはClであり、ここでR1は１〜12個の
炭素原子を持つアルキル基、フエニル基又は
ベンジル基であり、R3及びR4は水素原子、
１〜12個の炭素原子を持つアルキル基又はベ
ンジル基である。）を持つ群から選ばれた一
種又は二種以上の非酸性化合物を含む第一の
モノマー物質、及び （） ３〜15個の炭素原子を持つα，β−エ
チレン性不飽和カルボン酸−又は酸無水物含
有モノマーの一種又は二種以上より本質的に
成る第二のモノマー物質 のポリマーであるところの予め形成された高
分子量ポシマー結合剤40〜90重量部 （但しここで第二のモノマー物質に対する
第一のモノマー物質の比は、２重量％の炭酸
ナトリウムを含む実質上完全に水性の溶液に
該結合剤の実質上総てを可溶となすに十分で
あること） を含む光重合しうる組成物を与える。 本発明はその別の面として、フイルム支持体上
の光重合しうる組成物のシート又はロール及び基
体上にコーテイングされた光重合しうる組成物よ
り成る積層体を与える。 本発明はさらに別の面として、この改善された
光重合しうる組成物を用いてプリント回路板を作
る方法を与える。 前述したように、本発明は、改善された光重合
しうる組成物に関する。本組成物は、付加重合し
うる物質、光開始される、フリーラジカルを発生
する付加重合開始系、熱付加重合禁止剤及び予め
形成された高分子量のポリマー結合剤を含有す
る。 乾いた光重合しうる組成物の100重量部に基づ
いて、付加重合しうる物質は10〜60重量部の量で
存在し、５〜50重量部、好ましくは約８〜約25重
量部のアクリレート及び５〜50重量部、好ましく
は約８〜約25重量部の、少なくとも二つの末端エ
チレン基を含みかつ100℃以上の沸点を持つ非ガ
ス状化合物の一種以上を含む。 アクリレートは一般式 を持つ。ここでｍは１〜４、好ましくは２又は
３、最も好ましくは２である。ｎは１〜12、好ま
しくは２〜８、最も好ましくは２又は３である。
R1は、H1CH3及びこれらの混合から成る群から
選ばれ、好ましくはＨである。R2は、フエニル
基、ハロフエニル基、シクロヘキシル基及びこれ
らの混合から成る群から選ばれる。R2は好まし
くは、フエニル、ハロフエニル及びこれらの混合
であり、最も好ましくはフエニルである。フエニ
ルの置換基は、それらが光重合しうる組生物の特
性に実質上悪影響しないように選択され、ハロゲ
ンとくに塩素、臭素及びヨウ素原子、又はこれら
の混合であることができる。 本発明の範囲に入るアクリレートは、約175℃
より高い好ましくは200℃より高い沸点により示
されるような低揮発性を有し、約240より大きい、
好ましくは約280より大きい分子量を持つ。また
該アクリレートは、それらがエツチング又はめつ
きに付されるとき光重合した組成物の劣化をもた
らさないよう、かつ現像水性浴又はストリツピン
グ水性浴の劣化を起こさないように選択される。 アクリレートの例としては、フエノキシポリメ
トキシメチルアクリレート及びメタクリレート、
フエノキシポリエトキシエチルアクリレート及び
メタクリレート、フエノキシポリプロポキシプロ
ピルアクリレート及びメタクリレート、フエノキ
シポリブトキシブチルアクリレート及びメタクリ
レート、クロルフエノキシポリメトキシメチルア
クリレート及びメタクリレート、クロルフエノキ
シポリエトキシエチルアクリレート及びメタクリ
レート、クロルフエノキシポリプロポキシプロピ
ルアクリレート及びメタクリレート、クロルフエ
ノキシポリブトキシブチルアクリレート及びメタ
クリレート、シクロヘキソキシポリメトキシメチ
ルアクリレート及びメタクリレート、シクロヘキ
ソキシポリエトキシエチルアクリレート及びメタ
クリレート、シクロヘキソキシポリプロポキシプ
ロピルアクリレート及びメタクリレート、及びシ
クロヘキソキシポリブトキシブチルアクリレート
及びメタクリレートが挙げられる。好ましいアク
リレートは、ハロフエノキシポリエトキシエチル
アクリレート、フエノキシポリエトキシエチルア
クリレート、ハロフエノキシポリプロポキシプロ
ピルアクリレート及びフエノキシポリプロキシプ
ロピルアクリレートであり、最も好ましいアクリ
レートはフエノキシ（ジ，トリ，テトラ又はペン
タ）エトキシエチルアクリレートである。そのよ
うなアクリレートは市販されており、又はホルム
アルデヒド又は適当なアルキレンオキサイド（た
とえばエチレンオキサイド）をR2のアルコール
型と反応させそして次に得た生成物を適当な酸触
媒の存在下でアクリル酸又はメタクリル酸により
エステル化する方法により合成できる。 光重合しうる組成物における、アクリレートモ
ノマーの存在は、それに重要な利点を与える。と
くに、アクリレートは光重合しうる組成物の柔軟
性及びタツク（粘着性）を改善し、これは組成物
から作られたシート又はロールの取扱い特性を改
善し、また基体への積層を容易にする。加えてア
クリレートは、光重合した組成物が高度の柔軟性
を保つことを可能にする。現像後に、組成物の光
曝露されなかつた部分におけるアクリレートの存
在は、基体からの効率的な（すなわち迅速かつ完
全な）除去を容易にする。また、組成物の光重合
した部分においては、アクリレートはストリツピ
ングの効果を改善する。 付加重合しうる物質の第二成分は、フリーラジ
カル光開始される連鎖成長付加重合により高度ポ
リマーを形成することができる。そのような化合
物は米国特許No.2760863、3887450及び3953309に
開示されており、その内容は上記引用によりここ
に含められる。 好ましくは該化合物は、20℃、大気圧下で非気
体状であり、２〜４又はそれ以上の末端エチレン
基を持ち、かつポリマー状結合剤に可塑化作用を
なす。単独で又は組合せて用いることができる適
当な化合物としては、２〜15個の炭素原子を持つ
アルキレングリコールから作られたアルキレン又
はポリアルキレングリコールジアクリレート、又
は１〜10個のエーテル結合を持つポリアルキレン
エーテルグリコールが挙げられる。 たぶんネツトワークポリマー構造の比較的迅速
な構成によつて曝露により一般により迅速に不溶
化することの故に、低分子量の付加重合しうる成
分の重要な種類は、付加重合しうる複数のエチレ
ン結合を（特に末端結合として）持つもの、及び
とくにそのような結合の少なくとも一つ、好まし
くは多くが二重結合した炭素（炭素及びヘテロ原
子たとえば窒素、酸素及び硫黄原子に二重結合し
た炭素を含む。）と共役しているようなものであ
る。エチレン性不飽和基とくにビニリデン基がエ
ステル又はアミド構造と共役している物質が重要
である。下記の特性の化合物は、この種類のもの
を更に例示したものである。：ポリオールの不飽
和エステル、とくにメチレンカルボン酸のそのよ
うなエステル、たとえばエチレンジアクリレー
ト；ジエチレングリコールジアクリレート；グリ
セリンジアクリレート；グリセリントリアクリレ
ート；エチレンジメタクリレート；１，３−プロ
ピレンジメタクリレート又はジアクリレート；
１，２，４−ブタントリオールトリメタクリレー
ト又はトリアクリレート；１，４−ベンゼンジオ
ールジメタクリレート又はジアクリレート；ペン
タエリトリツトメタクリレート又はアクリレー
ト；１，５−ペンタンジオールジメタクリレート
又はジアクリレート；分子量200〜500のポリエチ
レン及びポリプロピレングリコールのビス−アク
リレート及びメタクリレート、たとえばトリプロ
ピレングリコールジアクリレートなど；不飽和ア
ミド、とくにメチレンカルボン酸の不飽和アミ
ド、及びとくにα，ω−ジアミン及び酸素介在ω
−ジアミンの不飽和アミドたとえばメチレンビス
アクリルアミド；メチレンビスメタクリルアミ
ド；１，６−ヘキサメチレン ビス アクリルア
ミド；ジエチレントリアミントリスメタクリルア
ミド；ビス（メタクリルアミドプロポキシ）エタ
ン；β−メタクリルアミドエチルメタクリレー
ト；Ｎ−〔（β−ヒドロキシエチルオキシ）エチ
ル〕アクリルアミド；ビニルエステルたとえばジ
ビニルスクシネート、ジビニルアジペート、ジビ
ニルフタレート、ジビニルテレフタレート、ジビ
ニルベンゼン−１，３−ジスルホネート、及びジ
ビニルブタン−１，４−ジスルホネート；及び不
飽和アルデヒドたとえばソルブアルデヒド（ヘキ
サジエナール）。 ある程度までポリ−エチレン性不飽和化合物
は、先に述べたタイプの化合物と化学的に相入れ
る一官能性の化合物で置き代えることができる。
しかしそのような一官能性化合物の量は、光重合
しうる又は光重合した組成物の特性（たとえば臭
い、溶解性、毒性など）に実質的に悪影響するも
のであつてはならない。理解できるように、一官
能性化合物の許容される量は、組成物の特性の化
合物及び他の成分により変る。 光開始される、フリーラジカルを発生する付加
重合開始系は、0.001〜20重量部の範囲の量で存
在し、活性化光により活性化できる一又は二以上
の化合物であることができ、これは好ましくは
185℃以上で熱的に不活性である。 そのような化合物としては、置換又は非置換の
多核キノンたとえば９，10−アントラキノン、１
−クロルアントラキノン、２−クロルアントラキ
ノン、２−メチルアントラキノン、２−エチルア
ントラキノン、２−tert−ブチルアントラキノ
ン、オクタメチルアントラキノン、１，４−ナフ
トキノン、９，10−フエナントラキノン、１，２
−ベンズアントラキノン、２，３−ベンズアント
ラキノン、２−メチル−１，４−ナフトキノン、
２，３−ジクロルナフトキノン、１，４−ジメチ
ルアントラキノン、２，３−ジメチルアントラキ
ノン、２−フエニルアントラキノン、２，３−ジ
フエニルアントラキノン、アントラキノンα−ス
ルホン酸のナトリウム塩、３−クロル−２−メチ
ルアントラキノン、レテンキノン
（retenequinone）、７，８，９，10−テトラヒド
ロナフタセンキノン、１，２，３，４−テトラヒ
ドロベンズ（サ）アントラセン−７，12−ジオン
が挙げられる。 またキサントン、チオキサントン、クロルチオ
キサントン、アルキル化チオキサントン、アルキ
ルＰ−ジメチルアミノベンゾエート及び他のＰ−
ジアルキルアミノベンゾエートエステル、及びフ
エニルジアルコキシアセトフエノンも光開始剤と
して適当である。 先述の米国特許No.2760863に記載される下記の
光開始剤もまた有用であり、そのいくつかは85℃
という低い温度で熱的に活性である；近接ケトア
ルドニル化合物たとえばジアセチル及びベンジ
ル、α−ケトアルドニルアルコールたとえばベン
ゾイン及びピバロイン、アシロインエーテルたと
えばベンゾインメチル及びエチルエーテル、α−
炭化水素置換芳香族アシロイン、α−メチルベン
ゾイン、α−アリルベンゾイン、及びα−フエニ
ルベンゾイン。 過硫酸銀もまた、活性化照射により活性化でき
るフリーラジカル発生開始剤として有用である。
或る芳香族ケトンたとえばベンゾフエノン及び
４，4′−ビスジアルキルアミノベンゾフエノンも
有用である。 熱付加重合禁止剤は、0.001〜５重量部の範囲
の量で存在する。本発明で有用な禁止剤として
は、Ｐ−メトキシフエノール、ヒドロキノン、及
びアルキル及びアリール置換フエノール、ヒドロ
キノン及びキノン、tert−ブチルカテコール、ピ
ロガロール、銅樹脂酸塩、ナフチルアミン、β−
ナフトール、塩化第一銅、２，６−ジ−tert−ブ
チルＰ−クレゾール、２，２−メチレンビス−
（４−エチル−６−ｔ−ブチルフエノール）、フエ
ノチアジン、ピリジン、ニトロベンゼン、ジニト
ロベンゼン、Ｐ−トルキノン、クロラニル、アリ
ールホスフアイト、及びアリールアルキルホスフ
アイトが挙げられる。 ポリマー状結合剤は、40〜90重量部の範囲の量
で存在し、一又は二以上の非酸性化合物と一又は
二以上の酸性化合物のコポリマーである。非酸性
化合物は、一般式
【式】又は
【式】を持つ。ここでＲは、水素原子又 は１〜６個の炭素原子を持つアルキル基又はハロ
基である。ベンゼン環は、官能基たとえばニト
ロ、アルコキシ、アシル、カルボキシル、スル
ホ、ヒドロキシル又はハロ基により置換させた環
であることもでき、上記式は特記なき限りそのよ
うな置換基をも包含するものと理解されるべきで
ある。１〜５個のベンゼン置換基が存在すること
ができ、好ましくは置換基は唯一のアルキル基た
とえばメチル又はｔ−ブチル基である。これら化
合物の最も好ましいものは、スチレン、α−メチ
ルスチレン、Ｐ−メチルスチレン及びＰ−ｔ−ブ
チルスチレンである。 ポリマー状結合剤におけるスチレン型モノマー
の存在は、現像及びエツチング又はメツキ液に対
する改善された抵抗性を組成物に与える。従つ
て、選択された現像及び表面加工条件に依存して
スチレン型成分の存在及び量は、許容できる現像
及び表面加工条件に対する許容できる抵抗性を与
えるように選択できる。 二番目の一般式に関して、Ｘが水素原子の場
合、ＹはOOCR1′OR1′OCR1′COOR1′CN，CH
＝CH2′
【式】又はClであり、Ｘがメチル 基の場合Ｙは COOR1′CN，CH＝CH2′又は
【式】で あり、Ｘが塩素原子の場合、ＹはClであり、ここ
でR1は１〜12個の炭素原子を持つアルキル基、
フエニル基又はベンジル基であり、R3及びR4は
水素原子、１〜12個の炭素原子を持つアルキル基
又はベンジル基である。 これらビニル型モノマーの例としては、ビニル
アセテート、ビニルブチレート、ビニルベンゾエ
ート、ビニルクロライド、ビニリデンクロライ
ド、メチルメタクリレート及びメチルアクリレー
ト、アクリルニトリル及びメタクリルニトリル、
タメクリルアミド、及びアルキル置換アクリルア
ミド、ビニルメチルケトン、ビニルプロピルケト
ン、ピニルメチルエーテル、ビニルエチルエーテ
ル及びビニルヘキシルエーテルが挙げられる。 ビニル型モノマーはまたアクリレート型モノマ
ーであることもでき、これはアルキル及びヒドロ
キシアルキルアクリレート及びメタクリレートを
包含し、ここでアルキル基は１〜12個好ましくは
１〜６個の炭素原子を持つ。これら物質の例とし
ては、メチルメタクリレート、エチルアクリレー
ト、ブチルアクリレート、ヒドロキシプロピルメ
タクリレート、ヒドロキシエチルメタクリレート
及びヒドロキシエチルアクリレートが挙げられ
る。これら化合物の二以上の混合物もまた有利に
用いうる。 ポリマー状結合剤におけるアクリレート型モノ
マーの存在は、光重合しうる組成物に改善された
コールドフロー又は柔軟性を与える。これらの特
徴は、コールドフロー又は柔軟性喪失により起き
る質的低下の恐れが本質的になしに長期間、シー
ト又はロールとして乾いたフイルムを貯蔵するこ
とを可能にする。 酸性モノマーは、３〜15個の炭素原子好ましく
は３〜６個の炭素原子を含むα，β−エチレン性
不飽和カルボキシル基含有モノマーの一種又は二
種以上であることができる。最も好ましい化合物
はアクリル酸及びメタクリル酸である。使用でき
る他の酸としては、ケイ皮酸、クロトン酸、ソル
ビン酸、イタコン酸、プロピオル酸、マレイン酸
及びフマル酸、又は対応する半エステル、又はも
し存在するなら対応する酸無水物が挙げられる。 酸性コモノマーに対するスチレン型又はビニル
型のモノマーの比は、現像のために選ばれた水性
アルカリ媒体にコポリマーが可溶であるように選
ばれる。ものスチレン型又はビニル型のモノマー
の比があまりに高いと、曝露されなかつた組成物
の部分が十分に可溶でなく、一方もしスチレン型
又はビニル型モノマーの量があまりに低いと曝露
された組成物領域が粘着性であり、アルカリ性水
溶液中で膨潤又は溶解する。便宜的基準として、
結合剤コポリマーはケトン又はアルコール中の40
％溶液が100〜50000センチボアズの粘度を持たね
ばならない。別の便宜的基準は、コポリマーの実
質上総てが２重量％の炭素ナトリウムを含む実質
上完全に水性の希溶液に25℃で約１時間で溶解す
ることである。この基準において、「実質上」と
いう言葉は、光重合しうる組成物の許容できる現
像の程度を示すため、及びいくつかの有機物質が
意図して、又は意図せずに又は現像液の再使用に
よつて溶液中に存在しても良いがかかる有機物質
の存在は許容できる現像のために必要ではないと
いう事実を示すために用いられる。 典型的なコモノマー重量比は、スチレン−アク
リル酸又はメタクリル酸で約70：30〜約85：15；
メチルメタクリレート又はアルキルアクリレート
又はアルキルメタクリレートの組合せ−アクリル
酸及び／又はメタクリ酸で約70：30〜約85：15；
スチレン−モノブチルマレエートで35：65〜70：
30；ビニルアセテート−クロトン酸で70：30〜
95：５である。結合剤コポリマーの重合度は、結
合剤が適当な溶剤で注型し適当に乾燥後に非粘着
性の連続フイルムを形成するような程度である。
分子量は広く1000〜500000である。有用な特定の
結合剤に要求されるコポリマー比及び重合度の範
囲は、希アルカル溶液への溶解度をテストするこ
とにより容易に確かめることができる。これに関
して、モノマー物質の混合物ならびにコポリマー
の混合物を結合剤の形成のために用いてその望む
特性を得ることができる。 現像液及び表面加工液に対する改善された抵抗
性ならびに改善された柔軟性及び改善されたコー
ルドフローが望まれる場合、ポリマー状結合剤は
先述の米国特許No.4239849の一般的教示に従つて
調製することができ、その記載内容をここで引用
する。そこに十分に説明されているように、ポリ
マー結合剤は、(1)スチレン型モノマー、(2)アクリ
レート型モノマー及び(3)先に定義された範囲の酸
性モノマーのコポリマーである。 三元ポリマー結合剤を形成する成分の量は、先
述の基準を少くとも満すように選ばれる。指針と
して下記の重量割合が、ポリマー状結合剤を作る
ために守られる。 接着剤成分 広い範囲 好ましい範囲 スチレン型 10−60％ 10−35％ アクリレート型 15−75％ 40−75％ カルボン酸型 15−40％ 18−30％ もし望むなら、本発明の光重合しうる組成物は
また、可塑剤、接着促進剤、染料及び顔料を含む
ことができる。適当な着色剤は、光重合しうる組
成物の相溶性であり、組成物の光感度を判る程に
阻げないものである。下記の特定の化合物が例示
される：フクシン（C.I.42510）；オーラミンベー
ス（C.I.4100B）；カルコシドグリーンＳ（C.
I.44090）；パラマゼンタ（C.I.42505）；ニユーマ
ゼンタ（C.I.42520）；アシドバイオレツトRRH
（C.I.42425）；レツドバイオレツト5RS（C.
I.42690）；ナイルブルー2B（C.I.51185）；ニユーメ
チレンブルーGG（C.I.51195）；C.I.ベイシツクブ
ルー28（C.I.42585）；アイオドングリーン（C.
I.42556）；ナイトグリーンＢ（C.I.42115）；C.I.ダ
イレクトイエロウ９（C.I.19540）；C.I.アシドイエ
ロウ17（C.I.18965）；C.I.アシドイエロウ20（C.
I.18900）；タルトラジン（C.I.19140）；スブラミ
ンイエロウＧ（C.I.19300）；バツフアローブラツ
ク10B（C.I.27790）；ナフタレンブラツク12R（C.
I.20350）；フアストブラツクＬ（C.I.51215）；エチ
ルバイオレツト（C.I.42600）；ポンタシルウール
ブルーBL（C.I.50315）；ポンタシルウールブルー
GL（C.I.42320）・（数字は、Color Indexの第二版
から得た。） 本発明の光重合しうる組成物は、顕著な融通性
を示す。本組成物は印刷版を作るのに用いること
ができる一方で、プリント回路板の製造における
良好なフオトレジストに要求される特性を有して
いる。とくに印刷版組成物は基体にコーテイング
された後に、ステンシルを通して活性化照射に曝
され、そして現像液と接触されて照射から遮へい
された組成物の部分が除去される。曝露された部
分の組成物は次にインキを付されそして印刷像を
作るために用いられる。 きわめて対照的に、フオトレジストとして用い
られる光重合しうる組成物はもちろん曝露しそし
て現像することができねばならないが、しかし曝
露された組成物の部分はまたエツチング液たとえ
塩化第二鉄45°ポーメ溶液及び／又は電気メツキ
液たとえば酸性硫酸銅に影響されないものでなけ
ればならない。エツチング又はメツキで用いられ
る攻撃的溶液に対するその抵抗性にも拘らず、光
重合された組成物はプリント回路板の製造が完了
するためには基体からストリツピング（除去）さ
れることが可能でなければならない。 本発明の光重合しうる組成物は、先述した基準
の総てを満たし、そして従つてプリント回路板の
製造におけるフオトレジストとして成功裡に用い
ることができる。これに関して、この光重合しう
る組成物は、柔軟なフイルム支持体にコーテイン
グし、そしてシート又はロールへと形成すること
ができ、これは使用前に長期間貯蔵できる。この
形態において本発明の光重合しうる組成物は約
0.0005〜約0.005インチの範囲の一様な厚さを特
徴とし、空隙、ピンホール、泡、パターンのよう
な欠陥を持たない。 柔軟なフイルム支持体は、光重合しうる組成物
を十分に支持し、該組成物と反応せずそして活性
化照射への曝露の前又は後にたとえば剥離により
この組成物から容易に分離できるいかなる物質で
あることもできる。この基準を満たす物質は、高
度ポリマーたとえば約0.0005〜約0.002インチの
範囲の厚さを持つポリアミド、ポリオレフイン、
ポリエステル、ビニルポリマー及びセルロースエ
ステルである。好ましいフイルム支持体の一つ
は、約0.001インチの厚さを持つポリエチレンテ
レフタレートのフイルムである。 シート又はロールの形態の場合、光重合しうる
組成物は、フイルム支持体と逆の面をカバーシー
トにより保護され、それにより中間に光重合しう
る組成物を持つサンドイツチ構造を形成すること
ができる。カバーシートはフイルム支持体と同じ
又は異る物質であることができ、フイルム支持体
について先述したのと同じ範囲の厚さを持つこと
ができる。特に適当な物質の一つは、約0.001イ
ンチの厚さのポリエチレンのフイルムである。 使用の際にシート又はロールの少くとも一部が
基体に積層される。基体は、プラスチツク、鋼、
アルミニウム、銅、亜鉛、マグネシウムの板、シ
ート又は箔であることができ、あるいはそのよう
な物質を含む複合体であることができる。好まし
くは基体は、銅装着（キセ金）積層体たとえば銅
装着エポキシーガラス繊維板であり、これはプリ
ント回路板の普通の原板である。積層化は、もし
カバーシートがあればこれを除き、そして約65〜
約150℃の範囲の高められた温度で基体の片面又
は両面（もし両面板が望まれるなら）に直接に光
重合しうる組成物を押し付けることにより達成さ
れる。積層化段階を行うことができる一つの方法
は、加熱されたゴム被覆ローラーの間に基体を組
成物と接触させて通すことである。 積層化の後にフイルム支持体を除去することが
でき、あるいはより好ましくはもし活性化照射の
十分な透過を許すフイルム支持体が用いられるな
らそれは曝露段階の間積層体上に残存してもよ
い。望むパターンを得るために、プロセス透かし
画たとえばプロセスネガ又はポジ、ステンシル、
マスク、連続的濃淡、ネガ又はポジの像が積層体
の光重合しうる組成物上にかぶせられる。プロセ
ス透かし画（描画）の目的は、現像の間に除去さ
れるべき組成物の部分が活性化照射に曝露される
のを妨げること及び現像の後に残るべき部分の活
性化照射曝露を許すことにある。 用いられる活性化照射は、光重合が約１秒間〜
約５分間の合理的時間内で達成されるように選ば
れる。活性化照射により活性化される、フリーラ
ジカルを発生する付加重合開始剤は一般に、紫外
領域でその最大の感度を示すので、照射源は有効
量のこの照射を持たねばならない。点又は面的照
射源の両方とも有効である。そのような源として
は、カーボンアーク、水銀蒸気アーク、紫外線を
発するリンを持つ蛍光ランプ、アルゴングローラ
ンプ、電子的フラツシユ装置及び写真用フラツド
ランプが挙げられる。これらのうち水銀蒸気アー
ク、とくに太陽灯が最も適している。ある場合に
は、可視スペクトル領域に感じる光開始剤たとえ
ば９，10−フエナントラキノンを用いて、可視光
に曝露すことが有利でありうる。そのような場
合、照射源は有効量の可視照射を持たねばならな
い。上に挙げた照射源の多くは、必要量の光エネ
ルギーを持つ。 先述したように本発明の重要な利点の一つは、
組成物が光重合後にも柔軟なままであることにあ
る。この利点は、組成物の可能な用途及び一般に
行われる加工段階の観点から重要である。とくに
柔軟な基体が用いられる場合、積層され曝露され
た基体の折り曲げは光重合した組成物のヒビ割れ
を起こさない。たとえば大量生産において本発明
の光重合した組成物は、曝露された積層体がさら
に加工される前に収集ドラム上に巻き取られる連
続的プロセスに耐えることができる。柔軟な基体
が用いられない場合でさえ、光重合された組成物
の柔軟な性質は、積層された曝露された基体が取
扱われる（たとえば積み重ねられる）ときにかけ
ることを阻止するのに役立ち、また曝露された積
層体の加工の間に貫通孔接続及び他の窄孔の内表
面を効果的に保護する。 本発明の光重合した組成物の改善された柔軟性
は、光重合できる組成物を柔軟な基体の上に乗
せ、組成物を光重合させるに十分な量の活性化照
射に組成物の総てを曝露し、そして次にそれを柔
軟性テストに付すことにより示すことができる。
柔軟性テストを行うための便利な装置の一つは、
Gardner Laboratory Inc.Bethesda，Md.から入
手できるConical Mandrel，モデルMG−1416で
ある。 Gardner Laboratory Lnc.のパンフレツト
「Fiim Flexibility」，1976年４月発行、に記載さ
れるように、Conical Mandrel，モデルMG−
1416は、コーテイングされたパネルを既知の最大
及び最小直径の円錐体上に曲げ、これがコーテイ
ングの拡張により生じた損傷を大きさの程度で同
時的に測定することを可能にすることによりコー
テイングされたパネルの柔軟度をテストするよう
に設計されている。マンドレルはコーテイングさ
れたアルミニウム−青銅より成り、一様に0.125
から1.50インチに増加する円錐直径を持つ。使用
の際、試料パネル（0.03125インチまでの厚さ）
はクランプにより確実に把持され、次に末端を中
心として回転しかつ円錐の軸上にある手で操作さ
れるアームによつて円錐の周囲に折り曲げられ
る。 記述したConical Mandrelを用いると、本発明
の光重合した組成物は、同様のしかし定義したア
クリレートを含まない光重合した組成物に比べて
優れた柔軟性を示す。これは、本発明の光重合し
た組成物が、定義したアクリレートを含まない同
様の光重合した組成物と比べてヒビ割れなしで及
び／又は少しの程度のヒビ割れでもつてアンドレ
ルの周囲に折り曲げうる能力によつて立証され
る。 曝露段階後に、フイルム支持体は組成物から分
離され、得た曝露された積槽体は現像に付され
る。現像は、実質上完全に水性の希アルカル溶液
中で行われ、これによつて遮へいされた組成物の
部分は除去され、曝露された部分はほとんど影響
されずに残る。本発明の組成物は、１重量％の炭
酸ナトリウム溶液中で現像できる。もちろん、他
のアルカリ性剤の同様の強度の溶液を同様に用い
ることができ、あるいは組成物は、より攻撃的な
アルカリ性溶液中でさえ成功裡に現像されるよう
に調製できる。 適当なアルカリ性溶液は、約0.01〜約10重量
％、好ましくは約0.5〜約３重量％のアルキリ剤、
たとえばアルカリ金属水酸化物たとえ水酸化リチ
ウム、ナトリウム及びカリウム；弱酸の塩基性に
反応するアルカル金属塩たとえば炭酸−及び重炭
酸リチウム、ナトリウム及びカリウム；約１×
10-14より大きな塩基イオン化定数を持つアミン
たとえはまベンジル、ブチル及びアリルアミンの
ような第一アミン、ジメチルアミン及びベンジル
メチルアミンのような第二アミン、トリメチルア
ミン及びトリエチルアミンのような第三アミン、
第一、第二及び第三ヒドロキシアミンたとえばプ
ロパノール、ジエタノール及びトリエタノールア
ミン及び２−アミノ−２−ヒドロキシメチル−
１，３−プロパンジオール、環状アミンたとえば
モルホリン、ピベリジン、パペラジン及びピリジ
ン、ポリアミンたとえばヒドラジン、エチレン及
びヘキサメチレジアミン；水溶性塩基性塩たとえ
ば上述のアミンの炭酸塩及び重炭酸塩；水酸化ア
ンモニウム及び四置換水酸化アンモニウムたとえ
ばテトラメチル−、テトラエチル−、トリメチル
ベンジル−及びトリメチルフエニル−アンモニウ
ムヒドロキシド；スルホニウムヒドロキシドたと
えばトリメチル−、ジエチルメチル−、ジメチル
ベンジルスルホニウムヒドロキシド、及びそれら
の塩基性の可溶性塩たとえば重酸塩、重炭酸塩及
び硫酸塩；アルカリ金属リン酸塩及びピロリシ酸
塩たとえばナトリウム及びカリウムトリホスフエ
ート及びナトリウム及びカリウムピロホスフエー
ト；四置換（好ましくは総てアルキル）ホスホニ
ウム、アルソニウム、及びスチボニウムヒドロキ
シドたとえばテトラメチル−ホスホニウムヒドロ
キシドを含む。 現像段階後に基体は、もしそれが印刷版として
用いられるなら回収されることができ、あるいは
もしプリント回路板が作られるのであればエツチ
ング又はメツキに付されることまができる。もち
ろん望む最終用途に依存して最初に特定の基体が
選択される。 プリント回路板の製造において、現像された基
体は、露出された金属（たとえば銅）を再活性化
するために一連の化学的浴に通すことができる。
本発明の組成物の別の利点は、組成物の曝露され
なかつた部分が金属表面に残渣を全く残さないか
又は少ししか残さずにきれいに現像され、それに
より再活性化が容易となることにある。また組成
物の光重合された部分は、１〜５重量％の塩酸、
硫酸、過硫酸アンモニウムの溶液（場合により、
再活性化浴に通常存在する界面活性剤と共に）に
よつて実質上影響されない。 エツチング又はメツキは、当業者に知られてい
る慣用の条件下で行われる。すなわち、本発明の
組成物の曝露された（すなわち光重合した）部分
は、現像液、再活性化液（もし用いられるなら）、
及び45°ボーメの塩化第二鉄エツチング液との連
続的接触により実質上影響されず、また一方で露
出された基体を加工するためのレジストの劣化を
実質上起すことなく他のエツチング又はメツキ液
も同様に用いうることが明らかである。他のエツ
チング又はメツキ液としては、たとえば塩化第二
銅、アンモニア性エツチング剤、過硫酸アンモニ
ウム、クロム硫酸、硫酸銅及びフルオロ硼酸ス
ズ／鉛の溶液が例として挙げられる。 プリント回路板をその意図する目的に用いるた
めに、終局的には組成物（すなわちフオトレジス
ト）の曝露された部分を基体から除去することが
必要である。このことは一般に、現像段階で用い
られるよりもより攻撃的なアルカリ水溶液を用い
ることにより構成される。すなわち例えば、本発
明の光重合された組成物は、３重量％の水酸化ナ
トリウムを含む加熱溶液を用いて基体から除去で
き、また一方で他のアルカリ性溶液たとえば先述
したアルカリ性剤から調製されるものも同様に用
いうることが理解されねばならない。 本発明の組成物はまた、部品（それはしばしば
満足に刻むにはあまりにも小さい。）の化学的工
作のプロセスにおけるレジストとして用いること
もでき、それにより金属のシート又は箔は深く又
は一方の面から他の面に貫通してエツチングされ
る。このプロセスにおいて、光重合しうる組成物
は金属のシート又は箔の両面に施与され、そして
業界で一般に知られているのと同じ写真的な透か
し画を通して曝露される。組成物の曝露されなか
つた部分は先述したように現像段階で除去され、
そして金属シート又は箔の裸の表面が必要なよう
にエツチングされる。そし後、組成物の光重合し
うる部分は除去され、そして出来上つた製品が回
収され、用いられる。 本発明の別の重要な利点は、組成物の曝露され
た部分が基体から容易に除去されうることに関す
る。この利点は、全加工時間を更に減少すること
を可能にし、これは当業者における決定的利点で
ある。付加重合しうる物質中に本発明の定義した
アクリレートモノマーを用いることにより、同様
の、しかしこのアクリレートモノマーを含まない
組成物と比べて同じストリツピング（除去）条件
下で約10〜約80％だけストリツピング時間を減少
できる。 本発明の光重合しうる組成物の上述の記載及び
それがどのようにしてシート又はロールへと形成
され、基体に積層され、曝露され、現像され、エ
ツチング又はメツキに付されそして基体から除去
されうるかの上述の記載から、本発明の光重合し
うる組成物は、それがこれら要件を十分に満たす
こめに更に別の化学的基たとえば塩の基を必要と
しないことが明らかである。従つて、慣用の添加
物たとえば顔料、染料、接着促進剤、可塑剤など
を本発明の組成物の価値を高めるために加えるこ
とができるが、本組成物は使用のために別の追加
的な化学的基たとえば塩の基を要しないので、そ
れは特許請求の範囲に記した部分から本質的に成
る。 本発明及びその利点を更に例示するために、下
記に実施例を記載する。これら実施例は例示のた
めであつて、本発明の範囲を限定するものではな
い。 実施例 下記の溶液を１ミル（mil）の厚さのポリエス
テルフイルム上にコーテイングし、GE−1500ワ
ツトフアン乾燥機により熱空気流中で20分間乾燥
する。感光性の層の乾燥厚さは約1.3ミルである。
乾いた層を１ミル厚さのポリエチレンフイルムで
被う。処方Ａは本発明の例であり、一方処方
Ｂは対照溶液である。 処方 Ａ (a) 37％スチレンと63％モノブチルマレエートの
コポリマー、平均分子量20000、アンモニウム
塩の10％水溶液の粘度＝150cps 38.5ｇ (b) 95％ビニルアセテートと５％クロトン酸のコ
ポリマー、平均分子量90000、8.6％エチルアル
コール溶液の粘度＝13〜18cps 1.5ｇ (c) ２，2′−メチレン−ビス−（４−エチル−６
−tert−ブチルフエノール） 0.06ｇ (d) ２−クロルチオキトン 0.5ｇ (e) エチルＰ−ジメチルアミノベゾエート4.0ｇ (f) ヘクトブルーＢ染料 0.04ｇ (g) クリスタルパイオレツトベース 0.015ｇ (h) トリプロピレングリコールジアクリレート
15.0ｇ (i) フエノキシジエトキシエチルアクリレート
10.0ｇ (j) メチルエチルケトン 70.0ｇ 処方 Ｂ (a) 37％スチレンと63％モノブチルマレエートの
コポリマー、平均分子量20000、アンモニウム
塩の10％水溶液の粘度＝150cps 38.5ｇ (b) 95％ビニルアセテートと５％クロトン酸のコ
ポリマー、平均分子量90000、8.6％エチルアル
コール溶液の粘度＝13〜18cps 1.5ｇ (c)２，2′−メチレン−ビス−（４−エチル−６−
tert−ブチルフエノール） 0.6ｇ (d) ２−クロルチオキサントン 0.5ｇ (e) エチルｐ−ジメチルアミノベンゾエート
4.0ｇ (f) ヘクトブルーＢ染料 0.04％ (g) クリスタルバイオレツトベース 0.015ｇ (h) クリプロピレングリコールジアクリレート
25.0ｇ (i) メチルエチルケトン 70.0ｇ 銅装着（キセ金）エポキシガラス繊維板の一片
を、研磨クリーナで磨き、ふき取りそして水中で
完全にすすぐ。それを次に12％塩酸溶液に20秒間
浸し、再び水ですすぎ、そして空気ジエツトで乾
燥する。 サンドイツチにされた光重合しうる要素の一片
からポリエチレンカバーシートを除去する。ポリ
エステル支持体を有する裸になつたレジストコー
テイングを、光重合しうる層の表面を銅表面と接
触させて、250〓で２フイート／分の速さで操作
されるゴム被覆ローラーを用いてニツプで３ポン
ド／インチ長の圧力でもつてきれいな銅に積層す
る。ポリエステルフイルムで保護された、得られ
た感光性の銅装着板を、強いコントラストの透か
し画を通して、400ワツト、50アンペアの水銀蒸
気ランプを用いて12インチの距離で30秒間光に曝
す。 ポリエステル（ポリエチレンテレフタレート）
支持体フイルムを剥し、板を１％炭酸ナトリウム
−水和物水溶液を入れた盆中で27℃で約１分間攪
拌し、次に水ですすぐことにより曝露されたレジ
スト層を現像する。この現像方法は、処方Ａの
組成物ならびに処方Ｂの組成物に対して十分で
ある。現像されたレジストは、21段階スケールで
８の固体段階及び９の銅段階を持つ。レジスト
は、２％以内ですかし画から10.0ミルの線を再現
する。 現像された板は、45°ボーメの塩化第二銅エツ
チング剤でエツチングされ、組成物の光重合した
部分は何らの劣化又は破壊の兆候もなくこのプロ
セスに耐える。レジストは次に、３％水酸化カリ
ウム水溶液中で55℃でストリツピングされる。処
方Ａに従つて作られたレジストは27秒間でスト
リツピングされ、一方処方Ｂに従つて作られた
レジストは30秒間でストリツピングされる。両場
合においてともにエツチングされた銅の線は真直
ぐであり、かつ明瞭である。 柔軟性を測定するために、処方Ａ及びＢに
従い作られたフイルムをきれいな柔軟な銅機体に
積層し、21のStouffer スケールの段階９に相当
するまですかし画なしで曝露し、次にGardner
Mg−1416Conical Mandrel を用いて柔軟度を
比較する。処方Ｂに従い作られたフイルムは48
mm長のひび割れを示し、一方、処方Ａに従い作
られたフイルムは全くヒビ割れを示さない。 実施例 下記の溶液を１ミル厚さのポリエステルフイル
ムにコーテイングし、GE−1500ワツトフアン乾
燥機を用いて熱空気流中で20分間乾燥する。感光
性層の乾燥厚さは約2.0ミルである。乾いた層を
１ミル厚さのポリエチレンフイルムでカバーす
る。処方Ａは本発明の例であり、一方、処方
Ｂは対照の溶液である。 処方 Ａ (a) 37％スチレンと63％モノブチルマレエートの
コポリマー、平均分子量20000、アンモニウム
塩の10％水溶液の粘度＝150cps 38.5ｇ (b) 95％ビニルアセテートと５％クロトン酸のコ
ポリマー、平均分子量90000、8.6％エチルアル
コール溶液の粘度＝13〜18cps 1.5ｇ (c) 2.2′−メチレン−ビス−（４−エチル−６−
tert−ブチルフエノール） 0.12ｇ (d) ベンゾトリアゾール 0.10ｇ (e) ロイコクリスタルバイオレツト 0.4ｇ (f) ビクトリアブルーベース染料 0.03ｇ (g) ２，２−ジメトキシ−２−フエニルアセトフ
エノン 5.0ｇ (h) トリメチロールプロパントリアクリレート
9.0ｇ (i) フエノキシジエトキシエチルアクリレート
14.0ｇ (j) メチルエチルケトン 70.0ｇ 処方 Ｂ (a) 37％スチレンと63％モノブチルマレエートの
コポリマー、平均分子量20000、アンモニウム
塩の10％水溶液の粘度＝150cps 38.5ｇ (b) 95％ビニルアセテートと５％クロトン酸のコ
ポリマー、平均分子量90000、8.6％エチルアル
コール溶液の粘度＝13〜18cps 1.5ｇ (c) ２，2′−メチレン−ビス−（４−エチル−６
−tert−ブチルフエノール） 0.12ｇ (d) ベンゾトリアゾール 0.10ｇ (e) コイコクリスタルバイオレツト 0.4ｇ (f) バクトリアブルーベース染料 0.03ｇ (g) ２，２−ジメトキシ−２−フエニルアセトフ
エノン 5.0ｇ (h) トリメチロールプロパントリアクリレート
9.0ｇ (i) テトラエチレングリコールジアクリレート
14.0ｇ (j) メチルエチルケトン 70.0ｇ レジストフイルムを実施例の方法に従つて、
積層し、曝露しそして現像する。 露出された銅の表面は、現像後に20％過硫酸ア
ンモニウム浴中に30秒間板を浸し、水で十分に洗
い、20％塩酸水溶液中に30秒間浸し、水ですす
ぎ、次に空気ジエツトで板を乾燥することにより
更にきれいにする。このきれいにした板を、19.6
ｇ／の銅を含む酸性硫酸銅メツキ液に浸漬す
る。メツキは、30アンペア／ft2で25℃で45分間
行われる。板をメツキ槽から取出し、水ですす
ぎ、そして30％フルオロ硼酸溶液中に１分間つけ
る。 板を、ハイスロー（hi−throw）スズ／鉛メツ
キ浴に移し、15分間メツキする。メツキ液は、16
ｇ／のスズ、11ｇ／の鉛及び385ｇ／のフ
ルオロ硼酸を含む。電流は15アンペア／ft2であ
る。メツキサイクルが完了した後に、板を水洗い
し、そして空気乾燥する。レジストは、リフテイ
ング（浮き上がり）が起つたかどうか見るため
に、スコツチテープテストに付される。処方Ａ
でも処方Ｂでもリフテイングは見られない。し
たし、３％水酸化カリウム水溶液で55℃でストリ
ツピングした場合、処方Ａのレジストは70秒間
でストリツピングされ、一方、処方Ｂのレジス
トは165秒間でストリツピングされる。 実施例 下記の溶液を１ミル厚さのポリエステルフイル
ムにローテイングし、GE−1500ワツトフアン乾
燥機で熱空気流中で20分間乾燥する。感光性の層
の乾燥厚さは約2.0ミルである。乾燥した層を、
１ミル厚さのポリエチレンフイルムで被う。処方
Ａは本発明の例であり、処方Ｂは対照溶液で
ある。 処方 Ａ (a) 37％スチレンと63％モノブチルマレエートの
コポリマー、平均分子量20000、アンモニウム
塩の10％水溶液の粘度＝150cps 385ｇ (b) 95％ビニルアセテートと５％クロトン酸のコ
ポリマー、平均分子量90000、8.6％エチルアコ
ール溶液の粘度＝13〜18cps 1.5ｇ (c) ロイコクリスタルバイオレツト染料 0.4ｇ (d) ビクトリアブルーベースFB染料 0.03ｇ (e) トリプロピレングリコール ジアクリレート
8.0ｇ (f) フエノキシジエトキシエチルアクリレート
14.0ｇ (g) 2.2′−メチレン−ビス−（４−エチル−６−
tert−ブチルフエノール） 0.12ｇ (h) ベンゾトリアゾール 0.1ｇ (i) ２，２−ジメトキシ−２−フエニルアセトフ
エノン 4.0ｇ (j) メチル エチル ケトン 63.0ｇ 処方 Ｂ (a) 37％スチレンと63％モノブチルマレエートの
コポリマー、平均分子量20000、アンモニウム
塩の10％水溶液の粘度＝150cps 38.5ｇ (b) 95％ビニルアセテートと５％クロトン酸のコ
ポリマー、平均分子量90000、8.6％エチルアル
コール溶液の粘度＝13〜18cps 1.5ｇ (c) ロイコクリスタルパイオレツト染料 0.4ｇ (d) ビクトリアブルーベースFB染料 0.03ｇ (e) トリプロビレングリコール ジアクリレート
8.0ｇ (f) ジエトキシル化ビスフエノール−Ａ ジアク
リレート 14.0ｇ (g) 2.2′−メチレン−ビス−（４−エチル−５−
tert−ブチル フエノール） 0.12ｇ (h) ベンゾトリアゾール 0.1ｇ (i) ２，２−ジメトキシ−２−フエニルアセトフ
エノン 4.0ｇ (j) メチル エチル ケトン 63.0ｇ 実施例で述べたように、2.0ミル厚さのフイ
ルムを作り、メツキレジストとして評価する。処
方Ａ及びＢともに、スコツチテープテスト及
び下メツキ（under plating）の不存在から判る
ようにリフテイングなしで満足に機能する。実施
例に述べた条件下でストリツビングすると、処
方Ａのレジストは57秒間でストリツピングさ
れ、一方、処方Ｂのレジストは70秒間でストリ
ツピングされる。 実施例 下記の溶液を１ミル厚さのポリエステルフイル
ムにコーテイングし、GE−1500ワツトフアン乾
燥機で熱空気流中で20分間乾燥する。感光性の層
の乾燥厚さは約2.0ミルである。乾いた層を１ミ
ル厚さのポリエチレンフイルムで被う。処方Ａ
は本発明の例であり、処方Ｂは対照溶液であ
る。 処方 Ａ (a) 37％スチレンと63％モノブチルマレエートの
コポリマー、平均分子量20000、アンモニウム
塩の10％水溶液の粘度＝150cps 38.5ｇ (b) 95％ビニルアセテートと５％クロトン酸のコ
ポリマー、平均分子量90000、8.6％エチルアル
コール溶液の粘度＝13〜18cps 1.5ｇ (c) ロイコクリスタルバイオレツト染料 0.4ｇ (d) ビクトリアブルーベースFB 0.03ｇ (e) トリチメロール プロパン トリアクリレー
ト 10.5ｇ (f) フエノキシジエトキシエチル アクリレート
10.5ｇ (g) 2.2′−メチレン−ビス−（４−エチル−６−
tert−ブチルフエノール） 0.12ｇ (h) ベンゾトリアゾール 0.1ｇ (i) ２，２−ジメトキシ−２−フエニルアセトフ
エノン 4.0ｇ (j) メチル エチル ケトン 63.0ｇ 処方 Ｂ (a) 37％スチレンと63％モノブチルマレエートの
コポリマー、平均分子量20000、アンモニウム
塩の10％水溶液の粘度＝150cps 38.5ｇ (b) 95％ビニルアセテートと５％クロトン酸のコ
ポリマー、平均分子量90000、8.6％エチルアル
コール溶液の粘度＝13〜18cps 1.5ｇ (c) ロイコクリスタルバイオレツト染料 0.4ｇ (d) ビクトリアブルーベースFB 0.03ｇ (e) トリプロビレングリコール ジアクリレート
8.0ｇ (f) トリエチレングリコール ジアクリレート
10.5ｇ (g) ２，２−メチレン−ビス−（４−エチル−６
−tert−ブチルフエノール） 0.12ｇ (h) ベンゾトリアゾール 0.1ｇ (i) ２，2′−ジメトキシ−２−フエニルアセトフ
エノン 4.0ｇ (j) メチル エチル ケトン 63.0ｇ 二つの処方を、実施例及びに記載される方
法に従つて、メツキレジストとしてテストする。
この二つのフイルムは、メツキサイクルで満足に
機能し、そして次に実施例と同じ条件下でスト
リツピングされる。処方Ａのレジストは50秒間
でストリツピングされ、処方Ｂのレジストは
128秒間でストリツピングされる。 処方Ａ及びＢからのフイルムをきれいな柔
軟な銅箔上に積層し、次に実施例記載の方法に
従い現像する。試料パネルを、Conical Mondrel
を用いて実施例のようにしてその柔軟性をテス
トする。処方Ｂは試料の全長（20cm）に亘るヒ
ビ割れを示し、一方、処方Ａではヒビは僅か
10.2cmであり、処方Ａの優れた柔軟性を示す。 実施例 下記の溶液を１ミル厚さのポリエステルフイル
ムにコーテイングし、GH−1500ワツトフアン乾
燥機で熱空気流中で20分間乾燥する。感光性の層
の乾燥厚さは約2.0ミルである。乾いた層を１ミ
ル厚さのポリエチレンフイルムで被う。処方Ａ
は本発明の例であり、処方Ｂは対照溶液であ
る。 処方 Ａ (a) メチルメタクリレート（35％）、ブチルアク
リレート（11％）、スチレン（23％）及びメタ
クリル酸（30％）のコポリマー、メチルエチル
ケトン／イソプロピルアルコール（80／20：重
量／重量）中の40％固形分で25000cpsの粘度
40.0ｇ (b) ２，２−ジメトキシ−２−フエニルアセトフ
エノン 4.0ｇ (c) ロイコクリスタルバイオレツト染料 0.4ｇ (d) ビクトリアブルーベースBF染料 0.036ｇ (e) ２，2′−メチレン−ビス−（４−エチル−
6tert−ブチルフエノール） 0.12ｇ (f) ベンゾトリアゾール 0.10ｇ (g) トリメチロールプロパン トリアクリレート
12.0ｇ (h) フエノキシジエトキシエチル アクリレート
10.0ｇ (i) チメル エチルケトン 65.0ｇ 処方 Ｂ (a) メチルメタクリレート（35％）、ブチルアク
リレート（11％）、スチレン（23％）及びメタ
クリル酸（30％）のコポリマー、メチルエチル
ケトン／イソプロピルアルコール（80／20：重
量／重量）中の40％固形分で25000cpsの粘度
40.0ｇ (b) ２，２−ジメトキシ−２−フエニルアセトフ
エノン 4.0ｇ (c) ロイコクリスタルバイオレツト染料 0.4ｇ (d) ビクトリアブルーベースFB染料 0.036ｇ (e) ２，2′−メチレン−ビス−（４−エチル−６
−tert−ブチルフエノール） 0.12ｇ (f) ベンゾトリアゾール 0.10ｇ (g) トリメチロールプロパン トリアクリレート
22.0ｇ (h) メチル エチル ケトン 65.0ｇ この二つの処方は、実施例のようにメツキレ
ジストとして評価すると、満足に機能する。実施
例に記載のようなストリツピング条件で付され
ると、処方Ａのレジストは54秒間でストリツピ
ングされ、一方、処方Ｂのレジストは100秒間
でストリツピングされる。 処方Ａ及びＢから作られた別々のフイルム
試料を、実施例記載のように柔軟性テストに付
す。処方Ａではヒビ割れの長さは10.3cmであ
り、一方、処方Ｂではヒビ割れの長さは13.4cm
であり、即ち処方Ａの優れた柔軟性を示す。 実施例 実施例の手順を繰返す。但し、処方Ａのフ
エノキシジエトキシエチル アクリレートを10.0
ｇのフエノキシトリプロポキシプロピル アクリ
レートで置き代える。同様の結果が得られる。 実施例 実施例の手順を繰返す。但し、処方Ａのフ
エノキシジエトキシエチル アクリレートを10.0
ｇの４−クロルフエノキシトリエトキシエチル
アクリレートで置き代える。同様の結果が得られ
る。 実施例 実施例の手順を繰返す。但し、処方Ａのフ
エノキシジエトキシエチル アクリレートを10ｇ
のシクロヘキソキシジエトキシエチル アクリレ
ートで置き代える。同様の結果が得られる。 本発明の種々の好ましい実施態様により説明し
たが、種々の調節、置き代え、省略及び変更を本
発明の精神から離れることなく行えることを当業
者は理解できるであろう。従つて本発明の範囲
は、特許請求の範囲の記載によつてのみ限定され
るものである。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 １ (A) （） 式 （ここでｍは１〜４、ｎは１〜12であり、
    R1はＨ、CH3及びこれらの混合物から成る
    群から選ばれ、R2はフエニル基、ハロフエ
    ニル基、シクロヘキシル基及びこれらの混合
    物から成る群から選ばれる。）で示されるア
    クリレート５〜50重量部、及び （） 少くとも二つの末端エチレン基を含
    みかつ100℃以上の沸点を持つ一種以上の非
    ガス状化合物５〜50重量部 を含む付加重合しうる物質10〜60重合部、 (B) 光開始される、フリーラジカルを発生する付
    加重合開始系0.001〜20重合部、 (C) 熱付加重合禁止剤0.001〜５重合部、及び (D) （） 一般式【式】及び 【式】 （ここでＲは水素原子、１〜６個の炭素原
    子を持つアルキル基又はハロゲン原子であ
    り、Ｘが水素原子であるときＹはOOCR1、
    OR1、OCR1、CN、CH＝CH2、
    【式】又はClであり、Ｘがメチル基で あるときＹはCOOR1、CN、CH＝CH2、又
    は【式】であり、Ｘは塩素原子である ときＹはClであり、ここでR1は１〜12個の
    炭素原子を持つアルキル基、フエニル基又は
    ベンジル基であり、R3及びR4は水素原子、
    １〜12個の炭素原子を持つアルキル基又はベ
    ンジル基である。）を持つ群から選ばれた一
    種又は二種以上の非酸性化合物を含む第一の
    モノマー物質、及び （） ３〜15個の炭素原子を持つ、α、β−
    エチレン性不飽和カルボン酸又は酸無水物含
    有モノマーの一種又は二種以上より本質的に
    成る第二のモノマー物質 のポリマーであるところの予め形成された高分子
    量ポリマー結合剤40〜90重量部（但しここで第二
    のモノマー物質に対する第一のモノマー物質の比
    は、２重量％の炭酸ナトリウムを含む実質上完全
    に水性の溶液に該結合剤の実質上総てを可溶とな
    るに十分であること） を含む光重合しうる組成物。 ２ ｎが２〜８であり、R2がフエニル基及びハ
    ロフエニル基から成る群より選ばれた特許請求の
    範囲第１項記載の光重合しうる組成物。 ３ ｍが２又は３、ｎが２又は３であり、R1が
    Ｈであり、R2がフエニル基である特許請求の範
    囲第２項記載の光重合しうる組成物。 ４ 少なくとも二つの末端エチレン基を含みかつ
    100℃以上の沸点を持つ非ガス状化合物がポリオ
    ールの不飽和エステル、不飽和アミド、ビニルエ
    ステル及びこれらの混合物より成る群から選ばれ
    る特許請求の範囲第１項記載の光重合しうる組成
    物。 ５ 非ガス状化合物がトリメチロールプロパント
    リアクリレート、テトラエチレングリコールジア
    クリレート、トリプロピレングリコールジアクリ
    レート及びこれらの混合物より成る群から選ばれ
    る特許請求の範囲第４項記載の光重合しうる組成
    物。 ６ 非ガス状化合物がトリプロピレングリコール
    ジアクリレートを含む特許請求の範囲第４項記載
    の光重合しうる組成物。 ７ 非ガス状化合物がペンタエリトリツトアクリ
    レートを含む特許請求の範囲第４項記載の光重合
    しうる組成物。 ８ 結合剤が一般式【式】を持つ第一の モノマー物質を含む特許請求の範囲第１項記載の
    光重合しうる組成物。 ９ 結合剤が35：65〜70：30の比のスチレン及び
    モノブチルマレエートのコポリマーである特許請
    求の範囲第８項記載の光重合しうる組成物。 １０ 結合剤が70：30〜95：５の比のビニルアセ
    テート及びクロトン酸のコポリマーである特許請
    求の範囲第１項記載の光重合しうる組成物。 １１ 結合剤が、35：65〜70：30の比のスチレン
    とモノブチルマレエートのコポリマーと70：30〜
    95：５の比のビニルアセテートとクロトン酸のコ
    ポリマーの混合物である特許請求の範囲第１項記
    載の光重合しうる組成物。 １２ 結合剤がアクリレート型のモノマーと３〜
    15個の炭素原子を持つα，β−エチレン性不飽和
    カルボン酸又は酸無水物含有モノマーの一種又は
    二種以上とのコポリマーである特許請求の範囲第
    １項記載の光重合しうる組成物。 １３ 結合剤が （）【式】 （） アクリレート型のモノマー及び （） ３〜15個の炭素原子を持つα，β−エチ
    レン性不飽和カルボン酸又は酸無水物含有モノ
    マーの一種又は二種以上 のコポリマーである特許請求の範囲第１項記載の
    光重合しうる組成物。 １４ アクリレート型のモノマーがアルキルアク
    リレート、アルキルメタクリレート、ヒドロキシ
    アルキルアクリレート、ヒドロキシアルキルメタ
    クリレート及びこれらの混合物から成る群から選
    ばれ、但しここでアルキル基は１〜12個の炭素原
    子を持ち、ヒドロキシアルキル基は２〜12個の炭
    素原子を持つ特許請求の範囲第１３項記載の光重
    合しうる組成物。 １５ 柔軟なフイルム支持体上の (A) （） 式 （ここでｍは１〜４、ｎは１〜12であり、
    R1はＨ、CH3及びこれらの混合物から成る
    群から選ばれ、R2はフエニル基、ハロフエ
    ニル基、シクロヘキシル基及びこれらの混合
    物から成る群から選ばれる。）で示されるア
    クリレート５〜50重合部、及び （） 少なくとも二つの末端エチレン基を含
    みかつ100℃以上の沸点を持つ一種以上の非
    ガス状化合物５〜50重合部 を含む付加重合しうる物質10〜60重合部、 (B) 光開始される、フリーラジカルを発生する付
    加重合開始系0.001〜20重合部、 (C) 熱付加重合禁止剤0.001〜５重合部、及び (D) （） 一般式【式】及び 【式】 （ここでＲは水素原子、１〜６個の炭素原
    子を持つアルキル基又はハロゲン原子であ
    り、Ｘは水素原子であるときＹはOOCR1、
    OR1、OCR1、COOR1、CN、CH＝CH2、
    【式】又はClであり、Ｘがメチル基で あるときＹはCOOR1、CN、CH＝CH2、又
    は【式】であり、Ｘは塩素原子である ときＹはClであり、ここでR1は１〜12個の
    炭素原子を持つアルキル基、フエニル基又は
    ベンジル基であり、R3及びR4は水素原子、
    １〜12個の炭素原子を持つアルキル基又はベ
    ンジル基である。）を持つ群から選ばれた一
    種又は二種以上の非酸性化合物を含む第一の
    モノマー物質、及び （） ３〜15個の炭素原子を持つ、α，β−
    エチレン酸不飽和カルボン酸又は酸無水物含
    有モノマーの一種又は二種以上より本質的に
    成る第二のモノマー物質 のポリマーであるところの予め形成された高分子
    量ポリマー結合剤40〜90重量部（但しここで第二
    のモノマー物質に対する第一のモノマー物質の比
    は、２重量％の炭素ナトリウムを含む実質上完全
    に水性の溶液に該結合剤の実質上総てを可溶とな
    るに十分であることと） を含む光重合しうる組成物のシート又はロール。 １６ アクリレートがフエノキシポリエトキシエ
    チルアクリレート、ハロフエノキシポリエトキシ
    エチルアクリレート、フエノキシポリプロキポシ
    プロピルアクリレート、ハロフエノキシポリプロ
    ポキシプロピルアクリレート及びこれらの混合物
    より成る群から選ばれる特許請求の範囲第１５項
    記載のシート又はロール。 １７ アクリレートがフエノキシポリエトキシエ
    チルアクリレートである特許請求の範囲第１６項
    記載のシート又はロール。 １８ 結合剤が （）【式】 （） アクリレート型のモノマー及び （） ３〜15個の炭素原子を持つα，β−エチ
    レン性不飽和カルボン酸又は酸無水物含有モノ
    マーの一種又は二種以上 のコポリマーである特許請求の範囲第１６項記載
    のシート又はロール。 １９ 結合剤が、35：65〜70：30の比のスチレン
    とモノブチルマレエートのコポリマー及び70：30
    〜95：５の比のビニルアセテートとクロトン酸の
    コポリマーの混合物である特許請求の範囲第１６
    項記載のシート又はロール。 ２０ 基体上に (A) （） 式 （ここでｍは１〜４、ｎは１〜12であり、
    R1はＨ、CH3及びこれらの混合物から成る
    群から選ばれ、R2はフエニル基、ハロフエ
    ニル基、シクロヘキシル基及びこれらの混合
    物から成る群から選ばれる。）で示されるア
    クリレート５〜50重合部、及び （） 少くとも二つの末端エチレン基を含み
    かつ100℃以上の沸点を持つ一種以上の非ガ
    ス状化合物５〜50重合部 を含む付加重合しうる物質10〜60重合部、 (B) 光開始される、フリーラジカルを発生する付
    加重合開始系0.001〜20重合部、 (C) 熱付加重合禁止剤0.001〜５重合部、及び (D) （） 一般式【式】及び 【式】 （ここでＲは水素原子、１〜６個の炭素原
    子を持つアルキル基又はハロゲン原子であ
    り、Ｘが水素原子であるときＹはOOCR1、
    OR1、OCR1、CN、CH＝CH2、
    【式】又はClであり、Ｘがメチル基で あるときＹはCOOR1、CN、CH＝CH2、又
    は【式】であり、Ｘが塩素原子である ときＹはClであり、ここでR1は１〜12個の
    炭素原子を持つアルキル基、フエニル基又は
    ベンジル基であり、R3及びR4は水素原子、
    １〜12個の炭素原子を持つアルキル基又はベ
    ンジル基である。）を持つ群から選ばれた一
    種又は二種以上の非酸性化合物を含む第一の
    モノマー物質、及び （） ３〜15個の炭素原子を持つ、α，β−
    エチレン性不飽和カルボン酸又は酸無水物含
    有モノマーの一種又は二種以上より本質的に
    成る第二のモノマー物質 のポリマーであるところの予め形成された高分子
    量ポリマー結合剤40〜90重合部（但しここで二種
    のモノマー物質に対する第一のモノマー物質の非
    は、２重量％の炭酸ナトリウムを含む実質上完全
    に水性の溶液に該結合剤の実質上総てを可溶とな
    すに十分であること） を含む光重合しうる組成物をコーテイングされた
    複合体。 ２１ 基体が金属を含む特許請求の範囲第２０項
    記載のコーテイングされた複合体。 ２２ 金属が鋼、アルミニウム、銅、亜鉛及びマ
    グネシウムから成る群から選ばれる特許請求の範
    囲第２１項記載のコーテイングされた複合体。 ２３ 基体がプラスチツクを含む特許請求の範囲
    第２０項記載のコーテイングされた複合体。 ２４ 基体が銅装着積層体である特許請求の範囲
    第２０項記載のコーテイングされた複合体。 ２５ 基体が銅装着エポキシ−ガラス繊維積層体
    である特許請求の範囲第２４項記載のコーテイン
    グされた複合体。 ２６ (イ) プリント回路板原板上に光重合しうる
    組成物を積層すること、但しここで光重合しう
    る組成物は、 (A) （）式 （ここでｍは１〜４、ｎは１〜12であ
    り、R1はＨ、CH3及びこれらの混合物か
    ら成る群から選ばれ、R2はフエニル基、
    ハロフエニル基、シクロヘキシル基及びこ
    れらの混合物から成る群から選ばれる。）
    で示されるアクリレート５〜50重合部、及
    び （） 少くとも二つの末端エチレン基を含
    みかつ100℃以上の沸点を持つ一種以上の
    非ガス状化合物５〜50重量部 を含む付加重合しうる物質10〜60重量部、 (B) 光開始される、フリーラジカルを発生する
    付加重合開始系0.001〜20重量部、 (C) 熱付加重合禁止剤0.001〜５重量部、及び (D) （） 一般式【式】及び 【式】 （ここでＲは水素原子、１〜６個の炭素
    原子を持つアルキル基又はハロゲン原子で
    あり、Ｘは水素原子であるときＹは
    OOCR1、OR1、OCR1、COOR1、CN、
    CH＝CH2、【式】又はClであり、 Ｘがメチル基であるときＹはCOOR1、
    CN、CH＝CH2、又は【式】であ り、Ｘが塩素原子であるときはＹはClであ
    り、ここでR1は１〜12個の炭素原子を持
    つアルキル基、フエニル基又はベンジル基
    であり、R3又はR4は水素原子、１〜12個
    の炭素原子を持つアルキル基又はベンジル
    基である。）を持つ群から選ばれた一種又
    は二種以上の非酸性化合物を含む第一のモ
    ノマー物質、及び （） ３〜15個の炭素原子を持つ、α，β
    −エチレン酸不飽和カルボン酸又は酸無水
    物含有モノマーの一種又は二種以上より本
    質的に成る第二のモノマー物質 のポリマーであるところの予め形成された高
    分子量ポリマー結合剤40〜90重量部（但しこ
    こで第二のモノマー物質に対する第一のモノ
    マー物質の比は、２重量％の炭酸ナトリウム
    を含む実質上完全に水性の溶液に該結合剤の
    実質上総てを可溶となすに十分であること） を含む光重合しうる組成物であること、 (ロ) 光重合しうる組成物の選ばれた部分を活性化
    照射に十分に曝してこの曝露された部分を光重
    合させること、 (ハ) 少くとも炭酸ナトリウムの２重量％溶液のア
    ルカリ度以上のアルカリ度を持つ実質上完全に
    水性の溶液と接触させることにより、組成物の
    曝露されなかつた部分を除去して回路板原板の
    一部を裸にすること、 (ニ) 回路板原板の裸にされた部分を加工して、選
    択的な導電性パターンを形成すること、及び (ホ) 少くとも水酸化ナトリウムの３重量％溶液の
    アルカリ度以上のアルカリ度を持つ実質上完全
    に水性の溶液と接触させることにより、組成物
    の曝露された選択された部分を回路板からスト
    リツピングすること を含有するプリント回路板の製造法。 ２７ プリント回路板原板が銅装着エポキシ−ガ
    ラス繊維積層体である特許請求の範囲第２６項記
    載の方法。 ２８ プリント回路板原板が柔軟な銅装着積層体
    である特許請求の範囲第２６項記載の方法。 ２９ プリント回路板原板が両面に金属性物質を
    有し、かつ光重合しうる組成物が該金属性物質の
    上から両面に積層される特許請求の範囲第２６項
    記載の方法。 ３０ 光重合しうる組成物がフイルム支持体上の
    シート又はロールの一部分の形でプリント回路板
    原板に積層される特許請求の範囲第２６項記載の
    方法。 ３１ 回路板原板の裸にされた部分がエツチング
    により加工される特許請求の範囲第２６項記載の
    方法。 ３２ 回路板原板の裸にされた部分がメッキによ
    り加工される特許請求の範囲第２６項記載の方
    法。 ３３ 曝露された選択された組成物部分をストリ
    ツピングするために要する時間が、付加重合しう
    る物質中に前記アクリレートが無い同様の組成物
    に比べて同じ条件下で約10〜約80％だけ減少され
    る特許請求の範囲第２６項記載の方法。 ３４ (イ) 金属シート又は箔の両面に光重合しう
    る組成物を積層すること、但しここで光重合し
    うる組成物は、 (A) （） 式 （ここでｍは１〜４、ｎは１〜12であ
    り、R1はＨ、CH3及びこれらの混合物か
    ら成る群から選ばれ、R2はフエニル基、
    ハロフエニル基、シクロヘキシル基及びこ
    れらの混合物から成る群から選ばれる。）
    で示されるアクリレート５〜50重量部、及
    び （） 少くとも二つの末端エチレン基を含
    みかつ100℃以上の沸点を持つ一種以上の
    非ガス状化合物５〜50重量部 を含む付加重合しうる物質10〜60重量部、 (B) 光開始される、フリーラジカルを発生する
    付加重合開始系0.001〜20重量部、 (C) 熱付加重合禁止剤0.001〜５重量部、及び (D) （） 一般式【式】及び 【式】 （ここでＲは水素原子、１〜６個の炭素
    原子を持つアルキル基又はハロゲン原子で
    あり、Ｘが水素原子であるときＹは
    OOCR1、OR1、OCR1、COOR1、CN、
    CH＝CH2、【式】又はClであり、 Ｘがメチル基であるときＹはCOOR1、
    CN、CH＝CH2、又は【式】であ り、Ｘが塩素原子であるときＹはClであ
    り、ここでR1は１〜12個の炭素原子を持
    つアルキル基、フエニル基又はベンジル基
    であり、R3及びR4は水素原子、１〜12個
    の炭素原子を持つアルキル基又はベンジル
    基である。）を持つ群から選ばれた一種又
    は二種以上の非酸性化合物を含む第一のモ
    ノマー物質、及び （） ３〜15個の炭素原子を持つ、α，β
    −エチレン性不飽和カルボン酸又は酸無水
    物含有モノマーの一種又は二種以上より本
    質的に成る第二のモノマー物質 のポリマーであることろの予め形成された高分子
    量ポリマー結合剤40〜90重量部（但しここで第二
    のモノマー物質に対する第一のモノマー物質の比
    は、２重量％の炭酸ナトリウムを含む実質上完全
    に水性の溶液に該結合剤の実質上総てを可溶とな
    すに十分であること） を含む光重合しうる組成物であること、 (ロ) 光重合しうる組成物の選ばれた部分を活性化
    照射に十分に曝してこの曝露された部分を光重
    合させること、 (ハ) 少くとも炭酸ナトリウムの２重量％溶液のア
    ルカリ度以上のアルカリ度を持つ実質上完全に
    水性の溶液と接触させることにより、組成物の
    曝露されなかつた部分を除去してシート又は箔
    の一部を裸にすること、 (ニ) シート又は箔の裸にされた部分をエツチング
    して望むパターンを形成すること、及び (ホ) 少くとも水酸化ナトリウムの３重量％溶液の
    アルカリ度以上のアルカリ度を持つ実質上完全
    に水性の溶液と接触させることにより、組成物
    の曝露された選択された部分をエツチングされ
    たシート又は箔からストリツピングすること を包含する化学的工作方法。
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