NO169923B - Fotopolymeriserbar sammensetning, ark eller rull med en slik sammensetning samt fremgangsmaate for fremmstilling av et trykt kretskort - Google Patents

Fotopolymeriserbar sammensetning, ark eller rull med en slik sammensetning samt fremgangsmaate for fremmstilling av et trykt kretskort Download PDF

Info

Publication number
NO169923B
NO169923B NO842237A NO842237A NO169923B NO 169923 B NO169923 B NO 169923B NO 842237 A NO842237 A NO 842237A NO 842237 A NO842237 A NO 842237A NO 169923 B NO169923 B NO 169923B
Authority
NO
Norway
Prior art keywords
photopolymerizable composition
composition
carbon atoms
acrylate
group
Prior art date
Application number
NO842237A
Other languages
English (en)
Other versions
NO842237L (no
NO169923C (no
Inventor
Melvin A Lipson
Gene A Derrico
Sung Yong Tark
Toshio Yamazaki
Original Assignee
Dynachem Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Family has litigation
First worldwide family litigation filed litigation Critical https://patents.darts-ip.com/?family=23992505&utm_source=google_patent&utm_medium=platform_link&utm_campaign=public_patent_search&patent=NO169923(B) "Global patent litigation dataset” by Darts-ip is licensed under a Creative Commons Attribution 4.0 International License.
Application filed by Dynachem Corp filed Critical Dynachem Corp
Publication of NO842237L publication Critical patent/NO842237L/no
Publication of NO169923B publication Critical patent/NO169923B/no
Publication of NO169923C publication Critical patent/NO169923C/no

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/027Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • G03F7/028Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with photosensitivity-increasing substances, e.g. photoinitiators
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/027Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • G03F7/032Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with binders
    • G03F7/033Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with binders the binders being polymers obtained by reactions only involving carbon-to-carbon unsaturated bonds, e.g. vinyl polymers
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/027Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/027Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • G03F7/032Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with binders
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10STECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S430/00Radiation imagery chemistry: process, composition, or product thereof
    • Y10S430/1053Imaging affecting physical property or radiation sensitive material, or producing nonplanar or printing surface - process, composition, or product: radiation sensitive composition or product or process of making binder containing
    • Y10S430/1055Radiation sensitive composition or product or process of making
    • Y10S430/106Binder containing
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10STECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S430/00Radiation imagery chemistry: process, composition, or product thereof
    • Y10S430/1053Imaging affecting physical property or radiation sensitive material, or producing nonplanar or printing surface - process, composition, or product: radiation sensitive composition or product or process of making binder containing
    • Y10S430/1055Radiation sensitive composition or product or process of making
    • Y10S430/106Binder containing
    • Y10S430/111Polymer of unsaturated acid or ester
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10STECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S430/00Radiation imagery chemistry: process, composition, or product thereof
    • Y10S430/1053Imaging affecting physical property or radiation sensitive material, or producing nonplanar or printing surface - process, composition, or product: radiation sensitive composition or product or process of making binder containing
    • Y10S430/1055Radiation sensitive composition or product or process of making
    • Y10S430/114Initiator containing
    • Y10S430/118Initiator containing with inhibitor or stabilizer

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Polymerisation Methods In General (AREA)
  • Manufacturing Of Printed Circuit Boards (AREA)
  • Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
  • Non-Metallic Protective Coatings For Printed Circuits (AREA)
  • Materials For Photolithography (AREA)

Description

Foreliggende oppfinnelse angår en fleksibel, hurtigfremkallende fotopolymeriserbar sammensetning samt et ark eller en rull fremstilt fra nevnte sammensetning. Foreliggende oppfinnelse angår også en fremgangsmåte for fremstilling av et trykt kretskort hvor man bruker nevnte fleksible, hurtigfremkallende fotopolymeriserbare sammensetning.
Fotopolymeriserbare sammensetninger har lenge vært kjent i industrien. Under deres utvikling har man brukt forskjellige kjemiske forbindelser som den fotopolymeriserbare komponenten i sammensetningen. En utvikling er bl.a. beskrevet i US patent nr. 2 760 863. Dette patentet angår en fotopolymeriserbar sammensetning som kan brukes for fremstilling av trykkeplater, og som består av en etylenisk umettet, fotopolymeriserbar monomer, en fotoinitiator, en polymeriseringsinhibitor og et polymert bindemiddel. Sammensetningen ble belagt på et substrat, tørket, eksponert overfor aktinisk bestråling gjennom en stensil eller en negativ, og deretter fremkalt for å fjerne de ueksponerte deler av sammensetningen, hvorved man fikk fremstilt trykkeplaten.
US patent nr. 3 469 982 markerer en fordel fremfor den fotopolymeriserbare sammensetning som er beskrevet i US patent nr. 2 760 863. Istedenfor å bli pålagt som en væske, så angår dette senere patentet en fotopolymeriserbar sammensetning som pålegges et fleksibelt filmunderlag, og som deretter belegges med en fjernbar dekkende film. Under bruk blir denne dekkende filmen tatt av, den fotopolymeriserbare sammensetning blir så laminert på et substrat, utsatt for aktinisk bestråling gjennom et negativ, hvoretter filmunderlaget blir fjernet og sammensetningen fremkalt i et organisk oppløsningsmiddel. For fremstilling av en trykt kretskort, ble den fremkalte sammensetningen på substratet så underkastet en etsing og så løsnet i et annet organisk oppløsningsmiddel.
I US patent nr. 3 036 914 blir det beskrevet en fotopolymeriserbar sammensetning med bedret fleksibilitet som kan brukes for fremstilling av trykkeplater. Nevnte sammensetning består av følgende: 1) en addisjonspolymeriserbar, etylenisk umettet forbindelse, f.eks. diakrylater eller akryl- eller metakryl-syreestere av polyalkylenglykoler; 2) en fotoinitiator; 3) et høymolekylært polyetylenoksyd; og 4) i det minste en i alt vesentlig lineær celluloseester.
Forbedret fleksibilitet er også en hensikt ved den sammensetning som er beskrevet i USSR patent nr. 190 211. Nevnte hensikt blir ifølge nevnte patent oppnådd ved hjelp av en fotopolymeriserbar sammensetning som består av en fotopolymeriserbar oligomer, en fotoinitiator og en blanding av samme polymerer, hvorav den første er en samme polymer av metakrylsyre og metylmetakrylat og hvor den andre er en samme polymer av metakrylsyre og akrylsyre med butylakrylat, alkylmetakrylat eller alkylakrylater med fra 5 til 8 karbonatomer i alkylgruppen.
I US patent nr. 3 887 450 og US patent nr. 3 953 309 er det angitt en betydelig fordel fremfor tidligere kjente fremgangsmåter. Disse patenter beskriver en fotopolymeriserbar sammensetning som kan opparbeides i form av lagerbare ark eller ruller på et filmunderlag. En slik sammensetning kan brukes for å fremstille trykte kretskort og kan fremkalles og opparbeides ved hjelp av vandige oppløsninger som inneholder et alkalisk middel. Den fotopolymeriserbare sammensetningen består av en fotopolymeriserbar etylenisk umettet monomer, en fotoinitiator, en polymeriseringsinhibitor og et bindemiddel som er en polymer av en eller flere definerte styren eller vinylmonomerer med en eller flere av en definert a-, e-etylenisk umettet karboksylsyre- eller —anhydridholdlg monomer. Forholdet mellom monomerene velges slik at man får de forønskede egenskaper.
En ytterligere fordel fremfor tidligere kjente fremgangsmåter og sammensetninger er beskrevet i US patent nr. 4 239 849. Dette patentet beskriver en fleksibel fotopolymeriserbar sammensetning som er resistent mot kaldstrømming og som kan opparbeides i form av en tørr film på et filmunderlag, og som etter eksponering over for aktinisk bestråling kan fremkalles i en fortynnet vandig alkalisk oppløsning. Sammensetningen er sammensatt av en eller flere addisjonspolymeriserbare, etylenisk umettede forbindelser, en fotoinitiator og et på forhånd dannet makromolekylært polymert bindemiddel. Sistnevnte er en kopolymer av en styrentypemonomer, en akrylattypemonomer og en umettet karboksylholdig monomer.
En hensikt ved foreliggende oppfinnelse er å tilveiebringe en fotopolymeriserbar sammensetning som har høy grad av fleksibilitet.
En annen hensikt ved foreliggende oppfinnelse er å tilveiebringe en fotopolymeriserbar sammensetning som fremkaller raskere og klarere, slik at den eksponerte overflaten på et substrat kan bearbeides mer effektivt.
Videre er det en hensikt ved foreliggende oppfinnelse å tilveiebringe en fotopolymeriserbar sammensetning, som når den fotopolymeriseres, kan fjernes fra et substrat raskere, hvorved man letter innvinningen av substratet.
En ytterligere hensikt ved foreliggende oppfinnelse er å tilveiebringe et meget fleksibelt ark eller en rull av en fotopolymeriserbar sammensetning på et filmunderlag.
Videre er det hensikt ved foreliggende oppfinnelse å tilveiebringe en fremgangsmåte for fremstilling av et trykt kretskort ved hjelp av nevnte forbedrede fotopolymeriserbare sammensetning.
Ifølge foreliggende oppfinnelse er det således tilveiebragt en fotopolymeriserbar sammensetning innbefattende A. 0,001 - 20 vektdeler av et fotoinitiert, fri-radikalutviklende addisjonspolymerisasjonsinitierende system, og B. 0,001 - 5 vektdeler av en varme-addisjonspolymeriseringsinhibitor,
kjennetegnet ved at den i tillegg omfatter:
C. 10 - 60 vektdeler av et addisjonspolymeriserbart materiale bestående av
i) 5-50 vektdeler av et akrylat med formelen:
hvor m er fra 1 til 4, n er fra 1 til 12, R^ er valgt fra gruppen bestående av H, CBjj og blandinger av disse, og R2 er valgt fra gruppen bestående av fenyl og fenyl substituert med halogen, alkyl eller alkoksy hver inneholdende 1-15 karbonatomer, og blandinger derav, og ii) 5-50 vektdeler av en eller flere ikke-gassformige forbindelser inneholdende minst to terminale etyleniske grupper og med et kokepunkt over 100°C, og D. 40 - 90 vektdeler av et fordannet makromolekylært polymert bindemiddel som er en polymer av: i) et første monomert materiale som inneholder en eller flere ikke-sure forbindelser valgt fra: hvor R er hydrogen, en alkylgruppe med fra 1 til 6 karbonatomer, eller en halogengruppe, og når X er hydrogen, så er Y OOCR±, 0Rlt OCRlt COORi, CN, CH=CH2, eller Cl, og når X er metyl, så er Y COO' R1, CN, CH=CH2, eller
og når X er klor, så er Y Cl; og hvor R^ er en alkylgruppe med fra 1 til 12 karbonatomer, en fenylgruppe eller en benzylgruppe, og R3 og R4 er hydrogen, en alkylgruppe med fra 1 til 12 karbonatomer eller en benzylgruppe; og
ii) et annet monomert materiale som i alt vesentlig består av en eller flere a-, P-etylenisk umettede karboksylsyre- eller anhydrid-holdige monomerer med fra 3 til 15 karbonatomer;
og hvor forholdet mellom det første monomere materialet til nevnte andre monomere materiale er tilstrekkelig til at i alt vesentlig alt bindemiddel er oppløselig i en i alt vesentlig fullstendig vandig oppløsning inneholdende 2 vekt-5É natriumkarbonat.
Videre er det ifølge oppfinnelsen tilveiebragt et ark eller en rull med en fotopolymeriserbar sammensetning på et fleksibelt filmunderlag, kjennetegnet ved at den fotopolymeriserbare sammensetningen omfatter bestanddelene A-D som definert ovenfor og i de deri angitte respektive mengder, hvor forholdet mellom første monomere materiale og nevnte andre monomere materiale er tilstrekkelig til at i alt vesentlig alt bindemiddel blir oppløselig i en i alt vesentlig fullstendig vandig oppløsning inneholdende 2 vekt-# natriumkarbonat.
Oppfinnelsen tilveiebringer også en fremgangsmåte for fremstilling av et trykt kretskort, og denne fremgangsmåten er kjennetegnet ved at man: A. laminerer en fotopolymeriserbar sammensetning på en trykt kretskortforløper, hvor den fotopolymeriserbare sammensetning omfatter bestanddelene A-D som definert ovenfor og i de deri angitte respektive mengder, hvor forholdet mellom det første monomere materialet og det andre monomere materialet er tilstrekkelig til å gjøre i alt vesentlig alt bindemiddel oppløselig i en i alt vesentlig fullstendig vandig oppløsning inneholdende 2 vekt-# natriumkarbonat; B. eksponerer utvalgte deler av den fotopolymeriserbare sammensetningen for aktinisk stråling i tilstrekkelig grad til å oppnå fotopolymerisering av de nevnte eksponerte deler; C. fjerner de ueksponerte deler av sammensetningen for derved å blottlegge deler av kretskortforløperen ved kontakt med en i alt vesentlig fullstendig vandig oppløsning med en alkalinitet som i det minste er så stor som en 2 vekt-# oppløsning av natriumkarbonat; D. modifiserer de blottlagte deler av kretskortforløperen for derved å danne et selektivt elektrisk ledende mønster;
og
E. fjerner de eksponerte utvalgte deler av sammensetningen fra kretskortet ved kontakt med en i alt vesentlig fullstendig vandig oppløsning med en alkalinitet som i det minste er så stor som en 3 vekt-# oppløsning av natriumhydroksyd.
Som nevnt ovenfor angår foreliggende oppfinnelse en forbedret fotopolymeriserbar sammensetning. Nevnte sammensetning består av et addisjonspolymeriserbart materiale, et fotoinitierende fri-radikalutviklende addisjonspolymeriseringsinitierende system, en varmeaddisjonspolymeriseringsinhibitor og et fordannet makromolekylært polymert bindemiddel.
Basert på basis av 100 vektdeler av den tørkede fotopolymeriserbare sammensetningen, så vil det addisjonspolymeriserbare materiale være til stede i mengder varierende fra 10 til 60 vektdeler og bestå av fra 5 til 50 vektdeler, fortrinnsvis fra 8 til 25 vektdeler, av et akrylat, og fra 5 til 50 deler, fortrinnsvis fra 8 til 25 vektdeler, av en eller flere ikke-gassformige forbindelser som inneholder minst to terminale etyleniske grupper og med et kokepunkt over 100°C.
Akrylatet har følgende generelle formel:
hvor m er fra 1 til 4, fortrinnsvis 2 eller 3, og mest foretrukket 2, n er fra 1 til 12, fortrinnsvis 2 til 8 og mest foretrukket 2 eller 3, R^ er valgt fra gruppen bestående av H, CH3 og blandinger av disse, og er fortrinnsvis H, mens R2 er valgt fra gruppen bestående av usubstituert fenyl, substituert fenyl, usubstituert naftenyl, substituert naftenyl, forgrenede eller uforgrenede, substituerte eller usubstituerte alkylgrupper med fra 1 til 12, fortrinnsvis 4 til 8 karbonatomer, substituerte eller usubstituerte cykloalkylgrupper med 5 eller 6 karbonatomer i ringen, eller blandinger av slike. R2 er fortrinnsvis usubstituert fenyl, substituert fenyl og blandinger av slike grupper, og er mest foretrukket usubstituert fenyl. Substituentene på fenyl og naf tenylgruppen velges slik at de ikke i vesentlig grad skader egenskapene I den fotopolymeriserbare sammensetningen, og kan være halogenet, da spesielt klor, brom og jod, alkyl og alkoksy, og hvor hver gruppe kan ha fra 1 til 15,
fortrinnsvis 1 til 6 karbonatomer, foruten blandinger av slike grupper.
Akrylater som kan brukes i foreliggende oppfinnelse har lav flyktighet, noe som indikeres ved et kokepunkt som ligger over 175 *C, fortrinnsvis mer enn 200 °C , og som har en molekylvekt på mer enn 240, fortrinnsvis høyere enn ca. 280. Videre er akrylatene valgt slik at de resulterer i en nedbrytning av den fotopolymeriserte sammensetningen når denne underkastes etsing eller plettering, og vil videre ikke frembringe en nedbrytning av et vandig fremkallende bad eller rensebad. ;Eksempler på akrylater er fenoksypolymetoksymetylakrylater og -metakrylater, fenoksypolyetoksyetylakrylater og -metakrylater, fenoksypolypropoksypropylakrylater og —metakrylater, fenoksypolybutoksybutylakrylater og —metakrylater, klor-fenoksypolymetoksymetylakrylater og —metakrylater, klor-fenoksypolyetoksyetylakrylater og —metakrylater, klorfenoksy-polypropoksypropylakrylater og —metakrylater, klorfenoksy-polybutoksybutylakrylater og -metakrylater, naftoksypoly-metoksymetylakrylater og -metakrylater, naftoksypolyetoksy-etylakrylater og -metakrylater, naftoksypolypropoksypropyl-akrylater og -metakrylater, naftoksypolybutoksybutylakrylater og —metakrylater, t-butoksypolymetoksymetylakrylater og —metakrylater, t-butoksypolyetoksyetylakrylater og —metakry-later, t-butoksypolypropoksypropylakrylater og —metakrylater, t-butoksypolybutoksybutylakrylater og —metakrylater, cykloheksoksypolymetoksymetylakrylater og -metakrylater, cykloheksoksypolyetoksyetylakrylater og —metakrylater, cykloheksoksypolypropoksypropylakrylater og —metakrylater og cykloheksoksypolybutoksybutylakrylater og -metakrylater. De foretrukne akrylater er substituerte og usubstituerte fenoksypolyetoksyetylakrylater og substituerte og usubstituerte fenoksypolypropoksypropylakrylater, og hvor de mest foretrukne akrylater er fenoksy (di, tri, tetra eller penta)etoksyetylakrylat. Slike akrylater er tilgjengelige kommersielt eller kan syntetiseres ved en fremgangsmåte hvor man reagerer formaldehyd eller et passende alkylenoksyd (f.eks. etylenoksyd) med alkoholformen av R2, hvoretter man forestrer det resulterende produktet med akrylsyre eller metakrylsyre i nærvær av en egnet sur katalysator. ;Nærværet av akrylatmonomeren i den fotopolymeriserbare sammensetningen gir denne betydelige fordeler. Spesielt vil akrylatet bedre fleksibiliteten og festeevnen på den fotopolymeriserbare sammensetningen, noe som gir bedrede behandlingsegenskaper for ark eller ruller fremstilt av sammensetningen foruten at det letter lamineringen til et substrat. Videre vil akrylatet gjøre det mulig for den fotopolymeriserte sammensetningen å beholde en høy grad av fleksibilitet. Ved fremkalling vil nærværet av akrylatet i de ueksponerte deler av sammensetningen lette en effektiv (dvs. en rask og fullstendig) fjerning fra substratet. Ikke desto mindre vil akrylatet i den fotopolymeriserte delen av sammensetningen bedre effektiviteten med den fjernende operasjonen. ;Den andre komponenten i det addisjonspolymeriserbare materialet er i stand til å danne en høypolymer ved hjelp av en fri-radikalfotoinitiert, kjedeutviklende addisjons-polymerisering. Slike forbindelser er beskrevet i US patentene nr. 2 760 863, 3 887 450 og 3 953 309. ;Forbindelsene er fortrinnsvis ikke-gassformige ved 20°C og atmosfærisk trykk, og har fra 2 til 4 eller flere terminale etylen!ske grupper og utøver en myknende virkning på det polymere bindemidlet. Egnede forbindelser som kan brukes alene eller i kombinasjon, innbefatter et alkylen eller et polyalkylenglykoldiakrylat fremstilt fra alkylenglykoler med fra 2 til 15 karbonatomer, eller polyalkyleneterglykoler med 1 til 10 eterbindinger. ;På grunn av sin raskt utviklende uoppløselignet ved eksponering, noe som antagelig skyldes en relativt rask utvikling av et nettverk av en polymer st ruk tur, så vil en fremragende klasse lavmolekylære addisjonspolymeriserbare forbindelser være slike som har en rekke addisjonspolymeriserbare etyleniske bindinger, fortrinnsvis når de er til stede som terminale bindinger, og spesielt de forbindelser hvor minst en og fortrinnsvis de fleste av slike bindinger er konjugert med et dobbeltbundet karbonatom, og her inngår karbon som er dobbeltbundet til karbon og til slike heteroatomer som nitrogen, oksygen og svovel. Spesielt fordelaktig er slike forbindelser hvor de etylenisk umettede grupper, og da spesielt vinylidengrupper, er konjugert med ester eller amidstrukturer. De følgende spesifikke forbindelser er illustrerende for denne gruppen: umettede estere av polyoler, da spesielt estere av metylenkarboksylsyre, f.eks. etylen-diakrylat, dietylenglykoldiakrylat, glyceroldiakrylat, glyceroltriakrylat, etylendimetakrylat, 1,3-propylen-dimetakrylat eller -diakrylat, 1,2,4-butantrioltrimetakrylat eller —triakrylat, 1,4-benzendioldimetakrylat eller —diakrylat, pentaerytritolmetakrylater eller -akrylater, 1,5-pentandioldimetakrylat eller —diakrylat, bis-akrylatene og -metakrylåtene av polyetylen og polypropylenglykoler med molekylvekter fra 200-500, f.eks. tripropylenglykoldiakrylat, o.l.; umettede amider, da spesielt de av metylenkarboksyl-syrer, spesielt de av a-, o-diaminer og oksygenavbrutte w-diaminer, såsom metylenbisakrylamid, metylenbismetakrylamid, 1,6-heksametylenbisakrylamid, dietylentriamintrismetakryl-amid, bis(metakrylamidpropoksy)etan, p<->metakrylamidetyl-metakrylat, N-[(p-hydroksyetyloksy )etyl]a.krylamid, vinyl-estere slik som divinylsuccinat, divinyladipat, divinyl-ftalat, divinyltereftalat, divinylbenzen-1,3-disulfonat og divinylbutan-1,4-disulfonat og umettede aldehyder, såsom sorbaldehyd(heksadienal). ;Til en viss grad kan den poly-etylenisk umettede forbindelsen erstattes med en monofunksjonell forbindelse som er kjemisk forenelig med de typer forbindelser som er angitt ovenfor. Mengden av en slik monofunksjonell forbindelse må imidlertid ikke være slik at den i vesentlig grad skader egenskapene (f.eks. lukt, oppløselighet, toksisitet, etc.) på den fotopolymeriserbare eller fotopolymeriserte sammensetningen. Det er selvsagt underforstått at den mulige mengden av en monofunksjonell forbindelse vil variere med den spesielle forbindelse man anvender samt andre komponenter i sammensetningen . ;Det fotoinitierte, fri-radikalutviklende addisjonspolymeri-seringsinitieringssystemet er til stede i en mengde varierende fra 0,001 til 20 vektdeler, og kan være en eller flere forbindelser som lar seg aktivere ved aktinisk lys og som fortrinnsvis er varmeinaktive ved temperatur under 185°C. ;Slike forbindelser innbefatter substituerte eller usubstituerte polynukleære kinoner, såsom 9,10-antrakinon; 1-klorantrakinon; 2-klorantrakinon; 2-metylantrakinon; 2-etyl-antrakinon, 1,4-naftokinon; 9,10-fenantrakinon; 1,2-benzantrakinon; 2,3-benzantrakinon; 2-metyl-l,4-naftokinon; 2,3—diklornaftokinon; 1,4-dimetylantrakinon; 2,3-dimetylantrakinon; 2-fenylantrakinon; 2,3-difenylantrakinon; natriumsalt av antrakinon-a-sulfonsyre; 3-klor-2-metylantrakinon; retenkinon; 7,8,9,10-tetrahydronaftacenkinon; 1,2,3,4-tetrahydrobenz(a)antracen-7,12-dion. ;Andre egnede fotoinitiatorer er også xantoner, tioxantoner, klortioxantoner, alkylerte tioxantoner, alkyl-p-dimetylamino-benzoater og andre p-dialkylaminobenzoatestere og fenyl-dialkoksyacetofenoner. ;De følgende fotoinitiatorer, som tidligere er beskrevet i nevnte US patent nr. 2 760 863, og hvorav enkelte er varmeaktive ved temperaturer så lave som 85° C, kan også brukes; visinal ketaldonylforbindelser, såsom diacetyl og benzil; a-ketaldonylalkoholer, såsom benzoin og pivaloin; acyloinetere, f.eks. benzoinmetyl og etyletere; a-hydro-karbonsubstituerte aromatiske acyloiner; cx-metylbenzoin; a—allylbenzoin og a—fenylbenzoin. ;Jernpersulfat kan også brukes som en fri-radikalutviklende initiator som lar seg aktivere ved aktinisk bestråling. Man kan også bruke visse aromatiske ketoner, f.eks. benzofenon og 4,4'-bis-dialkylaminobenzofenoner. ;Nevnte varmeaddisjonspolymeriseringsinhibitorer er til stede i mengder fra 0,001 til 5 vektdeler. Inhibitorer som kan brukes i foreliggende oppfinnelse innbefatter p-metoksyfenol, hydrokinon og alkyl- og arylsubstituerte fenoler, hydro-kinoner og kinoner, tert-butylkatekol, pyrogallol, kobber-resinat, naftylaminer, p<->naftol, kobberklorid, 2,6-di-tert-butyl-p-kresol, 2,2-metylen-bis(4-etyl-6-t-butylfenyl)-fenotiazin, pyridin, nitrobenzen, dinitrobenzen, p-tolukinon, kloranil, arylfosfitter og arylalkylfosfitter. ;Det polymere bindemidlet er til stede i en mengde som varierer fra 40 til 90 vektdeler, og er en kopolymer av en eller flere ikke-sure forbindelser med en eller flere sure forbindelser. De Ikke-sure forbindelsene har følgende generelle formel ;;hvor R er hydrogen eller en alkylgruppe med fra 1 til 6 karbonatomer, eller en halogengruppe. Benzenringen kan være ringsubstituert med funksjonelle grupper, såsom nitro, alkoksy, acyl, karboksyl, sulfo, hydroksyl eller halogen, og formelen må forstås slik at den innbefatter slike substi-tuenter hvis intet annet er angitt. Det kan være fra 1 til 5 benzensubstituenter til stede, og substituentene er for- ;trinnsvis en enkel alkylgruppe såsom en metyl- eller t-butylgruppe. De mest foretrukne av slike forbindelser er styren, a-metylstyren, para-metylstyren og para-t-butyl-styren. ;Nærværet av nevnte styrentypemonomer i det polymere bindemidlet gjør at sammensetningen får bedret motstand overfor fremkallende, etsende eller pletterende oppløsninger. Avhengig av de fremkallende og overflatemodifiserende betingelser man velger, vil derfor nærværet og mengden av styrentypebestanddelen kunne velges slik at man får akseptabel fremkalling og akseptabel motstand mot de overflate-modif iserende betingelser. ;Med hensyn til nevnte andre generelle formler, når X er hydrogen, så kan Y være OOCR^, 01^, 0C' R1, COORi, CN, CH=CH2, ;eller Cl, og når X er metyl, så kan Y være COO^, CN, CH=CH2, eller ;og når X er klor, så er Y Cl, og hvor R]^ er en alkylgruppe med fra 1 til 12 karbonatomer, en fenyl- eller benzylgruppe og R3 og R4 er hydrogen, en alkylgruppe med fra 1 til 12 karbonatomer eller en benzylgruppe. ;Eksempler på slike vinyltypemonomerer er vinylacetat, vinylbutyrat, vinylbenzoat, vinylklorid, vinylidenklorid, metylmetakrylat og metylakrylat, akrylonitril og metakrylo-nitril, metakrylamid og alkylsubstituerte akrylamider, vinylmetylketon, vinylpropylketon, vinylmetyleter, vinyletyl-eter og vinylheksyleter. ;Vinyltypemonomeren kan også være en akrylattypemonomer som innbefatter alkyl- og hydroksyalkylakrylater og —metakrylater hvor alkylgruppen inneholder fra 1 til 12, fortrinnsvis fra 1 til 6 karbonatomer. Eksempler på slike forbindelser innbefatter metylmetakrylat, etylakrylat, butylakrylat, hydroksy-propylmetakrylat, hydroksyetylmetakrylat og hydroksyetyl-akrylat. Man kan også med fordel bruke blandinger av to eller flere av slike forbindelser. ;Nærværet av akrylattypemonomeren i det polymere bindemiddel gjør at den fotopolymeriserbare sammensetningen får bedret strømningsegenskaper i kald tilstand foruten bedret fleksibilitet. Disse egenskaper gjør at den tørre filmen kan lagres som ark eller ruller i lange tidsrom uten at man trenger å frykte en nedbrytning som skyldes strømning i kald tilstand eller tap av fleksibilitet. ;Den sure monomeren kan være en eller flere a-, P-etylenisk umettede karboksylholdige monomerer med fra 3 til 15 karbonatomer, fortrinnsvis fra 3 til 6 karbonatomer. De mest foretrukne forbindelser er akrylsyre og metakrylsyre. Andre syrer som kan brukes er kanelsyre, krotonsyre, sorbinsyre, itakonsyre, propiolsyre, maleinsyre og fumarsyre samt de tilsvarende halvestere, eller hvor mulig, de tilsvarende anhydrid. ;Forholdet mellom styrentype- eller vinyltypemonomer til den sure komonomeren velges slik at kopolymeren er oppløselig i det vandig alkaliske medium som velges for fremkalling. Hvis mengden av styrentype- eller vinyltypemonomer er for høyt, så vil den ueksponerte delen av sammensetningen ikke være tilstrekkelig oppløselig, og på den annen side, hvis mengden av styrentype- eller vinyltypemonomer er for liten, så vil de eksponerte områder av sammensetningen være klebrig, oppsvel-let eller oppløses i den vandige alkaliske oppløsningen. Som et hensiktsmessig kriterium kan det angis at den bindende kopolymeren bør være slik at en 40$ oppløsning i ketoner eller alkoholer vil ha en viskositet fra 100 til 50 000 centipoise. Som et ytterligere hensiktsmessig kriterium kan det angis at i det vesentlige all kopolymer vil være oppløst i en fortynnet, en i alt vesentlig fullstendig vandig oppløsning som inneholder 2 vekt-56 natriumkarbonat ved 25"C i løpet av en time. I dette kriterium vil begrepet i alt vesentlig være brukt slik at det indikerer et akseptabelt nivå med hensyn til fremkalling av den fotopolymeriserte sammensetningen, og vil reflektere det faktum at skjønt noe organisk materiale kan være til' stede i oppløsningen, enten dette nå er skjedd med hensikt, ved en ulykke eller ved at man har brukt den fremkallende oppløsningen om igjen, så vil nærværet av et slikt organisk materiale Ikke være nødvendig for å få en akseptabel fremkalling. ;Representative komonomervektforhold er fra 70:30 til 85:15 for styren-akrylsyre eller -metakrylsyre; fra 70:30 til 85:15 for metylmetakrylat eller kombinasjonen av alkylakrylater eller alkylmetakrylater-akrylsyre og/eller -metakrylsyre; fra 35:65 til 70:30 for styren-monobutylmaleat og fra 70:30 til 95:5 for vinylacetat-krotonsyre. Polymeriseringsgraden i blndemiddelkopolymeren er slik at bindemidlet danner en ikke-klebrig kontinuerlig film når den pålegges fra et passende oppløsningsmiddel og etter passende tørking. Generelt kan det angis at molekylvekten varierer fra 1 000 til 500 000. Variasjonsforholdet for kopolymerforholdene og den grad av polymerisering som er nødvendig for et spesielt bindemiddel, kan lett fastslås ved å prøve oppløseligheten i en fortynnet alkalisk oppløsning. På bakgrunn av dette, kan man bruke blandinger av monomere forbindelser så vel som blandinger av kopolymerer for fremstilling av et bindemiddel med de ønskede egenskaper. ;Hvis man ønsker forbedret motstand mot fremkalling og overflatemodifIserende oppløsninger så vel som forbedret fleksibilitet og bedret motstand mot strømning i kald tilstand, så kan det polymere blndemidlet fremstilles slik det er beskrevet I US patent nr. 4 239 849. Som forklart der, vil det polymere blndemidlet være en kopolymer av: 1) styrentypemonomeren; 2) akrylattypemonomeren; og 3) den sure monomeren innenfor de definisjoner som tidligere er angitt. ;Mengden av de komponenter som danner det terpolymere blndemidlet velges slik at man i det minste oppfyller kriterier som er nevnt ovenfor. Som en retningslinje, kan man angi de følgende vektforhold ved f reinstill ingen av det polymere blndemidlet. ;Hvis det er ønskelig, kan den fotopolymeriserbare sammensetningen ifølge foreliggende oppfinnelse også inneholde mykningsmidler, midler for å fremme tilfesting, fargestoffer og pigmenter. Egnede fargestoffer vil være slike som er forenelige med den fotofølsomme sammensetningen og som ikke i vesentlig grad påvirker sammensetningens fotofølsomhet. De følgende spesifikke forbindelser er illustrerende: Fuchsine (CI. 42510); Auramine Base (CI. 4100B); Calcocid Green S (CI. 44090); Para Magenta (CI. 42500); Tryparosan (CI. 42505); New Magenta (CI. 42520); Acid Violet RRH (CI. 42425); Red Violet 5RS (CI. 42690); Nlle Blue 2B (CI. 51185); New Methylene Blue GG (CI. 51195); CI. Basic Blue 28 (CI. 42585); Iodone Green (CI. 42556); NIght Green B (CI. 42115); CI. Direct Yellow 9 (CI. 19540); CI. Acid Yellow 17 (CI. 18965); CI. Acid Yellow 20 (CI. 18900); Tartrazine (CI. 19140); Supramine Yellow G (CI. 19300); Buffalo Black 10B (CI. 27790); Naphthalene Black 12R (CI. 20350); Fast Black L (CI. 51215); Ethyl Violet (CI. 42600); Pontacyl Wool Blue BL (CI. 50315); Pontacyl Wool Blue GL (CI. 42320). (Tallene er tatt fra den andre utgaven av fargeindeksen). ;Den fotopolymeriserbare sammensetningen ifølge foreliggende oppfinnelse har en bemerkelsesverdig anvendbarhet. Mens sammensetningen kan brukes for å fremstille trykkeplater, så har den også slike mer krevende egenskaper som nødvendig for å kunne brukes ved fremstillingen av trykte kretskort. Når f.eks. en trykkeplatesammensetning er pålagt substratet, så kan den eksponeres overfor aktinisk bestråling gjennom en stensil og deretter kontaktes en fremkallende oppløsning for å fjerne de deler av sammensetningen som har vørt skjermet mot strålingen. De eksponerte deler av sammensetningen kan så pålegges trykkfarge for fremstilling av trykte bilder eller tekster. ;I motsetning til dette må en fotopolymeriserbar sammensetning som skal brukes som en fotoelektrisk motstand selvsagt være i stand til å bli eksponert og fremkalt, men de eksponerte deler av sammensetningen må ikke kunne påvirkes av etsende oppløsninger, såsom en 45" Baume-oppløsning av treverdig jernklorid og/eller elektropletterende oppløsninger, såsom surt kobbersulfat. Til tross for sin motstand mot de aggressive oppløsninger som brukes under etsing eller plettering, så må den fotopolymeriserte sammensetningen være i stand til å kunne fjernes fra substratet slik at fremstillingen av det trykte kretskortet kan gjøres ferdig. ;Den fotopolymeriserbare sammensetningen ifølge foreliggende oppfinnelse oppfyller alle de angitte kriterier, og kan følgelig brukes som en fotoelektrisk motstand ved fremstillingen av trykte kretser. I så henseende kan den fotopolymeriserbare sammensetningen pålegges et fleksibelt filmunderlag og opparbeides i form av ark eller ruller som kan lagres 1 lengre tid før de skal brukes. I denne formen vil den fotopolymeriserbare sammensetningen ifølge foreliggende oppfinnelse være karakterisert ved en jevn tykkelse i området fra 0,00125 til 0,0125 cm og vil være fri for defekter såsom huller, hulrom, bobler, mønstre o.l. ;Det fleksible filmunderlaget kan være fremstilt av ethvert materiale som tilfredsstillende understøtter den fotopolymeriserbare sammensetning, som ikke reagerer med denne og som lett kan skilles fra sammensetningen, f.eks. ved avrivning, enten før eller etter eksponering overfor aktinisk bestråling. Materialer som tilfredsstiller disse kriterier er høypolymerer såsom polyamider, polyolefiner, polyestere, vinylpolymerer og celluloseestere med en tykkelse i området fra 0,00125 til 0,005 cm. Et foretrukket filmunderlag er en film av polyetylentereftalat med en tykkelse på ca. 0,0025 cm. ;Når den er 1 form av et ark eller en rull, kan den fotopolymeriserbare sammensetningen være beskyttet av et dekkark på den motsatte siden av filmunderlaget hvorved man får dannet en sammensatt struktur hvor den fotopolymeriserbare sammensetningen befinner seg i midten. Dekkarket kan være av samme eller av et annet materiale enn filmunderlaget og kan ha en tykkelse i samme variasjonsområde som angitt for ovennevnte filmunderlag. Et spesielt godt egnet materiale er en film av polyetylen med en tykkelse på ca. 0,0025 cm. ;Under bruk vil i det minste en del av arket eller rullen bli laminert til et substrat. Dette substratet kan være plater, ark eller folier av plast, stål, aluminium, kobber, sink, magnesium, etc, eller kan være et komposittmateriale inneholdende nevnte materialer. Substratet er fortrinnsvis et kobberkledelaminat, såsom kobberklede, epoksy-fiberglass-kort, som begge er vanlig brukt for fremstilling av trykte kretskort. Laminering kan oppnås ved at man fjerner dekkarket hvis dette er til stede, og så presser den fotopolymeriserbare sammensetningen direkte på en eller begge sider (hvis man ønsker en tosidig trykt krets) på substratet ved en forhøyet temperatur i området fra 65 til 150° C. En måte man kan gjøre lamineringen på er å føre substratet i kontakt med sammensetningen mellom oppvarmede gummibelagte valser. ;Etter laminering kan filmunderlaget fjernes, eller mer foretrukket, hvis filmunderlaget muliggjør tilstrekkelig passasje av den aktiniske bestrålingen som anvendes, så kan filmunderlaget forbli på laminatet under eksponeringen. For å oppnå det ønskede mønsteret, så kan en prosesstransparent, f.eks. en prosessnegativ eller positiv, stensil, maske, kontinuerlige toner, negativt eller positivt bilde etc, legges over den fotopolymeriserbare sammensetningen i laminatet. Hensikten med prosesstransparenten er å hindre en eksponering overfor aktinisk bestråling av de deler av sammensetningen som siden skal fjernes under fremkallingen, og muliggjøre en aktinisk bestråling av de deler som skal forbli på substratet etter fremkallingen. ;Den aktiniske bestrålingen som brukes velges slik at man oppnår en rimelig fotopolymerisering, dvs. i et tidsrom fra ett sekund til 5 minutter. Ettersom fri-radikalutviklende addisjonspolymerisasjonsinitiatorer som lar seg aktivere ved aktinisk bestråling, vanligvis har sin maksimale følsomhet i det ultrafiolette området, så bør strålingskilden kunne tilveiebringe en rimelig mengde av denne type bestråling. Både punkt og breddebestrålingskilde er effektive. Slike kilder Innbefatter karbonbuer, kvikksølvdamplamper, fluore-scerende lamper med ultrafiolette strålingsemitterende fosfor, argonglødelamper, elektroniske blitslamper og fotografiske belysningslamper. Av disse er kvikksølvdamplys-buer de mest effektive og egnede, da spesielt såkalt sollamper. I visse tilfeller kan det være fordelaktig å utføre eksponeringen med synlig lys, idet man bruker en fotoinitiator som er følsom i den synlige delen av spekteret, f.eks. man kan anvende 9,10-fenantrakinon. I silke tilfeller bør strålingskiIden selvsagt kunne gi en effektiv dose av synlig bestråling. Mange av de strålingskiIder som er angitt ovenfor, gir den nødvendige mengde av lysenergi. ;Som nevnt tidligere er en av de betydelige fordeler ifølge foreliggende oppfinnelse at sammensetningen forblir fleksibel ved fotopolymeriseringen. Denne fordelen er meget viktig på bakgrunn av mulige anvendelsesområder for sammensetningen og de prosesstrinn man vanligvis bruker. Spesielt i de tilfeller hvor man bruker fleksible substrater, så vil en bøying av de laminerte eksponerte substrater ikke føre til en oppsprekking av den fotopolymeriserbare sammensetningen. Under høyvolumproduksjon vil f.eks. den fotopolymeriserte sammensetningen ifølge foreliggende oppfinnelse kunne motstå den bearbeiding som utføres på kontinuerlig basis, og hvor det eksponerte laminatet rulles over på en oppsamlingstrommel før ytterligere bearbeiding. Selv når man ikke bruker fleksible substrater, så vil den fotopolymeriserte sammensetningens fleksible natur hindre at det danner seg fliser eller oppsprekking av laminatet når dette behandles (f.eks. ved lagring), og vil effektivt beskytte de indre overflater når f.eks. de eksponerte laminater gjennomhulles eller punches på annen måte. ;Den bedrede fleksibiliteten for de fotopolymeriserte sammensetninger ifølge foreliggende oppfinnelse kan vises ved å montere den fotopolymeriserte sammensetningen på et fleksibelt substrat, hvoretter hele sammensetningen eksponeres overfor aktinisk bestråling i en dose som er tilstrekkelig til å fotopolymerisere sammensetningen, hvoretter produktet underkastes en fleksibilitetsprøve. Et hensiktsmessig apparat for gjennomføring av denne er Conical Mandrel, modell MG-1416 som er tilgjengelig fra Gardner Laboratory Inc., Bethseda, Maryland. ;Som beskrevet i the Gardner Laboratory Inc. brosjyre med tittelen "Film Flexibility" publisert i april 1976, så er nevnte Conical Mandrel MG-1416 utformet slik at man kan prøve bøyeligheten for belagte paneler ved at disse bøyes over en kon ved kjent maksimal og minimal diameter, hvorved man samtidig kan bestemme den skade som skyldes strekkingen av belegget over sterkt varierende forhold. Selve doren ("mandrel") er fremstilt av belagt aluminium-bronse og har en kondiameter som øker jevnt fra 0,325 til 4,25 cm. Under bruk vil prøvepanelet (opp til 0,0793 cm tykk) bli godt festet ved hjelp av en bøyle og så bøyes omkring konen ved hjelp av en manuelt operert arm som er opphengt i endene og som ligger langs konens akse. ;Ved å bruke den koniske doren viste foreliggende fotopolymeriserbare sammensetning overlegen bøyelighet sammenlignet med tilsvarende fotopolymeriserte sammensetninger, men uten det angitte akrylat. Dette fremgikk ved at den fotopolymeriserte sammensetningen ifølge foreliggende oppfinnelse kunne bøyes omkring doren uten oppsprekking og/eller ved at oppsprekkingen var langt mindre enn sammenlignet med en tilsvarende fotopolymerisert sammensetning som ikke Inneholdt det definerte akrylat. ;Etter eksponerlngstrlnnet blir filmunderlaget skilt fra sammensetningen, hvoretter det resulterende eksponerte laminat blir underkastet en fremkalling. Denne utføres i en fortynnet i alt vesentlig vandig alkalisk oppløsning, hvorved de utskyggede deler av sammensetningen blir fjernet, mens de eksponerte deler i alt vesentlig forblir upåvirket. Sammensetningen ifølge foreliggende oppfinnelse kan fremkalles i en 1 vekt-£ oppløsning av natriumkarbonat. Man kan selvsagt bruke en like sterk oppløsning av et annet alkalisk middel, eller sammensetningen kan være slik at den vil fremkalles selv i mer kraftig alkaliske oppløsninger. ;Egnede alkaliske oppløsninger inneholder fra 0,01 til 10#, fortrinnsvis fra 0,5 til 3 vekt-Sé av alkaliske midler, såsom alkalimetallhydroksyder, f.eks. litium-, natrium- og kalium-hydroksyd; basereagerende alkalimetallsalter av svake syrer, f.eks. litium-, natrium- og kaliumkarbonater og —bikarbo-nater; aminer med base-ioniseringskonstant på mer enn lxlO-<14>, dvs. primære aminer, såsom benzyl-, butyl- og allylaminer; sekundære aminer, f.eks. dimetylamin og benzyl-metylamin; tertiære aminer, f.eks. trimetylamin og trietyl-amin; primære, sekundære og tertiære hydroksyaminer, f.eks. propanol-, dietanol- og trietanolaminer og 2-amino-2-hydroksymetyl-1,3-propandiol; cykliske aminer, f.eks. morfolin, piperidin, piperazin og pyridin; polyaminer såsom hydrazin, etylen og heksametylendiaminer; vannoppløselige basiske salter, som karbonater og bikarbonater av ovennevnte aminer; ammoniumhydroksyd og tetrasubstituert ammonium-hydroksyder, f.eks. tetrametyl-, tetraetyl-, trimetylbenzyl-og trimetylfenylammoniumhydroksyder, sulfoniumhydroksyder, f.eks. trimetyl-, dietylmetyl-, dimetylbenzylsulfonium-hydroksyder samt deres basiske oppløselige salter, f.eks. karbonater, bikarbonater og sulfider; alkalimetallfosfater og pyrofosfater, f.eks. natrium- og kaliumtrifosfater og natrium- og kaliumpyrofosfater; tetrasubstituerte (fortrinnsvis totalt alkyl) fosfonium-, arsonium- og stibonium-hydroksyd, f.eks. tetrametyl-fosfoniumhydroksyd. ;Etter fremkallingen kan substratet gjenvinnes, f.eks. hvis det skal brukes som en trykkplate, eller det kan underkastes etsing eller plettering hvis man skal fremstille et trykt kretskort. Substratet velges selvsagt ut fra det endelige formål. ;Ved fremstillingen av trykte kretskort kan det fremkalte substratet føres gjennom en serie kjemiske bad for å reaktivere det eksponerte metallet (f.eks. kobber). En ytterligere fordel ved foreliggende sammensetning er at de ueksponerte deler av sammensetningen vil fremkalles i meget ren tilstand, hvorved man får lite eller ingen rest på metalloverflaten, noe som i høy grad letter reaktiveringen. De fotopolymeriserte deler av sammensetningen blir videre i alt vesentlig påvirket av en 1-5 vekt-56 oppløsning av saltsyre, svovelsyre, ammoniumpersulfat, eventuelt med overflateaktive midler, dvs. oppløsninger av den type man ofte finner i reaktiverende bad. ;Etsing eller plettering utføres på vanlig kjent måte. Skjønt den eksponerte (dvs. den fotopolymeriserte) del av sammensetningen ifølge foreliggende oppfinnelse ikke i alt vesentlig vil bli påvirket ved en sekvenskontakt med en fremkallende oppløsning, en reaktiverende oppløsning hvis en slik brukes, og en 45° Baume-etsende oppløsning av treverdig jernklorid, så er det underforstått at andre etsende og pletterende oppløsninger kan brukes for å modifisere det eksponerte substratet i alt vesentlig uten at man frembringer en nedbrytning av den fotoelektriske motstanden. Andre etsende oppløsninger som kan brukes kan f.eks. være oppløs-ninger av kobberklorid, ammoniakalske etsemidler, ammoniumpersulfat, krom-svovelsyrer, kobbersulfat og tinn/blyfluor-borater. ;For å bruke det trykte kretskortet for sitt endelige formål, er det nødvendig til slutt å fjerne de eksponerte deler av sammensetningen (dvs. den fotoelektriske motstanden) fra substratet. Dette oppnås vanligvis ved å bruke en mer aggressiv vandig alkalisk oppløsning enn det som ble brukt under det fremkallende trinnet. Skjønt den fotopolymeriserte sammensetningen ifølge foreliggende oppfinnelse kan fjernes fra substratet ved hjelp av en oppvarmet oppløsning inneholdende 3 vekt-# natriumhydroksyd, så er det selvsagt underforstått at man også kan bruke andre alkaliske oppløs-ninger, f.eks. av den type som er nevnt ovenfor. ;Sammensetningen ifølge foreliggende oppfinnelse kan også brukes som en motstand ved kjemisk maskinering av deler (som ofte er for små til at de kan akseptabelt utstanses), ved at metallisk folie eller en plate dypetses eller endog etses fullstendig fra en side til den annen. I en slik prosess vil den fotopolymeriserbare sammensetningen bli pålagt begge sider av den metalliske platen eller follet og eksponert gjennom identiske fotografiske transparenter av den type som er kjent i industrien. De ueksponerte deler av sammensetningen blir så fjernet i et fremkallende trinn slik dette er beskrevet tidligere, hvoretter de blottede overflater av den metalliske platen eller follet etses etter behov. Deretter kan de fotopolymeriserte deler av sammensetningen fjernes, hvoretter man utvinner det ferdige produktet som så kan brukes. ;En annen viktig fordel ved foreliggende oppfinnelse angår den letthet med hvilken de eksponerte deler av sammensetningen kan fjernes fra substratet. Denne fordelen gjør at man ytterligere kan redusere den totale bearbeidelsestiden hvilket er en avgjort fordel innen teknikken. Ved å bruke den definerte akrylatmonomeren ifølge foreliggende oppfinnelse i addisjonspolymeriserbart materiale, så kan tiden for fjerning reduseres med fra 10 til 8056, sammenlignet med samme sammensetning, men uten nevnte akrylatmonomer, under de samme betingelser. ;Fra den foregående beskrivelse av den fotopolymeriserbare sammensetningen ifølge foreliggende oppfinnelse og hvorledes denne kan opparbeides i form av plater eller ruller, lamineres til et substrat, eksponeres, fremkalles, underkastes etsing og deretter fjernes fra substratet, så er det innlysende at den fotopolymeriserbare sammensetningen ifølge foreliggende oppfinnelse ikke krever ytterligere kjemiske grupper, f.eks. saltgrupper, for å kunne oppfylle de ovennevnte krav. Skjønt vanlige additiver såsom pigmenter, fargestoffer, adhesjonsfremmende midler, mykningsmidler, etc. kan tilsettes for å bedre sammensetningen ifølge foreliggende oppfinnelse, så består den i alt vesentlig av de angitte ingredienser ettersom man ikke nødvendigvis trenger ytterligere kjemiske grupper, såsom saltgrupper, for å kunne brukes. ;For ytterligere å illustrere foreliggende oppfinnelse og dens fordeler, er de følgende spesifikke eksempler angitt. ;EKSEMPEL I ;De følgende oppløsninger ble pålagt en 0,0025 cm tykk polyesterfilm, tørket i en strøm av varm luft, tilveiebragt ved hjelp av en GE-1500 watts vifte i 20 minutter. Den tørre tykkelsen på de sensitiverte lagene var ca. 0,0032 cm. De tørkede lagene ble så belagt med en 0,0025 cm tykk poly-etylenfilm. Sammensetning IA er illustrerende for den foreliggende oppfinnelse, mens sammensetning IB er en kontrolloppløsning. ;Sammensetning IA ;Sammensetning IB ;Et stykke av en kobberkledd epoksyfiberglasskort ble renset ved hjelp av et slipende rensemiddel, bør.sting og rensing i vann. Det ble så dyppet 20 sekunder i en 12$ oppløsning saltsyre, igjen vasket med vann og tørket i luft. ;Polyetylendekkarket ble fjernet fra en del av det fotopolymeriserbare elementet. Det blottlagte belegget med sitt polyesterunderlag ble laminert på den rene kobberoverflaten med overflaten på det fotopolymeriserbare laget i kontakt med kobberoverflaten, idet man brukte gummibelagte valser som hadde en hastighet på 0,6 m pr. minutt ved 121°C med et trykk på 0,54 kg pr. lineær cm i valsegapet. Det resulterende sensitiverte kobberkledde stykket beskyttet med polyester-fiImen, ble eksponert overfor lys gjennom en høykontrast-transparent i 30 sekunder ved hjelp av 400 watts 50 amp. kvikksølvdamplampe i en avstand på 30 cm. ;Polyester (polyetylentereftalat) underlagsflimen ble fjernet, og det eksponerte fotoresistente laget ble fremlagt ved å riste kortet i et trau som inneholdt en 1$ vandig oppløsning av natriumkarbonatmonohydrat ved 27° C i ca. 1 minutt fulgt av en vasking med vann. Denne fremkallingen er tilfredsstillende for både sammensetning IA og IB. De fremkalte fotoelektriske motstander hadde et fast stofftrinn på 8 og et kobbertrinn på 9 på en 21-trinns skala. Den fotoelektriske motstanden reproduserte 0,025 cm linjer fra transparenten innenfor 2% avvik. ;De fremkalte kort ble etset i et 45<*> Baume treverdig jernkloridetsemiddel, og de fotopolymeriserte deler av sammensetningen motstod denne prosessen uten tegn til nedbrytning. De fotoelektriske motstander ble så fjernet fra substratet i en vandig 356 kaliumhydroksydoppløsning ved 55°C. De fotoelektriske motstander fremstilt ved hjelp av sammensetning IA ble fjernet i løpet av 27 sekunder, mens den som ble fremstilt ved hjelp av sammensetning IB ble fjernet i løpet av 30 sekunder. De etsede kobberlinjer var i begge tilfeller rette og veldefinerte.
For å måle fleksibiliteten ble filmer fremstilt ved hjelp av sammensetningene IA og IB begge laminert på rensede fleksible kobbersubstrater, eksponert uten transparenter til en ekvivalent på et trinn 9 i en Stouf fer-skala på 21, og deretter sammenlignet med hensyn til fleksibilitet ved hjelp av Gardner MG-1416 Conical Mandrel. Filmen fremstilt ifølge sammensetning IB viste en sprekk som var 48 mm lang, mens filmen fremstilt ved hjelp av sammensetning IA, ikke viste noen sprekker.
EKSEMPEL II
De følgende oppløsninger ble pålagt en 0,0025 cm tykk polyesterfilm, tørket I varm luft, tilveiebragt ved hjelp av en GE-1500 watts viftetørker i 20 minutter. Den tørre tykkelsen på disse sensitiverte lagene var ca. 0,005 cm. De tørkede lagene ble så belagt med en 0,0025 cm tykk poly-etylenfilm. Sammensetning IIA er illustrerende for den foreliggende oppfinnelse, mens sammensetning IIB er en kontrolloppløsning.
Sammensetning IIB
Sammensetning IIB
De fotoresistente filmene ble laminert, eksponert og fremkalt som beskrevet i eksempel I.
Overflaten på det eksponerte kobberet ble ytterligere renset etter fremkalling ved å dyppe kortene i et 2056 ammonium-persulfatbad i 30 sekunder, deretter vasking med store mengder vann, dypping i 30 sekunder i en 20% oppløsning av saltsyre I vann, vasking med vann, hvoretter kortene ble tørket ved hjelp av varmluft. De rensede kortene ble så senket ned i en sur kobbersulfatoppløsning inneholdende 19,6 g pr. liter av kobber. Pletteringen ble utført ved 25°C i 45 minutter idet man brukte ca. 3 amp. pr. m<2>. Kortene ble tatt ut av tanken, vasket med vann og dyppet 1 minutt i en 3056 fluorborsyreoppløsning.
Kortene ble så overført til et tinn/bly-pletteringsbad og plettert i 15 minutter. Denne oppløsningen inneholdt 16 g/l av tinn, 11 g/l av bly og 385 g/l av fluorborsyre. Den elek-triske strøm var ca. 1,5 amp. pr. m2 . Etter at den beleggende syklusen var fullstendig, ble kortene vasket i vann og lufttørket. De fotoelektriske motstander ble underkastet en tape-prøve for å se om det skjedde en løftning. Man så ingen løftning hverken for sammensetning IIA eller IIB. Når imidlertid den fotoelektriske motstanden med sammensetning IIA ble fjernet fra substratet ved hjelp av en 356 vandig hydroksydoppløsning ved 55°C, så lot denne seg fjerne i løpet av 70 sekunder, mens den som var fremstilt ved hjelp av sammensetning IIB ble fjernet i løpet av 165 sekunder.
EKSEMPEL III
De følgende oppløsninger ble pålagt en 0,0025 cm tykk polyesterflim, tørket i en strøm av varm luft, tllveiebragt ved hjelp av en GE-1500 watts viftetørker i 20 minutter. Den tørre tykkelsen på de sensitiverte lagene var ca. 0,005 cm tykt. De tørkede lagene ble så belagt med en 0,0025 cm tykk polyesterflim. Sammensetning HIA illustrerer oppfinnelsen, mens sammensetning UIB er en kontrolloppløsning.
Sammensetning 11 IA
Sammensetning IIIB
Som beskrevet i eksempel II, ble det fremstilt 0,005 cm tykke filmer og disse ble bedømt som fotoelektriske motstander. Både sammensetning HIA og UIB var tilfredsstillende med hensyn til at det var ingen løftning i prøven med tape og det var ingen underbelegging. Når de fotoelektriske motstander ble fjernet som beskrevet i eksempel II, så kunne man fjerne motstanden med sammensetning III i løpet av 57 sekunder, mens den andre trengte 70 sekunder.
EKSEMPEL IV
De følgende oppløsninger ble pålagt en 0,0025 cm tykk polyesterfilm, tørket i en strøm av varm luft tilveiebragt ved hjelp av en GE-1500 watts viftetørker i 20 minutter. Den tørre tykkelsen på de sensitiverte lagene var ca. 0,005 cm. De tørkede lagene ble belagt med en 0,0025 cm tykk poly-etylenfilm. Sammensetning IVA illustrerer foreliggende oppfinnelse, mens sammensetning IVB er en kontrolloppløsning.
Sammensetning IVA
Sammensetning IVB
De to sammensetningene ble prøvet som beleggsfotoelektriske motstander ved hjelp av de fremgangsmåter som er beskrevet i eksemplene II og ill. Begge filmer var tilfredsstillende under belegningssyklusen, og de ble så fjernet fra substratene som beskrevet i eksempel II. Den fotoelektriske motstanden med sammensetning IVA lot seg fjerne i løpet av 50 sekunder, mens den med sammensetning IVA lot seg fjerne i løpet av 128 sekunder.
Filmene med sammensetningene IVA og IVB Ible så laminert på rene fleksible kobberfolier, eksponert og så fremkalt som beskrevet i eksempel I. Prøver av kobberfoliene ble så prøvet for fleksibilitet som beskrevet i eksempel I idet man bruke den koniske doren. Sammensetning IVB hadde en sprekk langs hele prøvens lengde (20 cm), men sammensetning IVA bare hadde en sprekk med en lengde på 10,2 cm, noe som viser at denne har bedre fleksibilitet.
EKSEMPEL V
De følgende oppløsninger ble pålagt en 0,0025 cm tykk polyesterflim, tørket i en strøm av varm luft tilveiebragt ved hjelp av en GE-1500 watts viftetørker i 20 minutter. Den tørre tykkelsen på de sensitiverte lagene var ca. 0,005 cm. De tørre lagene ble så belagt med en 0,0025 cm tykk poly-etylenfilm. Sammensetning VÅ illustrerer foreliggende oppfinnelse, mens sammensetning VB er en kontrolloppløsning.
Sammensetning VA
SftTMnftnsetning VB
De to sammensetningene var tilfredsstillende når de ble bedømt som fotoelektriske motstander som angitt i eksempel II. Når de ble fjernet fra substratene som beskrevet i eksempel II, så lot sammensetning VÅ se fjerne i løpet av 54 sekunder, mens sammensetning VB lot seg fjerne i løpet av 100 sekunder.
Separate prøver av filmene fremstilt fra sammensetning VA og VB ble underkastet den fleksibilitetsprøve, som er beskrevet i eksempel I. Lengden av sprekken i sammensetning VA var 10,3 cm, mens den var 13,4 cm med sammensetning VB, noe som viser at sammensetning VA har overlegen fleksibilitet.
EKSEMPEL VI
Fremgangsmåten fra eksempel I ble gjentatt, bortsett fra at fenoksydletoksyetylakrylatet fra sammensetning IA ble erstattet med 10,0 g fenoksytripropoksypropylakrylat. Man oppnådde sammenlignbare resultater.
EKSEMPEL VII
Fremgangsmåten fra eksempel I ble gjentatt, bortsett fra at fenoksydletoksyetylakrylatet fra sammensetning IA ble erstattet med 10,0 g 4-klorfenoksytrietoksyetylakrylat. Man oppnådde igjen sammenlignbare resultater.
EKSEMPEL VIII
Man gjentok fremgangsmåten fra eksempel I bortsett fra at fenoksydletoksyetylakrylatet i sammensetning IA ble erstattet med 10 g cykloheksoksydietoksyetylakrylat. Man oppnådde igjen sammenlignbare resultater.

Claims (24)

1. Fotopolymeriserbar sammensetning innbefattende A. 0,001 - 20 vektdeler av et fotoinitiert, fri-radikalutviklende addisjonspolymerisasjonsinitierende system, og B. 0,001 - 5 vektdeler av en varme-addisjonspolymeriserings inhibitor, karakterisert ved at den i tillegg omfatter: C. 10-60 vektdeler av et addisjonspolymeriserbart materiale bestående av i) 5-50 vektdeler av et akrylat med formelen: hvor m er fra 1 til 4, n er fra 1 til 12, R^ er valgt fra gruppen bestående av H, CH3 og blandinger av disse, og R2 er valgt fra gruppen bestående av fenyl og fenyl substituert med halogen, alkyl eller alkoksy hver inneholdende 1-15 karbonatomer, og blandinger derav, og il) 5-50 vektdeler av en eller flere ikke-gassformige forbindelser inneholdende minst to terminale etyleniske grupper og med et kokepunkt over 100°C, og D. 40 - 90 vektdeler av et fordannet makromolekylært polymert bindemiddel som er en polymer av: i) et første monomert materiale som inneholder en eller flere ikke-sure forbindelser valgt fra: hvor R er hydrogen, en alkylgruppe med fra 1 til 6 karbonatomer, eller en halogengruppe, og når X er hydrogen, så er Y OOCRi, OR^, OCR^, COORi, CN, CH=CH2, eller Cl, og når X er metyl, så er Y COORi, CN, CH=CH2, eller og når X er klor, så er Y Cl; og hvor R^ er en alkylgruppe med fra 1 til 12 karbonatomer, en fenylgruppe eller en benzylgruppe, og R3 og R4 er hydrogen, en alkylgruppe med fra 1 til 12 karbonatomer eller en benzylgruppe; og ii) et annet monomert materiale som i alt vesentlig består av en eller flere a-, f3-etylenisk umettede karboksylsyre- eller anhydrid-holdige monomerer med fra 3 til 15 karbonatomer; og hvor forholdet mellom det første monomere materialet til nevnte andre monomere materiale er tilstrekkelig til at i alt vesentlig alt bindemiddel er oppløselig i en i alt vesentlig fullstendig vandig oppløsning Inneholdende 2 vekt-& natriumkarbonat.
2. Fotopolymeriserbar sammensetning ifølge krav 1, karakterisert ved at m er 2 eller 3, n er 2 eller 3, Ri er H og R2 er usubstituert fenyl.
3. Fotopolymeriserbar sammensetning ifølge krav 1, karakterisert ved at de ikke-gassformige forbindelser inneholder minst to terminale etyleniske grupper og med et kokepunkt over 100"C er valgt fra gruppen bestående av en umettet ester av en polyol, et umettet amid, en vinylester og blandinger av silke forbindelser.
4. Fotopolymeriserbar sammensetning ifølge krav 3, karakterisert ved at de ikke-gassformige forbindelser er valgt fra gruppen bestående av trimetylolpropantriakrylat, tetraetylenglykoldiakrylat, tripropylenglykoldiakrylat og blandinger av disse forbindelser.
5. Fotopolymeriserbar sammensetning ifølge krav 3, karakterisert ved at de ikke-gassformige forbindelser består av tripropylenglykoldiakrylat.
6. Fotopolymeriserbar sammensetning ifølge krav 3, karakterisert ved at de ikke-gassformige forbindelser består av pentaerytritolakrylater.
7. Fotopolymeriserbar sammensetning ifølge krav 1, karakterisert ved at blndemidlet har et først monomert materiale med følgende generelle formel
8. Fotopolymeriserbar sammensetning Ifølge krav 7, karakterisert ved at blndemidlet er en kopolymer av styren og monobutylmaleat i et forhold på 35:65 til 70:30.
9. Fotopolymeriserbar sammensetning ifølge krav 1, karakterisert ved at blndemidlet er en kopolymer av vinylacetat og krotonsyre i et forhold fra 70:30 til 95:5.
10. Fotopolymeriserbar sammensetning Ifølge krav 1, karakterisert ved at blndemidlet er en blanding av en kopolymer av styren og monobutylmaleat i et forhold fra 35:65 til 70:30 med en kopolymer av vinylacetat og krotonsyre i et forhold fra 70:30 til 95:5.
11. Fotopolymeriserbar sammensetning Ifølge krav 1, karakterisert ved at blndemidlet er en kopolymer av en monomer av akrylattypen og en eller flere a-, e-etylenisk umettede karboksylsyre- eller anhydrld-holdlge monomerer med 3-15 karbonatomer.
12. Fotopolymeriserbar sammensetning ifølge krav 1, karakterisert ved at blndemidlet er en kopolymer av i) ii) en akrylattypemonomer og lii) en eller flere a-, p<->etylenisk umettede karboksyl syre- eller anhydrid-holdige monomerer med fra 3-15 karbonatomer.
13. Fotopolymeriserbar sammensetning ifølge krav 12, karakterisert ved at nevnte akrylattypemonomer er valgt fra gruppen bestående av alkylakrylat, alkylmetakrylat, hydroksyalkylakrylat, hydroksyalkylmetakrylat og blandinger av disse, hvor alkylgruppene har fra 1 til 12 karbonatomer og hydroksyalkylgruppene har fra 2 til 12 karbonatomer.
14. Ark eller rull med en fotopolymeriserbar sammensetning på et fleksibelt filmunderlag, karakterisert ved at den fotopolymeriserbare sammensetningen omfatter bestanddelene A-D som definert i krav 1 og i de deri angitte respektive mengder, hvor forholdet mellom første monomere materiale og nevnte andre monomere materiale er tilstrekkelig til at i alt vesentlig alt bindemiddel blir oppløselig i en i alt vesentlig fullstendig vandig oppløsning inneholdende 2 vekt-56 natriumkarbonat.
15. Ark eller rull ifølge krav 14, karakterisert ved at akrylatet er valgt fra gruppen bestående av substituert og usubstituert fenoksypolyetoksyetylakrylater, substituerte og usubstituerte fenoksypolypropoksypropylakrylater og blandinger av disse.
16. Ark eller rull ifølge krav 15, karakterisert ved at akrylatet er et usubstituert fenoksypoly-etoksyetylakrylat.
17. Ark eller rull ifølge krav 15, karakterisert ved at blndemidlet er en kopolymer av i) ii) en monomer av akrylattypen og ili) en eller flere a-, p-etylenisk umettede karboksyl syre- eller anhydrid-holdige monomerer med fra 3-15 karbonatomer.
18. Ark eller rull ifølge krav 15, karakterisert ved at blndemidlet er en blanding av en kopolymer av styren og monobutylmaleat i et forhold fra 35:65 til 70:30 med en kopolymer av vinylacetat og krotonsyre i et forhold fra 70:30 til 95:5.
19. Fremgangsmåte for fremstilling av et trykt kretskort, karakterisert ved at man: A. laminerer en fotopolymeriserbar sammensetning på en trykt kretskortforløper, hvor den fotopolymeriserbare sammensetning omfatter bestanddelene A-D som definert i krav 1 og 1 de deri angitte respektive mengder, hvor forholdet mellom det første monomere materialet og det andre monomere materialet er tilstrekkelig til å gjøre i alt vesentlig alt bindemiddel oppløselig i en i alt vesentlig fullstendig vandig oppløsning inneholdende 2 vekt-# natriumkarbonat; B. eksponerer utvalgte deler av den fotopolymeriserbare sammensetningen for aktinisk stråling i tilstrekkelig grad til å oppnå fotopolymerisering av de nevnte eksponerte deler; C. fjerner de ueksponerte deler av sammensetningen for derved å blottlegge deler av kretskortforløperen ved kontakt med en i alt vesentlig fullstendig vandig oppløsning med en alkalinitet som i det minste er så stor som en 2 vekt-# oppløsning av natriumkarbonat; D. modifiserer de blottlagte deler av kretskortforløperen for derved å danne et selektivt elektrisk ledende mønster; og E. fjerner de eksponerte utvalgte deler av sammensetningen fra kretskortet ved kontakt med en i alt vesentlig fullstendig vandig oppløsning med en alkalinitet som i det minste er så stor som en 3 vekt-# oppløsning av natriumhydroksyd.
20. Fremgangsmåte ifølge krav 19, karakterisert ved at det anvendes en trykt kretskortforløper som er et kobberkledd, epoksyfiberglasslaminat.
21. Fremgangsmåte ifølge krav 19, karakterisert ved at det anvendes en trykt kretskortforløper som er et fleksibelt kobberkledd laminat.
22. Fremgangsmåte ifølge krav 19, karakterisert ved at det anvendes en trykt kretskortforløper som har et metallisk materiale på begge sider og at det anvendes en fotopolymeriserbar sammensetning som er laminert på begge sider på toppen av nevnte metalliske materiale.
23. Fremgangsmåte Ifølge krav 19, karakterisert ved at de eksponerte deler av kretskortforløperen blir modifisert ved etsing.
24. Fremgangsmåte ifølge krav 19, karakterisert ved at de eksponerte deler av kretskortforløperen blir modifisert ved belegging.
NO842237A 1983-06-06 1984-06-04 Fotopolymeriserbar sammensetning, ark eller rull med en slik sammensetning samt fremgangsmaate for fremmstilling av et trykt kretskort NO169923C (no)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US06/501,199 US4539286A (en) 1983-06-06 1983-06-06 Flexible, fast processing, photopolymerizable composition

Publications (3)

Publication Number Publication Date
NO842237L NO842237L (no) 1984-12-07
NO169923B true NO169923B (no) 1992-05-11
NO169923C NO169923C (no) 1992-08-19

Family

ID=23992505

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
NO842237A NO169923C (no) 1983-06-06 1984-06-04 Fotopolymeriserbar sammensetning, ark eller rull med en slik sammensetning samt fremgangsmaate for fremmstilling av et trykt kretskort

Country Status (17)

Country Link
US (1) US4539286A (no)
EP (1) EP0128014B2 (no)
JP (1) JPS6011840A (no)
KR (1) KR870000750B1 (no)
AR (1) AR242045A1 (no)
AT (1) ATE32956T1 (no)
AU (1) AU566653B2 (no)
BR (1) BR8402712A (no)
CA (1) CA1213092A (no)
DE (1) DE3469809D1 (no)
DK (1) DK277284A (no)
ES (2) ES8608268A1 (no)
IL (1) IL72040A (no)
NO (1) NO169923C (no)
NZ (1) NZ208262A (no)
PT (1) PT78695B (no)
ZA (1) ZA843909B (no)

Families Citing this family (32)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
NZ212161A (en) * 1984-06-08 1988-06-30 Ishikawa Katsukiyo Photo-polymerisable composition and printing plate prepared therefrom
US4876384A (en) * 1985-04-22 1989-10-24 Diamond Shamrock Chemicals Co. Radiation-hardenable diluents
US5110889A (en) * 1985-11-13 1992-05-05 Diamond Shamrock Chemical Co. Radiation hardenable compositions containing low viscosity diluents
AU587876B2 (en) * 1985-11-15 1989-08-31 Hoechst Aktiengesellschaft Radiation-polymerizable mixture, recording material prepared from it and process for the production of relief recordings
DE3540480A1 (de) * 1985-11-15 1987-05-21 Hoechst Ag Durch strahlung polymerisierbares gemisch, daraus hergestelltes aufzeichnungsmaterial und verfahren zur herstellung von reliefaufzeichnungen
DE3706561A1 (de) * 1987-02-28 1988-09-08 Basf Ag Lichtempfindliches aufzeichnungsmaterial mit erhoehter flexibilitaet
US4902605A (en) * 1987-07-24 1990-02-20 Eastman Kodak Company Photoresist composition comprising cyclohexyleneoxyalkyl acrylates
US4885229A (en) * 1987-12-22 1989-12-05 501 Daicel Chemical Industries Ltd. Photopolymerizable compositions
DE3808952A1 (de) * 1988-03-17 1989-10-05 Basf Ag Lichtempfindliche, photopolymerisierbare druckplatte
DE3808951A1 (de) * 1988-03-17 1989-10-05 Basf Ag Photopolymerisierbare, zur herstellung von druckformen geeignete druckplatte
US4819489A (en) * 1988-05-09 1989-04-11 Rca Licensing Corp. Device and method for testing the adherence of a coating layer to a material
US4912019A (en) * 1988-05-31 1990-03-27 E. I. Du Pont De Nemours And Company Photosensitive aqueous developable ceramic coating composition
DE3844451A1 (de) * 1988-12-31 1990-07-05 Basf Ag Photopolymerisierbares system
US4985343A (en) * 1989-02-09 1991-01-15 Mitsubishi Rayon Co., Ltd. Crosslinking-curable resin composition
CA2025198A1 (en) * 1989-10-25 1991-04-26 Daniel F. Varnell Liquid solder mask composition
US5217847A (en) * 1989-10-25 1993-06-08 Hercules Incorporated Liquid solder mask composition
JP2782909B2 (ja) * 1990-04-05 1998-08-06 日本油脂株式会社 光重合性樹脂組成物
US5068168A (en) * 1990-12-20 1991-11-26 Monsanto Company Styrene/maleates terpolymers
CA2076727A1 (en) * 1991-08-30 1993-03-01 Richard T. Mayes Alkaline-etch resistant dry film photoresist
US5332650A (en) * 1991-09-06 1994-07-26 Japan Synthetic Rubber Co., Ltd. Radiation-sensitive composition
JPH07235755A (ja) * 1994-02-25 1995-09-05 Hitachi Ltd プリント配線基板の製法
CA2158915A1 (en) 1994-09-30 1996-03-31 Dekai Loo Liquid photoimageable resist
US6004725A (en) * 1997-12-01 1999-12-21 Morton International, Inc. Photoimageable compositions
US5922509A (en) * 1998-03-18 1999-07-13 Morton International, Inc. Photoimageable compositions having improved stripping properties in aqueous alkaline solutions
US7022462B1 (en) * 1999-03-03 2006-04-04 Hitachi Chemical Company, Ltd. Photosensitive resin composition, photosensitive element using the same, process for producing resist pattern, and process for producing printed wiring board
CN1310088C (zh) * 2002-03-12 2007-04-11 旭化成电子材料元件株式会社 感光性树脂组合物及其用途
US7342075B2 (en) * 2002-10-31 2008-03-11 Basf Corporation Carbamate functional addition polymers and method for their preparation
US8236485B2 (en) 2002-12-20 2012-08-07 Advanced Technology Materials, Inc. Photoresist removal
US20100028816A1 (en) * 2006-08-30 2010-02-04 Ko Hermans Process for preparing a polymeric relief structure
KR100994311B1 (ko) * 2006-09-13 2010-11-12 히다치 가세고교 가부시끼가이샤 감광성 수지 조성물, 감광성 엘리먼트, 레지스트 패턴의 형성방법 및 프린트 배선판의 제조방법
CN102799070B (zh) * 2012-08-27 2014-03-05 珠海市能动科技光学产业有限公司 双层涂布的负性光致抗蚀干膜
JP2018074102A (ja) 2016-11-04 2018-05-10 富士通株式会社 電子装置

Family Cites Families (48)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CA750324A (en) * 1967-01-10 R. Celeste Jack Photopolymerizable compositions and elements
CA614181A (en) * 1961-02-07 J. Mcgraw William Photopolymerizable compositions, elements and processes
NL101499C (no) * 1951-08-20
US2690968A (en) * 1952-10-04 1954-10-05 Powers Chemco Inc Development of diazo and azide sensitized colloids
BE559609A (no) * 1954-04-05
US2852379A (en) * 1955-05-04 1958-09-16 Eastman Kodak Co Azide resin photolithographic composition
US2893868A (en) * 1955-08-22 1959-07-07 Du Pont Polymerizable compositions
NL218803A (no) * 1956-07-09
GB835849A (en) * 1957-04-26 1960-05-25 Du Pont Photopolymerisable compositions and uses thereof
NL120741C (no) * 1958-05-21
NL287134A (no) * 1959-08-05
US3024180A (en) * 1959-08-17 1962-03-06 Du Pont Photopolymerizable elements
BE639767A (no) * 1962-11-13
US3388995A (en) * 1964-08-10 1968-06-18 Gen Aniline & Film Corp Photopolymer offset printing plates
US3440047A (en) * 1964-08-10 1969-04-22 Gen Aniline & Film Corp Photopolymer offset printing plates of the etch type
US3495987A (en) * 1965-09-03 1970-02-17 Du Pont Photopolymerizable products
DE1572153B2 (de) * 1966-06-27 1971-07-22 E I Du Pont de Nemours and Co , Wilmington, Del (V St A ) Fotopolymerisierbares aufzeichnungsmaterial
US3458311A (en) * 1966-06-27 1969-07-29 Du Pont Photopolymerizable elements with solvent removable protective layers
GB1180846A (en) * 1967-08-08 1970-02-11 Agfa Gevaert Nv Photopolymerisation of Ethylenically Unsaturated Organic Compounds
DE1296975B (de) * 1967-11-09 1969-06-04 Kalle Ag Lichtempfindliches Gemisch
GB1188921A (en) * 1968-01-31 1970-04-22 Du Pont Photopolymerizable Elements
US3547651A (en) * 1968-04-02 1970-12-15 Du Pont Photopolymerizable compositions containing organometal compounds
US3708296A (en) * 1968-08-20 1973-01-02 American Can Co Photopolymerization of epoxy monomers
US3616367A (en) * 1968-11-25 1971-10-26 Du Pont Photopolymerizable acrylic compositions containing rearrangeable ultraviolet stabilizer precursors
DE1817107C3 (de) * 1968-12-27 1980-09-11 Hoechst Ag, 6000 Frankfurt Vorsensibilisierte MehrmetaU-Offsetdruckplatte
JPS4818563B1 (no) * 1969-03-07 1973-06-07
US3695877A (en) * 1969-08-13 1972-10-03 Teijin Ltd Photopolymerizable resin compositions
US3850770A (en) * 1969-10-24 1974-11-26 Kansai Paint Co Ltd Radiation curable compositions from acrylurethane resins
US3622334A (en) * 1969-12-31 1971-11-23 Du Pont Photopolymerizable compositions and elements containing heterocyclic nitrogen-containing compounds
DE2027467C3 (de) * 1970-06-04 1974-08-15 Kalle Ag, 6202 Wiesbaden-Biebrich Photopolymerisierbare Kopiermasse
DE2039861C3 (de) * 1970-08-11 1973-12-13 Kalle Ag, 6202 Wiesbaden-Biebrich Photopolymensierbare Kopier masse
BE772251A (fr) * 1970-09-07 Kalle Ag Composes photopolymerisables
US3660088A (en) * 1970-09-16 1972-05-02 Grace W R & Co Photo-resist process
US3796578A (en) * 1970-12-26 1974-03-12 Asahi Chemical Ind Photopolymerizable compositions and elements containing addition polymerizable polymeric compounds
DE2064080C3 (de) * 1970-12-28 1983-11-03 Hoechst Ag, 6230 Frankfurt Lichtempfindliches Gemisch
US3718473A (en) * 1971-01-27 1973-02-27 Du Pont Photopolymerizable elements containing hydro philic colloids and polymerizable monomers for making gravure printing plate resists
US3887450A (en) * 1971-02-04 1975-06-03 Dynachem Corp Photopolymerizable compositions containing polymeric binding agents
US3833384A (en) * 1972-04-26 1974-09-03 Eastman Kodak Co Photopolymerizable compositions and elements and uses thereof
US3867153A (en) * 1972-09-11 1975-02-18 Du Pont Photohardenable element
US3953309A (en) * 1972-12-14 1976-04-27 Dynachem Corporation Polymerization compositions and processes having polymeric binding agents
JPS5632614B2 (no) * 1973-02-13 1981-07-29
DE2429636C3 (de) * 1973-06-28 1986-05-07 Teijin Ltd., Osaka Lichtempfindliche Harzmasse
DE2363806B2 (de) * 1973-12-21 1979-05-17 Hoechst Ag, 6000 Frankfurt Lichtempfindliches Gemisch
US4097417A (en) * 1974-05-02 1978-06-27 National Starch And Chemical Corporation Photocurable electroconductive coating composition
ZA757984B (en) * 1974-10-04 1976-12-29 Dynachem Corp Polymers for aqueous processed photoresists
JPS5492723A (en) * 1977-12-30 1979-07-23 Somar Mfg Photosensitive material and use
US4239849A (en) * 1978-06-19 1980-12-16 Dynachem Corporation Polymers for aqueous processed photoresists
JPS5633640A (en) * 1979-08-28 1981-04-04 Arai Tokuji Photopolymerizable photosensitive resin composition and photosensitive sheet structure containing layer of such composition

Also Published As

Publication number Publication date
NO842237L (no) 1984-12-07
EP0128014A2 (en) 1984-12-12
EP0128014A3 (en) 1985-05-29
DK277284D0 (da) 1984-06-04
JPS6011840A (ja) 1985-01-22
ATE32956T1 (de) 1988-03-15
PT78695A (pt) 1985-01-01
CA1213092A (en) 1986-10-21
AU2872684A (en) 1984-12-13
IL72040A (en) 1988-03-31
BR8402712A (pt) 1985-05-14
NZ208262A (en) 1986-10-08
EP0128014B1 (en) 1988-03-09
ES546967A0 (es) 1986-04-16
US4539286A (en) 1985-09-03
DE3469809D1 (en) 1988-04-14
ES8608268A1 (es) 1986-06-01
ES533132A0 (es) 1986-06-01
ES8606775A1 (es) 1986-04-16
KR870000750B1 (ko) 1987-04-13
AU566653B2 (en) 1987-10-29
ZA843909B (en) 1984-12-24
JPH0422508B2 (no) 1992-04-17
AR242045A1 (es) 1993-02-26
EP0128014B2 (en) 1991-08-21
NO169923C (no) 1992-08-19
KR850000496A (ko) 1985-02-27
PT78695B (en) 1986-07-11
DK277284A (da) 1984-12-07
IL72040A0 (en) 1984-10-31

Similar Documents

Publication Publication Date Title
NO169923B (no) Fotopolymeriserbar sammensetning, ark eller rull med en slik sammensetning samt fremgangsmaate for fremmstilling av et trykt kretskort
US3953309A (en) Polymerization compositions and processes having polymeric binding agents
US4239849A (en) Polymers for aqueous processed photoresists
US4003877A (en) Photopolymerizable screen printing inks for permanent coatings prepared from aryloxyalkyl compositions
JPH0359416B2 (no)
JPS6313526B2 (no)
JPS643352B2 (no)
NO141804B (no) Fotopolymeriserbart preparat.
JPS62240950A (ja) ホトレジストのラミネ−シヨンおよび処理における接着性の促進
US4610951A (en) Process of using a flexible, fast processing photopolymerizable composition
JP2008094803A (ja) 感光性樹脂組成物およびその積層体
US4230790A (en) Photopolymerizable compositions useful in dry film photoresist
US4339527A (en) Process for using photopolymerizable compositions
JP4175079B2 (ja) 感光性樹脂組成物およびこれを用いた感光性エレメント
JP2001159817A (ja) 感光性樹脂組成物、これを用いた感光性エレメント、レジストパターンの製造法及びプリント配線板の製造法
EP0665468B1 (en) Staining inhibitor for photopolymerizable compositions containing a tetrazole
JPS60240715A (ja) 感光性樹脂組成物
JP4172248B2 (ja) 感光性樹脂組成物、これを用いた感光性エレメント、レジストパターンの形成方法及びプリント配線板の製造方法
JP4529289B2 (ja) 感光性樹脂組成物、これを用いた感光性エレメント、レジストパターンの製造法及びプリント配線板の製造法
WO2001095033A1 (en) Photosensitive resin composition and photosensitive material using the same
DK145357B (da) Laminat til fremstilling af trykkeplader eller fotoreservager
JP2003131370A (ja) 感光性樹脂組成物、これを用いた感光性エレメント
JP2006163312A (ja) 感光性エレメント、レジストパターンの形成方法及びプリント配線板の製造方法
JPH0264541A (ja) 放射線重合可能な記録材料及びレリーフ記録材料の製造法