NO169923B - Fotopolymeriserbar sammensetning, ark eller rull med en slik sammensetning samt fremgangsmaate for fremmstilling av et trykt kretskort - Google Patents
Fotopolymeriserbar sammensetning, ark eller rull med en slik sammensetning samt fremgangsmaate for fremmstilling av et trykt kretskort Download PDFInfo
- Publication number
- NO169923B NO169923B NO842237A NO842237A NO169923B NO 169923 B NO169923 B NO 169923B NO 842237 A NO842237 A NO 842237A NO 842237 A NO842237 A NO 842237A NO 169923 B NO169923 B NO 169923B
- Authority
- NO
- Norway
- Prior art keywords
- photopolymerizable composition
- composition
- carbon atoms
- acrylate
- group
- Prior art date
Links
- 239000000203 mixture Substances 0.000 title claims description 199
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 25
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 51
- 239000000243 solution Substances 0.000 claims description 40
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 34
- 239000000178 monomer Substances 0.000 claims description 34
- -1 alkyl methacrylate Chemical compound 0.000 claims description 33
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 28
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 26
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 23
- 150000001252 acrylic acid derivatives Chemical class 0.000 claims description 23
- CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L Sodium Carbonate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]C([O-])=O CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims description 21
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 20
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 claims description 20
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 claims description 18
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 claims description 16
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 14
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 claims description 13
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 claims description 12
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims description 12
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 12
- 230000005855 radiation Effects 0.000 claims description 12
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 11
- 239000002243 precursor Substances 0.000 claims description 11
- 238000012644 addition polymerization Methods 0.000 claims description 10
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 claims description 10
- 229910000029 sodium carbonate Inorganic materials 0.000 claims description 10
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 claims description 9
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims description 9
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 claims description 9
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 claims description 8
- 238000005530 etching Methods 0.000 claims description 8
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 claims description 7
- 239000003112 inhibitor Substances 0.000 claims description 7
- 150000008064 anhydrides Chemical class 0.000 claims description 6
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims description 6
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims description 6
- 238000009835 boiling Methods 0.000 claims description 5
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 claims description 5
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 claims description 5
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 claims description 5
- 125000000325 methylidene group Chemical group [H]C([H])=* 0.000 claims description 5
- XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N Vinyl acetate Chemical compound CC(=O)OC=C XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 claims description 4
- 150000001732 carboxylic acid derivatives Chemical class 0.000 claims description 4
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 claims description 4
- LDHQCZJRKDOVOX-NSCUHMNNSA-N crotonic acid Chemical compound C\C=C\C(O)=O LDHQCZJRKDOVOX-NSCUHMNNSA-N 0.000 claims description 4
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 claims description 4
- 230000000977 initiatory effect Effects 0.000 claims description 4
- LDHQCZJRKDOVOX-UHFFFAOYSA-N trans-crotonic acid Natural products CC=CC(O)=O LDHQCZJRKDOVOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- ZDQNWDNMNKSMHI-UHFFFAOYSA-N 1-[2-(2-prop-2-enoyloxypropoxy)propoxy]propan-2-yl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OC(C)COC(C)COCC(C)OC(=O)C=C ZDQNWDNMNKSMHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 125000005250 alkyl acrylate group Chemical group 0.000 claims description 3
- 150000001408 amides Chemical class 0.000 claims description 3
- 125000001309 chloro group Chemical group Cl* 0.000 claims description 3
- 239000011152 fibreglass Substances 0.000 claims description 3
- 150000003254 radicals Chemical class 0.000 claims description 3
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 claims description 2
- 238000010030 laminating Methods 0.000 claims description 2
- 229920005862 polyol Polymers 0.000 claims description 2
- 150000003077 polyols Chemical class 0.000 claims description 2
- 229920001567 vinyl ester resin Polymers 0.000 claims description 2
- UTOVMEACOLCUCK-PLNGDYQASA-N butyl maleate Chemical compound CCCCOC(=O)\C=C/C(O)=O UTOVMEACOLCUCK-PLNGDYQASA-N 0.000 claims 3
- HCLJOFJIQIJXHS-UHFFFAOYSA-N 2-[2-[2-(2-prop-2-enoyloxyethoxy)ethoxy]ethoxy]ethyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCCOCCOCCOCCOC(=O)C=C HCLJOFJIQIJXHS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- 239000007769 metal material Substances 0.000 claims 2
- DAKWPKUUDNSNPN-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane triacrylate Chemical compound C=CC(=O)OCC(CC)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C DAKWPKUUDNSNPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- ZCZFEIZSYJAXKS-UHFFFAOYSA-N [3-hydroxy-2,2-bis(hydroxymethyl)propyl] prop-2-enoate Chemical class OCC(CO)(CO)COC(=O)C=C ZCZFEIZSYJAXKS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 125000002768 hydroxyalkyl group Chemical group 0.000 claims 1
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical class [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- 239000010949 copper Chemical class 0.000 description 12
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 12
- 150000002734 metacrylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 11
- 239000012670 alkaline solution Substances 0.000 description 8
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 7
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 7
- 229920006267 polyester film Polymers 0.000 description 7
- 238000007639 printing Methods 0.000 description 7
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 6
- 229940001593 sodium carbonate Drugs 0.000 description 6
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 6
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 5
- ROOXNKNUYICQNP-UHFFFAOYSA-N ammonium persulfate Chemical compound [NH4+].[NH4+].[O-]S(=O)(=O)OOS([O-])(=O)=O ROOXNKNUYICQNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 230000015556 catabolic process Effects 0.000 description 5
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 4
- VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N Methyl methacrylate Chemical compound COC(=O)C(C)=C VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M Potassium hydroxide Chemical compound [OH-].[K+] KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 4
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N Pyridine Chemical compound C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 4
- 238000005336 cracking Methods 0.000 description 4
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N ether Substances CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000011888 foil Substances 0.000 description 4
- 238000003475 lamination Methods 0.000 description 4
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 4
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 4
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 4
- SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxy-5-methylphenyl)ethanamine Chemical compound COC1=CC=C(C)C=C1CCN SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-M Bicarbonate Chemical class OC([O-])=O BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N Formaldehyde Chemical compound O=C WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910021578 Iron(III) chloride Inorganic materials 0.000 description 3
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N Triethylamine Chemical compound CCN(CC)CC ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ISAOCJYIOMOJEB-UHFFFAOYSA-N benzoin Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(O)C(=O)C1=CC=CC=C1 ISAOCJYIOMOJEB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ARUVKPQLZAKDPS-UHFFFAOYSA-L copper(II) sulfate Chemical compound [Cu+2].[O-][S+2]([O-])([O-])[O-] ARUVKPQLZAKDPS-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 3
- 238000006731 degradation reaction Methods 0.000 description 3
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 3
- 150000002367 halogens Chemical group 0.000 description 3
- RBTARNINKXHZNM-UHFFFAOYSA-K iron trichloride Chemical compound Cl[Fe](Cl)Cl RBTARNINKXHZNM-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 3
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 3
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 3
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 3
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 3
- BATOPAZDIZEVQF-MQQKCMAXSA-N (E,E)-2,4-hexadienal Chemical compound C\C=C\C=C\C=O BATOPAZDIZEVQF-MQQKCMAXSA-N 0.000 description 2
- FRASJONUBLZVQX-UHFFFAOYSA-N 1,4-naphthoquinone Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C=CC(=O)C2=C1 FRASJONUBLZVQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LEJBBGNFPAFPKQ-UHFFFAOYSA-N 2-(2-prop-2-enoyloxyethoxy)ethyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCCOCCOC(=O)C=C LEJBBGNFPAFPKQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NJWGQARXZDRHCD-UHFFFAOYSA-N 2-methylanthraquinone Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC(C)=CC=C3C(=O)C2=C1 NJWGQARXZDRHCD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YYVYAPXYZVYDHN-UHFFFAOYSA-N 9,10-phenanthroquinone Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C(=O)C3=CC=CC=C3C2=C1 YYVYAPXYZVYDHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N Ammonium hydroxide Chemical compound [NH4+].[OH-] VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ROSDSFDQCJNGOL-UHFFFAOYSA-N Dimethylamine Chemical compound CNC ROSDSFDQCJNGOL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N Ethene Chemical group C=C VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000005977 Ethylene Substances 0.000 description 2
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N Fluorane Chemical compound F KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VZCYOOQTPOCHFL-OWOJBTEDSA-N Fumaric acid Chemical compound OC(=O)\C=C\C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-OWOJBTEDSA-N 0.000 description 2
- OAKJQQAXSVQMHS-UHFFFAOYSA-N Hydrazine Chemical compound NN OAKJQQAXSVQMHS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N Hydroquinone Chemical compound OC1=CC=C(O)C=C1 QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N Lithium Chemical compound [Li] WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MJVAVZPDRWSRRC-UHFFFAOYSA-N Menadione Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C(C)=CC(=O)C2=C1 MJVAVZPDRWSRRC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BAPJBEWLBFYGME-UHFFFAOYSA-N Methyl acrylate Chemical group COC(=O)C=C BAPJBEWLBFYGME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YNAVUWVOSKDBBP-UHFFFAOYSA-N Morpholine Chemical compound C1COCCN1 YNAVUWVOSKDBBP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UFWIBTONFRDIAS-UHFFFAOYSA-N Naphthalene Chemical compound C1=CC=CC2=CC=CC=C21 UFWIBTONFRDIAS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GLUUGHFHXGJENI-UHFFFAOYSA-N Piperazine Chemical compound C1CNCCN1 GLUUGHFHXGJENI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NQRYJNQNLNOLGT-UHFFFAOYSA-N Piperidine Chemical compound C1CCNCC1 NQRYJNQNLNOLGT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 244000028419 Styrax benzoin Species 0.000 description 2
- 235000000126 Styrax benzoin Nutrition 0.000 description 2
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 235000008411 Sumatra benzointree Nutrition 0.000 description 2
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 2
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 2
- 125000002947 alkylene group Chemical group 0.000 description 2
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 2
- 235000011114 ammonium hydroxide Nutrition 0.000 description 2
- 229910001870 ammonium persulfate Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000005452 bending Methods 0.000 description 2
- 229960002130 benzoin Drugs 0.000 description 2
- CQEYYJKEWSMYFG-UHFFFAOYSA-N butyl acrylate Chemical compound CCCCOC(=O)C=C CQEYYJKEWSMYFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000004649 carbonic acid derivatives Chemical class 0.000 description 2
- 239000003518 caustics Substances 0.000 description 2
- 229920002678 cellulose Polymers 0.000 description 2
- 125000003636 chemical group Chemical group 0.000 description 2
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 2
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 2
- 239000011889 copper foil Substances 0.000 description 2
- ORTQZVOHEJQUHG-UHFFFAOYSA-L copper(II) chloride Chemical compound Cl[Cu]Cl ORTQZVOHEJQUHG-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 125000004386 diacrylate group Chemical group 0.000 description 2
- 238000007598 dipping method Methods 0.000 description 2
- FJKIXWOMBXYWOQ-UHFFFAOYSA-N ethenoxyethane Chemical class CCOC=C FJKIXWOMBXYWOQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 235000019382 gum benzoic Nutrition 0.000 description 2
- WMFOQBRAJBCJND-UHFFFAOYSA-M lithium hydroxide Inorganic materials [Li+].[OH-] WMFOQBRAJBCJND-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- FQPSGWSUVKBHSU-UHFFFAOYSA-N methacrylamide Chemical compound CC(=C)C(N)=O FQPSGWSUVKBHSU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LQNUZADURLCDLV-UHFFFAOYSA-N nitrobenzene Chemical compound [O-][N+](=O)C1=CC=CC=C1 LQNUZADURLCDLV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000011368 organic material Substances 0.000 description 2
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 2
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 description 2
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 2
- 229920001515 polyalkylene glycol Polymers 0.000 description 2
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 2
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 2
- BWHMMNNQKKPAPP-UHFFFAOYSA-L potassium carbonate Substances [K+].[K+].[O-]C([O-])=O BWHMMNNQKKPAPP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N pyridine Natural products COC1=CC=CN=C1 UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WQGWDDDVZFFDIG-UHFFFAOYSA-N pyrogallol Chemical class OC1=CC=CC(O)=C1O WQGWDDDVZFFDIG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000004053 quinones Chemical class 0.000 description 2
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 2
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 2
- BATOPAZDIZEVQF-UHFFFAOYSA-N sorbic aldehyde Natural products CC=CC=CC=O BATOPAZDIZEVQF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N trans-butenedioic acid Natural products OC(=O)C=CC(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GETQZCLCWQTVFV-UHFFFAOYSA-N trimethylamine Chemical compound CN(C)C GETQZCLCWQTVFV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 2
- LGPAKRMZNPYPMG-UHFFFAOYSA-N (3-hydroxy-2-prop-2-enoyloxypropyl) prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OC(CO)COC(=O)C=C LGPAKRMZNPYPMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002818 (Hydroxyethyl)methacrylate Polymers 0.000 description 1
- VSKCCZIUZNTICH-ZPYUXNTASA-N (e)-but-2-enoic acid;ethenyl acetate Chemical compound C\C=C\C(O)=O.CC(=O)OC=C VSKCCZIUZNTICH-ZPYUXNTASA-N 0.000 description 1
- WBYWAXJHAXSJNI-VOTSOKGWSA-M .beta-Phenylacrylic acid Natural products [O-]C(=O)\C=C\C1=CC=CC=C1 WBYWAXJHAXSJNI-VOTSOKGWSA-M 0.000 description 1
- AZESNEXPGASJRZ-UHFFFAOYSA-N 1,2,3,4-tetrahydrobenzo[a]anthracene-7,12-dione Chemical compound C1CCCC2=CC=C3C(=O)C4=CC=CC=C4C(=O)C3=C21 AZESNEXPGASJRZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WDCYWAQPCXBPJA-UHFFFAOYSA-N 1,3-dinitrobenzene Chemical compound [O-][N+](=O)C1=CC=CC([N+]([O-])=O)=C1 WDCYWAQPCXBPJA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000005208 1,4-dihydroxybenzenes Chemical class 0.000 description 1
- DVFAVJDEPNXAME-UHFFFAOYSA-N 1,4-dimethylanthracene-9,10-dione Chemical compound O=C1C2=CC=CC=C2C(=O)C2=C1C(C)=CC=C2C DVFAVJDEPNXAME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KFQPRNVTVMCYEH-UHFFFAOYSA-N 1-amino-3-(4-methoxyphenoxy)propan-2-ol Chemical compound COC1=CC=C(OCC(O)CN)C=C1 KFQPRNVTVMCYEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BOCJQSFSGAZAPQ-UHFFFAOYSA-N 1-chloroanthracene-9,10-dione Chemical compound O=C1C2=CC=CC=C2C(=O)C2=C1C=CC=C2Cl BOCJQSFSGAZAPQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YNSNJGRCQCDRDM-UHFFFAOYSA-N 1-chlorothioxanthen-9-one Chemical class S1C2=CC=CC=C2C(=O)C2=C1C=CC=C2Cl YNSNJGRCQCDRDM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YAOJJEJGPZRYJF-UHFFFAOYSA-N 1-ethenoxyhexane Chemical class CCCCCCOC=C YAOJJEJGPZRYJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WVOVXOXRXQFTAS-UHFFFAOYSA-N 1-methyl-7-propan-2-ylphenanthrene-9,10-dione Chemical compound C1=CC=C2C3=CC=C(C(C)C)C=C3C(=O)C(=O)C2=C1C WVOVXOXRXQFTAS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KJCVRFUGPWSIIH-UHFFFAOYSA-N 1-naphthol Chemical compound C1=CC=C2C(O)=CC=CC2=C1 KJCVRFUGPWSIIH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KWVGIHKZDCUPEU-UHFFFAOYSA-N 2,2-dimethoxy-2-phenylacetophenone Chemical class C=1C=CC=CC=1C(OC)(OC)C(=O)C1=CC=CC=C1 KWVGIHKZDCUPEU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PUGOMSLRUSTQGV-UHFFFAOYSA-N 2,3-di(prop-2-enoyloxy)propyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC(OC(=O)C=C)COC(=O)C=C PUGOMSLRUSTQGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SVPKNMBRVBMTLB-UHFFFAOYSA-N 2,3-dichloronaphthalene-1,4-dione Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C(Cl)=C(Cl)C(=O)C2=C1 SVPKNMBRVBMTLB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KIJPZYXCIHZVGP-UHFFFAOYSA-N 2,3-dimethylanthracene-9,10-dione Chemical compound O=C1C2=CC=CC=C2C(=O)C2=C1C=C(C)C(C)=C2 KIJPZYXCIHZVGP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LZWVPGJPVCYAOC-UHFFFAOYSA-N 2,3-diphenylanthracene-9,10-dione Chemical compound C=1C=CC=CC=1C=1C=C2C(=O)C3=CC=CC=C3C(=O)C2=CC=1C1=CC=CC=C1 LZWVPGJPVCYAOC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JAHNSTQSQJOJLO-UHFFFAOYSA-N 2-(3-fluorophenyl)-1h-imidazole Chemical compound FC1=CC=CC(C=2NC=CN=2)=C1 JAHNSTQSQJOJLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OEPOKWHJYJXUGD-UHFFFAOYSA-N 2-(3-phenylmethoxyphenyl)-1,3-thiazole-4-carbaldehyde Chemical group O=CC1=CSC(C=2C=C(OCC=3C=CC=CC=3)C=CC=2)=N1 OEPOKWHJYJXUGD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RILZRCJGXSFXNE-UHFFFAOYSA-N 2-[4-(trifluoromethoxy)phenyl]ethanol Chemical compound OCCC1=CC=C(OC(F)(F)F)C=C1 RILZRCJGXSFXNE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MHOFGBJTSNWTDT-UHFFFAOYSA-M 2-[n-ethyl-4-[(6-methoxy-3-methyl-1,3-benzothiazol-3-ium-2-yl)diazenyl]anilino]ethanol;methyl sulfate Chemical compound COS([O-])(=O)=O.C1=CC(N(CCO)CC)=CC=C1N=NC1=[N+](C)C2=CC=C(OC)C=C2S1 MHOFGBJTSNWTDT-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- YQZHOBBQNFBTJE-UHFFFAOYSA-N 2-chloro-3-methylanthracene-9,10-dione Chemical compound O=C1C2=CC=CC=C2C(=O)C2=C1C=C(C)C(Cl)=C2 YQZHOBBQNFBTJE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FPKCTSIVDAWGFA-UHFFFAOYSA-N 2-chloroanthracene-9,10-dione Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC(Cl)=CC=C3C(=O)C2=C1 FPKCTSIVDAWGFA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FWWXYLGCHHIKNY-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxyethyl prop-2-enoate Chemical compound CCOCCOC(=O)C=C FWWXYLGCHHIKNY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SJEBAWHUJDUKQK-UHFFFAOYSA-N 2-ethylanthraquinone Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC(CC)=CC=C3C(=O)C2=C1 SJEBAWHUJDUKQK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CKKQLOUBFINSIB-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxy-1,2,2-triphenylethanone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(C=1C=CC=CC=1)(O)C(=O)C1=CC=CC=C1 CKKQLOUBFINSIB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RZCDMINQJLGWEP-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxy-1,2-diphenylpent-4-en-1-one Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(CC=C)(O)C(=O)C1=CC=CC=C1 RZCDMINQJLGWEP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OMIGHNLMNHATMP-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxyethyl prop-2-enoate Chemical compound OCCOC(=O)C=C OMIGHNLMNHATMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- TURITJIWSQEMDB-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-n-[(2-methylprop-2-enoylamino)methyl]prop-2-enamide Chemical compound CC(=C)C(=O)NCNC(=O)C(C)=C TURITJIWSQEMDB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VTWDKFNVVLAELH-UHFFFAOYSA-N 2-methylcyclohexa-2,5-diene-1,4-dione Chemical compound CC1=CC(=O)C=CC1=O VTWDKFNVVLAELH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MGSBHCXXTFPYAJ-UHFFFAOYSA-N 2-phenoxyethyl 2-methylidenebutaneperoxoate Chemical compound CCC(=C)C(=O)OOCCOC1=CC=CC=C1 MGSBHCXXTFPYAJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NTZCFGZBDDCNHI-UHFFFAOYSA-N 2-phenylanthracene-9,10-dione Chemical compound C=1C=C2C(=O)C3=CC=CC=C3C(=O)C2=CC=1C1=CC=CC=C1 NTZCFGZBDDCNHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KUDUQBURMYMBIJ-UHFFFAOYSA-N 2-prop-2-enoyloxyethyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCCOC(=O)C=C KUDUQBURMYMBIJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GGRBZHPJKWFAFZ-UHFFFAOYSA-N 3,4-bis(2-methylprop-2-enoyloxy)butyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCC(OC(=O)C(C)=C)COC(=O)C(C)=C GGRBZHPJKWFAFZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HTWRFCRQSLVESJ-UHFFFAOYSA-N 3-(2-methylprop-2-enoyloxy)propyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCCOC(=O)C(C)=C HTWRFCRQSLVESJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GNSFRPWPOGYVLO-UHFFFAOYSA-N 3-hydroxypropyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCCO GNSFRPWPOGYVLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JIGUICYYOYEXFS-UHFFFAOYSA-N 3-tert-butylbenzene-1,2-diol Chemical class CC(C)(C)C1=CC=CC(O)=C1O JIGUICYYOYEXFS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JLBJTVDPSNHSKJ-UHFFFAOYSA-N 4-Methylstyrene Chemical compound CC1=CC=C(C=C)C=C1 JLBJTVDPSNHSKJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AXDJCCTWPBKUKL-UHFFFAOYSA-N 4-[(4-aminophenyl)-(4-imino-3-methylcyclohexa-2,5-dien-1-ylidene)methyl]aniline;hydron;chloride Chemical compound Cl.C1=CC(=N)C(C)=CC1=C(C=1C=CC(N)=CC=1)C1=CC=C(N)C=C1 AXDJCCTWPBKUKL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YMRDPCUYKKPMFC-UHFFFAOYSA-N 4-hydroxy-2,2,5,5-tetramethylhexan-3-one Chemical compound CC(C)(C)C(O)C(=O)C(C)(C)C YMRDPCUYKKPMFC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FEIQOMCWGDNMHM-UHFFFAOYSA-N 5-phenylpenta-2,4-dienoic acid Chemical compound OC(=O)C=CC=CC1=CC=CC=C1 FEIQOMCWGDNMHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XAMCLRBWHRRBCN-UHFFFAOYSA-N 5-prop-2-enoyloxypentyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCCCCCOC(=O)C=C XAMCLRBWHRRBCN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RKCRIUIBDUVZSP-UHFFFAOYSA-N 7,8,9,10-tetrahydrotetracene-1,2-dione Chemical compound C1CCCC2=C1C=C1C=C3C=CC(=O)C(=O)C3=CC1=C2 RKCRIUIBDUVZSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RZVHIXYEVGDQDX-UHFFFAOYSA-N 9,10-anthraquinone Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC=CC=C3C(=O)C2=C1 RZVHIXYEVGDQDX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940076442 9,10-anthraquinone Drugs 0.000 description 1
- HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N Acrylamide Chemical compound NC(=O)C=C HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N Acrylonitrile Chemical group C=CC#N NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004160 Ammonium persulphate Substances 0.000 description 1
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical compound [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NLZUEZXRPGMBCV-UHFFFAOYSA-N Butylhydroxytoluene Chemical compound CC1=CC(C(C)(C)C)=C(O)C(C(C)(C)C)=C1 NLZUEZXRPGMBCV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QPIHNGONQLHORK-UHFFFAOYSA-N C(C=C)(=O)OC(CC(OCCC)(OCCC)OCCC)OC1=CC=CC=C1 Chemical compound C(C=C)(=O)OC(CC(OCCC)(OCCC)OCCC)OC1=CC=CC=C1 QPIHNGONQLHORK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ALAJKLKHVCPLQP-UHFFFAOYSA-N C(C=C)(=O)OCC(OCC)(OCC)OC1CCCCC1 Chemical compound C(C=C)(=O)OCC(OCC)(OCC)OC1CCCCC1 ALAJKLKHVCPLQP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JUQPZRLQQYSMEQ-UHFFFAOYSA-N CI Basic red 9 Chemical compound [Cl-].C1=CC(N)=CC=C1C(C=1C=CC(N)=CC=1)=C1C=CC(=[NH2+])C=C1 JUQPZRLQQYSMEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 description 1
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WBYWAXJHAXSJNI-SREVYHEPSA-N Cinnamic acid Chemical compound OC(=O)\C=C/C1=CC=CC=C1 WBYWAXJHAXSJNI-SREVYHEPSA-N 0.000 description 1
- QSJXEFYPDANLFS-UHFFFAOYSA-N Diacetyl Chemical group CC(=O)C(C)=O QSJXEFYPDANLFS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OTMSDBZUPAUEDD-UHFFFAOYSA-N Ethane Chemical compound CC OTMSDBZUPAUEDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JIGUQPWFLRLWPJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acrylate Chemical compound CCOC(=O)C=C JIGUQPWFLRLWPJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N Ethylene oxide Chemical compound C1CO1 IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004705 High-molecular-weight polyethylene Substances 0.000 description 1
- WOBHKFSMXKNTIM-UHFFFAOYSA-N Hydroxyethyl methacrylate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCO WOBHKFSMXKNTIM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AVXURJPOCDRRFD-UHFFFAOYSA-N Hydroxylamine Chemical group ON AVXURJPOCDRRFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GYCMBHHDWRMZGG-UHFFFAOYSA-N Methylacrylonitrile Chemical group CC(=C)C#N GYCMBHHDWRMZGG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 206010034972 Photosensitivity reaction Diseases 0.000 description 1
- 229920003171 Poly (ethylene oxide) Polymers 0.000 description 1
- 239000004952 Polyamide Substances 0.000 description 1
- OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N Propanedioic acid Natural products OC(=O)CC(O)=O OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 1
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical compound [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005864 Sulphur Substances 0.000 description 1
- GSEJCLTVZPLZKY-UHFFFAOYSA-N Triethanolamine Chemical class OCCN(CCO)CCO GSEJCLTVZPLZKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N Vinyl chloride Chemical group ClC=C BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QKVALPJOMXCQOG-UHFFFAOYSA-N [1-(4-chlorophenoxy)-2,2,2-triethoxyethyl] prop-2-enoate Chemical compound CCOC(OCC)(OCC)C(OC(=O)C=C)OC1=CC=C(Cl)C=C1 QKVALPJOMXCQOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- APZPSKFMSWZPKL-UHFFFAOYSA-N [3-hydroxy-2,2-bis(hydroxymethyl)propyl] 2-methylprop-2-enoate Chemical class CC(=C)C(=O)OCC(CO)(CO)CO APZPSKFMSWZPKL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MDMKOESKPAVFJF-UHFFFAOYSA-N [4-(2-methylprop-2-enoyloxy)phenyl] 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OC1=CC=C(OC(=O)C(C)=C)C=C1 MDMKOESKPAVFJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003377 acid catalyst Substances 0.000 description 1
- 150000003926 acrylamides Chemical class 0.000 description 1
- 125000002252 acyl group Chemical group 0.000 description 1
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 1
- 239000002318 adhesion promoter Substances 0.000 description 1
- 125000003158 alcohol group Chemical group 0.000 description 1
- 150000001299 aldehydes Chemical class 0.000 description 1
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000008044 alkali metal hydroxides Chemical class 0.000 description 1
- 229910000318 alkali metal phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001447 alkali salts Chemical class 0.000 description 1
- XYLMUPLGERFSHI-UHFFFAOYSA-N alpha-Methylstyrene Chemical compound CC(=C)C1=CC=CC=C1 XYLMUPLGERFSHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004411 aluminium Substances 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000908 ammonium hydroxide Substances 0.000 description 1
- 235000019395 ammonium persulphate Nutrition 0.000 description 1
- PYKYMHQGRFAEBM-UHFFFAOYSA-N anthraquinone Natural products CCC(=O)c1c(O)c2C(=O)C3C(C=CC=C3O)C(=O)c2cc1CC(=O)OC PYKYMHQGRFAEBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000008365 aromatic ketones Chemical class 0.000 description 1
- VUEDNLCYHKSELL-UHFFFAOYSA-N arsonium Chemical compound [AsH4+] VUEDNLCYHKSELL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JPIYZTWMUGTEHX-UHFFFAOYSA-N auramine O free base Chemical compound C1=CC(N(C)C)=CC=C1C(=N)C1=CC=C(N(C)C)C=C1 JPIYZTWMUGTEHX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002585 base Substances 0.000 description 1
- LHMRXAIRPKSGDE-UHFFFAOYSA-N benzo[a]anthracene-7,12-dione Chemical compound C1=CC2=CC=CC=C2C2=C1C(=O)C1=CC=CC=C1C2=O LHMRXAIRPKSGDE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N benzophenone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)C1=CC=CC=C1 RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012965 benzophenone Substances 0.000 description 1
- FWXDJLWIMSYZNW-UHFFFAOYSA-M benzyl(dimethyl)sulfanium;hydroxide Chemical class [OH-].C[S+](C)CC1=CC=CC=C1 FWXDJLWIMSYZNW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- PIPBVABVQJZSAB-UHFFFAOYSA-N bis(ethenyl) benzene-1,2-dicarboxylate Chemical compound C=COC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)OC=C PIPBVABVQJZSAB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FLHKEWQKOHJIMH-UHFFFAOYSA-N bis(ethenyl) benzene-1,3-disulfonate Chemical compound C=COS(=O)(=O)C1=CC=CC(S(=O)(=O)OC=C)=C1 FLHKEWQKOHJIMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IHXBXGHGYCSRAP-UHFFFAOYSA-N bis(ethenyl) benzene-1,4-dicarboxylate Chemical compound C=COC(=O)C1=CC=C(C(=O)OC=C)C=C1 IHXBXGHGYCSRAP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SZARYXGAVDEJAY-UHFFFAOYSA-N bis(ethenyl) butane-1,4-disulfonate Chemical compound C=COS(=O)(=O)CCCCS(=O)(=O)OC=C SZARYXGAVDEJAY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AJCHRUXIDGEWDK-UHFFFAOYSA-N bis(ethenyl) butanedioate Chemical compound C=COC(=O)CCC(=O)OC=C AJCHRUXIDGEWDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JZQAAQZDDMEFGZ-UHFFFAOYSA-N bis(ethenyl) hexanedioate Chemical compound C=COC(=O)CCCCC(=O)OC=C JZQAAQZDDMEFGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N bromine Substances BrBr GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052794 bromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000001680 brushing effect Effects 0.000 description 1
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 235000010354 butylated hydroxytoluene Nutrition 0.000 description 1
- 150000001721 carbon Chemical group 0.000 description 1
- 150000001244 carboxylic acid anhydrides Chemical group 0.000 description 1
- JZULKTSSLJNBQJ-UHFFFAOYSA-N chromium;sulfuric acid Chemical class [Cr].OS(O)(=O)=O JZULKTSSLJNBQJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229930016911 cinnamic acid Natural products 0.000 description 1
- 235000013985 cinnamic acid Nutrition 0.000 description 1
- 229910000365 copper sulfate Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000000753 cycloalkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 235000011180 diphosphates Nutrition 0.000 description 1
- FTZLWXQKVFFWLY-UHFFFAOYSA-L disodium;2,5-dichloro-4-[3-methyl-5-oxo-4-[(4-sulfonatophenyl)diazenyl]-4h-pyrazol-1-yl]benzenesulfonate Chemical compound [Na+].[Na+].CC1=NN(C=2C(=CC(=C(Cl)C=2)S([O-])(=O)=O)Cl)C(=O)C1N=NC1=CC=C(S([O-])(=O)=O)C=C1 FTZLWXQKVFFWLY-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- FPVGTPBMTFTMRT-UHFFFAOYSA-L disodium;2-amino-5-[(4-sulfonatophenyl)diazenyl]benzenesulfonate Chemical compound [Na+].[Na+].C1=C(S([O-])(=O)=O)C(N)=CC=C1N=NC1=CC=C(S([O-])(=O)=O)C=C1 FPVGTPBMTFTMRT-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- MQRJBSHKWOFOGF-UHFFFAOYSA-L disodium;carbonate;hydrate Chemical compound O.[Na+].[Na+].[O-]C([O-])=O MQRJBSHKWOFOGF-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000009713 electroplating Methods 0.000 description 1
- MEGHWIAOTJPCHQ-UHFFFAOYSA-N ethenyl butanoate Chemical group CCCC(=O)OC=C MEGHWIAOTJPCHQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BEFDCLMNVWHSGT-UHFFFAOYSA-N ethenylcyclopentane Chemical compound C=CC1CCCC1 BEFDCLMNVWHSGT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002573 ethenylidene group Chemical group [*]=C=C([H])[H] 0.000 description 1
- SUPCQIBBMFXVTL-UHFFFAOYSA-N ethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCOC(=O)C(C)=C SUPCQIBBMFXVTL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- JVICFMRAVNKDOE-UHFFFAOYSA-M ethyl violet Chemical compound [Cl-].C1=CC(N(CC)CC)=CC=C1C(C=1C=CC(=CC=1)N(CC)CC)=C1C=CC(=[N+](CC)CC)C=C1 JVICFMRAVNKDOE-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- SQHOAFZGYFNDQX-UHFFFAOYSA-N ethyl-[7-(ethylamino)-2,8-dimethylphenothiazin-3-ylidene]azanium;chloride Chemical compound [Cl-].S1C2=CC(=[NH+]CC)C(C)=CC2=NC2=C1C=C(NCC)C(C)=C2 SQHOAFZGYFNDQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- STVZJERGLQHEKB-UHFFFAOYSA-N ethylene glycol dimethacrylate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCOC(=O)C(C)=C STVZJERGLQHEKB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000019233 fast yellow AB Nutrition 0.000 description 1
- 239000001530 fumaric acid Substances 0.000 description 1
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 1
- WDPIZEKLJKBSOZ-UHFFFAOYSA-M green s Chemical compound [Na+].C1=CC(N(C)C)=CC=C1C(C=1C2=CC=C(C=C2C=C(C=1O)S([O-])(=O)=O)S([O-])(=O)=O)=C1C=CC(=[N+](C)C)C=C1 WDPIZEKLJKBSOZ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- PBZROIMXDZTJDF-UHFFFAOYSA-N hepta-1,6-dien-4-one Chemical class C=CCC(=O)CC=C PBZROIMXDZTJDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005842 heteroatom Chemical group 0.000 description 1
- JTHNLKXLWOXOQK-UHFFFAOYSA-N hex-1-en-3-one Chemical class CCCC(=O)C=C JTHNLKXLWOXOQK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NAQMVNRVTILPCV-UHFFFAOYSA-N hexane-1,6-diamine Chemical class NCCCCCCN NAQMVNRVTILPCV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229960004337 hydroquinone Drugs 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-M hydroxide Chemical compound [OH-] XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000004615 ingredient Substances 0.000 description 1
- 239000003999 initiator Substances 0.000 description 1
- RUTXIHLAWFEWGM-UHFFFAOYSA-H iron(3+) sulfate Chemical compound [Fe+3].[Fe+3].[O-]S([O-])(=O)=O.[O-]S([O-])(=O)=O.[O-]S([O-])(=O)=O RUTXIHLAWFEWGM-UHFFFAOYSA-H 0.000 description 1
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 1
- YAFKGUAJYKXPDI-UHFFFAOYSA-J lead tetrafluoride Chemical compound F[Pb](F)(F)F YAFKGUAJYKXPDI-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 229910052744 lithium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000003754 machining Methods 0.000 description 1
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 description 1
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 1
- VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N maleic acid Chemical compound OC(=O)\C=C/C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N 0.000 description 1
- 239000011976 maleic acid Substances 0.000 description 1
- 125000005397 methacrylic acid ester group Chemical group 0.000 description 1
- 229940086559 methyl benzoin Drugs 0.000 description 1
- WBYWAXJHAXSJNI-UHFFFAOYSA-N methyl p-hydroxycinnamate Natural products OC(=O)C=CC1=CC=CC=C1 WBYWAXJHAXSJNI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XJRBAMWJDBPFIM-UHFFFAOYSA-N methyl vinyl ether Chemical class COC=C XJRBAMWJDBPFIM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LVHBHZANLOWSRM-UHFFFAOYSA-N methylenebutanedioic acid Natural products OC(=O)CC(=C)C(O)=O LVHBHZANLOWSRM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZIUHHBKFKCYYJD-UHFFFAOYSA-N n,n'-methylenebisacrylamide Chemical compound C=CC(=O)NCNC(=O)C=C ZIUHHBKFKCYYJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YQCFXPARMSSRRK-UHFFFAOYSA-N n-[6-(prop-2-enoylamino)hexyl]prop-2-enamide Chemical compound C=CC(=O)NCCCCCCNC(=O)C=C YQCFXPARMSSRRK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RIWRFSMVIUAEBX-UHFFFAOYSA-N n-methyl-1-phenylmethanamine Chemical compound CNCC1=CC=CC=C1 RIWRFSMVIUAEBX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000005002 naphthylamines Chemical class 0.000 description 1
- IPSIPYMEZZPCPY-UHFFFAOYSA-N new fuchsin Chemical compound [Cl-].C1=CC(=[NH2+])C(C)=CC1=C(C=1C=C(C)C(N)=CC=1)C1=CC=C(N)C(C)=C1 IPSIPYMEZZPCPY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000449 nitro group Chemical group [O-][N+](*)=O 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- NWVVVBRKAWDGAB-UHFFFAOYSA-N p-methoxyphenol Chemical compound COC1=CC=C(O)C=C1 NWVVVBRKAWDGAB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ATGAWOHQWWULNK-UHFFFAOYSA-I pentapotassium;[oxido(phosphonatooxy)phosphoryl] phosphate Chemical class [K+].[K+].[K+].[K+].[K+].[O-]P([O-])(=O)OP([O-])(=O)OP([O-])([O-])=O ATGAWOHQWWULNK-UHFFFAOYSA-I 0.000 description 1
- PNJWIWWMYCMZRO-UHFFFAOYSA-N pent‐4‐en‐2‐one Natural products CC(=O)CC=C PNJWIWWMYCMZRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002989 phenols Chemical class 0.000 description 1
- 229950000688 phenothiazine Drugs 0.000 description 1
- 125000000951 phenoxy group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(O*)C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- XYFCBTPGUUZFHI-UHFFFAOYSA-O phosphonium Chemical compound [PH4+] XYFCBTPGUUZFHI-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 1
- 230000036211 photosensitivity Effects 0.000 description 1
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 1
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 1
- 239000004014 plasticizer Substances 0.000 description 1
- 229920001281 polyalkylene Polymers 0.000 description 1
- 229920002647 polyamide Polymers 0.000 description 1
- 229920000768 polyamine Polymers 0.000 description 1
- 229920001223 polyethylene glycol Polymers 0.000 description 1
- 239000003505 polymerization initiator Substances 0.000 description 1
- 229920000098 polyolefin Polymers 0.000 description 1
- 229920001451 polypropylene glycol Polymers 0.000 description 1
- 235000011181 potassium carbonates Nutrition 0.000 description 1
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 1
- 150000003141 primary amines Chemical class 0.000 description 1
- BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N propan-1-ol Chemical compound CCCO BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UORVCLMRJXCDCP-UHFFFAOYSA-N propynoic acid Chemical compound OC(=O)C#C UORVCLMRJXCDCP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940079877 pyrogallol Drugs 0.000 description 1
- 230000007420 reactivation Effects 0.000 description 1
- 238000011084 recovery Methods 0.000 description 1
- 150000003335 secondary amines Chemical class 0.000 description 1
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 1
- 229940076133 sodium carbonate monohydrate Drugs 0.000 description 1
- 235000011182 sodium carbonates Nutrition 0.000 description 1
- 159000000000 sodium salts Chemical class 0.000 description 1
- AXMCIYLNKNGNOT-UHFFFAOYSA-N sodium;3-[[4-[(4-dimethylazaniumylidenecyclohexa-2,5-dien-1-ylidene)-[4-[ethyl-[(3-sulfophenyl)methyl]amino]phenyl]methyl]-n-ethylanilino]methyl]benzenesulfonate Chemical compound [Na+].C=1C=C(C(=C2C=CC(C=C2)=[N+](C)C)C=2C=CC(=CC=2)N(CC)CC=2C=C(C=CC=2)S([O-])(=O)=O)C=CC=1N(CC)CC1=CC=CC(S(O)(=O)=O)=C1 AXMCIYLNKNGNOT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 1
- 235000010199 sorbic acid Nutrition 0.000 description 1
- 239000004334 sorbic acid Substances 0.000 description 1
- 229940075582 sorbic acid Drugs 0.000 description 1
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 1
- 239000012192 staining solution Substances 0.000 description 1
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 1
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 1
- LPSWFOCTMJQJIS-UHFFFAOYSA-N sulfanium;hydroxide Chemical class [OH-].[SH3+] LPSWFOCTMJQJIS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 1
- UJMBCXLDXJUMFB-GLCFPVLVSA-K tartrazine Chemical compound [Na+].[Na+].[Na+].[O-]C(=O)C1=NN(C=2C=CC(=CC=2)S([O-])(=O)=O)C(=O)C1\N=N\C1=CC=C(S([O-])(=O)=O)C=C1 UJMBCXLDXJUMFB-GLCFPVLVSA-K 0.000 description 1
- 239000004149 tartrazine Substances 0.000 description 1
- 235000012756 tartrazine Nutrition 0.000 description 1
- 229960000943 tartrazine Drugs 0.000 description 1
- 229920001897 terpolymer Polymers 0.000 description 1
- 125000000999 tert-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 150000003512 tertiary amines Chemical class 0.000 description 1
- UGNWTBMOAKPKBL-UHFFFAOYSA-N tetrachloro-1,4-benzoquinone Chemical compound ClC1=C(Cl)C(=O)C(Cl)=C(Cl)C1=O UGNWTBMOAKPKBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003698 tetramethyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 1
- CRUVUWATNULHFA-UHFFFAOYSA-M tetramethylphosphanium;hydroxide Chemical compound [OH-].C[P+](C)(C)C CRUVUWATNULHFA-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- RYCLIXPGLDDLTM-UHFFFAOYSA-J tetrapotassium;phosphonato phosphate Chemical class [K+].[K+].[K+].[K+].[O-]P([O-])(=O)OP([O-])([O-])=O RYCLIXPGLDDLTM-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
- MPCYPRXRVWZKGF-UHFFFAOYSA-J tetrasodium 5-amino-3-[[4-[4-[(8-amino-1-hydroxy-3,6-disulfonatonaphthalen-2-yl)diazenyl]phenyl]phenyl]diazenyl]-4-hydroxynaphthalene-2,7-disulfonate Chemical compound [Na+].[Na+].[Na+].[Na+].C1=C(S([O-])(=O)=O)C=C2C=C(S([O-])(=O)=O)C(N=NC3=CC=C(C=C3)C3=CC=C(C=C3)N=NC3=C(C=C4C=C(C=C(C4=C3O)N)S([O-])(=O)=O)S([O-])(=O)=O)=C(O)C2=C1N MPCYPRXRVWZKGF-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
- 150000003568 thioethers Chemical class 0.000 description 1
- CZIRZNRQHFVCDZ-UHFFFAOYSA-L titan yellow Chemical compound [Na+].[Na+].C1=C(C)C(S([O-])(=O)=O)=C2SC(C3=CC=C(C=C3)/N=N/NC3=CC=C(C=C3)C3=NC4=CC=C(C(=C4S3)S([O-])(=O)=O)C)=NC2=C1 CZIRZNRQHFVCDZ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 230000001988 toxicity Effects 0.000 description 1
- 231100000419 toxicity Toxicity 0.000 description 1
- HADKRTWCOYPCPH-UHFFFAOYSA-M trimethylphenylammonium hydroxide Chemical class [OH-].C[N+](C)(C)C1=CC=CC=C1 HADKRTWCOYPCPH-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- LENZDBCJOHFCAS-UHFFFAOYSA-N tris Chemical compound OCC(N)(CO)CO LENZDBCJOHFCAS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KOZCZZVUFDCZGG-UHFFFAOYSA-N vinyl benzoate Chemical group C=COC(=O)C1=CC=CC=C1 KOZCZZVUFDCZGG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FUSUHKVFWTUUBE-UHFFFAOYSA-N vinyl methyl ketone Chemical class CC(=O)C=C FUSUHKVFWTUUBE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000007964 xanthones Chemical class 0.000 description 1
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
- G03F7/028—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with photosensitivity-increasing substances, e.g. photoinitiators
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
- G03F7/032—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with binders
- G03F7/033—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with binders the binders being polymers obtained by reactions only involving carbon-to-carbon unsaturated bonds, e.g. vinyl polymers
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
- G03F7/032—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with binders
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S430/00—Radiation imagery chemistry: process, composition, or product thereof
- Y10S430/1053—Imaging affecting physical property or radiation sensitive material, or producing nonplanar or printing surface - process, composition, or product: radiation sensitive composition or product or process of making binder containing
- Y10S430/1055—Radiation sensitive composition or product or process of making
- Y10S430/106—Binder containing
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S430/00—Radiation imagery chemistry: process, composition, or product thereof
- Y10S430/1053—Imaging affecting physical property or radiation sensitive material, or producing nonplanar or printing surface - process, composition, or product: radiation sensitive composition or product or process of making binder containing
- Y10S430/1055—Radiation sensitive composition or product or process of making
- Y10S430/106—Binder containing
- Y10S430/111—Polymer of unsaturated acid or ester
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S430/00—Radiation imagery chemistry: process, composition, or product thereof
- Y10S430/1053—Imaging affecting physical property or radiation sensitive material, or producing nonplanar or printing surface - process, composition, or product: radiation sensitive composition or product or process of making binder containing
- Y10S430/1055—Radiation sensitive composition or product or process of making
- Y10S430/114—Initiator containing
- Y10S430/118—Initiator containing with inhibitor or stabilizer
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Polymerisation Methods In General (AREA)
- Manufacturing Of Printed Circuit Boards (AREA)
- Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
- Non-Metallic Protective Coatings For Printed Circuits (AREA)
- Materials For Photolithography (AREA)
Description
Foreliggende oppfinnelse angår en fleksibel, hurtigfremkallende fotopolymeriserbar sammensetning samt et ark eller en rull fremstilt fra nevnte sammensetning. Foreliggende oppfinnelse angår også en fremgangsmåte for fremstilling av et trykt kretskort hvor man bruker nevnte fleksible, hurtigfremkallende fotopolymeriserbare sammensetning.
Fotopolymeriserbare sammensetninger har lenge vært kjent i industrien. Under deres utvikling har man brukt forskjellige kjemiske forbindelser som den fotopolymeriserbare komponenten i sammensetningen. En utvikling er bl.a. beskrevet i US patent nr. 2 760 863. Dette patentet angår en fotopolymeriserbar sammensetning som kan brukes for fremstilling av trykkeplater, og som består av en etylenisk umettet, fotopolymeriserbar monomer, en fotoinitiator, en polymeriseringsinhibitor og et polymert bindemiddel. Sammensetningen ble belagt på et substrat, tørket, eksponert overfor aktinisk bestråling gjennom en stensil eller en negativ, og deretter fremkalt for å fjerne de ueksponerte deler av sammensetningen, hvorved man fikk fremstilt trykkeplaten.
US patent nr. 3 469 982 markerer en fordel fremfor den fotopolymeriserbare sammensetning som er beskrevet i US patent nr. 2 760 863. Istedenfor å bli pålagt som en væske, så angår dette senere patentet en fotopolymeriserbar sammensetning som pålegges et fleksibelt filmunderlag, og som deretter belegges med en fjernbar dekkende film. Under bruk blir denne dekkende filmen tatt av, den fotopolymeriserbare sammensetning blir så laminert på et substrat, utsatt for aktinisk bestråling gjennom et negativ, hvoretter filmunderlaget blir fjernet og sammensetningen fremkalt i et organisk oppløsningsmiddel. For fremstilling av en trykt kretskort, ble den fremkalte sammensetningen på substratet så underkastet en etsing og så løsnet i et annet organisk oppløsningsmiddel.
I US patent nr. 3 036 914 blir det beskrevet en fotopolymeriserbar sammensetning med bedret fleksibilitet som kan brukes for fremstilling av trykkeplater. Nevnte sammensetning består av følgende: 1) en addisjonspolymeriserbar, etylenisk umettet forbindelse, f.eks. diakrylater eller akryl- eller metakryl-syreestere av polyalkylenglykoler; 2) en fotoinitiator; 3) et høymolekylært polyetylenoksyd; og 4) i det minste en i alt vesentlig lineær celluloseester.
Forbedret fleksibilitet er også en hensikt ved den sammensetning som er beskrevet i USSR patent nr. 190 211. Nevnte hensikt blir ifølge nevnte patent oppnådd ved hjelp av en fotopolymeriserbar sammensetning som består av en fotopolymeriserbar oligomer, en fotoinitiator og en blanding av samme polymerer, hvorav den første er en samme polymer av metakrylsyre og metylmetakrylat og hvor den andre er en samme polymer av metakrylsyre og akrylsyre med butylakrylat, alkylmetakrylat eller alkylakrylater med fra 5 til 8 karbonatomer i alkylgruppen.
I US patent nr. 3 887 450 og US patent nr. 3 953 309 er det angitt en betydelig fordel fremfor tidligere kjente fremgangsmåter. Disse patenter beskriver en fotopolymeriserbar sammensetning som kan opparbeides i form av lagerbare ark eller ruller på et filmunderlag. En slik sammensetning kan brukes for å fremstille trykte kretskort og kan fremkalles og opparbeides ved hjelp av vandige oppløsninger som inneholder et alkalisk middel. Den fotopolymeriserbare sammensetningen består av en fotopolymeriserbar etylenisk umettet monomer, en fotoinitiator, en polymeriseringsinhibitor og et bindemiddel som er en polymer av en eller flere definerte styren eller vinylmonomerer med en eller flere av en definert a-, e-etylenisk umettet karboksylsyre- eller —anhydridholdlg monomer. Forholdet mellom monomerene velges slik at man får de forønskede egenskaper.
En ytterligere fordel fremfor tidligere kjente fremgangsmåter og sammensetninger er beskrevet i US patent nr. 4 239 849. Dette patentet beskriver en fleksibel fotopolymeriserbar sammensetning som er resistent mot kaldstrømming og som kan opparbeides i form av en tørr film på et filmunderlag, og som etter eksponering over for aktinisk bestråling kan fremkalles i en fortynnet vandig alkalisk oppløsning. Sammensetningen er sammensatt av en eller flere addisjonspolymeriserbare, etylenisk umettede forbindelser, en fotoinitiator og et på forhånd dannet makromolekylært polymert bindemiddel. Sistnevnte er en kopolymer av en styrentypemonomer, en akrylattypemonomer og en umettet karboksylholdig monomer.
En hensikt ved foreliggende oppfinnelse er å tilveiebringe en fotopolymeriserbar sammensetning som har høy grad av fleksibilitet.
En annen hensikt ved foreliggende oppfinnelse er å tilveiebringe en fotopolymeriserbar sammensetning som fremkaller raskere og klarere, slik at den eksponerte overflaten på et substrat kan bearbeides mer effektivt.
Videre er det en hensikt ved foreliggende oppfinnelse å tilveiebringe en fotopolymeriserbar sammensetning, som når den fotopolymeriseres, kan fjernes fra et substrat raskere, hvorved man letter innvinningen av substratet.
En ytterligere hensikt ved foreliggende oppfinnelse er å tilveiebringe et meget fleksibelt ark eller en rull av en fotopolymeriserbar sammensetning på et filmunderlag.
Videre er det hensikt ved foreliggende oppfinnelse å tilveiebringe en fremgangsmåte for fremstilling av et trykt kretskort ved hjelp av nevnte forbedrede fotopolymeriserbare sammensetning.
Ifølge foreliggende oppfinnelse er det således tilveiebragt en fotopolymeriserbar sammensetning innbefattende A. 0,001 - 20 vektdeler av et fotoinitiert, fri-radikalutviklende addisjonspolymerisasjonsinitierende system, og B. 0,001 - 5 vektdeler av en varme-addisjonspolymeriseringsinhibitor,
kjennetegnet ved at den i tillegg omfatter:
C. 10 - 60 vektdeler av et addisjonspolymeriserbart materiale bestående av
i) 5-50 vektdeler av et akrylat med formelen:
hvor m er fra 1 til 4, n er fra 1 til 12, R^ er valgt fra gruppen bestående av H, CBjj og blandinger av disse, og R2 er valgt fra gruppen bestående av fenyl og fenyl substituert med halogen, alkyl eller alkoksy hver inneholdende 1-15 karbonatomer, og blandinger derav, og ii) 5-50 vektdeler av en eller flere ikke-gassformige forbindelser inneholdende minst to terminale etyleniske grupper og med et kokepunkt over 100°C, og D. 40 - 90 vektdeler av et fordannet makromolekylært polymert bindemiddel som er en polymer av: i) et første monomert materiale som inneholder en eller
flere ikke-sure forbindelser valgt fra:
hvor R er hydrogen, en alkylgruppe med fra 1 til 6 karbonatomer, eller en halogengruppe, og når X er hydrogen, så er Y OOCR±, 0Rlt OCRlt COORi, CN, CH=CH2,
eller Cl, og når X er metyl, så er Y COO' R1, CN, CH=CH2, eller
og når X er klor, så er Y Cl; og hvor R^ er en alkylgruppe med fra 1 til 12 karbonatomer, en fenylgruppe eller en benzylgruppe, og R3 og R4 er hydrogen, en alkylgruppe med fra 1 til 12 karbonatomer eller en benzylgruppe; og
ii) et annet monomert materiale som i alt vesentlig består av en eller flere a-, P-etylenisk umettede karboksylsyre- eller anhydrid-holdige monomerer med fra 3 til 15 karbonatomer;
og hvor forholdet mellom det første monomere materialet til nevnte andre monomere materiale er tilstrekkelig til at i alt vesentlig alt bindemiddel er oppløselig i en i alt vesentlig fullstendig vandig oppløsning inneholdende 2 vekt-5É natriumkarbonat.
Videre er det ifølge oppfinnelsen tilveiebragt et ark eller en rull med en fotopolymeriserbar sammensetning på et fleksibelt filmunderlag, kjennetegnet ved at den fotopolymeriserbare sammensetningen omfatter bestanddelene A-D som definert ovenfor og i de deri angitte respektive mengder, hvor forholdet mellom første monomere materiale og nevnte andre monomere materiale er tilstrekkelig til at i alt vesentlig alt bindemiddel blir oppløselig i en i alt vesentlig fullstendig vandig oppløsning inneholdende 2 vekt-# natriumkarbonat.
Oppfinnelsen tilveiebringer også en fremgangsmåte for fremstilling av et trykt kretskort, og denne fremgangsmåten er kjennetegnet ved at man: A. laminerer en fotopolymeriserbar sammensetning på en trykt kretskortforløper, hvor den fotopolymeriserbare sammensetning omfatter bestanddelene A-D som definert ovenfor og i de deri angitte respektive mengder,
hvor forholdet mellom det første monomere materialet og det andre monomere materialet er tilstrekkelig til å gjøre i alt vesentlig alt bindemiddel oppløselig i en i alt vesentlig fullstendig vandig oppløsning inneholdende 2 vekt-# natriumkarbonat; B. eksponerer utvalgte deler av den fotopolymeriserbare sammensetningen for aktinisk stråling i tilstrekkelig grad til å oppnå fotopolymerisering av de nevnte eksponerte deler; C. fjerner de ueksponerte deler av sammensetningen for derved å blottlegge deler av kretskortforløperen ved kontakt med en i alt vesentlig fullstendig vandig oppløsning med en alkalinitet som i det minste er så stor som en 2 vekt-# oppløsning av natriumkarbonat; D. modifiserer de blottlagte deler av kretskortforløperen for derved å danne et selektivt elektrisk ledende mønster;
og
E. fjerner de eksponerte utvalgte deler av sammensetningen fra kretskortet ved kontakt med en i alt vesentlig fullstendig vandig oppløsning med en alkalinitet som i det minste er så stor som en 3 vekt-# oppløsning av natriumhydroksyd.
Som nevnt ovenfor angår foreliggende oppfinnelse en forbedret fotopolymeriserbar sammensetning. Nevnte sammensetning består av et addisjonspolymeriserbart materiale, et fotoinitierende fri-radikalutviklende addisjonspolymeriseringsinitierende system, en varmeaddisjonspolymeriseringsinhibitor og et fordannet makromolekylært polymert bindemiddel.
Basert på basis av 100 vektdeler av den tørkede fotopolymeriserbare sammensetningen, så vil det addisjonspolymeriserbare materiale være til stede i mengder varierende fra 10 til 60 vektdeler og bestå av fra 5 til 50 vektdeler, fortrinnsvis fra 8 til 25 vektdeler, av et akrylat, og fra 5 til 50 deler, fortrinnsvis fra 8 til 25 vektdeler, av en eller flere ikke-gassformige forbindelser som inneholder minst to terminale etyleniske grupper og med et kokepunkt over 100°C.
Akrylatet har følgende generelle formel:
hvor m er fra 1 til 4, fortrinnsvis 2 eller 3, og mest foretrukket 2, n er fra 1 til 12, fortrinnsvis 2 til 8 og mest foretrukket 2 eller 3, R^ er valgt fra gruppen bestående av H, CH3 og blandinger av disse, og er fortrinnsvis H, mens R2 er valgt fra gruppen bestående av usubstituert fenyl, substituert fenyl, usubstituert naftenyl, substituert naftenyl, forgrenede eller uforgrenede, substituerte eller usubstituerte alkylgrupper med fra 1 til 12, fortrinnsvis 4 til 8 karbonatomer, substituerte eller usubstituerte cykloalkylgrupper med 5 eller 6 karbonatomer i ringen, eller blandinger av slike. R2 er fortrinnsvis usubstituert fenyl, substituert fenyl og blandinger av slike grupper, og er mest foretrukket usubstituert fenyl. Substituentene på fenyl og naf tenylgruppen velges slik at de ikke i vesentlig grad skader egenskapene I den fotopolymeriserbare sammensetningen, og kan være halogenet, da spesielt klor, brom og jod, alkyl og alkoksy, og hvor hver gruppe kan ha fra 1 til 15,
fortrinnsvis 1 til 6 karbonatomer, foruten blandinger av slike grupper.
Akrylater som kan brukes i foreliggende oppfinnelse har lav flyktighet, noe som indikeres ved et kokepunkt som ligger over 175 *C, fortrinnsvis mer enn 200 °C , og som har en molekylvekt på mer enn 240, fortrinnsvis høyere enn ca. 280. Videre er akrylatene valgt slik at de resulterer i en nedbrytning av den fotopolymeriserte sammensetningen når denne underkastes etsing eller plettering, og vil videre ikke frembringe en nedbrytning av et vandig fremkallende bad eller rensebad. ;Eksempler på akrylater er fenoksypolymetoksymetylakrylater og -metakrylater, fenoksypolyetoksyetylakrylater og -metakrylater, fenoksypolypropoksypropylakrylater og —metakrylater, fenoksypolybutoksybutylakrylater og —metakrylater, klor-fenoksypolymetoksymetylakrylater og —metakrylater, klor-fenoksypolyetoksyetylakrylater og —metakrylater, klorfenoksy-polypropoksypropylakrylater og —metakrylater, klorfenoksy-polybutoksybutylakrylater og -metakrylater, naftoksypoly-metoksymetylakrylater og -metakrylater, naftoksypolyetoksy-etylakrylater og -metakrylater, naftoksypolypropoksypropyl-akrylater og -metakrylater, naftoksypolybutoksybutylakrylater og —metakrylater, t-butoksypolymetoksymetylakrylater og —metakrylater, t-butoksypolyetoksyetylakrylater og —metakry-later, t-butoksypolypropoksypropylakrylater og —metakrylater, t-butoksypolybutoksybutylakrylater og —metakrylater, cykloheksoksypolymetoksymetylakrylater og -metakrylater, cykloheksoksypolyetoksyetylakrylater og —metakrylater, cykloheksoksypolypropoksypropylakrylater og —metakrylater og cykloheksoksypolybutoksybutylakrylater og -metakrylater. De foretrukne akrylater er substituerte og usubstituerte fenoksypolyetoksyetylakrylater og substituerte og usubstituerte fenoksypolypropoksypropylakrylater, og hvor de mest foretrukne akrylater er fenoksy (di, tri, tetra eller penta)etoksyetylakrylat. Slike akrylater er tilgjengelige kommersielt eller kan syntetiseres ved en fremgangsmåte hvor man reagerer formaldehyd eller et passende alkylenoksyd (f.eks. etylenoksyd) med alkoholformen av R2, hvoretter man forestrer det resulterende produktet med akrylsyre eller metakrylsyre i nærvær av en egnet sur katalysator. ;Nærværet av akrylatmonomeren i den fotopolymeriserbare sammensetningen gir denne betydelige fordeler. Spesielt vil akrylatet bedre fleksibiliteten og festeevnen på den fotopolymeriserbare sammensetningen, noe som gir bedrede behandlingsegenskaper for ark eller ruller fremstilt av sammensetningen foruten at det letter lamineringen til et substrat. Videre vil akrylatet gjøre det mulig for den fotopolymeriserte sammensetningen å beholde en høy grad av fleksibilitet. Ved fremkalling vil nærværet av akrylatet i de ueksponerte deler av sammensetningen lette en effektiv (dvs. en rask og fullstendig) fjerning fra substratet. Ikke desto mindre vil akrylatet i den fotopolymeriserte delen av sammensetningen bedre effektiviteten med den fjernende operasjonen. ;Den andre komponenten i det addisjonspolymeriserbare materialet er i stand til å danne en høypolymer ved hjelp av en fri-radikalfotoinitiert, kjedeutviklende addisjons-polymerisering. Slike forbindelser er beskrevet i US patentene nr. 2 760 863, 3 887 450 og 3 953 309. ;Forbindelsene er fortrinnsvis ikke-gassformige ved 20°C og atmosfærisk trykk, og har fra 2 til 4 eller flere terminale etylen!ske grupper og utøver en myknende virkning på det polymere bindemidlet. Egnede forbindelser som kan brukes alene eller i kombinasjon, innbefatter et alkylen eller et polyalkylenglykoldiakrylat fremstilt fra alkylenglykoler med fra 2 til 15 karbonatomer, eller polyalkyleneterglykoler med 1 til 10 eterbindinger. ;På grunn av sin raskt utviklende uoppløselignet ved eksponering, noe som antagelig skyldes en relativt rask utvikling av et nettverk av en polymer st ruk tur, så vil en fremragende klasse lavmolekylære addisjonspolymeriserbare forbindelser være slike som har en rekke addisjonspolymeriserbare etyleniske bindinger, fortrinnsvis når de er til stede som terminale bindinger, og spesielt de forbindelser hvor minst en og fortrinnsvis de fleste av slike bindinger er konjugert med et dobbeltbundet karbonatom, og her inngår karbon som er dobbeltbundet til karbon og til slike heteroatomer som nitrogen, oksygen og svovel. Spesielt fordelaktig er slike forbindelser hvor de etylenisk umettede grupper, og da spesielt vinylidengrupper, er konjugert med ester eller amidstrukturer. De følgende spesifikke forbindelser er illustrerende for denne gruppen: umettede estere av polyoler, da spesielt estere av metylenkarboksylsyre, f.eks. etylen-diakrylat, dietylenglykoldiakrylat, glyceroldiakrylat, glyceroltriakrylat, etylendimetakrylat, 1,3-propylen-dimetakrylat eller -diakrylat, 1,2,4-butantrioltrimetakrylat eller —triakrylat, 1,4-benzendioldimetakrylat eller —diakrylat, pentaerytritolmetakrylater eller -akrylater, 1,5-pentandioldimetakrylat eller —diakrylat, bis-akrylatene og -metakrylåtene av polyetylen og polypropylenglykoler med molekylvekter fra 200-500, f.eks. tripropylenglykoldiakrylat, o.l.; umettede amider, da spesielt de av metylenkarboksyl-syrer, spesielt de av a-, o-diaminer og oksygenavbrutte w-diaminer, såsom metylenbisakrylamid, metylenbismetakrylamid, 1,6-heksametylenbisakrylamid, dietylentriamintrismetakryl-amid, bis(metakrylamidpropoksy)etan, p<->metakrylamidetyl-metakrylat, N-[(p-hydroksyetyloksy )etyl]a.krylamid, vinyl-estere slik som divinylsuccinat, divinyladipat, divinyl-ftalat, divinyltereftalat, divinylbenzen-1,3-disulfonat og divinylbutan-1,4-disulfonat og umettede aldehyder, såsom sorbaldehyd(heksadienal). ;Til en viss grad kan den poly-etylenisk umettede forbindelsen erstattes med en monofunksjonell forbindelse som er kjemisk forenelig med de typer forbindelser som er angitt ovenfor. Mengden av en slik monofunksjonell forbindelse må imidlertid ikke være slik at den i vesentlig grad skader egenskapene (f.eks. lukt, oppløselighet, toksisitet, etc.) på den fotopolymeriserbare eller fotopolymeriserte sammensetningen. Det er selvsagt underforstått at den mulige mengden av en monofunksjonell forbindelse vil variere med den spesielle forbindelse man anvender samt andre komponenter i sammensetningen . ;Det fotoinitierte, fri-radikalutviklende addisjonspolymeri-seringsinitieringssystemet er til stede i en mengde varierende fra 0,001 til 20 vektdeler, og kan være en eller flere forbindelser som lar seg aktivere ved aktinisk lys og som fortrinnsvis er varmeinaktive ved temperatur under 185°C. ;Slike forbindelser innbefatter substituerte eller usubstituerte polynukleære kinoner, såsom 9,10-antrakinon; 1-klorantrakinon; 2-klorantrakinon; 2-metylantrakinon; 2-etyl-antrakinon, 1,4-naftokinon; 9,10-fenantrakinon; 1,2-benzantrakinon; 2,3-benzantrakinon; 2-metyl-l,4-naftokinon; 2,3—diklornaftokinon; 1,4-dimetylantrakinon; 2,3-dimetylantrakinon; 2-fenylantrakinon; 2,3-difenylantrakinon; natriumsalt av antrakinon-a-sulfonsyre; 3-klor-2-metylantrakinon; retenkinon; 7,8,9,10-tetrahydronaftacenkinon; 1,2,3,4-tetrahydrobenz(a)antracen-7,12-dion. ;Andre egnede fotoinitiatorer er også xantoner, tioxantoner, klortioxantoner, alkylerte tioxantoner, alkyl-p-dimetylamino-benzoater og andre p-dialkylaminobenzoatestere og fenyl-dialkoksyacetofenoner. ;De følgende fotoinitiatorer, som tidligere er beskrevet i nevnte US patent nr. 2 760 863, og hvorav enkelte er varmeaktive ved temperaturer så lave som 85° C, kan også brukes; visinal ketaldonylforbindelser, såsom diacetyl og benzil; a-ketaldonylalkoholer, såsom benzoin og pivaloin; acyloinetere, f.eks. benzoinmetyl og etyletere; a-hydro-karbonsubstituerte aromatiske acyloiner; cx-metylbenzoin; a—allylbenzoin og a—fenylbenzoin. ;Jernpersulfat kan også brukes som en fri-radikalutviklende initiator som lar seg aktivere ved aktinisk bestråling. Man kan også bruke visse aromatiske ketoner, f.eks. benzofenon og 4,4'-bis-dialkylaminobenzofenoner. ;Nevnte varmeaddisjonspolymeriseringsinhibitorer er til stede i mengder fra 0,001 til 5 vektdeler. Inhibitorer som kan brukes i foreliggende oppfinnelse innbefatter p-metoksyfenol, hydrokinon og alkyl- og arylsubstituerte fenoler, hydro-kinoner og kinoner, tert-butylkatekol, pyrogallol, kobber-resinat, naftylaminer, p<->naftol, kobberklorid, 2,6-di-tert-butyl-p-kresol, 2,2-metylen-bis(4-etyl-6-t-butylfenyl)-fenotiazin, pyridin, nitrobenzen, dinitrobenzen, p-tolukinon, kloranil, arylfosfitter og arylalkylfosfitter. ;Det polymere bindemidlet er til stede i en mengde som varierer fra 40 til 90 vektdeler, og er en kopolymer av en eller flere ikke-sure forbindelser med en eller flere sure forbindelser. De Ikke-sure forbindelsene har følgende generelle formel ;;hvor R er hydrogen eller en alkylgruppe med fra 1 til 6 karbonatomer, eller en halogengruppe. Benzenringen kan være ringsubstituert med funksjonelle grupper, såsom nitro, alkoksy, acyl, karboksyl, sulfo, hydroksyl eller halogen, og formelen må forstås slik at den innbefatter slike substi-tuenter hvis intet annet er angitt. Det kan være fra 1 til 5 benzensubstituenter til stede, og substituentene er for- ;trinnsvis en enkel alkylgruppe såsom en metyl- eller t-butylgruppe. De mest foretrukne av slike forbindelser er styren, a-metylstyren, para-metylstyren og para-t-butyl-styren. ;Nærværet av nevnte styrentypemonomer i det polymere bindemidlet gjør at sammensetningen får bedret motstand overfor fremkallende, etsende eller pletterende oppløsninger. Avhengig av de fremkallende og overflatemodifiserende betingelser man velger, vil derfor nærværet og mengden av styrentypebestanddelen kunne velges slik at man får akseptabel fremkalling og akseptabel motstand mot de overflate-modif iserende betingelser. ;Med hensyn til nevnte andre generelle formler, når X er hydrogen, så kan Y være OOCR^, 01^, 0C' R1, COORi, CN, CH=CH2, ;eller Cl, og når X er metyl, så kan Y være COO^, CN, CH=CH2, eller ;og når X er klor, så er Y Cl, og hvor R]^ er en alkylgruppe med fra 1 til 12 karbonatomer, en fenyl- eller benzylgruppe og R3 og R4 er hydrogen, en alkylgruppe med fra 1 til 12 karbonatomer eller en benzylgruppe. ;Eksempler på slike vinyltypemonomerer er vinylacetat, vinylbutyrat, vinylbenzoat, vinylklorid, vinylidenklorid, metylmetakrylat og metylakrylat, akrylonitril og metakrylo-nitril, metakrylamid og alkylsubstituerte akrylamider, vinylmetylketon, vinylpropylketon, vinylmetyleter, vinyletyl-eter og vinylheksyleter. ;Vinyltypemonomeren kan også være en akrylattypemonomer som innbefatter alkyl- og hydroksyalkylakrylater og —metakrylater hvor alkylgruppen inneholder fra 1 til 12, fortrinnsvis fra 1 til 6 karbonatomer. Eksempler på slike forbindelser innbefatter metylmetakrylat, etylakrylat, butylakrylat, hydroksy-propylmetakrylat, hydroksyetylmetakrylat og hydroksyetyl-akrylat. Man kan også med fordel bruke blandinger av to eller flere av slike forbindelser. ;Nærværet av akrylattypemonomeren i det polymere bindemiddel gjør at den fotopolymeriserbare sammensetningen får bedret strømningsegenskaper i kald tilstand foruten bedret fleksibilitet. Disse egenskaper gjør at den tørre filmen kan lagres som ark eller ruller i lange tidsrom uten at man trenger å frykte en nedbrytning som skyldes strømning i kald tilstand eller tap av fleksibilitet. ;Den sure monomeren kan være en eller flere a-, P-etylenisk umettede karboksylholdige monomerer med fra 3 til 15 karbonatomer, fortrinnsvis fra 3 til 6 karbonatomer. De mest foretrukne forbindelser er akrylsyre og metakrylsyre. Andre syrer som kan brukes er kanelsyre, krotonsyre, sorbinsyre, itakonsyre, propiolsyre, maleinsyre og fumarsyre samt de tilsvarende halvestere, eller hvor mulig, de tilsvarende anhydrid. ;Forholdet mellom styrentype- eller vinyltypemonomer til den sure komonomeren velges slik at kopolymeren er oppløselig i det vandig alkaliske medium som velges for fremkalling. Hvis mengden av styrentype- eller vinyltypemonomer er for høyt, så vil den ueksponerte delen av sammensetningen ikke være tilstrekkelig oppløselig, og på den annen side, hvis mengden av styrentype- eller vinyltypemonomer er for liten, så vil de eksponerte områder av sammensetningen være klebrig, oppsvel-let eller oppløses i den vandige alkaliske oppløsningen. Som et hensiktsmessig kriterium kan det angis at den bindende kopolymeren bør være slik at en 40$ oppløsning i ketoner eller alkoholer vil ha en viskositet fra 100 til 50 000 centipoise. Som et ytterligere hensiktsmessig kriterium kan det angis at i det vesentlige all kopolymer vil være oppløst i en fortynnet, en i alt vesentlig fullstendig vandig oppløsning som inneholder 2 vekt-56 natriumkarbonat ved 25"C i løpet av en time. I dette kriterium vil begrepet i alt vesentlig være brukt slik at det indikerer et akseptabelt nivå med hensyn til fremkalling av den fotopolymeriserte sammensetningen, og vil reflektere det faktum at skjønt noe organisk materiale kan være til' stede i oppløsningen, enten dette nå er skjedd med hensikt, ved en ulykke eller ved at man har brukt den fremkallende oppløsningen om igjen, så vil nærværet av et slikt organisk materiale Ikke være nødvendig for å få en akseptabel fremkalling. ;Representative komonomervektforhold er fra 70:30 til 85:15 for styren-akrylsyre eller -metakrylsyre; fra 70:30 til 85:15 for metylmetakrylat eller kombinasjonen av alkylakrylater eller alkylmetakrylater-akrylsyre og/eller -metakrylsyre; fra 35:65 til 70:30 for styren-monobutylmaleat og fra 70:30 til 95:5 for vinylacetat-krotonsyre. Polymeriseringsgraden i blndemiddelkopolymeren er slik at bindemidlet danner en ikke-klebrig kontinuerlig film når den pålegges fra et passende oppløsningsmiddel og etter passende tørking. Generelt kan det angis at molekylvekten varierer fra 1 000 til 500 000. Variasjonsforholdet for kopolymerforholdene og den grad av polymerisering som er nødvendig for et spesielt bindemiddel, kan lett fastslås ved å prøve oppløseligheten i en fortynnet alkalisk oppløsning. På bakgrunn av dette, kan man bruke blandinger av monomere forbindelser så vel som blandinger av kopolymerer for fremstilling av et bindemiddel med de ønskede egenskaper. ;Hvis man ønsker forbedret motstand mot fremkalling og overflatemodifIserende oppløsninger så vel som forbedret fleksibilitet og bedret motstand mot strømning i kald tilstand, så kan det polymere blndemidlet fremstilles slik det er beskrevet I US patent nr. 4 239 849. Som forklart der, vil det polymere blndemidlet være en kopolymer av: 1) styrentypemonomeren; 2) akrylattypemonomeren; og 3) den sure monomeren innenfor de definisjoner som tidligere er angitt. ;Mengden av de komponenter som danner det terpolymere blndemidlet velges slik at man i det minste oppfyller kriterier som er nevnt ovenfor. Som en retningslinje, kan man angi de følgende vektforhold ved f reinstill ingen av det polymere blndemidlet. ;Hvis det er ønskelig, kan den fotopolymeriserbare sammensetningen ifølge foreliggende oppfinnelse også inneholde mykningsmidler, midler for å fremme tilfesting, fargestoffer og pigmenter. Egnede fargestoffer vil være slike som er forenelige med den fotofølsomme sammensetningen og som ikke i vesentlig grad påvirker sammensetningens fotofølsomhet. De følgende spesifikke forbindelser er illustrerende: Fuchsine (CI. 42510); Auramine Base (CI. 4100B); Calcocid Green S (CI. 44090); Para Magenta (CI. 42500); Tryparosan (CI. 42505); New Magenta (CI. 42520); Acid Violet RRH (CI. 42425); Red Violet 5RS (CI. 42690); Nlle Blue 2B (CI. 51185); New Methylene Blue GG (CI. 51195); CI. Basic Blue 28 (CI. 42585); Iodone Green (CI. 42556); NIght Green B (CI. 42115); CI. Direct Yellow 9 (CI. 19540); CI. Acid Yellow 17 (CI. 18965); CI. Acid Yellow 20 (CI. 18900); Tartrazine (CI. 19140); Supramine Yellow G (CI. 19300); Buffalo Black 10B (CI. 27790); Naphthalene Black 12R (CI. 20350); Fast Black L (CI. 51215); Ethyl Violet (CI. 42600); Pontacyl Wool Blue BL (CI. 50315); Pontacyl Wool Blue GL (CI. 42320). (Tallene er tatt fra den andre utgaven av fargeindeksen). ;Den fotopolymeriserbare sammensetningen ifølge foreliggende oppfinnelse har en bemerkelsesverdig anvendbarhet. Mens sammensetningen kan brukes for å fremstille trykkeplater, så har den også slike mer krevende egenskaper som nødvendig for å kunne brukes ved fremstillingen av trykte kretskort. Når f.eks. en trykkeplatesammensetning er pålagt substratet, så kan den eksponeres overfor aktinisk bestråling gjennom en stensil og deretter kontaktes en fremkallende oppløsning for å fjerne de deler av sammensetningen som har vørt skjermet mot strålingen. De eksponerte deler av sammensetningen kan så pålegges trykkfarge for fremstilling av trykte bilder eller tekster. ;I motsetning til dette må en fotopolymeriserbar sammensetning som skal brukes som en fotoelektrisk motstand selvsagt være i stand til å bli eksponert og fremkalt, men de eksponerte deler av sammensetningen må ikke kunne påvirkes av etsende oppløsninger, såsom en 45" Baume-oppløsning av treverdig jernklorid og/eller elektropletterende oppløsninger, såsom surt kobbersulfat. Til tross for sin motstand mot de aggressive oppløsninger som brukes under etsing eller plettering, så må den fotopolymeriserte sammensetningen være i stand til å kunne fjernes fra substratet slik at fremstillingen av det trykte kretskortet kan gjøres ferdig. ;Den fotopolymeriserbare sammensetningen ifølge foreliggende oppfinnelse oppfyller alle de angitte kriterier, og kan følgelig brukes som en fotoelektrisk motstand ved fremstillingen av trykte kretser. I så henseende kan den fotopolymeriserbare sammensetningen pålegges et fleksibelt filmunderlag og opparbeides i form av ark eller ruller som kan lagres 1 lengre tid før de skal brukes. I denne formen vil den fotopolymeriserbare sammensetningen ifølge foreliggende oppfinnelse være karakterisert ved en jevn tykkelse i området fra 0,00125 til 0,0125 cm og vil være fri for defekter såsom huller, hulrom, bobler, mønstre o.l. ;Det fleksible filmunderlaget kan være fremstilt av ethvert materiale som tilfredsstillende understøtter den fotopolymeriserbare sammensetning, som ikke reagerer med denne og som lett kan skilles fra sammensetningen, f.eks. ved avrivning, enten før eller etter eksponering overfor aktinisk bestråling. Materialer som tilfredsstiller disse kriterier er høypolymerer såsom polyamider, polyolefiner, polyestere, vinylpolymerer og celluloseestere med en tykkelse i området fra 0,00125 til 0,005 cm. Et foretrukket filmunderlag er en film av polyetylentereftalat med en tykkelse på ca. 0,0025 cm. ;Når den er 1 form av et ark eller en rull, kan den fotopolymeriserbare sammensetningen være beskyttet av et dekkark på den motsatte siden av filmunderlaget hvorved man får dannet en sammensatt struktur hvor den fotopolymeriserbare sammensetningen befinner seg i midten. Dekkarket kan være av samme eller av et annet materiale enn filmunderlaget og kan ha en tykkelse i samme variasjonsområde som angitt for ovennevnte filmunderlag. Et spesielt godt egnet materiale er en film av polyetylen med en tykkelse på ca. 0,0025 cm. ;Under bruk vil i det minste en del av arket eller rullen bli laminert til et substrat. Dette substratet kan være plater, ark eller folier av plast, stål, aluminium, kobber, sink, magnesium, etc, eller kan være et komposittmateriale inneholdende nevnte materialer. Substratet er fortrinnsvis et kobberkledelaminat, såsom kobberklede, epoksy-fiberglass-kort, som begge er vanlig brukt for fremstilling av trykte kretskort. Laminering kan oppnås ved at man fjerner dekkarket hvis dette er til stede, og så presser den fotopolymeriserbare sammensetningen direkte på en eller begge sider (hvis man ønsker en tosidig trykt krets) på substratet ved en forhøyet temperatur i området fra 65 til 150° C. En måte man kan gjøre lamineringen på er å føre substratet i kontakt med sammensetningen mellom oppvarmede gummibelagte valser. ;Etter laminering kan filmunderlaget fjernes, eller mer foretrukket, hvis filmunderlaget muliggjør tilstrekkelig passasje av den aktiniske bestrålingen som anvendes, så kan filmunderlaget forbli på laminatet under eksponeringen. For å oppnå det ønskede mønsteret, så kan en prosesstransparent, f.eks. en prosessnegativ eller positiv, stensil, maske, kontinuerlige toner, negativt eller positivt bilde etc, legges over den fotopolymeriserbare sammensetningen i laminatet. Hensikten med prosesstransparenten er å hindre en eksponering overfor aktinisk bestråling av de deler av sammensetningen som siden skal fjernes under fremkallingen, og muliggjøre en aktinisk bestråling av de deler som skal forbli på substratet etter fremkallingen. ;Den aktiniske bestrålingen som brukes velges slik at man oppnår en rimelig fotopolymerisering, dvs. i et tidsrom fra ett sekund til 5 minutter. Ettersom fri-radikalutviklende addisjonspolymerisasjonsinitiatorer som lar seg aktivere ved aktinisk bestråling, vanligvis har sin maksimale følsomhet i det ultrafiolette området, så bør strålingskilden kunne tilveiebringe en rimelig mengde av denne type bestråling. Både punkt og breddebestrålingskilde er effektive. Slike kilder Innbefatter karbonbuer, kvikksølvdamplamper, fluore-scerende lamper med ultrafiolette strålingsemitterende fosfor, argonglødelamper, elektroniske blitslamper og fotografiske belysningslamper. Av disse er kvikksølvdamplys-buer de mest effektive og egnede, da spesielt såkalt sollamper. I visse tilfeller kan det være fordelaktig å utføre eksponeringen med synlig lys, idet man bruker en fotoinitiator som er følsom i den synlige delen av spekteret, f.eks. man kan anvende 9,10-fenantrakinon. I silke tilfeller bør strålingskiIden selvsagt kunne gi en effektiv dose av synlig bestråling. Mange av de strålingskiIder som er angitt ovenfor, gir den nødvendige mengde av lysenergi. ;Som nevnt tidligere er en av de betydelige fordeler ifølge foreliggende oppfinnelse at sammensetningen forblir fleksibel ved fotopolymeriseringen. Denne fordelen er meget viktig på bakgrunn av mulige anvendelsesområder for sammensetningen og de prosesstrinn man vanligvis bruker. Spesielt i de tilfeller hvor man bruker fleksible substrater, så vil en bøying av de laminerte eksponerte substrater ikke føre til en oppsprekking av den fotopolymeriserbare sammensetningen. Under høyvolumproduksjon vil f.eks. den fotopolymeriserte sammensetningen ifølge foreliggende oppfinnelse kunne motstå den bearbeiding som utføres på kontinuerlig basis, og hvor det eksponerte laminatet rulles over på en oppsamlingstrommel før ytterligere bearbeiding. Selv når man ikke bruker fleksible substrater, så vil den fotopolymeriserte sammensetningens fleksible natur hindre at det danner seg fliser eller oppsprekking av laminatet når dette behandles (f.eks. ved lagring), og vil effektivt beskytte de indre overflater når f.eks. de eksponerte laminater gjennomhulles eller punches på annen måte. ;Den bedrede fleksibiliteten for de fotopolymeriserte sammensetninger ifølge foreliggende oppfinnelse kan vises ved å montere den fotopolymeriserte sammensetningen på et fleksibelt substrat, hvoretter hele sammensetningen eksponeres overfor aktinisk bestråling i en dose som er tilstrekkelig til å fotopolymerisere sammensetningen, hvoretter produktet underkastes en fleksibilitetsprøve. Et hensiktsmessig apparat for gjennomføring av denne er Conical Mandrel, modell MG-1416 som er tilgjengelig fra Gardner Laboratory Inc., Bethseda, Maryland. ;Som beskrevet i the Gardner Laboratory Inc. brosjyre med tittelen "Film Flexibility" publisert i april 1976, så er nevnte Conical Mandrel MG-1416 utformet slik at man kan prøve bøyeligheten for belagte paneler ved at disse bøyes over en kon ved kjent maksimal og minimal diameter, hvorved man samtidig kan bestemme den skade som skyldes strekkingen av belegget over sterkt varierende forhold. Selve doren ("mandrel") er fremstilt av belagt aluminium-bronse og har en kondiameter som øker jevnt fra 0,325 til 4,25 cm. Under bruk vil prøvepanelet (opp til 0,0793 cm tykk) bli godt festet ved hjelp av en bøyle og så bøyes omkring konen ved hjelp av en manuelt operert arm som er opphengt i endene og som ligger langs konens akse. ;Ved å bruke den koniske doren viste foreliggende fotopolymeriserbare sammensetning overlegen bøyelighet sammenlignet med tilsvarende fotopolymeriserte sammensetninger, men uten det angitte akrylat. Dette fremgikk ved at den fotopolymeriserte sammensetningen ifølge foreliggende oppfinnelse kunne bøyes omkring doren uten oppsprekking og/eller ved at oppsprekkingen var langt mindre enn sammenlignet med en tilsvarende fotopolymerisert sammensetning som ikke Inneholdt det definerte akrylat. ;Etter eksponerlngstrlnnet blir filmunderlaget skilt fra sammensetningen, hvoretter det resulterende eksponerte laminat blir underkastet en fremkalling. Denne utføres i en fortynnet i alt vesentlig vandig alkalisk oppløsning, hvorved de utskyggede deler av sammensetningen blir fjernet, mens de eksponerte deler i alt vesentlig forblir upåvirket. Sammensetningen ifølge foreliggende oppfinnelse kan fremkalles i en 1 vekt-£ oppløsning av natriumkarbonat. Man kan selvsagt bruke en like sterk oppløsning av et annet alkalisk middel, eller sammensetningen kan være slik at den vil fremkalles selv i mer kraftig alkaliske oppløsninger. ;Egnede alkaliske oppløsninger inneholder fra 0,01 til 10#, fortrinnsvis fra 0,5 til 3 vekt-Sé av alkaliske midler, såsom alkalimetallhydroksyder, f.eks. litium-, natrium- og kalium-hydroksyd; basereagerende alkalimetallsalter av svake syrer, f.eks. litium-, natrium- og kaliumkarbonater og —bikarbo-nater; aminer med base-ioniseringskonstant på mer enn lxlO-<14>, dvs. primære aminer, såsom benzyl-, butyl- og allylaminer; sekundære aminer, f.eks. dimetylamin og benzyl-metylamin; tertiære aminer, f.eks. trimetylamin og trietyl-amin; primære, sekundære og tertiære hydroksyaminer, f.eks. propanol-, dietanol- og trietanolaminer og 2-amino-2-hydroksymetyl-1,3-propandiol; cykliske aminer, f.eks. morfolin, piperidin, piperazin og pyridin; polyaminer såsom hydrazin, etylen og heksametylendiaminer; vannoppløselige basiske salter, som karbonater og bikarbonater av ovennevnte aminer; ammoniumhydroksyd og tetrasubstituert ammonium-hydroksyder, f.eks. tetrametyl-, tetraetyl-, trimetylbenzyl-og trimetylfenylammoniumhydroksyder, sulfoniumhydroksyder, f.eks. trimetyl-, dietylmetyl-, dimetylbenzylsulfonium-hydroksyder samt deres basiske oppløselige salter, f.eks. karbonater, bikarbonater og sulfider; alkalimetallfosfater og pyrofosfater, f.eks. natrium- og kaliumtrifosfater og natrium- og kaliumpyrofosfater; tetrasubstituerte (fortrinnsvis totalt alkyl) fosfonium-, arsonium- og stibonium-hydroksyd, f.eks. tetrametyl-fosfoniumhydroksyd. ;Etter fremkallingen kan substratet gjenvinnes, f.eks. hvis det skal brukes som en trykkplate, eller det kan underkastes etsing eller plettering hvis man skal fremstille et trykt kretskort. Substratet velges selvsagt ut fra det endelige formål. ;Ved fremstillingen av trykte kretskort kan det fremkalte substratet føres gjennom en serie kjemiske bad for å reaktivere det eksponerte metallet (f.eks. kobber). En ytterligere fordel ved foreliggende sammensetning er at de ueksponerte deler av sammensetningen vil fremkalles i meget ren tilstand, hvorved man får lite eller ingen rest på metalloverflaten, noe som i høy grad letter reaktiveringen. De fotopolymeriserte deler av sammensetningen blir videre i alt vesentlig påvirket av en 1-5 vekt-56 oppløsning av saltsyre, svovelsyre, ammoniumpersulfat, eventuelt med overflateaktive midler, dvs. oppløsninger av den type man ofte finner i reaktiverende bad. ;Etsing eller plettering utføres på vanlig kjent måte. Skjønt den eksponerte (dvs. den fotopolymeriserte) del av sammensetningen ifølge foreliggende oppfinnelse ikke i alt vesentlig vil bli påvirket ved en sekvenskontakt med en fremkallende oppløsning, en reaktiverende oppløsning hvis en slik brukes, og en 45° Baume-etsende oppløsning av treverdig jernklorid, så er det underforstått at andre etsende og pletterende oppløsninger kan brukes for å modifisere det eksponerte substratet i alt vesentlig uten at man frembringer en nedbrytning av den fotoelektriske motstanden. Andre etsende oppløsninger som kan brukes kan f.eks. være oppløs-ninger av kobberklorid, ammoniakalske etsemidler, ammoniumpersulfat, krom-svovelsyrer, kobbersulfat og tinn/blyfluor-borater. ;For å bruke det trykte kretskortet for sitt endelige formål, er det nødvendig til slutt å fjerne de eksponerte deler av sammensetningen (dvs. den fotoelektriske motstanden) fra substratet. Dette oppnås vanligvis ved å bruke en mer aggressiv vandig alkalisk oppløsning enn det som ble brukt under det fremkallende trinnet. Skjønt den fotopolymeriserte sammensetningen ifølge foreliggende oppfinnelse kan fjernes fra substratet ved hjelp av en oppvarmet oppløsning inneholdende 3 vekt-# natriumhydroksyd, så er det selvsagt underforstått at man også kan bruke andre alkaliske oppløs-ninger, f.eks. av den type som er nevnt ovenfor. ;Sammensetningen ifølge foreliggende oppfinnelse kan også brukes som en motstand ved kjemisk maskinering av deler (som ofte er for små til at de kan akseptabelt utstanses), ved at metallisk folie eller en plate dypetses eller endog etses fullstendig fra en side til den annen. I en slik prosess vil den fotopolymeriserbare sammensetningen bli pålagt begge sider av den metalliske platen eller follet og eksponert gjennom identiske fotografiske transparenter av den type som er kjent i industrien. De ueksponerte deler av sammensetningen blir så fjernet i et fremkallende trinn slik dette er beskrevet tidligere, hvoretter de blottede overflater av den metalliske platen eller follet etses etter behov. Deretter kan de fotopolymeriserte deler av sammensetningen fjernes, hvoretter man utvinner det ferdige produktet som så kan brukes. ;En annen viktig fordel ved foreliggende oppfinnelse angår den letthet med hvilken de eksponerte deler av sammensetningen kan fjernes fra substratet. Denne fordelen gjør at man ytterligere kan redusere den totale bearbeidelsestiden hvilket er en avgjort fordel innen teknikken. Ved å bruke den definerte akrylatmonomeren ifølge foreliggende oppfinnelse i addisjonspolymeriserbart materiale, så kan tiden for fjerning reduseres med fra 10 til 8056, sammenlignet med samme sammensetning, men uten nevnte akrylatmonomer, under de samme betingelser. ;Fra den foregående beskrivelse av den fotopolymeriserbare sammensetningen ifølge foreliggende oppfinnelse og hvorledes denne kan opparbeides i form av plater eller ruller, lamineres til et substrat, eksponeres, fremkalles, underkastes etsing og deretter fjernes fra substratet, så er det innlysende at den fotopolymeriserbare sammensetningen ifølge foreliggende oppfinnelse ikke krever ytterligere kjemiske grupper, f.eks. saltgrupper, for å kunne oppfylle de ovennevnte krav. Skjønt vanlige additiver såsom pigmenter, fargestoffer, adhesjonsfremmende midler, mykningsmidler, etc. kan tilsettes for å bedre sammensetningen ifølge foreliggende oppfinnelse, så består den i alt vesentlig av de angitte ingredienser ettersom man ikke nødvendigvis trenger ytterligere kjemiske grupper, såsom saltgrupper, for å kunne brukes. ;For ytterligere å illustrere foreliggende oppfinnelse og dens fordeler, er de følgende spesifikke eksempler angitt. ;EKSEMPEL I ;De følgende oppløsninger ble pålagt en 0,0025 cm tykk polyesterfilm, tørket i en strøm av varm luft, tilveiebragt ved hjelp av en GE-1500 watts vifte i 20 minutter. Den tørre tykkelsen på de sensitiverte lagene var ca. 0,0032 cm. De tørkede lagene ble så belagt med en 0,0025 cm tykk poly-etylenfilm. Sammensetning IA er illustrerende for den foreliggende oppfinnelse, mens sammensetning IB er en kontrolloppløsning. ;Sammensetning IA ;Sammensetning IB ;Et stykke av en kobberkledd epoksyfiberglasskort ble renset ved hjelp av et slipende rensemiddel, bør.sting og rensing i vann. Det ble så dyppet 20 sekunder i en 12$ oppløsning saltsyre, igjen vasket med vann og tørket i luft. ;Polyetylendekkarket ble fjernet fra en del av det fotopolymeriserbare elementet. Det blottlagte belegget med sitt polyesterunderlag ble laminert på den rene kobberoverflaten med overflaten på det fotopolymeriserbare laget i kontakt med kobberoverflaten, idet man brukte gummibelagte valser som hadde en hastighet på 0,6 m pr. minutt ved 121°C med et trykk på 0,54 kg pr. lineær cm i valsegapet. Det resulterende sensitiverte kobberkledde stykket beskyttet med polyester-fiImen, ble eksponert overfor lys gjennom en høykontrast-transparent i 30 sekunder ved hjelp av 400 watts 50 amp. kvikksølvdamplampe i en avstand på 30 cm. ;Polyester (polyetylentereftalat) underlagsflimen ble fjernet, og det eksponerte fotoresistente laget ble fremlagt ved å riste kortet i et trau som inneholdt en 1$ vandig oppløsning av natriumkarbonatmonohydrat ved 27° C i ca. 1 minutt fulgt av en vasking med vann. Denne fremkallingen er tilfredsstillende for både sammensetning IA og IB. De fremkalte fotoelektriske motstander hadde et fast stofftrinn på 8 og et kobbertrinn på 9 på en 21-trinns skala. Den fotoelektriske motstanden reproduserte 0,025 cm linjer fra transparenten innenfor 2% avvik. ;De fremkalte kort ble etset i et 45<*> Baume treverdig jernkloridetsemiddel, og de fotopolymeriserte deler av sammensetningen motstod denne prosessen uten tegn til nedbrytning. De fotoelektriske motstander ble så fjernet fra substratet i en vandig 356 kaliumhydroksydoppløsning ved 55°C. De fotoelektriske motstander fremstilt ved hjelp av sammensetning IA ble fjernet i løpet av 27 sekunder, mens den som ble fremstilt ved hjelp av sammensetning IB ble fjernet i løpet av 30 sekunder. De etsede kobberlinjer var i begge tilfeller rette og veldefinerte.
For å måle fleksibiliteten ble filmer fremstilt ved hjelp av sammensetningene IA og IB begge laminert på rensede fleksible kobbersubstrater, eksponert uten transparenter til en ekvivalent på et trinn 9 i en Stouf fer-skala på 21, og deretter sammenlignet med hensyn til fleksibilitet ved hjelp av Gardner MG-1416 Conical Mandrel. Filmen fremstilt ifølge sammensetning IB viste en sprekk som var 48 mm lang, mens filmen fremstilt ved hjelp av sammensetning IA, ikke viste noen sprekker.
EKSEMPEL II
De følgende oppløsninger ble pålagt en 0,0025 cm tykk polyesterfilm, tørket I varm luft, tilveiebragt ved hjelp av en GE-1500 watts viftetørker i 20 minutter. Den tørre tykkelsen på disse sensitiverte lagene var ca. 0,005 cm. De tørkede lagene ble så belagt med en 0,0025 cm tykk poly-etylenfilm. Sammensetning IIA er illustrerende for den foreliggende oppfinnelse, mens sammensetning IIB er en kontrolloppløsning.
Sammensetning IIB
Sammensetning IIB
De fotoresistente filmene ble laminert, eksponert og fremkalt som beskrevet i eksempel I.
Overflaten på det eksponerte kobberet ble ytterligere renset etter fremkalling ved å dyppe kortene i et 2056 ammonium-persulfatbad i 30 sekunder, deretter vasking med store mengder vann, dypping i 30 sekunder i en 20% oppløsning av saltsyre I vann, vasking med vann, hvoretter kortene ble tørket ved hjelp av varmluft. De rensede kortene ble så senket ned i en sur kobbersulfatoppløsning inneholdende 19,6 g pr. liter av kobber. Pletteringen ble utført ved 25°C i 45 minutter idet man brukte ca. 3 amp. pr. m<2>. Kortene ble tatt ut av tanken, vasket med vann og dyppet 1 minutt i en 3056 fluorborsyreoppløsning.
Kortene ble så overført til et tinn/bly-pletteringsbad og plettert i 15 minutter. Denne oppløsningen inneholdt 16 g/l av tinn, 11 g/l av bly og 385 g/l av fluorborsyre. Den elek-triske strøm var ca. 1,5 amp. pr. m2 . Etter at den beleggende syklusen var fullstendig, ble kortene vasket i vann og lufttørket. De fotoelektriske motstander ble underkastet en tape-prøve for å se om det skjedde en løftning. Man så ingen løftning hverken for sammensetning IIA eller IIB. Når imidlertid den fotoelektriske motstanden med sammensetning IIA ble fjernet fra substratet ved hjelp av en 356 vandig hydroksydoppløsning ved 55°C, så lot denne seg fjerne i løpet av 70 sekunder, mens den som var fremstilt ved hjelp av sammensetning IIB ble fjernet i løpet av 165 sekunder.
EKSEMPEL III
De følgende oppløsninger ble pålagt en 0,0025 cm tykk polyesterflim, tørket i en strøm av varm luft, tllveiebragt ved hjelp av en GE-1500 watts viftetørker i 20 minutter. Den tørre tykkelsen på de sensitiverte lagene var ca. 0,005 cm tykt. De tørkede lagene ble så belagt med en 0,0025 cm tykk polyesterflim. Sammensetning HIA illustrerer oppfinnelsen, mens sammensetning UIB er en kontrolloppløsning.
Sammensetning 11 IA
Sammensetning IIIB
Som beskrevet i eksempel II, ble det fremstilt 0,005 cm tykke filmer og disse ble bedømt som fotoelektriske motstander. Både sammensetning HIA og UIB var tilfredsstillende med hensyn til at det var ingen løftning i prøven med tape og det var ingen underbelegging. Når de fotoelektriske motstander ble fjernet som beskrevet i eksempel II, så kunne man fjerne motstanden med sammensetning III i løpet av 57 sekunder, mens den andre trengte 70 sekunder.
EKSEMPEL IV
De følgende oppløsninger ble pålagt en 0,0025 cm tykk polyesterfilm, tørket i en strøm av varm luft tilveiebragt ved hjelp av en GE-1500 watts viftetørker i 20 minutter. Den tørre tykkelsen på de sensitiverte lagene var ca. 0,005 cm. De tørkede lagene ble belagt med en 0,0025 cm tykk poly-etylenfilm. Sammensetning IVA illustrerer foreliggende oppfinnelse, mens sammensetning IVB er en kontrolloppløsning.
Sammensetning IVA
Sammensetning IVB
De to sammensetningene ble prøvet som beleggsfotoelektriske motstander ved hjelp av de fremgangsmåter som er beskrevet i eksemplene II og ill. Begge filmer var tilfredsstillende under belegningssyklusen, og de ble så fjernet fra substratene som beskrevet i eksempel II. Den fotoelektriske motstanden med sammensetning IVA lot seg fjerne i løpet av 50 sekunder, mens den med sammensetning IVA lot seg fjerne i løpet av 128 sekunder.
Filmene med sammensetningene IVA og IVB Ible så laminert på rene fleksible kobberfolier, eksponert og så fremkalt som beskrevet i eksempel I. Prøver av kobberfoliene ble så prøvet for fleksibilitet som beskrevet i eksempel I idet man bruke den koniske doren. Sammensetning IVB hadde en sprekk langs hele prøvens lengde (20 cm), men sammensetning IVA bare hadde en sprekk med en lengde på 10,2 cm, noe som viser at denne har bedre fleksibilitet.
EKSEMPEL V
De følgende oppløsninger ble pålagt en 0,0025 cm tykk polyesterflim, tørket i en strøm av varm luft tilveiebragt ved hjelp av en GE-1500 watts viftetørker i 20 minutter. Den tørre tykkelsen på de sensitiverte lagene var ca. 0,005 cm. De tørre lagene ble så belagt med en 0,0025 cm tykk poly-etylenfilm. Sammensetning VÅ illustrerer foreliggende oppfinnelse, mens sammensetning VB er en kontrolloppløsning.
Sammensetning VA
SftTMnftnsetning VB
De to sammensetningene var tilfredsstillende når de ble bedømt som fotoelektriske motstander som angitt i eksempel II. Når de ble fjernet fra substratene som beskrevet i eksempel II, så lot sammensetning VÅ se fjerne i løpet av 54 sekunder, mens sammensetning VB lot seg fjerne i løpet av 100 sekunder.
Separate prøver av filmene fremstilt fra sammensetning VA og VB ble underkastet den fleksibilitetsprøve, som er beskrevet i eksempel I. Lengden av sprekken i sammensetning VA var 10,3 cm, mens den var 13,4 cm med sammensetning VB, noe som viser at sammensetning VA har overlegen fleksibilitet.
EKSEMPEL VI
Fremgangsmåten fra eksempel I ble gjentatt, bortsett fra at fenoksydletoksyetylakrylatet fra sammensetning IA ble erstattet med 10,0 g fenoksytripropoksypropylakrylat. Man oppnådde sammenlignbare resultater.
EKSEMPEL VII
Fremgangsmåten fra eksempel I ble gjentatt, bortsett fra at fenoksydletoksyetylakrylatet fra sammensetning IA ble erstattet med 10,0 g 4-klorfenoksytrietoksyetylakrylat. Man oppnådde igjen sammenlignbare resultater.
EKSEMPEL VIII
Man gjentok fremgangsmåten fra eksempel I bortsett fra at fenoksydletoksyetylakrylatet i sammensetning IA ble erstattet med 10 g cykloheksoksydietoksyetylakrylat. Man oppnådde igjen sammenlignbare resultater.
Claims (24)
1.
Fotopolymeriserbar sammensetning innbefattende A. 0,001 - 20 vektdeler av et fotoinitiert, fri-radikalutviklende addisjonspolymerisasjonsinitierende system, og B. 0,001 - 5 vektdeler av en varme-addisjonspolymeriserings
inhibitor,
karakterisert ved at den i tillegg omfatter: C. 10-60 vektdeler av et addisjonspolymeriserbart materiale bestående av i) 5-50 vektdeler av et akrylat med formelen:
hvor m er fra 1 til 4, n er fra 1 til 12, R^ er valgt fra gruppen bestående av H, CH3 og blandinger av disse, og R2 er valgt fra gruppen bestående av fenyl og fenyl substituert med halogen, alkyl eller alkoksy hver inneholdende 1-15 karbonatomer, og blandinger derav, og
il) 5-50 vektdeler av en eller flere ikke-gassformige
forbindelser inneholdende minst to terminale etyleniske grupper og med et kokepunkt over 100°C, og D. 40 - 90 vektdeler av et fordannet makromolekylært polymert bindemiddel som er en polymer av: i) et første monomert materiale som inneholder en eller flere ikke-sure forbindelser valgt fra:
hvor R er hydrogen, en alkylgruppe med fra 1 til 6 karbonatomer, eller en halogengruppe, og når X er hydrogen, så er Y OOCRi, OR^, OCR^, COORi, CN, CH=CH2,
eller Cl, og når X er metyl, så er Y COORi, CN, CH=CH2, eller
og når X er klor, så er Y Cl; og hvor R^ er en alkylgruppe med fra 1 til 12 karbonatomer, en fenylgruppe eller en benzylgruppe, og R3 og R4 er hydrogen, en alkylgruppe med fra 1 til 12 karbonatomer eller en benzylgruppe; og ii) et annet monomert materiale som i alt vesentlig består av en eller flere a-, f3-etylenisk umettede karboksylsyre- eller anhydrid-holdige monomerer med fra 3 til 15 karbonatomer;
og hvor forholdet mellom det første monomere materialet til nevnte andre monomere materiale er tilstrekkelig til at i alt vesentlig alt bindemiddel er oppløselig i en i alt vesentlig fullstendig vandig oppløsning Inneholdende 2 vekt-& natriumkarbonat.
2.
Fotopolymeriserbar sammensetning ifølge krav 1, karakterisert ved at m er 2 eller 3, n er 2 eller 3, Ri er H og R2 er usubstituert fenyl.
3.
Fotopolymeriserbar sammensetning ifølge krav 1, karakterisert ved at de ikke-gassformige forbindelser inneholder minst to terminale etyleniske grupper og med et kokepunkt over 100"C er valgt fra gruppen bestående av en umettet ester av en polyol, et umettet amid, en vinylester og blandinger av silke forbindelser.
4.
Fotopolymeriserbar sammensetning ifølge krav 3, karakterisert ved at de ikke-gassformige forbindelser er valgt fra gruppen bestående av trimetylolpropantriakrylat, tetraetylenglykoldiakrylat, tripropylenglykoldiakrylat og blandinger av disse forbindelser.
5.
Fotopolymeriserbar sammensetning ifølge krav 3, karakterisert ved at de ikke-gassformige forbindelser består av tripropylenglykoldiakrylat.
6.
Fotopolymeriserbar sammensetning ifølge krav 3, karakterisert ved at de ikke-gassformige forbindelser består av pentaerytritolakrylater.
7.
Fotopolymeriserbar sammensetning ifølge krav 1, karakterisert ved at blndemidlet har et først monomert materiale med følgende generelle formel
8.
Fotopolymeriserbar sammensetning Ifølge krav 7, karakterisert ved at blndemidlet er en kopolymer av styren og monobutylmaleat i et forhold på 35:65 til 70:30.
9.
Fotopolymeriserbar sammensetning ifølge krav 1, karakterisert ved at blndemidlet er en kopolymer av vinylacetat og krotonsyre i et forhold fra 70:30 til 95:5.
10.
Fotopolymeriserbar sammensetning Ifølge krav 1, karakterisert ved at blndemidlet er en blanding av en kopolymer av styren og monobutylmaleat i et forhold fra 35:65 til 70:30 med en kopolymer av vinylacetat og krotonsyre i et forhold fra 70:30 til 95:5.
11.
Fotopolymeriserbar sammensetning Ifølge krav 1, karakterisert ved at blndemidlet er en kopolymer av en monomer av akrylattypen og en eller flere a-, e-etylenisk umettede karboksylsyre- eller anhydrld-holdlge monomerer med 3-15 karbonatomer.
12.
Fotopolymeriserbar sammensetning ifølge krav 1, karakterisert ved at blndemidlet er en kopolymer av i) ii) en akrylattypemonomer og
lii) en eller flere a-, p<->etylenisk umettede karboksyl
syre- eller anhydrid-holdige monomerer med fra 3-15 karbonatomer.
13.
Fotopolymeriserbar sammensetning ifølge krav 12, karakterisert ved at nevnte akrylattypemonomer er valgt fra gruppen bestående av alkylakrylat, alkylmetakrylat, hydroksyalkylakrylat, hydroksyalkylmetakrylat og blandinger av disse, hvor alkylgruppene har fra 1 til 12 karbonatomer og hydroksyalkylgruppene har fra 2 til 12 karbonatomer.
14.
Ark eller rull med en fotopolymeriserbar sammensetning på et fleksibelt filmunderlag, karakterisert ved at den fotopolymeriserbare sammensetningen omfatter bestanddelene A-D som definert i krav 1 og i de deri angitte respektive mengder,
hvor forholdet mellom første monomere materiale og nevnte andre monomere materiale er tilstrekkelig til at i alt vesentlig alt bindemiddel blir oppløselig i en i alt vesentlig fullstendig vandig oppløsning inneholdende 2 vekt-56 natriumkarbonat.
15.
Ark eller rull ifølge krav 14, karakterisert ved at akrylatet er valgt fra gruppen bestående av substituert og usubstituert fenoksypolyetoksyetylakrylater, substituerte og usubstituerte fenoksypolypropoksypropylakrylater og blandinger av disse.
16.
Ark eller rull ifølge krav 15, karakterisert ved at akrylatet er et usubstituert fenoksypoly-etoksyetylakrylat.
17.
Ark eller rull ifølge krav 15, karakterisert ved at blndemidlet er en kopolymer av i) ii) en monomer av akrylattypen og
ili) en eller flere a-, p-etylenisk umettede karboksyl
syre- eller anhydrid-holdige monomerer med fra 3-15 karbonatomer.
18.
Ark eller rull ifølge krav 15, karakterisert ved at blndemidlet er en blanding av en kopolymer av styren og monobutylmaleat i et forhold fra 35:65 til 70:30 med en kopolymer av vinylacetat og krotonsyre i et forhold fra 70:30 til 95:5.
19.
Fremgangsmåte for fremstilling av et trykt kretskort, karakterisert ved at man: A. laminerer en fotopolymeriserbar sammensetning på en trykt kretskortforløper, hvor den fotopolymeriserbare sammensetning omfatter bestanddelene A-D som definert i krav 1 og 1 de deri angitte respektive mengder,
hvor forholdet mellom det første monomere materialet og det andre monomere materialet er tilstrekkelig til å gjøre i alt vesentlig alt bindemiddel oppløselig i en i alt vesentlig fullstendig vandig oppløsning inneholdende 2 vekt-# natriumkarbonat; B. eksponerer utvalgte deler av den fotopolymeriserbare sammensetningen for aktinisk stråling i tilstrekkelig grad til å oppnå fotopolymerisering av de nevnte eksponerte deler; C. fjerner de ueksponerte deler av sammensetningen for derved å blottlegge deler av kretskortforløperen ved kontakt med en i alt vesentlig fullstendig vandig oppløsning med en alkalinitet som i det minste er så stor som en 2 vekt-# oppløsning av natriumkarbonat; D. modifiserer de blottlagte deler av kretskortforløperen for derved å danne et selektivt elektrisk ledende mønster; og E. fjerner de eksponerte utvalgte deler av sammensetningen fra kretskortet ved kontakt med en i alt vesentlig fullstendig vandig oppløsning med en alkalinitet som i det minste er så stor som en 3 vekt-# oppløsning av natriumhydroksyd.
20.
Fremgangsmåte ifølge krav 19, karakterisert ved at det anvendes en trykt kretskortforløper som er et kobberkledd, epoksyfiberglasslaminat.
21.
Fremgangsmåte ifølge krav 19, karakterisert ved at det anvendes en trykt kretskortforløper som er et fleksibelt kobberkledd laminat.
22.
Fremgangsmåte ifølge krav 19, karakterisert ved at det anvendes en trykt kretskortforløper som har et metallisk materiale på begge sider og at det anvendes en fotopolymeriserbar sammensetning som er laminert på begge sider på toppen av nevnte metalliske materiale.
23.
Fremgangsmåte Ifølge krav 19, karakterisert ved at de eksponerte deler av kretskortforløperen blir modifisert ved etsing.
24.
Fremgangsmåte ifølge krav 19, karakterisert ved at de eksponerte deler av kretskortforløperen blir modifisert ved belegging.
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US06/501,199 US4539286A (en) | 1983-06-06 | 1983-06-06 | Flexible, fast processing, photopolymerizable composition |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
NO842237L NO842237L (no) | 1984-12-07 |
NO169923B true NO169923B (no) | 1992-05-11 |
NO169923C NO169923C (no) | 1992-08-19 |
Family
ID=23992505
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
NO842237A NO169923C (no) | 1983-06-06 | 1984-06-04 | Fotopolymeriserbar sammensetning, ark eller rull med en slik sammensetning samt fremgangsmaate for fremmstilling av et trykt kretskort |
Country Status (17)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4539286A (no) |
EP (1) | EP0128014B2 (no) |
JP (1) | JPS6011840A (no) |
KR (1) | KR870000750B1 (no) |
AR (1) | AR242045A1 (no) |
AT (1) | ATE32956T1 (no) |
AU (1) | AU566653B2 (no) |
BR (1) | BR8402712A (no) |
CA (1) | CA1213092A (no) |
DE (1) | DE3469809D1 (no) |
DK (1) | DK277284A (no) |
ES (2) | ES8608268A1 (no) |
IL (1) | IL72040A (no) |
NO (1) | NO169923C (no) |
NZ (1) | NZ208262A (no) |
PT (1) | PT78695B (no) |
ZA (1) | ZA843909B (no) |
Families Citing this family (32)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
NZ212161A (en) * | 1984-06-08 | 1988-06-30 | Ishikawa Katsukiyo | Photo-polymerisable composition and printing plate prepared therefrom |
US4876384A (en) * | 1985-04-22 | 1989-10-24 | Diamond Shamrock Chemicals Co. | Radiation-hardenable diluents |
US5110889A (en) * | 1985-11-13 | 1992-05-05 | Diamond Shamrock Chemical Co. | Radiation hardenable compositions containing low viscosity diluents |
AU587876B2 (en) * | 1985-11-15 | 1989-08-31 | Hoechst Aktiengesellschaft | Radiation-polymerizable mixture, recording material prepared from it and process for the production of relief recordings |
DE3540480A1 (de) * | 1985-11-15 | 1987-05-21 | Hoechst Ag | Durch strahlung polymerisierbares gemisch, daraus hergestelltes aufzeichnungsmaterial und verfahren zur herstellung von reliefaufzeichnungen |
DE3706561A1 (de) * | 1987-02-28 | 1988-09-08 | Basf Ag | Lichtempfindliches aufzeichnungsmaterial mit erhoehter flexibilitaet |
US4902605A (en) * | 1987-07-24 | 1990-02-20 | Eastman Kodak Company | Photoresist composition comprising cyclohexyleneoxyalkyl acrylates |
US4885229A (en) * | 1987-12-22 | 1989-12-05 | 501 Daicel Chemical Industries Ltd. | Photopolymerizable compositions |
DE3808952A1 (de) * | 1988-03-17 | 1989-10-05 | Basf Ag | Lichtempfindliche, photopolymerisierbare druckplatte |
DE3808951A1 (de) * | 1988-03-17 | 1989-10-05 | Basf Ag | Photopolymerisierbare, zur herstellung von druckformen geeignete druckplatte |
US4819489A (en) * | 1988-05-09 | 1989-04-11 | Rca Licensing Corp. | Device and method for testing the adherence of a coating layer to a material |
US4912019A (en) * | 1988-05-31 | 1990-03-27 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Photosensitive aqueous developable ceramic coating composition |
DE3844451A1 (de) * | 1988-12-31 | 1990-07-05 | Basf Ag | Photopolymerisierbares system |
US4985343A (en) * | 1989-02-09 | 1991-01-15 | Mitsubishi Rayon Co., Ltd. | Crosslinking-curable resin composition |
CA2025198A1 (en) * | 1989-10-25 | 1991-04-26 | Daniel F. Varnell | Liquid solder mask composition |
US5217847A (en) * | 1989-10-25 | 1993-06-08 | Hercules Incorporated | Liquid solder mask composition |
JP2782909B2 (ja) * | 1990-04-05 | 1998-08-06 | 日本油脂株式会社 | 光重合性樹脂組成物 |
US5068168A (en) * | 1990-12-20 | 1991-11-26 | Monsanto Company | Styrene/maleates terpolymers |
CA2076727A1 (en) * | 1991-08-30 | 1993-03-01 | Richard T. Mayes | Alkaline-etch resistant dry film photoresist |
US5332650A (en) * | 1991-09-06 | 1994-07-26 | Japan Synthetic Rubber Co., Ltd. | Radiation-sensitive composition |
JPH07235755A (ja) * | 1994-02-25 | 1995-09-05 | Hitachi Ltd | プリント配線基板の製法 |
CA2158915A1 (en) | 1994-09-30 | 1996-03-31 | Dekai Loo | Liquid photoimageable resist |
US6004725A (en) * | 1997-12-01 | 1999-12-21 | Morton International, Inc. | Photoimageable compositions |
US5922509A (en) * | 1998-03-18 | 1999-07-13 | Morton International, Inc. | Photoimageable compositions having improved stripping properties in aqueous alkaline solutions |
US7022462B1 (en) * | 1999-03-03 | 2006-04-04 | Hitachi Chemical Company, Ltd. | Photosensitive resin composition, photosensitive element using the same, process for producing resist pattern, and process for producing printed wiring board |
CN1310088C (zh) * | 2002-03-12 | 2007-04-11 | 旭化成电子材料元件株式会社 | 感光性树脂组合物及其用途 |
US7342075B2 (en) * | 2002-10-31 | 2008-03-11 | Basf Corporation | Carbamate functional addition polymers and method for their preparation |
US8236485B2 (en) | 2002-12-20 | 2012-08-07 | Advanced Technology Materials, Inc. | Photoresist removal |
US20100028816A1 (en) * | 2006-08-30 | 2010-02-04 | Ko Hermans | Process for preparing a polymeric relief structure |
KR100994311B1 (ko) * | 2006-09-13 | 2010-11-12 | 히다치 가세고교 가부시끼가이샤 | 감광성 수지 조성물, 감광성 엘리먼트, 레지스트 패턴의 형성방법 및 프린트 배선판의 제조방법 |
CN102799070B (zh) * | 2012-08-27 | 2014-03-05 | 珠海市能动科技光学产业有限公司 | 双层涂布的负性光致抗蚀干膜 |
JP2018074102A (ja) | 2016-11-04 | 2018-05-10 | 富士通株式会社 | 電子装置 |
Family Cites Families (48)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CA750324A (en) * | 1967-01-10 | R. Celeste Jack | Photopolymerizable compositions and elements | |
CA614181A (en) * | 1961-02-07 | J. Mcgraw William | Photopolymerizable compositions, elements and processes | |
NL101499C (no) * | 1951-08-20 | |||
US2690968A (en) * | 1952-10-04 | 1954-10-05 | Powers Chemco Inc | Development of diazo and azide sensitized colloids |
BE559609A (no) * | 1954-04-05 | |||
US2852379A (en) * | 1955-05-04 | 1958-09-16 | Eastman Kodak Co | Azide resin photolithographic composition |
US2893868A (en) * | 1955-08-22 | 1959-07-07 | Du Pont | Polymerizable compositions |
NL218803A (no) * | 1956-07-09 | |||
GB835849A (en) * | 1957-04-26 | 1960-05-25 | Du Pont | Photopolymerisable compositions and uses thereof |
NL120741C (no) * | 1958-05-21 | |||
NL287134A (no) * | 1959-08-05 | |||
US3024180A (en) * | 1959-08-17 | 1962-03-06 | Du Pont | Photopolymerizable elements |
BE639767A (no) * | 1962-11-13 | |||
US3388995A (en) * | 1964-08-10 | 1968-06-18 | Gen Aniline & Film Corp | Photopolymer offset printing plates |
US3440047A (en) * | 1964-08-10 | 1969-04-22 | Gen Aniline & Film Corp | Photopolymer offset printing plates of the etch type |
US3495987A (en) * | 1965-09-03 | 1970-02-17 | Du Pont | Photopolymerizable products |
DE1572153B2 (de) * | 1966-06-27 | 1971-07-22 | E I Du Pont de Nemours and Co , Wilmington, Del (V St A ) | Fotopolymerisierbares aufzeichnungsmaterial |
US3458311A (en) * | 1966-06-27 | 1969-07-29 | Du Pont | Photopolymerizable elements with solvent removable protective layers |
GB1180846A (en) * | 1967-08-08 | 1970-02-11 | Agfa Gevaert Nv | Photopolymerisation of Ethylenically Unsaturated Organic Compounds |
DE1296975B (de) * | 1967-11-09 | 1969-06-04 | Kalle Ag | Lichtempfindliches Gemisch |
GB1188921A (en) * | 1968-01-31 | 1970-04-22 | Du Pont | Photopolymerizable Elements |
US3547651A (en) * | 1968-04-02 | 1970-12-15 | Du Pont | Photopolymerizable compositions containing organometal compounds |
US3708296A (en) * | 1968-08-20 | 1973-01-02 | American Can Co | Photopolymerization of epoxy monomers |
US3616367A (en) * | 1968-11-25 | 1971-10-26 | Du Pont | Photopolymerizable acrylic compositions containing rearrangeable ultraviolet stabilizer precursors |
DE1817107C3 (de) * | 1968-12-27 | 1980-09-11 | Hoechst Ag, 6000 Frankfurt | Vorsensibilisierte MehrmetaU-Offsetdruckplatte |
JPS4818563B1 (no) * | 1969-03-07 | 1973-06-07 | ||
US3695877A (en) * | 1969-08-13 | 1972-10-03 | Teijin Ltd | Photopolymerizable resin compositions |
US3850770A (en) * | 1969-10-24 | 1974-11-26 | Kansai Paint Co Ltd | Radiation curable compositions from acrylurethane resins |
US3622334A (en) * | 1969-12-31 | 1971-11-23 | Du Pont | Photopolymerizable compositions and elements containing heterocyclic nitrogen-containing compounds |
DE2027467C3 (de) * | 1970-06-04 | 1974-08-15 | Kalle Ag, 6202 Wiesbaden-Biebrich | Photopolymerisierbare Kopiermasse |
DE2039861C3 (de) * | 1970-08-11 | 1973-12-13 | Kalle Ag, 6202 Wiesbaden-Biebrich | Photopolymensierbare Kopier masse |
BE772251A (fr) * | 1970-09-07 | Kalle Ag | Composes photopolymerisables | |
US3660088A (en) * | 1970-09-16 | 1972-05-02 | Grace W R & Co | Photo-resist process |
US3796578A (en) * | 1970-12-26 | 1974-03-12 | Asahi Chemical Ind | Photopolymerizable compositions and elements containing addition polymerizable polymeric compounds |
DE2064080C3 (de) * | 1970-12-28 | 1983-11-03 | Hoechst Ag, 6230 Frankfurt | Lichtempfindliches Gemisch |
US3718473A (en) * | 1971-01-27 | 1973-02-27 | Du Pont | Photopolymerizable elements containing hydro philic colloids and polymerizable monomers for making gravure printing plate resists |
US3887450A (en) * | 1971-02-04 | 1975-06-03 | Dynachem Corp | Photopolymerizable compositions containing polymeric binding agents |
US3833384A (en) * | 1972-04-26 | 1974-09-03 | Eastman Kodak Co | Photopolymerizable compositions and elements and uses thereof |
US3867153A (en) * | 1972-09-11 | 1975-02-18 | Du Pont | Photohardenable element |
US3953309A (en) * | 1972-12-14 | 1976-04-27 | Dynachem Corporation | Polymerization compositions and processes having polymeric binding agents |
JPS5632614B2 (no) * | 1973-02-13 | 1981-07-29 | ||
DE2429636C3 (de) * | 1973-06-28 | 1986-05-07 | Teijin Ltd., Osaka | Lichtempfindliche Harzmasse |
DE2363806B2 (de) * | 1973-12-21 | 1979-05-17 | Hoechst Ag, 6000 Frankfurt | Lichtempfindliches Gemisch |
US4097417A (en) * | 1974-05-02 | 1978-06-27 | National Starch And Chemical Corporation | Photocurable electroconductive coating composition |
ZA757984B (en) * | 1974-10-04 | 1976-12-29 | Dynachem Corp | Polymers for aqueous processed photoresists |
JPS5492723A (en) * | 1977-12-30 | 1979-07-23 | Somar Mfg | Photosensitive material and use |
US4239849A (en) * | 1978-06-19 | 1980-12-16 | Dynachem Corporation | Polymers for aqueous processed photoresists |
JPS5633640A (en) * | 1979-08-28 | 1981-04-04 | Arai Tokuji | Photopolymerizable photosensitive resin composition and photosensitive sheet structure containing layer of such composition |
-
1983
- 1983-06-06 US US06/501,199 patent/US4539286A/en not_active Expired - Lifetime
-
1984
- 1984-05-23 ZA ZA843909A patent/ZA843909B/xx unknown
- 1984-05-23 CA CA000454898A patent/CA1213092A/en not_active Expired
- 1984-05-23 NZ NZ208262A patent/NZ208262A/en unknown
- 1984-05-25 AU AU28726/84A patent/AU566653B2/en not_active Ceased
- 1984-05-31 DE DE8484303664T patent/DE3469809D1/de not_active Expired
- 1984-05-31 EP EP84303664A patent/EP0128014B2/en not_active Expired - Lifetime
- 1984-05-31 AT AT84303664T patent/ATE32956T1/de not_active IP Right Cessation
- 1984-06-01 AR AR84296821A patent/AR242045A1/es active
- 1984-06-04 NO NO842237A patent/NO169923C/no unknown
- 1984-06-04 DK DK277284A patent/DK277284A/da not_active Application Discontinuation
- 1984-06-05 PT PT78695A patent/PT78695B/pt not_active IP Right Cessation
- 1984-06-05 IL IL72040A patent/IL72040A/xx unknown
- 1984-06-05 BR BR8402712A patent/BR8402712A/pt not_active IP Right Cessation
- 1984-06-05 KR KR1019840003143A patent/KR870000750B1/ko not_active IP Right Cessation
- 1984-06-05 ES ES533132A patent/ES8608268A1/es not_active Expired
- 1984-06-06 JP JP59116337A patent/JPS6011840A/ja active Granted
-
1985
- 1985-09-13 ES ES546967A patent/ES8606775A1/es not_active Expired
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
NO842237L (no) | 1984-12-07 |
EP0128014A2 (en) | 1984-12-12 |
EP0128014A3 (en) | 1985-05-29 |
DK277284D0 (da) | 1984-06-04 |
JPS6011840A (ja) | 1985-01-22 |
ATE32956T1 (de) | 1988-03-15 |
PT78695A (pt) | 1985-01-01 |
CA1213092A (en) | 1986-10-21 |
AU2872684A (en) | 1984-12-13 |
IL72040A (en) | 1988-03-31 |
BR8402712A (pt) | 1985-05-14 |
NZ208262A (en) | 1986-10-08 |
EP0128014B1 (en) | 1988-03-09 |
ES546967A0 (es) | 1986-04-16 |
US4539286A (en) | 1985-09-03 |
DE3469809D1 (en) | 1988-04-14 |
ES8608268A1 (es) | 1986-06-01 |
ES533132A0 (es) | 1986-06-01 |
ES8606775A1 (es) | 1986-04-16 |
KR870000750B1 (ko) | 1987-04-13 |
AU566653B2 (en) | 1987-10-29 |
ZA843909B (en) | 1984-12-24 |
JPH0422508B2 (no) | 1992-04-17 |
AR242045A1 (es) | 1993-02-26 |
EP0128014B2 (en) | 1991-08-21 |
NO169923C (no) | 1992-08-19 |
KR850000496A (ko) | 1985-02-27 |
PT78695B (en) | 1986-07-11 |
DK277284A (da) | 1984-12-07 |
IL72040A0 (en) | 1984-10-31 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
NO169923B (no) | Fotopolymeriserbar sammensetning, ark eller rull med en slik sammensetning samt fremgangsmaate for fremmstilling av et trykt kretskort | |
US3953309A (en) | Polymerization compositions and processes having polymeric binding agents | |
US4239849A (en) | Polymers for aqueous processed photoresists | |
US4003877A (en) | Photopolymerizable screen printing inks for permanent coatings prepared from aryloxyalkyl compositions | |
JPH0359416B2 (no) | ||
JPS6313526B2 (no) | ||
JPS643352B2 (no) | ||
NO141804B (no) | Fotopolymeriserbart preparat. | |
JPS62240950A (ja) | ホトレジストのラミネ−シヨンおよび処理における接着性の促進 | |
US4610951A (en) | Process of using a flexible, fast processing photopolymerizable composition | |
JP2008094803A (ja) | 感光性樹脂組成物およびその積層体 | |
US4230790A (en) | Photopolymerizable compositions useful in dry film photoresist | |
US4339527A (en) | Process for using photopolymerizable compositions | |
JP4175079B2 (ja) | 感光性樹脂組成物およびこれを用いた感光性エレメント | |
JP2001159817A (ja) | 感光性樹脂組成物、これを用いた感光性エレメント、レジストパターンの製造法及びプリント配線板の製造法 | |
EP0665468B1 (en) | Staining inhibitor for photopolymerizable compositions containing a tetrazole | |
JPS60240715A (ja) | 感光性樹脂組成物 | |
JP4172248B2 (ja) | 感光性樹脂組成物、これを用いた感光性エレメント、レジストパターンの形成方法及びプリント配線板の製造方法 | |
JP4529289B2 (ja) | 感光性樹脂組成物、これを用いた感光性エレメント、レジストパターンの製造法及びプリント配線板の製造法 | |
WO2001095033A1 (en) | Photosensitive resin composition and photosensitive material using the same | |
DK145357B (da) | Laminat til fremstilling af trykkeplader eller fotoreservager | |
JP2003131370A (ja) | 感光性樹脂組成物、これを用いた感光性エレメント | |
JP2006163312A (ja) | 感光性エレメント、レジストパターンの形成方法及びプリント配線板の製造方法 | |
JPH0264541A (ja) | 放射線重合可能な記録材料及びレリーフ記録材料の製造法 |