JPH04210487A - 電解用電極 - Google Patents
電解用電極Info
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
[00011本発明は新規な電解用電極に関し、さらに
詳しくは、海水や食塩水などの希薄塩化物水溶液を電解
して陽極に塩素を発生させる際のアノードとして有用な
電解用電極及びその製造法に関する。 [0002]海水や食塩水等の希薄塩化物水溶液を電解
してアノードに塩素を発生させ、この塩素と水酸イオン
との反応により生成する次亜塩素酸イオンの殺菌性、漂
白刃を利用して、例えば海中構造物への生物の付着防止
、プールや上下水道の水処理等を行なうことは公知であ
る。このうち、食塩水を電解液として使用する場合、食
塩の利用率を上げるため、電解槽出口での有効塩素濃度
は通常110000pp前後の値とされる。 [0003]希薄塩化物水溶液の電解用アノード材料と
して、従来、白金被覆チタン電極、白金−イリジウム被
覆電極、酸化ルテニウム−酸化チタン被覆電極、白金−
酸化パラジウム被覆電極等が知られているが、これらは
電解液中での電流効率が低く及び/又はその持続性に欠
けており、しかも電極の消耗も大きい等の欠点がある。 [00041本発明者らは、上記の如き欠点のない電解
用@極を開発すべく鋭意研究を行なった結果、本発明を
完成するに至った。 [00051すなわち、本発明は。 (a)チタン又はチタン基合金よりなる電極基体と、(
b)該電極基体上に設けられた白金被覆層と、(c)該
白金被覆層を被覆する酸化ロジウム層と、(d)該酸化
ロジウム層上に設けられた酸化パラジウム80〜100
モル%及び酸化ロジウム0〜20モル%を含有する酸化
物被覆層とからなることを特徴とする電解用電極を提供
するものである。 [00061本発明によれば、上記本発明の電解用電極
は、 (i)チタン又はチタン基合金よりなる@極基体上に白
金被覆層を設け、 (i i)該白金被覆層上に、酸素含有雰囲気中で熱分
解して酸化ロジウムを生成しうるロジウム化合物の溶液
を塗布した後、酸素含有雰囲気中で熱処理して、該白金
被覆層上に酸化ロジウム層を形成(7、 (i i i)該酸ロジ「クム層上に、酸素含有雰囲気
中で熱分尊して酸化パラジウムを生成しつるパラジウム
化合物及び場合により酸素含有雰囲気中で熱分解して酸
化ロジウムを生成しつるロジウム化合物を含有する溶液
を塗布した後、酸素含有雰囲気中で熱処理して、該酸化
ロジウム層上に酸化パラジウム及び場合により酸化ロジ
ウムを含有する酸化物を形成することによって製造する
ことができる。 [0007]以下、本発明の電解用電極をその製造法に
基いてさらに詳しく説明する。 [00081本発明において使用される電極基体の材質
としては、チタン又はチタン基合金が挙げられる。チタ
ン基合金としては、チタンを主体とする耐食性のある導
電性の合金が使用され、例えばTi −Ta−Nb、
Ti−Pd、 T i −Z r、 T i −W、
T i −AI等の組合わせからなる、通常電極材料と
して使用されているTi基合金が挙げられる。 [0009]これらの電極材料は板状、有孔版状、棒状
、網板状等の所望形状に加工して電極基材として用いる
ことができる。 [00101上記の如き電極基体には、通常行なわれて
いるように、予め前処理を施した後、中間層を設けるの
が望ましい。そのような前処理の好適具体例としては以
下にのべるものが挙げられる。 [00113先ず、前述したチタン又はチタン合金より
なる電極基体(以下、チタン基体ということがある)表
面を常法に従い、例えばトリクロルエチレン、トリクロ
ルエタン等で洗浄し又はアルカリ溶液中での電解により
脱脂した後、シュウ酸、フッ化水素酸等の酸で処理する
ことにより、チタン基体表面の酸化膜を除去する。該酸
処理はチタン基体の表面状態に応じて常温ないし約10
0℃の温度において数分間ないし数十分間行なうことが
できる。 [001,2]酸処理されたチタン基体は酸から取り出
し、好ましくは窒素、アルゴン等の不活性ガス雰囲気中
で急冷してチタン基体の表面温度を約60℃以下に低下
させる。この急冷には洗浄も兼ねて大量の冷水を用いる
のが適当である。 [0013]このようにして適宜前処理された電極基体
表面には次いで白金被覆層が設けられる。電極基体表面
への白金被覆層の施用は、それ自体既知の方法、例えば
、熱分解によって白金を析出しうる白金化合物(例:塩
化白金酸、ジニトロジアンミン白金等)の溶液を電極基
体表面に塗布した後熱分解する方法;電気メツキ法;蒸
着法等によって行なうことができる。 [0014]その際の白金の被覆量は一般に少なくとも
0.2■/cm2以上とすることが望ましい。白金の被
覆量が0.2■/cm2より少ないと後述する焼成処理
に際してチタン又はチタン基合金界面の酸化がすすみ過
ぎて導電性が低下する傾向がみられる。白金の被覆量の
上限は特に制限されないが、必要以上に多くしてもそれ
に伴うだけの効果は得らず、却って不経済となるので、
通常は5111g/e鳳2以下の被覆量で充分である。 白金の好適な被覆量は1〜3■/cII2である。 [0015]このようにして形成される白金被覆電極基
体の白金被覆面は次いで酸化ロジウム層で被覆する。 [0016]該酸酸化ロジウム被覆の形成は、例えば、
酸素含有雰囲気、好ましくは空気中で熱分解して酸化ロ
ジウムを生成しうるロジウム化合物を含有する溶液を白
金被覆層上に塗布し、適宜乾燥した後に、酸素含有雰囲
気中で熱処理することにより行なうことができる。ここ
で使用しうるロジウム化合物としては、例えば、硝酸ロ
ジウム、塩化ロジウム等が挙げられるが、一般には硝酸
ロジウムが好適である。 [0017]かかるロジウム化合物の溶液としては、ロ
ジウム化合物の水溶液、殊に硝酸酸性水溶液が好適であ
る。該水溶液中におけるロジウム化合物の濃度は特に制
限されるものではないが、ロジウム金属に換算して通常
、10〜200g/l、特に20〜100g/lの範囲
内が好都合である。さらに、該水溶液の塗布性を向上さ
せるため、該水溶液には、メタノール、エタノール等の
低級アルコールを配合するのが望ましい。その際の低級
アルコールの添加量は通常水溶液の0.5〜5倍容量、
好ましくは1〜3倍容量とすることができる。 [001810ジウム化合物の溶液の塗布は通常の方法
、例えば刷毛塗り、スプレー、浸漬等の手段により行な
うことができる。 [0019]]金被覆面にロジウム化合物の溶液が塗布
された基体は、必要により約20〜約150℃の範囲内
の温度で乾燥した後、酸素含有ガス雰囲気、例えば空気
中で焼成する。焼成は、例えば、電気炉、ガス炉、赤外
線炉などの適当な加熱炉で、一般に約450〜約650
℃、好ましくは、約550〜約600℃の範囲内の温度
に加熱することによって行なうことができる。加熱時間
は焼成すべき基体の大きさに応じて大体3分〜30分間
程度とすることができる。 [0020]この焼成により、白金被覆面上に酸化ロジ
ウムの被覆層が形成される。酸化ロジウムの被覆量は厳
密に制限されるものではないが、ロジウム金属に換算し
て一般に0 、1〜2 mg/cm2、好ましくは、0
.2〜0.7■/cm2の範囲内が好都合である。 [00211このようにして形成された酸化ロジウム層
上にはさらに、酸化パラジウムを主体とする酸化物層が
被覆形成せしめられる。 [0022]かかる酸化物層の形成は、通常、酸素含有
ガス雰囲気中で熱分解して酸化パラジウムを生成しうる
パラジウム化合物を含有する溶液を塗布し、適宜乾燥し
た後、酸素含有ガス雰囲気中で熱処理することにより、
行なうことができる。ここで用いうるパラジウム化合物
としては、例えば、硝酸パラジウム、塩化パラジウム、
酢酸パラジウム、アビエチン酸パラジウム、ジニトロジ
アンミンパラジウム等が挙げられるが、中でも硝酸パラ
ジウム及びジニトロジアンミンパラジウムが好適である
。 [0023]かかるパラジウム化合物を含有する溶液と
しては水溶液、殊に硝酸酸性水溶液が好適である。該溶
液中におけるパラジウム化合物の濃度は特に制限される
ものではないが、パラジウム金属に換算して通常、10
〜200g/I、特に20〜100g/lの範囲内が適
当である。 [0024]また、該溶液には、前述した如きロジウム
化合物を添加することができる。それによって形成され
る電極の耐久性をさらに高めることができる。ロジウム
化合物の使用量は該溶液を用いて形成される酸化物層に
おける酸化パラジウムと酸化ロジウムの合計量を基準に
して酸化ロジウムが20モル%以下、好ましくは2〜1
0モル%の範囲内となるような量とすることができる。 [0025]さらに、該溶液には、前述したと同様の目
的でメタノール、エタノールなどの低級アルコールを前
述した如き量で配合することが望ましい。 [0026]以上述べた如くして調製されるパラジウム
化合物及び場合によりロジウム化合物を含有する溶液か
らの酸化パラジウムを主体とする酸化物被覆層の形成(
該溶液の塗布、乾燥、焼成)は、酸化ロジウム層の形成
について前述したと同様にして行なうことができる。 [0027]これにより、酸化ロジウム層上に、酸化パ
ラジウム80〜100モル%、好ましくは90〜98モ
ル%及び酸化ロジウム0〜20モル%、好ましくは2〜
10モル%を含有する酸化物被覆層を設けることができ
る。 [0028]該酸酸化物における酸化パラジウムの被覆
量はパラジウム金属に換算して一般に0.05〜4■/
Cm2、好ましくは0.4〜2mg/cm2の範囲内が
好適である。また、該酸化物層における酸化ロジウムの
被覆量はロジウム金属に換算して通常O〜1■/cm2
、特に0.01〜0 、5 mg/co+2の範囲内と
することができる。 [0029]なお、本明細書において電極基体上に形成
される白金層、酸化ロジウム層及び酸化パラジウムを主
体とする酸化物層の各被覆層における白金、酸化ロジウ
ム(ロジウム換算)、及び酸化パラジウム(パラジウム
換算)の被覆量は次のようにして求めた値である。 [00301各被覆量は、ケイ光X線分析法を用い次の
如くして求めた値である。すなわち、前述した如く前処
理したチタン基体上に前記の方法で種々の量を担持させ
、その量を湿式分析法及びケイ光X線分析法により定量
し、両方法による分析値をグラフにプロットして標準検
量線を作成しておき、次いで実際の試料をケイ光X線分
析にかけて、その分析値及び検量線から各被覆量を求め
る。 [0031]以上に述べたチタン又はチタン基合金より
なる基体上に、白金層、酸化ロジウム層及び酸化パラジ
ウムを主体とする酸化物層の少なくとも3層の被覆層を
有する本発明の電極は、電極寿命が長く耐久性に優れて
おり、しかも、有効塩素の高濃度条件下でも高い塩素発
生効率を示し、例えば食塩水、海水などの希薄塩化物水
溶液の電解用アノードとして有利に使用することができ
る。 [0032]次に実施例により本発明をさらに具体的に
説明する。 [0033]
詳しくは、海水や食塩水などの希薄塩化物水溶液を電解
して陽極に塩素を発生させる際のアノードとして有用な
電解用電極及びその製造法に関する。 [0002]海水や食塩水等の希薄塩化物水溶液を電解
してアノードに塩素を発生させ、この塩素と水酸イオン
との反応により生成する次亜塩素酸イオンの殺菌性、漂
白刃を利用して、例えば海中構造物への生物の付着防止
、プールや上下水道の水処理等を行なうことは公知であ
る。このうち、食塩水を電解液として使用する場合、食
塩の利用率を上げるため、電解槽出口での有効塩素濃度
は通常110000pp前後の値とされる。 [0003]希薄塩化物水溶液の電解用アノード材料と
して、従来、白金被覆チタン電極、白金−イリジウム被
覆電極、酸化ルテニウム−酸化チタン被覆電極、白金−
酸化パラジウム被覆電極等が知られているが、これらは
電解液中での電流効率が低く及び/又はその持続性に欠
けており、しかも電極の消耗も大きい等の欠点がある。 [00041本発明者らは、上記の如き欠点のない電解
用@極を開発すべく鋭意研究を行なった結果、本発明を
完成するに至った。 [00051すなわち、本発明は。 (a)チタン又はチタン基合金よりなる電極基体と、(
b)該電極基体上に設けられた白金被覆層と、(c)該
白金被覆層を被覆する酸化ロジウム層と、(d)該酸化
ロジウム層上に設けられた酸化パラジウム80〜100
モル%及び酸化ロジウム0〜20モル%を含有する酸化
物被覆層とからなることを特徴とする電解用電極を提供
するものである。 [00061本発明によれば、上記本発明の電解用電極
は、 (i)チタン又はチタン基合金よりなる@極基体上に白
金被覆層を設け、 (i i)該白金被覆層上に、酸素含有雰囲気中で熱分
解して酸化ロジウムを生成しうるロジウム化合物の溶液
を塗布した後、酸素含有雰囲気中で熱処理して、該白金
被覆層上に酸化ロジウム層を形成(7、 (i i i)該酸ロジ「クム層上に、酸素含有雰囲気
中で熱分尊して酸化パラジウムを生成しつるパラジウム
化合物及び場合により酸素含有雰囲気中で熱分解して酸
化ロジウムを生成しつるロジウム化合物を含有する溶液
を塗布した後、酸素含有雰囲気中で熱処理して、該酸化
ロジウム層上に酸化パラジウム及び場合により酸化ロジ
ウムを含有する酸化物を形成することによって製造する
ことができる。 [0007]以下、本発明の電解用電極をその製造法に
基いてさらに詳しく説明する。 [00081本発明において使用される電極基体の材質
としては、チタン又はチタン基合金が挙げられる。チタ
ン基合金としては、チタンを主体とする耐食性のある導
電性の合金が使用され、例えばTi −Ta−Nb、
Ti−Pd、 T i −Z r、 T i −W、
T i −AI等の組合わせからなる、通常電極材料と
して使用されているTi基合金が挙げられる。 [0009]これらの電極材料は板状、有孔版状、棒状
、網板状等の所望形状に加工して電極基材として用いる
ことができる。 [00101上記の如き電極基体には、通常行なわれて
いるように、予め前処理を施した後、中間層を設けるの
が望ましい。そのような前処理の好適具体例としては以
下にのべるものが挙げられる。 [00113先ず、前述したチタン又はチタン合金より
なる電極基体(以下、チタン基体ということがある)表
面を常法に従い、例えばトリクロルエチレン、トリクロ
ルエタン等で洗浄し又はアルカリ溶液中での電解により
脱脂した後、シュウ酸、フッ化水素酸等の酸で処理する
ことにより、チタン基体表面の酸化膜を除去する。該酸
処理はチタン基体の表面状態に応じて常温ないし約10
0℃の温度において数分間ないし数十分間行なうことが
できる。 [001,2]酸処理されたチタン基体は酸から取り出
し、好ましくは窒素、アルゴン等の不活性ガス雰囲気中
で急冷してチタン基体の表面温度を約60℃以下に低下
させる。この急冷には洗浄も兼ねて大量の冷水を用いる
のが適当である。 [0013]このようにして適宜前処理された電極基体
表面には次いで白金被覆層が設けられる。電極基体表面
への白金被覆層の施用は、それ自体既知の方法、例えば
、熱分解によって白金を析出しうる白金化合物(例:塩
化白金酸、ジニトロジアンミン白金等)の溶液を電極基
体表面に塗布した後熱分解する方法;電気メツキ法;蒸
着法等によって行なうことができる。 [0014]その際の白金の被覆量は一般に少なくとも
0.2■/cm2以上とすることが望ましい。白金の被
覆量が0.2■/cm2より少ないと後述する焼成処理
に際してチタン又はチタン基合金界面の酸化がすすみ過
ぎて導電性が低下する傾向がみられる。白金の被覆量の
上限は特に制限されないが、必要以上に多くしてもそれ
に伴うだけの効果は得らず、却って不経済となるので、
通常は5111g/e鳳2以下の被覆量で充分である。 白金の好適な被覆量は1〜3■/cII2である。 [0015]このようにして形成される白金被覆電極基
体の白金被覆面は次いで酸化ロジウム層で被覆する。 [0016]該酸酸化ロジウム被覆の形成は、例えば、
酸素含有雰囲気、好ましくは空気中で熱分解して酸化ロ
ジウムを生成しうるロジウム化合物を含有する溶液を白
金被覆層上に塗布し、適宜乾燥した後に、酸素含有雰囲
気中で熱処理することにより行なうことができる。ここ
で使用しうるロジウム化合物としては、例えば、硝酸ロ
ジウム、塩化ロジウム等が挙げられるが、一般には硝酸
ロジウムが好適である。 [0017]かかるロジウム化合物の溶液としては、ロ
ジウム化合物の水溶液、殊に硝酸酸性水溶液が好適であ
る。該水溶液中におけるロジウム化合物の濃度は特に制
限されるものではないが、ロジウム金属に換算して通常
、10〜200g/l、特に20〜100g/lの範囲
内が好都合である。さらに、該水溶液の塗布性を向上さ
せるため、該水溶液には、メタノール、エタノール等の
低級アルコールを配合するのが望ましい。その際の低級
アルコールの添加量は通常水溶液の0.5〜5倍容量、
好ましくは1〜3倍容量とすることができる。 [001810ジウム化合物の溶液の塗布は通常の方法
、例えば刷毛塗り、スプレー、浸漬等の手段により行な
うことができる。 [0019]]金被覆面にロジウム化合物の溶液が塗布
された基体は、必要により約20〜約150℃の範囲内
の温度で乾燥した後、酸素含有ガス雰囲気、例えば空気
中で焼成する。焼成は、例えば、電気炉、ガス炉、赤外
線炉などの適当な加熱炉で、一般に約450〜約650
℃、好ましくは、約550〜約600℃の範囲内の温度
に加熱することによって行なうことができる。加熱時間
は焼成すべき基体の大きさに応じて大体3分〜30分間
程度とすることができる。 [0020]この焼成により、白金被覆面上に酸化ロジ
ウムの被覆層が形成される。酸化ロジウムの被覆量は厳
密に制限されるものではないが、ロジウム金属に換算し
て一般に0 、1〜2 mg/cm2、好ましくは、0
.2〜0.7■/cm2の範囲内が好都合である。 [00211このようにして形成された酸化ロジウム層
上にはさらに、酸化パラジウムを主体とする酸化物層が
被覆形成せしめられる。 [0022]かかる酸化物層の形成は、通常、酸素含有
ガス雰囲気中で熱分解して酸化パラジウムを生成しうる
パラジウム化合物を含有する溶液を塗布し、適宜乾燥し
た後、酸素含有ガス雰囲気中で熱処理することにより、
行なうことができる。ここで用いうるパラジウム化合物
としては、例えば、硝酸パラジウム、塩化パラジウム、
酢酸パラジウム、アビエチン酸パラジウム、ジニトロジ
アンミンパラジウム等が挙げられるが、中でも硝酸パラ
ジウム及びジニトロジアンミンパラジウムが好適である
。 [0023]かかるパラジウム化合物を含有する溶液と
しては水溶液、殊に硝酸酸性水溶液が好適である。該溶
液中におけるパラジウム化合物の濃度は特に制限される
ものではないが、パラジウム金属に換算して通常、10
〜200g/I、特に20〜100g/lの範囲内が適
当である。 [0024]また、該溶液には、前述した如きロジウム
化合物を添加することができる。それによって形成され
る電極の耐久性をさらに高めることができる。ロジウム
化合物の使用量は該溶液を用いて形成される酸化物層に
おける酸化パラジウムと酸化ロジウムの合計量を基準に
して酸化ロジウムが20モル%以下、好ましくは2〜1
0モル%の範囲内となるような量とすることができる。 [0025]さらに、該溶液には、前述したと同様の目
的でメタノール、エタノールなどの低級アルコールを前
述した如き量で配合することが望ましい。 [0026]以上述べた如くして調製されるパラジウム
化合物及び場合によりロジウム化合物を含有する溶液か
らの酸化パラジウムを主体とする酸化物被覆層の形成(
該溶液の塗布、乾燥、焼成)は、酸化ロジウム層の形成
について前述したと同様にして行なうことができる。 [0027]これにより、酸化ロジウム層上に、酸化パ
ラジウム80〜100モル%、好ましくは90〜98モ
ル%及び酸化ロジウム0〜20モル%、好ましくは2〜
10モル%を含有する酸化物被覆層を設けることができ
る。 [0028]該酸酸化物における酸化パラジウムの被覆
量はパラジウム金属に換算して一般に0.05〜4■/
Cm2、好ましくは0.4〜2mg/cm2の範囲内が
好適である。また、該酸化物層における酸化ロジウムの
被覆量はロジウム金属に換算して通常O〜1■/cm2
、特に0.01〜0 、5 mg/co+2の範囲内と
することができる。 [0029]なお、本明細書において電極基体上に形成
される白金層、酸化ロジウム層及び酸化パラジウムを主
体とする酸化物層の各被覆層における白金、酸化ロジウ
ム(ロジウム換算)、及び酸化パラジウム(パラジウム
換算)の被覆量は次のようにして求めた値である。 [00301各被覆量は、ケイ光X線分析法を用い次の
如くして求めた値である。すなわち、前述した如く前処
理したチタン基体上に前記の方法で種々の量を担持させ
、その量を湿式分析法及びケイ光X線分析法により定量
し、両方法による分析値をグラフにプロットして標準検
量線を作成しておき、次いで実際の試料をケイ光X線分
析にかけて、その分析値及び検量線から各被覆量を求め
る。 [0031]以上に述べたチタン又はチタン基合金より
なる基体上に、白金層、酸化ロジウム層及び酸化パラジ
ウムを主体とする酸化物層の少なくとも3層の被覆層を
有する本発明の電極は、電極寿命が長く耐久性に優れて
おり、しかも、有効塩素の高濃度条件下でも高い塩素発
生効率を示し、例えば食塩水、海水などの希薄塩化物水
溶液の電解用アノードとして有利に使用することができ
る。 [0032]次に実施例により本発明をさらに具体的に
説明する。 [0033]
【実施例11JIS2種相当のチタン板素材(t1×・
10X’20mm)をトリクロルエチレンで脱脂洗浄し
た後、90℃の10重装置シュウ酸水溶液で20分間処
理した。次いでチタン基体を、シュウ酸水溶液から取り
出し、窒素雰囲気中で冷水を噴霧し急冷した後、室温で
減圧乾燥した。 [00341次いで、塩化白金酸をブタノールに溶解し
てPt濃度50g/lを含有する塗布液を調整した後、
その溶液を上記で得たチタン板上に筆で塗り、室温で減
圧乾燥し、更に減圧下に450℃で10分間焼成した。 上記塗布−乾燥−焼成工程を30回縁返すことにより白
金被覆量が1ct2当り約1.6mgの白金被覆層を形
成した。 [0035]次いで、ロジウム濃度50g/l(金属換
算)及び硝酸濃度95g/lに調整された硝酸ロジウム
の硝酸酸性水溶液とエタノールを混合し、ロジウム濃度
25g/l (金属換算)を含有する塗布液を調製した
。その塗布液をマイクロピペットで1C1112当り2
.7μm秤量し、それを上記基体に塗布した後室温で3
0分間減圧乾燥し、更に600℃の大気中で10分間焼
成した。この塗布−乾燥−焼成工程を5回繰返し、白金
被覆層上にロジウム換算で1CI112当り0.4mg
の酸化ロジウム被覆層を形成した。 [0036]さらに、パラジウム濃度100g/I(金
属換算)及び硝酸濃度445g/lに調整された硝酸パ
ラジウムの硝酸酸性水溶液とエタノールを混合し、パラ
ジウム濃度25g/l(金属換算)含有する塗布液を調
製した。この塗布液を用いて前記と同様の塗布−乾燥−
焼成工程を11回繰返して酸化ロジウム層上にパラジウ
ム換算で1cm2当り0.8■の酸化パラジウム層を形
成した。 かくして得られた電極を実施例電極−1とする。 [0037]比較のため、上記実施例−1と同様の方法
でチタン基体上に白金を被覆して比較例−1を作製した
。 [0038]このようにして得られた電極を以下の条件
で電解した時の有効塩素濃度と塩素発生効率との関係を
第1図に示す。 [0039] 電解液 :3%NaC1 電流密度:15A/dm2 対極二Ti 第1図より実施例電極−1は、有効塩素高濃度下でも塩
素発生効率が高い電極であることがわかる。 [00403 【実施例2]前記実施例1に記載したと同様の方法でチ
タン板上に白金を2INIg/cI112の量で析出さ
せた。 4[00411次いで、ロジウム濃度50
g/l(金属換算)及び硝酸濃度95g/lに調整され
た硝酸ロジウムの硝酸酸性水溶液とエタノールを混合し
、ロジウム濃度25g/l(金属換算)を含有する塗布
液を調製した。この塗布液をマイクロピペットで一定量
取り、それを上記基体に塗布した後、室温で30分間減
圧乾燥し、更に600℃の大気中で10分間焼成した。 この塗布−乾燥−焼成工程を8回繰返し、白金被覆層上
にロジウム換算でICIr!当り0.6mmgの酸化ロ
ジウム被覆層を形成した。 [00423次いで、パラジウム濃度100g/l(金
属換算)及び硝酸濃度445g/lに調整された硝酸パ
ラジウムの硝酸酸性水溶液とエタノールを混合し、パラ
ジウム濃度25g/l(金属換算)含有する溶液を調製
し、さらにロジウム濃度50g/i(金属換算)及び硝
酸濃度95g/Iの硝酸ロジウムの硝酸酸性水溶液を添
加混合することにより、パラジウム対ロジウムの原子比
が20:1である硝酸パラジウムと硝酸ロジウムを含有
する塗布液を調製する。この塗布液を用いて前記と同様
の塗布−乾燥−焼成工程を11回繰返して、酸化ロジウ
ム被覆層上に金属換算で1cl12当り0.8mgの酸
化パラジウム層と0.04mgの酸化ロジウムを含有す
る酸化物被覆層を形成した。このようにして作製した電
極を実施例電極−2とする。 [0043]また、上記において、酸化ロジウム被覆層
上に塗布する塗布液として、硝酸パラジウムと硝酸ロジ
ウムを含有する塗布液の代りに、硝酸パラジウムのみを
含有する塗布液を用いる以外上記と同様に処理すること
により実施例@極−3を作製した(酸化パラジウムの被
覆量: 0.8mg/cm−り。 [0044]また、上記実施例電極−3の作製において
、硝酸ロジウムの硝酸酸性水溶液の代りに塩化ロジウム
の塩酸酸性水溶液を、そして硝酸パラジウムの硝酸酸性
水溶液の代りに塩化パラジウムの塩酸酸性水溶液を用い
る以外上記と同様に処理することにより実施例@極4を
作製した。 [0045]さらに比較のため、酸化ロジウム層の形成
を省略する以外、上記実施例電極−3の作製と同様にし
て比較例電極−2を作製した。 [0046]このようにして得られた各電極を次の条件
下で80時間電解した時の酸化パラジウムの消耗率を下
記第1表に示す。 [0047] 電解液 :6%NaC1 電流密度ニア5A/dm2 対極:Ti [0048] 【表1】 [00493第1表より、実施例電極−2、−3、−4
は、比較例電極−2に比べ酸化パラジウムの消耗が少な
く、耐久性が優れていることがわかる。
10X’20mm)をトリクロルエチレンで脱脂洗浄し
た後、90℃の10重装置シュウ酸水溶液で20分間処
理した。次いでチタン基体を、シュウ酸水溶液から取り
出し、窒素雰囲気中で冷水を噴霧し急冷した後、室温で
減圧乾燥した。 [00341次いで、塩化白金酸をブタノールに溶解し
てPt濃度50g/lを含有する塗布液を調整した後、
その溶液を上記で得たチタン板上に筆で塗り、室温で減
圧乾燥し、更に減圧下に450℃で10分間焼成した。 上記塗布−乾燥−焼成工程を30回縁返すことにより白
金被覆量が1ct2当り約1.6mgの白金被覆層を形
成した。 [0035]次いで、ロジウム濃度50g/l(金属換
算)及び硝酸濃度95g/lに調整された硝酸ロジウム
の硝酸酸性水溶液とエタノールを混合し、ロジウム濃度
25g/l (金属換算)を含有する塗布液を調製した
。その塗布液をマイクロピペットで1C1112当り2
.7μm秤量し、それを上記基体に塗布した後室温で3
0分間減圧乾燥し、更に600℃の大気中で10分間焼
成した。この塗布−乾燥−焼成工程を5回繰返し、白金
被覆層上にロジウム換算で1CI112当り0.4mg
の酸化ロジウム被覆層を形成した。 [0036]さらに、パラジウム濃度100g/I(金
属換算)及び硝酸濃度445g/lに調整された硝酸パ
ラジウムの硝酸酸性水溶液とエタノールを混合し、パラ
ジウム濃度25g/l(金属換算)含有する塗布液を調
製した。この塗布液を用いて前記と同様の塗布−乾燥−
焼成工程を11回繰返して酸化ロジウム層上にパラジウ
ム換算で1cm2当り0.8■の酸化パラジウム層を形
成した。 かくして得られた電極を実施例電極−1とする。 [0037]比較のため、上記実施例−1と同様の方法
でチタン基体上に白金を被覆して比較例−1を作製した
。 [0038]このようにして得られた電極を以下の条件
で電解した時の有効塩素濃度と塩素発生効率との関係を
第1図に示す。 [0039] 電解液 :3%NaC1 電流密度:15A/dm2 対極二Ti 第1図より実施例電極−1は、有効塩素高濃度下でも塩
素発生効率が高い電極であることがわかる。 [00403 【実施例2]前記実施例1に記載したと同様の方法でチ
タン板上に白金を2INIg/cI112の量で析出さ
せた。 4[00411次いで、ロジウム濃度50
g/l(金属換算)及び硝酸濃度95g/lに調整され
た硝酸ロジウムの硝酸酸性水溶液とエタノールを混合し
、ロジウム濃度25g/l(金属換算)を含有する塗布
液を調製した。この塗布液をマイクロピペットで一定量
取り、それを上記基体に塗布した後、室温で30分間減
圧乾燥し、更に600℃の大気中で10分間焼成した。 この塗布−乾燥−焼成工程を8回繰返し、白金被覆層上
にロジウム換算でICIr!当り0.6mmgの酸化ロ
ジウム被覆層を形成した。 [00423次いで、パラジウム濃度100g/l(金
属換算)及び硝酸濃度445g/lに調整された硝酸パ
ラジウムの硝酸酸性水溶液とエタノールを混合し、パラ
ジウム濃度25g/l(金属換算)含有する溶液を調製
し、さらにロジウム濃度50g/i(金属換算)及び硝
酸濃度95g/Iの硝酸ロジウムの硝酸酸性水溶液を添
加混合することにより、パラジウム対ロジウムの原子比
が20:1である硝酸パラジウムと硝酸ロジウムを含有
する塗布液を調製する。この塗布液を用いて前記と同様
の塗布−乾燥−焼成工程を11回繰返して、酸化ロジウ
ム被覆層上に金属換算で1cl12当り0.8mgの酸
化パラジウム層と0.04mgの酸化ロジウムを含有す
る酸化物被覆層を形成した。このようにして作製した電
極を実施例電極−2とする。 [0043]また、上記において、酸化ロジウム被覆層
上に塗布する塗布液として、硝酸パラジウムと硝酸ロジ
ウムを含有する塗布液の代りに、硝酸パラジウムのみを
含有する塗布液を用いる以外上記と同様に処理すること
により実施例@極−3を作製した(酸化パラジウムの被
覆量: 0.8mg/cm−り。 [0044]また、上記実施例電極−3の作製において
、硝酸ロジウムの硝酸酸性水溶液の代りに塩化ロジウム
の塩酸酸性水溶液を、そして硝酸パラジウムの硝酸酸性
水溶液の代りに塩化パラジウムの塩酸酸性水溶液を用い
る以外上記と同様に処理することにより実施例@極4を
作製した。 [0045]さらに比較のため、酸化ロジウム層の形成
を省略する以外、上記実施例電極−3の作製と同様にし
て比較例電極−2を作製した。 [0046]このようにして得られた各電極を次の条件
下で80時間電解した時の酸化パラジウムの消耗率を下
記第1表に示す。 [0047] 電解液 :6%NaC1 電流密度ニア5A/dm2 対極:Ti [0048] 【表1】 [00493第1表より、実施例電極−2、−3、−4
は、比較例電極−2に比べ酸化パラジウムの消耗が少な
く、耐久性が優れていることがわかる。
図1は実施例1において作製した実施例電極−1及び比
較例電極−1の電解時の有効塩素濃度と塩素発生効率と
の関係を示すグラフである。 発明者
較例電極−1の電解時の有効塩素濃度と塩素発生効率と
の関係を示すグラフである。 発明者
Claims (4)
- 【請求項1】(a)チタン又はチタン基合金よりなる電
極基体と、 (b)該電極基体上に設けられた白金被覆層と、 (c)該白金被覆層を被覆する酸化ロジウム層と、 (d)該酸化ロジウム層上に設けられた酸化パラジウム
80〜100モル%及び酸化ロジウム0〜20モル%を
含有する酸化物被覆層とからなることを特徴とする電解
用電極。 - 【請求項2】(i)チタン又はチタン基合金よりなる電
極基体上に白金被覆層を設け、 (ii)該白金被覆層上に、酸素含有雰囲気中で熱分解
して酸化ロジウムを生成しうるロジウム化合物の溶液を
塗布した後、酸素含有雰囲気中で熱処理して、該白金被
覆層上に酸化ロジウム層を形成し、 (iii)該酸ロジウム層上に、酸素含有雰囲気中で熱
分解して酸化パラジウムを生成しうるパラジウム化合物
及び場合により酸素含有雰囲気中で熱分解して酸化ロジ
ウムを生成しうるロジウム化合物を含有する溶液を塗布
した後、酸素含有雰囲気中で熱処理して、該酸化ロジウ
ム層上に酸化パラジウム及び場合により酸化ロジウムを
含有する酸化物を形成することを特徴とする請求項1記
載の電解用電極の製造方法。 - 【請求項3】ロジウム化合物の溶液が低級アルコールを
含有する硝酸ロジウムの硝酸酸性溶液である請求項2記
載の方法。 - 【請求項4】パラジウム化合物が硝酸パラジウム又はジ
ニトロジアンミンパラジウムであり、ロジウム化合物が
硝酸ロジウムであり、パラジウム化合物及び場合により
ロジウム化合物を含有する溶液が低級アルコールを含む
硝酸酸性溶液である請求項2又は3記載の方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2410102A JP3048648B2 (ja) | 1990-12-13 | 1990-12-13 | 電解用電極 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2410102A JP3048648B2 (ja) | 1990-12-13 | 1990-12-13 | 電解用電極 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN105274561A (zh) * | 2015-11-25 | 2016-01-27 | 哈尔滨工业大学 | 一种含有中间层的纳米结构dsa电催化电极的制备方法 |
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1990
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CN105274561A (zh) * | 2015-11-25 | 2016-01-27 | 哈尔滨工业大学 | 一种含有中间层的纳米结构dsa电催化电极的制备方法 |
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