JP7396391B2 - 次亜塩素酸生成電極 - Google Patents
次亜塩素酸生成電極 Download PDFInfo
- Publication number
- JP7396391B2 JP7396391B2 JP2022059482A JP2022059482A JP7396391B2 JP 7396391 B2 JP7396391 B2 JP 7396391B2 JP 2022059482 A JP2022059482 A JP 2022059482A JP 2022059482 A JP2022059482 A JP 2022059482A JP 7396391 B2 JP7396391 B2 JP 7396391B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- electrode
- mol
- platinum
- ruthenium
- hypochlorous acid
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- QWPPOHNGKGFGJK-UHFFFAOYSA-N hypochlorous acid Chemical compound ClO QWPPOHNGKGFGJK-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims description 29
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 56
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 28
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 claims description 28
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 28
- 239000002131 composite material Substances 0.000 claims description 26
- KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N Ruthenium Chemical compound [Ru] KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 23
- 229910052707 ruthenium Inorganic materials 0.000 claims description 23
- SJLOMQIUPFZJAN-UHFFFAOYSA-N oxorhodium Chemical compound [Rh]=O SJLOMQIUPFZJAN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 14
- 229910003450 rhodium oxide Inorganic materials 0.000 claims description 14
- 229910052741 iridium Inorganic materials 0.000 claims description 13
- GKOZUEZYRPOHIO-UHFFFAOYSA-N iridium atom Chemical compound [Ir] GKOZUEZYRPOHIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 13
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 claims description 13
- GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N tantalum atom Chemical compound [Ta] GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 13
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 10
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 10
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 10
- 239000010936 titanium Substances 0.000 claims description 10
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 claims description 10
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M Chloride anion Chemical compound [Cl-] VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 9
- 229910001069 Ti alloy Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 6
- 235000020679 tap water Nutrition 0.000 claims description 5
- 239000008399 tap water Substances 0.000 claims description 5
- HTXDPTMKBJXEOW-UHFFFAOYSA-N dioxoiridium Chemical compound O=[Ir]=O HTXDPTMKBJXEOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 229910000457 iridium oxide Inorganic materials 0.000 claims description 4
- BPUBBGLMJRNUCC-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);tantalum(5+) Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[Ta+5].[Ta+5] BPUBBGLMJRNUCC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 229910001936 tantalum oxide Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 229910001925 ruthenium oxide Inorganic materials 0.000 claims description 2
- WOCIAKWEIIZHES-UHFFFAOYSA-N ruthenium(iv) oxide Chemical compound O=[Ru]=O WOCIAKWEIIZHES-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 235000020681 well water Nutrition 0.000 claims description 2
- 239000002349 well water Substances 0.000 claims description 2
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 14
- LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N N-Butanol Chemical compound CCCCO LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 239000002243 precursor Substances 0.000 description 11
- 229910052703 rhodium Inorganic materials 0.000 description 11
- 239000010948 rhodium Substances 0.000 description 11
- MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N rhodium atom Chemical compound [Rh] MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 10
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 8
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 6
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N Fluorane Chemical compound F KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000005868 electrolysis reaction Methods 0.000 description 4
- 230000001954 sterilising effect Effects 0.000 description 4
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- NGCRLFIYVFOUMZ-UHFFFAOYSA-N 2,3-dichloroquinoxaline-6-carbonyl chloride Chemical compound N1=C(Cl)C(Cl)=NC2=CC(C(=O)Cl)=CC=C21 NGCRLFIYVFOUMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 3
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 3
- 239000000463 material Substances 0.000 description 3
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 2
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 2
- 239000007772 electrode material Substances 0.000 description 2
- -1 etc. Chemical compound 0.000 description 2
- 238000010304 firing Methods 0.000 description 2
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 2
- YBCAZPLXEGKKFM-UHFFFAOYSA-K ruthenium(iii) chloride Chemical compound [Cl-].[Cl-].[Cl-].[Ru+3] YBCAZPLXEGKKFM-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 2
- 238000004659 sterilization and disinfection Methods 0.000 description 2
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 2
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001804 chlorine Chemical class 0.000 description 1
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 1
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- 238000007865 diluting Methods 0.000 description 1
- 150000002504 iridium compounds Chemical class 0.000 description 1
- GSNZLGXNWYUHMI-UHFFFAOYSA-N iridium(3+);trinitrate Chemical compound [Ir+3].[O-][N+]([O-])=O.[O-][N+]([O-])=O.[O-][N+]([O-])=O GSNZLGXNWYUHMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- CLSUSRZJUQMOHH-UHFFFAOYSA-L platinum dichloride Chemical compound Cl[Pt]Cl CLSUSRZJUQMOHH-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N propan-1-ol Chemical compound CCCO BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SONJTKJMTWTJCT-UHFFFAOYSA-K rhodium(iii) chloride Chemical group [Cl-].[Cl-].[Cl-].[Rh+3] SONJTKJMTWTJCT-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 150000003304 ruthenium compounds Chemical class 0.000 description 1
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 1
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 1
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 1
- 150000003482 tantalum compounds Chemical class 0.000 description 1
- OEIMLTQPLAGXMX-UHFFFAOYSA-I tantalum(v) chloride Chemical compound Cl[Ta](Cl)(Cl)(Cl)Cl OEIMLTQPLAGXMX-UHFFFAOYSA-I 0.000 description 1
- DANYXEHCMQHDNX-UHFFFAOYSA-K trichloroiridium Chemical compound Cl[Ir](Cl)Cl DANYXEHCMQHDNX-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25B—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES FOR THE PRODUCTION OF COMPOUNDS OR NON-METALS; APPARATUS THEREFOR
- C25B11/00—Electrodes; Manufacture thereof not otherwise provided for
- C25B11/04—Electrodes; Manufacture thereof not otherwise provided for characterised by the material
- C25B11/051—Electrodes formed of electrocatalysts on a substrate or carrier
- C25B11/073—Electrodes formed of electrocatalysts on a substrate or carrier characterised by the electrocatalyst material
- C25B11/091—Electrodes formed of electrocatalysts on a substrate or carrier characterised by the electrocatalyst material consisting of at least one catalytic element and at least one catalytic compound; consisting of two or more catalytic elements or catalytic compounds
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25B—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES FOR THE PRODUCTION OF COMPOUNDS OR NON-METALS; APPARATUS THEREFOR
- C25B1/00—Electrolytic production of inorganic compounds or non-metals
- C25B1/01—Products
- C25B1/24—Halogens or compounds thereof
- C25B1/26—Chlorine; Compounds thereof
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25B—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES FOR THE PRODUCTION OF COMPOUNDS OR NON-METALS; APPARATUS THEREFOR
- C25B11/00—Electrodes; Manufacture thereof not otherwise provided for
- C25B11/04—Electrodes; Manufacture thereof not otherwise provided for characterised by the material
- C25B11/051—Electrodes formed of electrocatalysts on a substrate or carrier
- C25B11/073—Electrodes formed of electrocatalysts on a substrate or carrier characterised by the electrocatalyst material
- C25B11/075—Electrodes formed of electrocatalysts on a substrate or carrier characterised by the electrocatalyst material consisting of a single catalytic element or catalytic compound
-
- A—HUMAN NECESSITIES
- A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
- A61L—METHODS OR APPARATUS FOR STERILISING MATERIALS OR OBJECTS IN GENERAL; DISINFECTION, STERILISATION OR DEODORISATION OF AIR; CHEMICAL ASPECTS OF BANDAGES, DRESSINGS, ABSORBENT PADS OR SURGICAL ARTICLES; MATERIALS FOR BANDAGES, DRESSINGS, ABSORBENT PADS OR SURGICAL ARTICLES
- A61L2/00—Methods or apparatus for disinfecting or sterilising materials or objects other than foodstuffs or contact lenses; Accessories therefor
- A61L2/16—Methods or apparatus for disinfecting or sterilising materials or objects other than foodstuffs or contact lenses; Accessories therefor using chemical substances
- A61L2/18—Liquid substances or solutions comprising solids or dissolved gases
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F1/00—Treatment of water, waste water, or sewage
- C02F1/46—Treatment of water, waste water, or sewage by electrochemical methods
- C02F1/461—Treatment of water, waste water, or sewage by electrochemical methods by electrolysis
- C02F1/46104—Devices therefor; Their operating or servicing
- C02F1/46109—Electrodes
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F1/00—Treatment of water, waste water, or sewage
- C02F1/46—Treatment of water, waste water, or sewage by electrochemical methods
- C02F1/461—Treatment of water, waste water, or sewage by electrochemical methods by electrolysis
- C02F1/467—Treatment of water, waste water, or sewage by electrochemical methods by electrolysis by electrochemical disinfection; by electrooxydation or by electroreduction
- C02F1/4672—Treatment of water, waste water, or sewage by electrochemical methods by electrolysis by electrochemical disinfection; by electrooxydation or by electroreduction by electrooxydation
- C02F1/4674—Treatment of water, waste water, or sewage by electrochemical methods by electrolysis by electrochemical disinfection; by electrooxydation or by electroreduction by electrooxydation with halogen or compound of halogens, e.g. chlorine, bromine
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25B—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES FOR THE PRODUCTION OF COMPOUNDS OR NON-METALS; APPARATUS THEREFOR
- C25B1/00—Electrolytic production of inorganic compounds or non-metals
- C25B1/01—Products
- C25B1/22—Inorganic acids
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25B—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES FOR THE PRODUCTION OF COMPOUNDS OR NON-METALS; APPARATUS THEREFOR
- C25B1/00—Electrolytic production of inorganic compounds or non-metals
- C25B1/50—Processes
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25B—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES FOR THE PRODUCTION OF COMPOUNDS OR NON-METALS; APPARATUS THEREFOR
- C25B11/00—Electrodes; Manufacture thereof not otherwise provided for
- C25B11/04—Electrodes; Manufacture thereof not otherwise provided for characterised by the material
- C25B11/051—Electrodes formed of electrocatalysts on a substrate or carrier
- C25B11/052—Electrodes comprising one or more electrocatalytic coatings on a substrate
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25B—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES FOR THE PRODUCTION OF COMPOUNDS OR NON-METALS; APPARATUS THEREFOR
- C25B11/00—Electrodes; Manufacture thereof not otherwise provided for
- C25B11/04—Electrodes; Manufacture thereof not otherwise provided for characterised by the material
- C25B11/051—Electrodes formed of electrocatalysts on a substrate or carrier
- C25B11/055—Electrodes formed of electrocatalysts on a substrate or carrier characterised by the substrate or carrier material
- C25B11/057—Electrodes formed of electrocatalysts on a substrate or carrier characterised by the substrate or carrier material consisting of a single element or compound
- C25B11/061—Metal or alloy
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25B—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES FOR THE PRODUCTION OF COMPOUNDS OR NON-METALS; APPARATUS THEREFOR
- C25B11/00—Electrodes; Manufacture thereof not otherwise provided for
- C25B11/04—Electrodes; Manufacture thereof not otherwise provided for characterised by the material
- C25B11/051—Electrodes formed of electrocatalysts on a substrate or carrier
- C25B11/055—Electrodes formed of electrocatalysts on a substrate or carrier characterised by the substrate or carrier material
- C25B11/057—Electrodes formed of electrocatalysts on a substrate or carrier characterised by the substrate or carrier material consisting of a single element or compound
- C25B11/061—Metal or alloy
- C25B11/063—Valve metal, e.g. titanium
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25B—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES FOR THE PRODUCTION OF COMPOUNDS OR NON-METALS; APPARATUS THEREFOR
- C25B11/00—Electrodes; Manufacture thereof not otherwise provided for
- C25B11/04—Electrodes; Manufacture thereof not otherwise provided for characterised by the material
- C25B11/051—Electrodes formed of electrocatalysts on a substrate or carrier
- C25B11/073—Electrodes formed of electrocatalysts on a substrate or carrier characterised by the electrocatalyst material
- C25B11/091—Electrodes formed of electrocatalysts on a substrate or carrier characterised by the electrocatalyst material consisting of at least one catalytic element and at least one catalytic compound; consisting of two or more catalytic elements or catalytic compounds
- C25B11/093—Electrodes formed of electrocatalysts on a substrate or carrier characterised by the electrocatalyst material consisting of at least one catalytic element and at least one catalytic compound; consisting of two or more catalytic elements or catalytic compounds at least one noble metal or noble metal oxide and at least one non-noble metal oxide
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25B—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES FOR THE PRODUCTION OF COMPOUNDS OR NON-METALS; APPARATUS THEREFOR
- C25B9/00—Cells or assemblies of cells; Constructional parts of cells; Assemblies of constructional parts, e.g. electrode-diaphragm assemblies; Process-related cell features
- C25B9/17—Cells comprising dimensionally-stable non-movable electrodes; Assemblies of constructional parts thereof
-
- A—HUMAN NECESSITIES
- A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
- A61L—METHODS OR APPARATUS FOR STERILISING MATERIALS OR OBJECTS IN GENERAL; DISINFECTION, STERILISATION OR DEODORISATION OF AIR; CHEMICAL ASPECTS OF BANDAGES, DRESSINGS, ABSORBENT PADS OR SURGICAL ARTICLES; MATERIALS FOR BANDAGES, DRESSINGS, ABSORBENT PADS OR SURGICAL ARTICLES
- A61L2101/00—Chemical composition of materials used in disinfecting, sterilising or deodorising
- A61L2101/02—Inorganic materials
- A61L2101/06—Inorganic materials containing halogen
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F1/00—Treatment of water, waste water, or sewage
- C02F1/46—Treatment of water, waste water, or sewage by electrochemical methods
- C02F1/461—Treatment of water, waste water, or sewage by electrochemical methods by electrolysis
- C02F1/46104—Devices therefor; Their operating or servicing
- C02F1/46109—Electrodes
- C02F2001/46133—Electrodes characterised by the material
- C02F2001/46138—Electrodes comprising a substrate and a coating
- C02F2001/46142—Catalytic coating
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Electrochemistry (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Hydrology & Water Resources (AREA)
- Environmental & Geological Engineering (AREA)
- Water Supply & Treatment (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Epidemiology (AREA)
- Animal Behavior & Ethology (AREA)
- General Health & Medical Sciences (AREA)
- Public Health (AREA)
- Veterinary Medicine (AREA)
- Electrodes For Compound Or Non-Metal Manufacture (AREA)
- Water Treatment By Electricity Or Magnetism (AREA)
- Bidet-Like Cleaning Device And Other Flush Toilet Accessories (AREA)
- Electrolytic Production Of Non-Metals, Compounds, Apparatuses Therefor (AREA)
Description
本発明は、塩化物イオンを含む水を電解し次亜塩素酸を生成するための電極に関し、詳しくは、殺菌等に利用可能な次亜塩素酸水を生成するための電極に関する。
塩化物イオンを含む水（例えば、水道水や井戸水）を電解すると、陽極に塩素が発生し、この塩素と水とから次亜塩素酸水が生成する。この次亜塩素酸の殺菌性から、生成された次亜塩素酸水は、身体、食品、物品等の殺菌に広く利用されている。
次亜塩素酸水を生成する電極として、水道水などのような塩化物イオン濃度が比較的低い水であっても効率よく次亜塩素酸を生成できるよう、種々の組成のものが提案されている。
例えば、特開２００９－０５２０６９号公報（特許文献１）は、チタン又はチタン合金よりなる導電性基体上に白金、酸化イリジウム、酸化ロジウム及び酸化タンタルの複合体からなる電極触媒層を形成させた電極が提案されている。また、特開２０１３－１４２１６６号公報（特許文献２）は、特許文献１とは異なる組成の白金、酸化イリジウム、酸化ロジウム及び酸化タンタルの複合体からなる電極触媒層を形成させた電極を提案する。これら電極によれば、比較的塩化物イオン濃度が低い水からも効率よく、次亜塩素酸水を生成できるとされている。
特許文献１及び２が開示する電極が含むロジウムは、いわゆるレアメタルであり、その産出量は少なく、そのため価格においても比較的高価な金属元素である。
本発明者らは、今般、レアメタルであり、比較的高価なロジウムを用いずとも次亜塩素酸生成が可能な用電極の組成を見出し、さらに好ましい組成によれば、その性能においてロジウム含有電極に劣らず、さらに耐久性にあってはそれを上回る次亜塩素酸生成用電極が提供できることを見出した。本発明はかかる知見に基づくものである。
したがって、本発明は、酸化ロジウムを実質的に含まない、次亜塩素酸生成用電極の提供をその目的としている。さらに本発明による電極を備えた次亜塩素酸水の製造装置および本発明による電極を用いた次亜塩素酸水の調製方法の提供をその目的としている。
そして、本発明による電極は塩化物イオンを含む水を電解して、次亜塩素酸の生成に用いられる電極であって、
チタン又はチタン合金からなる電極基体と、
前記電極基体と電気的に接合された複合層とを有し、
前記複合層が、イリジウムまたはその化合物と、タンタルまたはその化合物と、ルテニウムまたはその化合物および／または白金とを含んでなり、かつ、酸化ロジウムを含まないことを特徴とするものである。
チタン又はチタン合金からなる電極基体と、
前記電極基体と電気的に接合された複合層とを有し、
前記複合層が、イリジウムまたはその化合物と、タンタルまたはその化合物と、ルテニウムまたはその化合物および／または白金とを含んでなり、かつ、酸化ロジウムを含まないことを特徴とするものである。
電極の基本構造
本発明による電極は、チタン又はチタン合金からなる電極基体と、この基体と電気的に接合された複合層とを少なくとも備える基本構造を有する。そして、基体に接合された複合層が、イリジウムまたはその化合物と、タンタルまたはその化合物と、ルテニウムまたはその化合物および／または白金とを含んでなり、かつ、酸化ロジウムを含まないことを特徴とする。
本発明による電極は、チタン又はチタン合金からなる電極基体と、この基体と電気的に接合された複合層とを少なくとも備える基本構造を有する。そして、基体に接合された複合層が、イリジウムまたはその化合物と、タンタルまたはその化合物と、ルテニウムまたはその化合物および／または白金とを含んでなり、かつ、酸化ロジウムを含まないことを特徴とする。
本発明において「酸化ロジウムを含まない」とは、痕跡または不可避成分としての酸化ロジウムの存在は許容するが、電極の性質、特性に影響を与える量の酸化ロジウム又はその化合物は含まない意味である。本発明にあっては、例えば、１ｍｏｌ％以上の酸化ロジウムの存在は許容されない。本発明によれば、複合層がイリジウムまたはその化合物と、タンタルまたはその化合物と、ルテニウムまたはその化合物と、白金とを含み、酸化ロジウムを含まない組成とされることで、酸化ロジウムを含む従来の電極（例えば、特許文献１または２に記載の電極）に劣らない次亜塩素酸の生成能を備える。また、ロジウムはその価格が高いことから、ロジウム比し価格が低いルテニウムまたは白金と置き換えることは、電極の製造コストの面で極めて有利となる。
本発明の好ましい態様によれば、イリジウム化合物、タンタル化合物、ルテニウム化合物の好ましい具体例はそれらの酸化物であり、その結果、複合層は好ましくは酸化イリジウムと、酸化タンタルと、酸化ルテニウムと、白金とからなり、他の元素または化合物をその痕跡または不可避的な量を超えて含まない組成とされる。
電極基体
本発明において、電極基体として、チタンまたはチタン合金を用いる。チタン合金としては、チタンを主体とする耐食性のある導電性の合金を使用することができ、例えば、Ｔｉ－Ｔａ－Ｎｂ、Ｔｉ－Ｐｄ、Ｔｉ－Ｚｒ、Ｔｉ－Ａｌ等の組み合わせからなる、通常電極材料として使用されているチタン基合金が挙げられる。これらの電極材料は板状、有孔板状、棒状、網板状等の所望形状に加工して電極基材として用いることができる。なお、本発明にあって、電極基体の表面に酸化チタン膜が形成されることは排除されない。
本発明において、電極基体として、チタンまたはチタン合金を用いる。チタン合金としては、チタンを主体とする耐食性のある導電性の合金を使用することができ、例えば、Ｔｉ－Ｔａ－Ｎｂ、Ｔｉ－Ｐｄ、Ｔｉ－Ｚｒ、Ｔｉ－Ａｌ等の組み合わせからなる、通常電極材料として使用されているチタン基合金が挙げられる。これらの電極材料は板状、有孔板状、棒状、網板状等の所望形状に加工して電極基材として用いることができる。なお、本発明にあって、電極基体の表面に酸化チタン膜が形成されることは排除されない。
複合層
本発明による電極は、上記した電極基体と電気的に接合された複合層を備え、この複合層は、上記したように、イリジウムまたはその化合物と、タンタルまたはその化合物と、ルテニウムまたはその化合物および／または白金とを含んでなり、かつ、酸化ロジウムを含まないことを特徴とする。本発明による電極の複合層は、酸化ロジウムを含まないことを特徴とするが、本発明が提案する複合層の組成は、従来公知のロジウム含有電極のロジウムを、ルテニウムおよび／または白金と置き換えた組成と理解することもできる。したがって、本発明による電極の複合層の組成は、従来公知の、あるいはこれから提案されるロジウムを含む次亜塩素酸生成用電極の組成において、ロジウムをルテニウムおよび／または白金と置き換えたものとして決定されてよい。
本発明による電極は、上記した電極基体と電気的に接合された複合層を備え、この複合層は、上記したように、イリジウムまたはその化合物と、タンタルまたはその化合物と、ルテニウムまたはその化合物および／または白金とを含んでなり、かつ、酸化ロジウムを含まないことを特徴とする。本発明による電極の複合層は、酸化ロジウムを含まないことを特徴とするが、本発明が提案する複合層の組成は、従来公知のロジウム含有電極のロジウムを、ルテニウムおよび／または白金と置き換えた組成と理解することもできる。したがって、本発明による電極の複合層の組成は、従来公知の、あるいはこれから提案されるロジウムを含む次亜塩素酸生成用電極の組成において、ロジウムをルテニウムおよび／または白金と置き換えたものとして決定されてよい。
本発明の好ましい態様によれば、複合層の一つの組成として、金属換算で、イリジウムは好ましくは３０～８０ｍｏｌ％の範囲で含むことができ、より好ましい下限は３２ｍｏｌ％であり、また、より好ましい上限は６０ｍｏｌ％、さらに好ましい上限は４３ｍｏｌ％である。
また、タンタルは、金属換算で、好ましくは６～５３ｍｏｌ％の範囲で含むことができ、より好ましい下限は２２ｍｏｌ％であり、さらに好ましい下限は２５ｍｏｌ％であり、また、より好ましい上限は６０ｍｏｌ％、さらに好ましい上限は４３ｍｏｌ％である。
また、ルテニウムは、金属換算で、好ましくは０～９７ｍｏｌ％の範囲で含むことができ、より好ましい下限は７ｍｏｌ％であり、さらに好ましい下限は８ｍｏｌ％であり、また、より好ましい上限は２２ｍｏｌ％である。
白金は好ましくは０～９７ｍｏｌ％の範囲で含むことができ、より好ましい下限は７ｍｏｌ％であり、さらに好ましい下限は１０ｍｏｌ％であり、また、より好ましい上限は２３ｍｏｌ％である。
本発明のより好ましい態様によれば、複合層の一つの組成として、金属換算で、イリジウム３２～４３ｍｏｌ％と、タンタル２５～３６ｍｏｌ％と、ルテニウム８～２２ｍｏｌ％と、そして白金１０～２３ｍｏｌ％とを含むものとする。
さらに本発明の一つの態様によれば、ルテニウムを１１～１９ｍｏｌ％、白金を１３～２０ｍｏｌ％の量で含むことが好ましい。さらに、本発明の別の態様によれば、ルテニウムと白金との合計が、金属換算で２４ｍｏｌ％～３９ｍｏｌ％とされることが好ましい。また別の態様によれば、ルテニウムと白金とは、金属換算で略同一の比率で含むものとされることが好ましい。
電極の用途
本発明による電極は、次亜塩素酸の生成能および電極の耐久性に優れる。具体的には、本発明による電極は次亜塩素酸を０．２ｐｐｍ以上の濃度で生成できる性能を備え、さらにこの性能は、好ましくは通電時間５００時間を経過しても維持される。
本発明による電極は、次亜塩素酸の生成能および電極の耐久性に優れる。具体的には、本発明による電極は次亜塩素酸を０．２ｐｐｍ以上の濃度で生成できる性能を備え、さらにこの性能は、好ましくは通電時間５００時間を経過しても維持される。
また、本発明による電極によれば、水道水のような塩化物イオンの濃度が比較的低い水を対象としても次亜塩素酸水を効率よく生成することができる。しかし、必要であれば、水に食塩を添加してもよく、そのような態様は本発明から除外されるものではない。
また、水を電解して次亜塩素酸を生成する際に、電極表面への付着物の発生を抑制するために、電極の極性を切り替える操作が一般的には行なわれる。この操作は電極を劣化させる原因となるが、本発明による電極は、高い頻度の極性切り替えの条件下にあっても、その性能を長期間維持できるとの利点が得られる。
また、本発明による電極は、通常、６～２０Ａ／ｄｍ２の範囲の程度の電流密度で利用可能である。一般に、高電流密度下では生成効率は向上するが、触媒の消耗が激しくなるため耐久性が低下する。しかしながら、本発明による電極は、上記のとおり２０Ａ／ｄｍ２の高電流密度の条件下でも利用可能である。
本発明による電極の具体的な用途としては、殺菌用途の家庭用または業務用の次亜塩素酸製造装置の電極として用いることが挙げられる。また、便座洗浄ノズルに供給される次亜塩素酸水の生成装置の電極として用いることができる。さらに、キッチンや洗面化粧台における除菌水生成に好ましく用いられる。
電極の製造方法
本発明による電極は、上記したように、従来公知のロジウムを含む電極において、ロジウムを、ルテニウムおよび／または白金と置き換えた組成の複合層を備えるものと理解できるから、その製造も、ロジウムをルテニウムおよび／または白金と置き換えた以外は、従来の電極と同様の方法により、好ましく製造することができる。具体的には、特許文献１または２の記載に準じて、製造することができる。
本発明による電極は、上記したように、従来公知のロジウムを含む電極において、ロジウムを、ルテニウムおよび／または白金と置き換えた組成の複合層を備えるものと理解できるから、その製造も、ロジウムをルテニウムおよび／または白金と置き換えた以外は、従来の電極と同様の方法により、好ましく製造することができる。具体的には、特許文献１または２の記載に準じて、製造することができる。
複合層の好ましい製造法を具体的に示せば、次のとおりである。すなわち、複合層を構成するイリジウムまたはその化合物、タンタルまたはその化合物、ルテニウムまたはその化合物、および白金の前駆体を電極基体に塗布し、これら前駆体を適切な条件下で分解する（例えば熱分解する）ことより、それぞれイリジウムまたはその化合物、タンタルまたはその化合物、ルテニウムまたはその化合物、および白金とすることで製造することができる。
前駆体の具体例としては、イリジウムまたはその化合物の前駆体として、例えば、塩化イリジウム酸、塩化イリジウム、硝酸イリジウム等が挙げられ、特に塩化イリジウム酸が好ましく用いられる。
また、タンタルまたはその化合物の前駆体としては、塩化タンタル、タンタルエトキシド等が挙げられ、特にタンタルエトキシドが好ましく用いられる。
白金の前駆体としては、塩化白金酸、塩化白金等が挙げられ、特に塩化白金酸が好ましく用いられる。
以上の前駆体を適切な溶媒に溶解または分散させ、それを電極基体に塗布し、その後、乾燥し、さらに前記前駆体をイリジウムまたはその化合物、タンタルまたはその化合物、ルテニウムまたはその化合物、および白金とする条件下に置く。
上記前駆体を、好ましくは低級アルコール（例えば、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール等又はこれらの混合物）に分散または溶解する。その後、例えば、約２０～約１５０℃の範囲内の温度で乾燥させた後、酸素含有ガス雰囲気中、例えば空気中で焼成される。焼成は、例えば、電気炉、ガス炉、赤外線炉等の適当な加熱炉中で、一般に約４５０℃～約６００℃、好ましくは約５００～約５５０℃の範囲内の温度に加熱することによって行うことができる。以上の塗布および焼成工程は、複数回繰り返してもよい。
本発明をさらに以下の実施例により説明するが、本発明はこれら実施例に限定されるものではない。
電極の製造
基材の用意
ＪＩＳ１種相当のチタン板素材（ｔ０．５ｍｍ×ｗ１００ｍｍ×ｌ１００ｍｍ）をアルコール洗浄後、２０℃の８重量％フッ化水素酸水溶液中で２分間、そして１２０℃の６０重量％硫酸水溶液中で３分間処理した。次いで、チタン基体を硫酸水溶液から取り出し、冷水を噴霧し急冷した。さらに、２０℃の０．３重量％フッ化水素酸水溶液中に２分間浸漬した後水洗した。水洗後、４００℃の大気中で１時間加熱処理して、チタン基体表面に薄い酸化チタンの中間層を形成させた。
基材の用意
ＪＩＳ１種相当のチタン板素材（ｔ０．５ｍｍ×ｗ１００ｍｍ×ｌ１００ｍｍ）をアルコール洗浄後、２０℃の８重量％フッ化水素酸水溶液中で２分間、そして１２０℃の６０重量％硫酸水溶液中で３分間処理した。次いで、チタン基体を硫酸水溶液から取り出し、冷水を噴霧し急冷した。さらに、２０℃の０．３重量％フッ化水素酸水溶液中に２分間浸漬した後水洗した。水洗後、４００℃の大気中で１時間加熱処理して、チタン基体表面に薄い酸化チタンの中間層を形成させた。
複合層の形成
複合層の形成のための前駆体を含む溶液を次のように用意した。すなわち、ルテニウム濃度１００ｇ／Ｌに調整した塩化ルテニウムのブタノール溶液とイリジウム濃度２００ｇ／Ｌに調整した塩化イリジウム酸のブタノール溶液とタンタル濃度２００ｇ／Ｌに調整したタンタルエトキシドのブタノール溶液と白金濃度２００ｇ／Ｌに調整した塩化白金酸のブタノール溶液をＰｔ－Ｉｒ－Ｒｕ－Ｔａの組成比が下記表－１に示すモル％となるようにそれぞれ秤量し、次いでＩｒの金属換算濃度が５０ｇ／Ｌとなるようにブタノールにて希釈し、下記表に示す実施例１～８を調製した。また、上記塩化ルテニウムを、塩化ロジウムとし、白金およびルテニウム前駆体を含まない溶液を比較例として調製した。
複合層の形成のための前駆体を含む溶液を次のように用意した。すなわち、ルテニウム濃度１００ｇ／Ｌに調整した塩化ルテニウムのブタノール溶液とイリジウム濃度２００ｇ／Ｌに調整した塩化イリジウム酸のブタノール溶液とタンタル濃度２００ｇ／Ｌに調整したタンタルエトキシドのブタノール溶液と白金濃度２００ｇ／Ｌに調整した塩化白金酸のブタノール溶液をＰｔ－Ｉｒ－Ｒｕ－Ｔａの組成比が下記表－１に示すモル％となるようにそれぞれ秤量し、次いでＩｒの金属換算濃度が５０ｇ／Ｌとなるようにブタノールにて希釈し、下記表に示す実施例１～８を調製した。また、上記塩化ルテニウムを、塩化ロジウムとし、白金およびルテニウム前駆体を含まない溶液を比較例として調製した。
得られた溶液をピペットで０．２７ｍｌ秤量し、それを該酸化チタンの中間層に塗布した後、室温で２０分間乾燥し、さらに５５０℃の大気中で１０分間焼成した。この塗布－乾燥－焼成工程を６回繰返し、酸化チタンの中間層上に白金－酸化イリジウム－酸化ルテニウム－酸化タンタル複合層が下記表１に記載の組成である電極を作製した。
実施例１～８および比較例の電極を、室温、水道水中にて９．７Ａ／ｄｍ２で電解した後、極性を切替えて－９．７Ａ／ｄｍ２で電解する操作を繰返す電解を行い、一定時間経過後の電解時の次亜塩素酸濃度をＤＰＤ法にて測定していき、電解によって生成した次亜塩素酸濃度が０．２ｐｐｍ未満となった時の電解時間を記録した。その結果は、下記表１に示されるとおりであった。
実施例１～８および比較例の電極を、室温、水道水中にて９．７Ａ／ｄｍ２で電解した後、極性を切替えて－９．７Ａ／ｄｍ２で電解する操作を繰返す電解を行い、一定時間経過後の電解時の次亜塩素酸濃度をＤＰＤ法にて測定していき、電解によって生成した次亜塩素酸濃度が０．２ｐｐｍ未満となった時の電解時間を記録した。その結果は、下記表１に示されるとおりであった。
Claims (8)
- 塩化物イオンを含む水を電解して、次亜塩素酸の生成に用いられる電極であって、
チタン又はチタン合金からなる電極基体と、
前記電極基体と電気的に接合された複合層とを有し、
前記複合層が、イリジウムまたはその化合物と、タンタルまたはその化合物と、ルテニウムまたはその化合物および／または白金とを含んでなり、かつ、酸化ロジウムを含まず、
前記複合層が、金属換算で、イリジウム３２～４３ｍｏｌ％と、タンタル２５～３６ｍｏｌ％と、ルテニウム８～２２ｍｏｌ％と、そして白金１０～２３ｍｏｌ％とを含んでなることを特徴とする、電極。 - 前記複合層が、酸化イリジウムと、酸化タンタルと、酸化ルテニウムと、白金とからなる、請求項１に記載の電極。
- 前記ルテニウムが１１～１９ｍｏｌ％であり、前記白金が１３～２０ｍｏｌ％である、請求項１又は２に記載の電極。
- 前記ルテニウムと白金との合計が、金属換算で２４ｍｏｌ％～３９ｍｏｌ％である、請求項３に記載の電極。
- 前記塩化物イオンを含む水が水道水または井戸水である、請求項１～４のいずれか一項に記載の電極。
- 請求項１～５のいずれか一項に記載の電極を備える、次亜塩素酸水生成装置。
- 次亜塩素酸水を生成する装置を備え、当該装置が、請求項１～５のいずれか一項に記載の電極を備えるものであることを特徴とするトイレ装置。
- 請求項１～５のいずれか一項に記載の電極を用意し、
前記電極と、塩化物イオンを含む水とを接触させること
を含んでなる、次亜塩素酸水を製造する方法。
Priority Applications (5)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2022059482A JP7396391B2 (ja) | 2022-03-31 | 2022-03-31 | 次亜塩素酸生成電極 |
| CN202310182216.3A CN116892038A (zh) | 2022-03-31 | 2023-03-01 | 次氯酸生成电极 |
| US18/119,993 US20230357938A1 (en) | 2022-03-31 | 2023-03-10 | Hypochlorous acid generating electrode |
| TW112110402A TWI843491B (zh) | 2022-03-31 | 2023-03-21 | 次氯酸生成用電極 |
| EP23163579.8A EP4273301A1 (en) | 2022-03-31 | 2023-03-22 | Hypochlorous acid generating electrode |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2022059482A JP7396391B2 (ja) | 2022-03-31 | 2022-03-31 | 次亜塩素酸生成電極 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2023150386A JP2023150386A (ja) | 2023-10-16 |
| JP7396391B2 true JP7396391B2 (ja) | 2023-12-12 |
Family
ID=85726227
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2022059482A Active JP7396391B2 (ja) | 2022-03-31 | 2022-03-31 | 次亜塩素酸生成電極 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US20230357938A1 (ja) |
| EP (1) | EP4273301A1 (ja) |
| JP (1) | JP7396391B2 (ja) |
| CN (1) | CN116892038A (ja) |
Citations (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006515389A (ja) | 2003-03-24 | 2006-05-25 | エルテック・システムズ・コーポレーション | 白金族金属を有する電気触媒コーティング及びこれから製造された電極 |
| JP2006322026A (ja) | 2005-05-18 | 2006-11-30 | Furuya Kinzoku:Kk | 電解的水処理電極及び装置 |
| JP2008050675A (ja) | 2006-08-28 | 2008-03-06 | Ishifuku Metal Ind Co Ltd | 電解用電極 |
| CN105967281A (zh) | 2016-06-16 | 2016-09-28 | 中国船舶重工集团公司第七二五研究所 | 一种钛基亚氧化钛电极制备方法 |
| CN106521404A (zh) | 2016-11-02 | 2017-03-22 | 苏州云瑞环境科技有限公司 | 一种一次氧化制造钛阳极工艺 |
| CN111663168A (zh) | 2020-07-16 | 2020-09-15 | 西安怡速安智能科技有限公司 | 一种电化学电极烧结法提高阳极活性的阳极生产工艺 |
| JP2023095833A (ja) | 2021-12-24 | 2023-07-06 | 石福金属興業株式会社 | 塩素発生用電極 |
Family Cites Families (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| FR2856081B1 (fr) * | 2003-06-11 | 2005-09-09 | Electricite De France | Procede et dispositif de preparation de dioxyde de chlore |
| JP4884333B2 (ja) | 2007-08-24 | 2012-02-29 | 石福金属興業株式会社 | 電解用電極 |
| JP5886052B2 (ja) | 2012-01-10 | 2016-03-16 | 石福金属興業株式会社 | 殺菌水生成用電極及びその製造方法 |
-
2022
- 2022-03-31 JP JP2022059482A patent/JP7396391B2/ja active Active
-
2023
- 2023-03-01 CN CN202310182216.3A patent/CN116892038A/zh active Pending
- 2023-03-10 US US18/119,993 patent/US20230357938A1/en active Pending
- 2023-03-22 EP EP23163579.8A patent/EP4273301A1/en active Pending
Patent Citations (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006515389A (ja) | 2003-03-24 | 2006-05-25 | エルテック・システムズ・コーポレーション | 白金族金属を有する電気触媒コーティング及びこれから製造された電極 |
| JP2006322026A (ja) | 2005-05-18 | 2006-11-30 | Furuya Kinzoku:Kk | 電解的水処理電極及び装置 |
| JP2008050675A (ja) | 2006-08-28 | 2008-03-06 | Ishifuku Metal Ind Co Ltd | 電解用電極 |
| CN105967281A (zh) | 2016-06-16 | 2016-09-28 | 中国船舶重工集团公司第七二五研究所 | 一种钛基亚氧化钛电极制备方法 |
| CN106521404A (zh) | 2016-11-02 | 2017-03-22 | 苏州云瑞环境科技有限公司 | 一种一次氧化制造钛阳极工艺 |
| CN111663168A (zh) | 2020-07-16 | 2020-09-15 | 西安怡速安智能科技有限公司 | 一种电化学电极烧结法提高阳极活性的阳极生产工艺 |
| JP2023095833A (ja) | 2021-12-24 | 2023-07-06 | 石福金属興業株式会社 | 塩素発生用電極 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2023150386A (ja) | 2023-10-16 |
| CN116892038A (zh) | 2023-10-17 |
| EP4273301A1 (en) | 2023-11-08 |
| TW202403107A (zh) | 2024-01-16 |
| US20230357938A1 (en) | 2023-11-09 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP4884333B2 (ja) | 電解用電極 | |
| JP4554542B2 (ja) | 電解用電極 | |
| CS209834B2 (en) | Electrode and method of making the same | |
| RU2083724C1 (ru) | Электрод и способ его получения | |
| JP2008511755A (ja) | 低い塩素過電圧のためのＰｄ含有コーティング | |
| JP2008050675A (ja) | 電解用電極 | |
| JP6920998B2 (ja) | 塩素の電解発生のためのアノード | |
| JPH0733597B2 (ja) | 電解セルにおいて陰極触媒として用いられる陰極触媒物質及び電解セル用陰極 | |
| JPH02200790A (ja) | 電解用電極 | |
| JP5582762B2 (ja) | ハロゲン含有溶液の電気分解において用いるための電極 | |
| JP5886052B2 (ja) | 殺菌水生成用電極及びその製造方法 | |
| JP7396391B2 (ja) | 次亜塩素酸生成電極 | |
| TWI843491B (zh) | 次氯酸生成用電極 | |
| JP7330490B2 (ja) | オゾン生成用電極 | |
| JP2528294B2 (ja) | 電解用電極及びその製造方法 | |
| CN1795291A (zh) | 在导电基材上形成金属氧化物涂层的方法,由此得到的活化阴极及其在碱金属氯化物水溶液电解中的应用 | |
| JPH02263989A (ja) | 塩素発生用電極及びその製造方法 | |
| RU2425176C2 (ru) | Способ получения электрода, электрод (варианты) и электролитическая ячейка (варианты) | |
| KR20210022686A (ko) | 염소의 전해 발생을 위한 애노드 | |
| JP2004360067A (ja) | 電解用電極及びその製造方法 | |
| JPS6338592A (ja) | 電解用電極及びその製造方法 | |
| JPS62260086A (ja) | 電解用電極及びその製造方法 | |
| JPS62260088A (ja) | 電解用電極及びその製造方法 | |
| JP2023144335A (ja) | オゾン発生用電極 | |
| JPH0987896A (ja) | 電解用電極の製造方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20230531 |
|
| A871 | Explanation of circumstances concerning accelerated examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A871 Effective date: 20230531 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20230718 |
|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20230915 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20231031 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20231113 |
|
| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 7396391 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |