JPH04200861A - リフロー装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本発明は、リフロー装置に関し、詳しくは、加熱室内に
おいて基板上に付着されたクリーム半田の加熱処理を行
うにあたり、加熱室の室内温度の低下防止を図るために
入口シャッタおよび出口シャ・７タの同時開放を阻止し
たものである。

（従来の技術） 基板に電子部品を実装するにあたっては、基板に形成さ
れた銅箔などの回路パターンの電極部にクリーム半田を
塗布し、このクリーム半田上に電子部品を接着した後、
この基板を加熱室を有するリフロー装置へ送り、クリー
ム半田の加熱処理が行われる。

この加熱室内では、クリーム半田を加熱溶融させるため
に、加熱室内のヒータにより常温から２３０℃位まで厳
密な温度プロファイルに従って基板が加熱される。

従来、この加熱された内部空気が加熱室の入口部や出口
部から室外へ漏れないように、これらの入口部と出口部
とに、基板の加熱室内への搬入または搬出のタイミング
で開閉される入口シャ・７タおよび出口シャッタを設け
ることが知られている。

（発明が解決しようとする課題） しかしながら従来のリフロー装置においては、前述した
加熱室内への基板の搬入または搬出が同じタイミングで
行われた場合、入口シャッタおよび出口シャッタが同時
開放され、これにより加熱室が一時的にトンネル化して
この室内を風が吹き抜け、よって加熱された内部空気が
一掃されて室内の熱が一気に低下し、クリーム半田の加
熱溶融に支障をきたす恐れがあった。このことは、入口
および出口シャッタが終始開閉される小型基板の場合に
特に顕著であった。

そこで本発明は、入口ジャックおよび出口シャッタを同
時開放させないようにして、加熱室の室内温度の低下防
止を図ったリフロー装置を提供することを目的とする。

（課題を解決するための手段） このために本発明は、ヒータおよび基板を搬送する室内
コンベアが配設された加熱室と、この加熱室の入口部に
配設されて基板を上記室内コンベアへ受け渡す搬入コン
・・、アと、この加熱室の出口部に配設されて、上記室
内コンベアにより搬送されてきた基板が受け渡される搬
出コンベアと、上記入０部に配置されて、基板が入口部
へ到達したことを検出する入口到達センサおよび基板が
入口部を通過したことを検出する入口通過センサと、Ｊ
、配出口部に配置されて、基板が出口部へ到達したこと
を検出する出口到達センサおよび基板が出口部を通過し
たことを検出する出口通過センサと、加熱室の入口部に
配設されて、上記入口到達センサで基板の入口部到達を
検出したときに開放され、−・方上記入口通過センサで
基板の入口部通過を検出したときに閉鎖される入口シャ
ッタと、加熱室の出口部に配設されて、上記出口到達セ
ンサで基板の出口部到達を検出したときに開放され、一
方と記出口通過センサで基板の出口部通過を検出したと
きに閉鎖される出口シャッタとを備え、上記入口到達セ
ンサまたは出口到達センサが、基板の入口部または出口
部への到達を検出して入口シャッタまたは出口シャッタ
を開放させてから、対応する入口通過センサまたは出口
通過センサが基板の入口部または出口部の通過を検出し
て入口シャッタまたは出口シャ・ツタを閉鎖させるまで
、他方の出口シャッタまたは入口シャ・７りの開放を停
止するようにしたものである。

（作用） 上記構成において、入口到達センサまたは出口到達セン
サが、基板の加熱室の入口部または出口部への到達を検
出して入口シャ・ツタまたは出口シャッタを開放させて
から、対応する入口通過センサまたは出口通過センサが
基板の入口部または出口部の通過を検出して入口シャッ
タまたは出口シャッタを閉鎖させるまでの間、他方の出
口シャッタまたは入口シャ・ツタの開放を停止させるこ
とから、入口シャ・ツタおよび出口シャッタの同時開放
がなくなり、これにより加熱室の一時的なトンネル化に
よる加熱された室内空気の室外への法官が防止され、よ
って加熱室の室内温度の低下防止を図ることができる。

（実施例） ＝６− 次に、図面を電照しながら本発明の詳細な説明する。

第１図番よりフｌ−、ｉ−装置の断面図であって、ｌは
カロ熱室であり、その−１−壁に房チッソガス供給１段
とし２てのナツツボンへ２内のチッソガスＮを加熱室１
内・＼供給する孔部３が複数個形成されている。、：８
の加熱室１の内部にば、ヒータ４とファン５とが複数個
配設されており、またこの１部には室内−ｒ〉′＜７６
が配設され、更にこの加熱室１の入口部７および出ｌ」
部８にば、ダクト９．１０か配設されている。なお本実
施例は、酸化防止のためにチッソガスを使用するものを
例にとって説明するが、空気加熱式のものでもよい。

１１ばモータＮｑ　ｉ　により駆動され１．クリ−ｊ。

゛（′田Ｓにより電子部品Ｐ７１１＜載置された基板１
３（第２図参照）を入［１部７から加熱室１内のＴ１ン
ヘ、アロへ受け渡す（最大コン・・アである。１４は千
−夕１ｖｉ２により駆動され、かつコンベア６十の基板
１３を加熱室１の出し」部８から加熱室１の夕（部−１
１般出する１般出コンベアである。

これらの入口部７および出口部８には、ソレノイ１−８
１、Ｓ２に駆動されて開閉する入Ｉ−］シャ、り１８と
出Ｌ】シャッタ１９とが配設されている。また、入口部
７には、基板１３が入口部７へ到達ｊ〜ノ、二ことを検
出する入「１到達センサ２０と、基板１３が入［］部７
を通過した、−とを検出する入［１通過セン号２１とが
配置され、一方出口部８には、基板１３が出Ｌ１部８・
・、到達したごとを検出する出口通過センサ２２と、基
板１３が出口部８を１ｆｆｌ過しまたことを検出する出
口通過センサ２３とが配設されている。

第３図において、２４は制御部であり、入Ｌ」到達セン
サ２０、入ｌ」通過センサ２１、出口到達センサ２２お
よび出口通過セン４Ｊ２３の信号に基いて、−４−４記
モ一タＭｌ、Ｍ２やソレノ・イトＳ１１．Ｓ２を制御す
る。

第２図は、入り部７のＡ部分と、出１」部８のＦ３部分
の断面を示しこいる。なお、Ａ部分とＢ部分は同構ｊも
である。３２ばダクト０、ＩＯの側壁に装着された吹出
しノズルであり、バイブ３０を介して、１−記ヂノソボ
ン・・、２に接続されている６また３４は他方の側壁に
装着された吸入ノズルであり、（１ト気バ・イブ３５が
接′Ｉａ、され一部いる。

吹出しノズル３２から吸引ノズル３４へ基板■３の表面
に沿って横方向から平行にチッソガスを流し、加熱室１
内の加熱されたチッソガスが、加熱室１外へ流出するの
を防止する。ずなわら上記２入ル３２．３４は気流シャ
ッタ手段を構成しており、上記メカニカルなシャッタ１
８．１つと（，１より二重に遮蔽する。なおチッソガス
を士、ノー若１．りは下方から基板１３の表面に吹き付
ｉ′ｌるようＱこ吹き出すと、基板１３のド面側や−Ｌ
面側は工ｉ′ポケットとなり、遮蔽効果はあがらないが
、＋１段のよ・）にチッソガスを横方向からＸ＋ル１３
と平行に吹き出すと、エアボゲ、・トを生ｊ−る、二と
なく、ダクト９．１０を遮蔽できる。

第１＝’７’（託才、いて、加熱室１内の出口部８側に
は、チッソガスＮの循環系３５が配設されている。この
循環系３５は、カロ熱室ｌ内に形成されたダク１−３６
と、クリーム゛ｆ−ｍｓに含有される溶剤が気化した溶
剤ガス４除去する除去下段としてのコンデンサ３７と、
循環用のブロア３８と、バイパス管３９とからなってい
る。ブロア３８を作動すると、加熱室１内の千７、ソガ
スＮの一部がダクト３６を通過ｊ〜でチッソガスＮ中に
含まれる上記溶剤ガスがコンデンｊ”　ｉ’＋　７で除
去され、純化されたチッソガスかへ・１°パス管３つを
介して再び加熱室１内−νさ４１４．。

このリフロー装置は上記のような構成より成り、次に動
作を説明する。

第１図において、搬入コンへア１１−１−の基板１３が
入口部７に到達した、ことを入１−１到達センザ２０が
検出すると、ソレノイドに１が作動ｊ〜で、入ロシャソ
タ１８が開く。次いで入口通過センサ２１が基板１３の
人１１部７の通過を検出すると、ソレノイドＳ１が作動
して入［」シャッタ１８が閉７１：ろ。

入口部７から加熱室１内へ搬入された基板Ｉ３は、室内
コンベア６により出口部７側へ搬送されながら、クリー
ム半田Ｓが加熱される。クリーム半田Ｓが加熱されると
、このクリ−Ｊ、半田Ｓに含まれる溶剤はガス化し°Ｃ
蒸発するが、この溶剤ガスは循環系３５を循環し、その
途中でコンデンサ３７により除去される。従って加熱室
１内の溶剤ガス濃度が異常に高くなって、クリーム半田
Ｓに含有される溶剤が蒸発し難くなったり、溶剤ガスが
基板上に凝集し、半田Ｓに悪影響を与えることはない。

次いで、基板１３が出口部８に到達りだ、乙とを出口セ
ンサ２２が検出すると、ソレノイドＳ２の開放指令と搬
入コンへ７１１のモータＭ１の駆動停止指令とが出て、
出ロンヤノクｌ　Ｔｌが開くとともに、搬入コンベア１
１が停止する。

このとき、仮に入口到達センサ２０が基板１３の入口部
到達を検出しても、制御部２４は入口シャ、り１８を開
閉するソレノイドＳ１の開放指令を出すことはなく、従
って入口シャ２・り１８および出口シャッタ１つの同時
開放がなくなり、これにより加熱室１の一時的なトンネ
ル化による加熱された室内空気の室外への流亡が防止さ
れ、従って加熱室１の室内温度の低下防止を図ることが
できるとともに、加熱室１内に充填されたチッソガスＮ
の室外法官をも防止する。

室内コンベア６から搬出コンベア１４への基板１３の受
け渡しが終わったのち、出口通過センサ２３が基板１３
の出口部８の通過を検出すると、出口シャッタ１９が閉
まるとともに、入口シャフタ１８が開き、搬入コンへ７
１１が再始動して待機していた基板１３を加熱室１側へ
搬入する。

なお、上記実施例では、出口シャッタ１９を基準にして
入口シャフタ１８および出口シャッタ１９の同時開放の
阻止を行ったが、入口シャフタ１８を基準にして、入口
シャフタ１８および出口シャッタ１９の同時開放を阻止
してもよい。

（発明の効果） 以上説明したように本発明は、ヒータおよび基板を搬送
する室内コンベアが配設された加熱室と、この加熱室の
入口部に配設されて基板を上記室内コンベアへ受け渡す
搬入コンベアと、この加熱室の出口部に配設されて、上
記室内コンベアにより搬送されてきた基板が受け渡され
る搬出コンベアと、上記入口部に配置されて、基板が入
口部へ到達したことを検出する入口到達センサおよび基
板が入口部を通過したことを検出する入口通過センサと
、上記出口部に配置されて、基板が出［］部へ到達した
ことを検出する出口到達センサおよび基板が出口部を通
過したことを検出する出口通過センサと、加熱室の入口
部に配設されて、上記入１］到達センサで基板の入口部
到達を検出したときに開放され、−方上記入口通過セン
サで基板の入口部通過を検出したときに閉鎖される入口
シャフタと、加熱室の出口部に配設されて、上記出口到
達センサで基板の出口部到達を検出したときＧこ開放さ
れ、−１３−一 −・方」二記出ロ通過センナで基板の出口部通過を検出
したときに閉鎖される出口シャッタとを備え、 」二記入ロ到達センザまたは出口到達センサが、基板の
入口部または出口部への到達を検出して入口シャフタま
たは出口シャッタを開放させてから、対応する入口通過
センサまたは出口通過センサが基板の入口部または出口
部の通過を検出して入口シャフタまたは出口シャッタを
閉鎖させるまで、他方の出口シャッタまたは入［］シャ
ッタの開放を停止するようにしてＧ・ゼ）ので、入口シ
ャフタおよび出口シャッタの同時開放がなくなり、これ
により加熱室の一時的なトンネル化による加熱された室
内空気の室外への流亡が防止され、よって加熱室の室内
温度の低下防止を図ることができる。

【図面の簡単な説明】

図は本発明の実施例を示すものであって、第１図はリフ
ロー装置の断面図、第２図は入口部と出口部の断面図、
第３図は制御手段のプロノり図であシ、 １・・・加熱室 ４・・・ヒータ ６・　・・室内コンベア ７・・・入口部 ８・・・出口部 １１・・　・搬入コンベア １３　・　・　・　基七反 １４・　・　・搬出コンベア １８・・　・入ロシャソタ′ １９・・・出ロジャノタ ２０・・・入口到達センサ ２１・・　・入ｌ」通過セン４ノ ２２・・・出口到達センサ ２３・・・出口通過センサ

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 　ヒータおよび基板を搬送する室内コンベアが配設され
   た加熱室と、この加熱室の入口部に配設されて基板を上
   記室内コンベアへ受け渡す搬入コンベアと、この加熱室
   の出口部に配設されて、上記室内コンベアにより搬送さ
   れてきた基板が受け渡される搬出コンベアと、上記入口
   部に配置されて、基板が入口部へ到達したことを検出す
   る入口到達センサおよび基板が入口部を通過したことを
   検出する入口通過センサと、上記出口部に配置されて、
   基板が出口部へ到達したことを検出する出口到達センサ
   および基板が出口部を通過したことを検出する出口通過
   センサと、加熱室の入口部に配設されて、上記入口到達
   センサで基板の入口部到達を検出したときに開放され、
   一方上記入口通過センサで基板の入口部通過を検出した
   ときに閉鎖される入口シャッタと、加熱室の出口部に配
   設されて、上記出口到達センサで基板の出口部到達を検
   出したときに開放され、一方上記出口通過センサで基板
   の出口部通過を検出したときに閉鎖される出口シャッタ
   とを備え、 上記入口到達センサまたは出口到達センサが、基板の入
   口部または出口部への到達を検出して入口シャッタまた
   は出口シャッタを開放させてから、対応する入口通過セ
   ンサまたは出口通過センサが基板の入口部または出口部
   の通過を検出して入口シャッタまたは出口シャッタを閉
   鎖させるまで、他方の出口シャッタまたは入口シャッタ
   の開放を停止することを特徴とするリフロー装置。