JPH067923A - チッソリフロー装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 外部の空気が加熱室に侵入するのを防止でき
るチッソリフロー装置。 【構成】 主コンベヤ４を加熱室１の入口５及び又は出
口６よりも高い位置に配設するとともに、主コンベヤ４
の両側部の入口部１ａ及び又は出口部１ｂに主コンベヤ
４と基板１０の受渡しをする副コンベヤ２１を設け、且
つこの副コンベヤ２１を主コンベヤ４と同一高さと前記
入口４及び又は出口５に配設された搬入コンベヤ１３及
び又は搬出コンベヤ１６と同一高さの２位置間を昇降さ
せる昇降手段２３を設けた。 【効果】 加熱室１の入口５や出口６から排出されるチ
ッソガスの流れにより、外部空気が加熱室１内に侵入す
るのを防止できる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明はチッソリフロー装置に係
り、詳しくは、加熱室外の空気が、加熱室の入口や出口
から加熱室の内部に侵入するのを防止できるチッソリフ
ロー装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】基板に電子部品を実装するにあたって
は、基板に形成された銅箔などの回路パターンの電極部
にクリーム半田や半田コーティング部などの半田を形成
し、この半田上に電子部品を搭載した後、この基板をリ
フロー装置へ送り半田の加熱処理が行われる。

【０００３】従来、このような半田の加熱処理は、空気
を加熱するエアリフロー装置により行われていたが、空
気中には酸素が含まれているので、銅箔などから成る回
路パターンやクリーム半田等の金属物質が加熱されて酸
化しやすく、酸化すると導電性が劣化し、また半田のヌ
レ性も低下して電子部品を基板にしっかり接着できなく
なりやすい問題があった。その改善策として、回路パタ
ーンやクリーム半田等が酸化する虞れのないチッソガス
雰囲気中において、加熱処理を行うチッソリフロー装置
が実施されている。ところがチッソリフロー装置におい
ては、加熱室の入口や出口から外部の空気が加熱室内に
侵入すると、加熱室内の酸素ガス濃度が次第に高くな
り、還元雰囲気が破潰されるという問題点があった。

【０００４】次に図４を参照しながら、従来のチッソリ
フロー装置の加熱室の入口からの外気の侵入の様子を説
明する。１は加熱室であり、その内部には基板１０を搬
送するコンベヤ４が配設されている。１１は基板１０に
搭載された電子部品である。加熱室１の入口部１ａの上
部には、これに沿うようにチッソガスの回収用吸気路７
が設けられている。基板１０は搬入コンベヤ１３によ
り、入口５から入口部１ａ内に搬入されてコンベヤ４へ
受渡され、コンベヤ４により右方へ搬送されながら、電
子部品１１を基板１０に接着する半田１２の加熱処理が
行われる。

【０００５】加熱室１の内部は、チッソボンベなどのチ
ッソガス供給手段から送られたチッソガスで充満されて
おり、チッソガスは入口５からわずかづつ流出し、流出
したチッソガスは、入口５の上部に設けられた吸気路７
に吸い込まれ、チッソガスの回収部（図外）に回収され
る。

【０００６】加熱室１内のチッソガスは、高温（一般に
３００℃程度）に加熱されており、入口５において上昇
気流となって吸気路７へ吸入される。一方、加熱室１外
の低温（室温）の重い空気は、常時、入口５から加熱室
１内へ侵入しようとしているが、入口５から吸気路７へ
向かって流れるチッソガスに遮られて、加熱室１内への
侵入はほぼ阻止される。

【０００７】

【発明が解決しようとする課題】ところが、図示するよ
うに基板１０がコンベヤ１３からコンベヤ４へ受け渡さ
れた直後において、基板１０が入口部１ａに存在する時
には、実線矢印で示すように、チッソガスは基板１０の
上面に当たり、上方へ流れの向きを変えて、吸気路７に
吸い込まれるので、この状態では、加熱室１内のチッソ
ガスは基板１０の下方は流れにくい。その結果、加熱室
１外の低温の重い空気は、破線矢印で示すように、チッ
ソガスの流れに阻害されることなく、基板１０の下方へ
難なく流入して加熱室１の内部へ侵入しやすいという問
題点があった。このような問題点は、加熱室１の出口部
でも同様であり、また基板１０のサイズが大形化するほ
ど顕著になる。

【０００８】そこで本発明は、外部の空気が加熱室内に
流入するのを防止できるチッソリフロー装置を提供する
ことを目的とする。

【０００９】

【課題を解決するための手段】このために本発明は、主
コンベヤを加熱室の入口及び又は出口よりも高い位置に
配設するとともに、この主コンベヤの両側部の入口部及
び又は出口部にこの主コンベヤと基板の受渡しをする副
コンベヤを設け、且つこの副コンベヤを主コンベヤと同
一高さと前記入口及び又は出口に配設された搬入コンベ
ヤ及び又は搬出コンベヤと同一高さの２位置間を昇降さ
せる昇降手段を設けたものである。

【００１０】

【作用】上記構成において、副コンベヤ上に基板が搬入
されたならば、昇降手段により副コンベヤを直ちに上昇
させて、主コンベヤに基板を受け渡す。このように基板
を上昇させれば、加熱室内のチッソガスは基板にその流
れを遮られることはなく、外部の空気が加熱室内へ流入
するのを阻止しながら、吸気路に吸い込まれる。

【００１１】

【実施例】次に、図面を参照しながら本発明の実施例を
説明する。

【００１２】図１はチッソリフロー装置の側面図であ
る。１は加熱室であり、その内部の上部にはヒータ２、
ファン３が配設されている。４は加熱室１内に配設され
た主コンベヤであって、電子部品１１が実装された基板
１０を入口部１ａから出口部１ｂへ向かって搬送する。
７は加熱室１の上部に設けられた吸気路である。この吸
気路７の吸気口７ａ、７ｂは、入口部１ａの入口５およ
び出口部１ｂの入口６に接して設けられている。８はこ
の吸気路７の途中に設けられたファンである。また９は
パイプ１５を通して加熱室１内にチッソガスを供給する
チッソガス供給手段である。１７は主コンベヤ４が調帯
されたスプロケットである。

【００１３】２１は副コンベヤであって、入口部１ａと
出口部１ｂの内部に昇降自在に配設されている。入口５
の外方に設けられた搬入コンベヤ１３により搬送されて
きた基板１０は、入口部１ａ内の副コンベヤ２１、主コ
ンベヤ４、出口部１６内の副コンベヤ２１、出口６の外
方の搬出コンベヤ１６に順に受け渡される。

【００１４】次に、図２、図３を参照しながら、入口部
１ａの内部構造を説明する。図３において、副コンベヤ
２１が調帯されたスプロケット２５の回転軸１８は、フ
レーム２２に支持されており、またこのフレーム２２
は、シリンダ２３のロッド２４に下方から支持されてい
る。したがってシリンダ２３のロッド２４が突出する
と、副コンベヤ２１は実線位置から鎖線位置まで上昇
し、またロッド２４が引き込むと、鎖線位置から実線位
置まで下降する。図２において２６は副コンベヤ２１上
に基板１０が搬送されてきたことを検知するセンサ、図
１において３１，３２はコンベヤ４、２１の駆動用モー
タである。

【００１５】図２において、主コンベヤ４は、入口５よ
りも高い位置に配設されている。３３は加熱室１と入口
部１ａの境界に立設された壁部であって、その上端部は
入口部１ａの下端部３４よりも高く、加熱室１内のチッ
ソガスの流亡を防止している。図１〜図３において、実
線で示す下降位置の副コンベヤ２１の上面の高さは、搬
入コンベヤ１３の上面の高さと同一であり、この状態
で、搬入コンベヤ１３から副コンベヤ２１へ基板１０が
受け渡される。また鎖線で示す上昇位置の副コンベヤ２
１の上面の高さは、主コンベヤ４の上面の高さと同一で
あり、この状態で副コンベヤ２１から主コンベヤ４へ基
板１０が受け渡される。なお、出口部１ｂ内の副コンベ
ヤ２１も、入口部１ａの副コンベヤ２１と同じ手段によ
り昇降する。

【００１６】本装置は上記構成より成り、次に動作を説
明する。図２において、搬入コンベヤ１３により搬送さ
れてきた基板１０は、入口５から入口部１ａ内に進入
し、下降位置の副コンベヤ２１に受け渡される。センサ
２６により、基板１０が副コンベヤ２１上に受け渡され
たことが検知されると、モータ３２は直ちに駆動を停止
するとともに、図３においてシリンダ２３のロッド２４
が突出して、副コンベヤ２１は鎖線位置まで上昇する。
続いてモータ３１，３２が駆動して副コンベヤ２１から
主コンベヤ４へ基板１０は受け渡され、このコンベヤ４
により加熱室１内を搬送され、その間に電子部品１１を
基板１０に接着する半田１２の加熱処理が行われる。

【００１７】続いて基板１０は、主コンベヤ４から、図
１鎖線で示す出口部１ｂの上昇位置の副コンベヤ２１へ
受け渡され、次にシリンダ２４のロッド２３が引き込む
ことにより、副コンベヤ２１は搬出コンベヤ１６と同一
高さまで下降し、基板１０は副コンベヤ２１から搬出コ
ンベヤ１６へ受け渡され、次の工程へ搬送される。主コ
ンベヤ４との基板１０の受渡しが終了した副コンベヤ２
１は、シリンダ２３が逆方向に作動することにより、元
の高さに復帰し、つぎの基板１０の受渡しに備える。

【００１８】さて、上記作業中、加熱室１内にはチッソ
ガス供給手段９からチッソガスが供給されるが、オーバ
ーフローした高温のチッソガスは、図２実線矢印Ｎ１の
ように吸気口７ａから、ファン８の駆動により吸気路７
内に流入される。ここで、本手段では、副コンベヤ２１
上に基板１０が受け渡されると、直ちにシリンダ２３が
作動して、図２において基板１０は実線位置から鎖線位
置へ上昇する。したがって加熱室１内のチッソガスは基
板１０に流れを遮られることなく、矢印Ｎ１で示すよう
に入口部１ａの下部にまで下降した後、上昇気流となっ
て吸入口７ａに吸い込まれるので、破線矢印Ｎ２で示す
ように、入口５から侵入しようとする外部の低温（室
温）空気は、このチッソガスの流れに遮られて、入口５
から侵入することはできない。

【００１９】このように本手段によれば、入口部１ａに
搬送されてきた基板１０を直ちに上方へ退避させること
により、外部空気の加熱室１内への侵入を阻止して、加
熱室１内のチッソガス濃度を高く維持できる。このよう
な外部空気の侵入阻止作用は、出口部１ｂ側でもまった
く同様に得られる。なお昇降自在な副コンベヤ２１は、
入口部１ａと出口部１ｂの両方に設けて、入口５と出口
６から外部空気が侵入するのを防止することが望ましい
が、入口部１ａと出口部１ｂの何れかの一方のみに設け
ることを禁止するものではない。

【００２０】

【発明の効果】本発明は、主コンベヤを加熱室の入口及
び又は出口よりも高い位置に配設するとともに、主コン
ベヤの両側部の入口部及び又は出口部に主コンベヤと基
板の受渡しをする副コンベヤを設け、且つこの副コンベ
ヤを前記主コンベヤと同一高さと前記入口及び又は出口
に配設された搬入コンベヤ及び又は搬出コンベヤと同一
高さの２位置間を昇降させる昇降手段を設けているの
で、入口や出口から排出されるチッソガスの流れにより
外部の空気が加熱室の内部へ侵入するのを防止し、加熱
室内のチッソガス濃度を高く維持して、良好なチッソリ
フローを行える。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の実施例に係るチッソリフロー装置の側
面図

【図２】本発明の実施例に係るチッソリフロー装置の入
口部の断面図

【図３】本発明の実施例に係るチッソリフロー装置の要
部正面図

【図４】従来のチッソリフロー装置の入口部の断面図

【符号の説明】

１ 加熱室 １ａ 入口部 １ｂ 出口部 ２ ヒータ ４ 主コンベヤ ５ 入口 ６ 出口 ９ チッソガス供給手段 １３ 搬入コンベヤ １６ 搬出コンベヤ ２１ 副コンベヤ ２３ 昇降手段

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】ヒータが配設された加熱室と、この加熱室
   内に配設された基板搬送用主コンベヤと、この加熱室に
   チッソガスを供給するチッソガス供給手段とを備え、前
   記主コンベヤを前記加熱室の入口及び又は出口よりも高
   い位置に配設するとともに、前記主コンベヤの両側部の
   入口部及び又は出口部に前記主コンベヤと基板の受渡し
   をする副コンベヤを設け、且つこの副コンベヤを前記主
   コンベヤと同一高さと前記入口及び又は出口に配設され
   た搬入コンベヤ及び又は搬出コンベヤと同一高さの２位
   置間を昇降させる昇降手段を設けたことを特徴とするチ
   ッソリフロー装置。