JP3106744B2 - チッソリフロー装置 - Google Patents
チッソリフロー装置Info
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- JP3106744B2 JP3106744B2 JP04318205A JP31820592A JP3106744B2 JP 3106744 B2 JP3106744 B2 JP 3106744B2 JP 04318205 A JP04318205 A JP 04318205A JP 31820592 A JP31820592 A JP 31820592A JP 3106744 B2 JP3106744 B2 JP 3106744B2
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- heating chamber
- inlet
- nitrogen gas
- outlet
- reflow device
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- Electric Connection Of Electric Components To Printed Circuits (AREA)
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は電子部品が搭載された基
板をコンベヤで搬送しながら、この電子部品の半田付け
を行うチッソリフロー装置に関する。
板をコンベヤで搬送しながら、この電子部品の半田付け
を行うチッソリフロー装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】基板に電子部品を実装するにあたって
は、基板に形成された銅箔などの回路パターンの電極部
にクリーム半田や半田メッキなどの半田を形成し、この
半田上に電子部品を搭載した後、この基板をリフロー装
置へ送り、基板をコンベヤで搬送しながら半田の加熱処
理が行われる。
は、基板に形成された銅箔などの回路パターンの電極部
にクリーム半田や半田メッキなどの半田を形成し、この
半田上に電子部品を搭載した後、この基板をリフロー装
置へ送り、基板をコンベヤで搬送しながら半田の加熱処
理が行われる。
【０００３】従来、このような半田の加熱処理は、空気
を加熱して行われていたが、空気中には酸素が含まれて
いるので、銅箔などから成る回路パターンや半田などの
金属部が加熱されて酸化しやすく、酸化すると半田のヌ
レ性が低下し、電子部品を基板に良好に接着できなくな
りやすい問題があった。その改善策として、回路パター
ンや半田が酸化する虞れのない不活性ガス雰囲気中にお
いて加熱処理を行うチッソリフロー装置が知られてい
る。
を加熱して行われていたが、空気中には酸素が含まれて
いるので、銅箔などから成る回路パターンや半田などの
金属部が加熱されて酸化しやすく、酸化すると半田のヌ
レ性が低下し、電子部品を基板に良好に接着できなくな
りやすい問題があった。その改善策として、回路パター
ンや半田が酸化する虞れのない不活性ガス雰囲気中にお
いて加熱処理を行うチッソリフロー装置が知られてい
る。
【０００４】以下、従来のチッソリフロー装置を説明す
る。図６は、従来のチッソリフロー装置の入口部付近の
断面図であって、ヒータ１およびファン２が配設された
加熱室３内を、コンベヤ４により基板５を搬送しなが
ら、このヒータ１により半田の加熱処理をする。６は基
板５に搭載された電子部品である。このとき、この加熱
室３内には、図外のチッソガス供給部からチッソガスＮ
2 が供給されている。また、この加熱室３の入口部７お
よび出口部（図外）の上部には、排気路８が設けられて
いる。この排気路８は、ヒータ１により約３００℃に加
熱されて上昇気流となったチッソガスＮ2 が、入口部７
の開口９から外部へ流出するのを防いで回収するための
通路である。
る。図６は、従来のチッソリフロー装置の入口部付近の
断面図であって、ヒータ１およびファン２が配設された
加熱室３内を、コンベヤ４により基板５を搬送しなが
ら、このヒータ１により半田の加熱処理をする。６は基
板５に搭載された電子部品である。このとき、この加熱
室３内には、図外のチッソガス供給部からチッソガスＮ
2 が供給されている。また、この加熱室３の入口部７お
よび出口部（図外）の上部には、排気路８が設けられて
いる。この排気路８は、ヒータ１により約３００℃に加
熱されて上昇気流となったチッソガスＮ2 が、入口部７
の開口９から外部へ流出するのを防いで回収するための
通路である。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】ところが、このように
高温のチッソガスＮ2 は、同図実線矢印のように上昇気
流となって排気路８へ流入することから、冷たい外部空
気Ｅは、同図破線矢印で示すように、このチッソガスＮ
2 の流れを避けるように、入口部７の底部７ａに沿って
加熱室３内に流れ込み、このため加熱室３内の酸素濃度
が次第に高くなって、上述した回路パターンや半田の酸
化による弊害を起こすという問題点があった。このよう
な外部空気Ｅの流入は、図示しない出口部においても同
様に発生する。
高温のチッソガスＮ2 は、同図実線矢印のように上昇気
流となって排気路８へ流入することから、冷たい外部空
気Ｅは、同図破線矢印で示すように、このチッソガスＮ
2 の流れを避けるように、入口部７の底部７ａに沿って
加熱室３内に流れ込み、このため加熱室３内の酸素濃度
が次第に高くなって、上述した回路パターンや半田の酸
化による弊害を起こすという問題点があった。このよう
な外部空気Ｅの流入は、図示しない出口部においても同
様に発生する。
【０００６】また、従来のチッソリフロー装置として、
入口部７および出口部にシャッタを設け、基板５の出し
入れに応じてシャッタを開閉することにより、チッソガ
スの流出と外部空気の流入を防止するようにしたものが
知られているが、このようにすると装置が複雑化して制
御が面倒となり、また基板５を入口部７や出口部から出
し入れする際にはシャッタを一時的に開かねばならず、
その際に外部空気が加熱室内に流入してしまうという問
題点があった。
入口部７および出口部にシャッタを設け、基板５の出し
入れに応じてシャッタを開閉することにより、チッソガ
スの流出と外部空気の流入を防止するようにしたものが
知られているが、このようにすると装置が複雑化して制
御が面倒となり、また基板５を入口部７や出口部から出
し入れする際にはシャッタを一時的に開かねばならず、
その際に外部空気が加熱室内に流入してしまうという問
題点があった。
【０００７】そこで本発明は、簡単な手段により、外部
空気が加熱室内に流入するのを防止できるチッソリフロ
ー装置を提供することを目的とする。
空気が加熱室内に流入するのを防止できるチッソリフロ
ー装置を提供することを目的とする。
【０００８】
【課題を解決するための手段】このために本発明は、加
熱室の入口部と出口部の下壁に開口部を開口し、かつこ
の開口部からガスを吸引する吸引手段を設けたものであ
る。
熱室の入口部と出口部の下壁に開口部を開口し、かつこ
の開口部からガスを吸引する吸引手段を設けたものであ
る。
【０００９】
【作用】上記構成において、吸引手段を駆動すると、入
口部や出口部から加熱室外へ流出しようとする高温のチ
ッソガスは開口部から吸引手段側へ吸入される。また入
口部や出口部の下部に沿って加熱室内に流入しようとす
る外部空気はこのチッソガスに巻き込まれ、チッソガス
とともに吸引手段側へ吸入される。したがって、チッソ
ガスの回収と同時に外部空気の加熱室内への流入を防止
し、加熱室内の酸素濃度の上昇を防いで、十分な還元ガ
ス雰囲気中で半田付けをすることができる。
口部や出口部から加熱室外へ流出しようとする高温のチ
ッソガスは開口部から吸引手段側へ吸入される。また入
口部や出口部の下部に沿って加熱室内に流入しようとす
る外部空気はこのチッソガスに巻き込まれ、チッソガス
とともに吸引手段側へ吸入される。したがって、チッソ
ガスの回収と同時に外部空気の加熱室内への流入を防止
し、加熱室内の酸素濃度の上昇を防いで、十分な還元ガ
ス雰囲気中で半田付けをすることができる。
【００１０】
【実施例】次に、図面を参照しながら本発明の実施例を
説明する。
説明する。
【００１１】図１はチッソリフロー装置の断面図であ
る。１１は加熱室であり、その内部にはヒータ１２、フ
ァン１３が配設されている。１４は加熱室１１内に配設
されたコンベヤであって、電子部品６が実装された基板
５を入口部１８から出口部１９へ向かって搬送する。１
５はコンベヤ１４の駆動用スプロケットである。１６は
チッソボンベやチッソガス発生機などのチッソガス供給
部であって、パイプ１７を通して加熱室１１に不活性ガ
スであるチッソガスを供給する。次に図２、図３、図４
を参照しながら入口部１８の構造を説明する。なお、出
口部１９は入口部１８と同構造である。
る。１１は加熱室であり、その内部にはヒータ１２、フ
ァン１３が配設されている。１４は加熱室１１内に配設
されたコンベヤであって、電子部品６が実装された基板
５を入口部１８から出口部１９へ向かって搬送する。１
５はコンベヤ１４の駆動用スプロケットである。１６は
チッソボンベやチッソガス発生機などのチッソガス供給
部であって、パイプ１７を通して加熱室１１に不活性ガ
スであるチッソガスを供給する。次に図２、図３、図４
を参照しながら入口部１８の構造を説明する。なお、出
口部１９は入口部１８と同構造である。
【００１２】前記コンベヤ１４はチェンコンベヤであっ
て、長尺のフレーム２１に保持されている。入口部１８
の上壁２２には羽根板２４が垂設されており、また下壁
２３には羽根板２５が立設されている。特に図４によく
示されるように、羽根板２４、２５の正面形状はコの字
形であって、コンベヤ１４を包囲するように多数枚並設
されている。
て、長尺のフレーム２１に保持されている。入口部１８
の上壁２２には羽根板２４が垂設されており、また下壁
２３には羽根板２５が立設されている。特に図４によく
示されるように、羽根板２４、２５の正面形状はコの字
形であって、コンベヤ１４を包囲するように多数枚並設
されている。
【００１３】図２及び図３において、下方の羽根板２５
の断面形状はＬ字形であって、垂直な立片２５ａと水平
な脚片２５ｂから成っている。この脚片２５ｂは下壁２
３に溶接手段により固着されている。図２及び図４に示
すように、下壁２３の下部にはチェンバー２６が装着さ
れている。チェンバー２６にはダクト２７が接続されて
おり、このダクト２７はファンを内蔵した吸引手段２８
に接続されている（図１も参照）。図２および図３に示
すように、羽根板２５の脚片２５ｂには下壁２３を貫通
する開口部２９が開口されており、吸引手段２８が駆動
すると、入口部１８内のガスはチェンバー２６に吸入さ
れ、更にダクト２７を通って系外へ排出される。
の断面形状はＬ字形であって、垂直な立片２５ａと水平
な脚片２５ｂから成っている。この脚片２５ｂは下壁２
３に溶接手段により固着されている。図２及び図４に示
すように、下壁２３の下部にはチェンバー２６が装着さ
れている。チェンバー２６にはダクト２７が接続されて
おり、このダクト２７はファンを内蔵した吸引手段２８
に接続されている（図１も参照）。図２および図３に示
すように、羽根板２５の脚片２５ｂには下壁２３を貫通
する開口部２９が開口されており、吸引手段２８が駆動
すると、入口部１８内のガスはチェンバー２６に吸入さ
れ、更にダクト２７を通って系外へ排出される。
【００１４】図２に示されるように、上方の羽根板２４
の長さは同じであるが、下方の羽根板２５は、入口３０
側の４枚は短く、奥側の３枚は高くなっており、このよ
うに高低差を付与することにより、入口３０から侵入し
た外部空気Ｅが加熱室１１内へ流入するのを効果的に防
止するようにしている。図２において、左向きの矢印は
加熱室１１内から流出するチッソガスＮ2 の流れを示し
ており、また右向きの矢印は外部空気Ｅの流れを示して
いる。
の長さは同じであるが、下方の羽根板２５は、入口３０
側の４枚は短く、奥側の３枚は高くなっており、このよ
うに高低差を付与することにより、入口３０から侵入し
た外部空気Ｅが加熱室１１内へ流入するのを効果的に防
止するようにしている。図２において、左向きの矢印は
加熱室１１内から流出するチッソガスＮ2 の流れを示し
ており、また右向きの矢印は外部空気Ｅの流れを示して
いる。
【００１５】このチッソリフロー装置は、上記のような
構成より成り、次に動作を説明する。図１において、基
板５は入口部１８から加熱室１１内へ入り、この加熱室
１１内をコンベア１４により搬送されながら、ヒータ１
２により半田が加熱処理された後、基板５は出口部１９
から加熱室１１外へ搬出される。
構成より成り、次に動作を説明する。図１において、基
板５は入口部１８から加熱室１１内へ入り、この加熱室
１１内をコンベア１４により搬送されながら、ヒータ１
２により半田が加熱処理された後、基板５は出口部１９
から加熱室１１外へ搬出される。
【００１６】この作業中、加熱室１１内にはチッソガス
供給部１６からチッソガスＮ2 が供給されるが、オーバ
ーフローした高温のチッソガスＮ2 は、図２において矢
印で示すように、入口部１８や出口部１９から外部へ流
出しようとする。チッソガスＮ2 は高温であるので、図
２に示すように入口部１８の上部に沿って入口３０へ向
って流れるが、外部空気Ｅは低温であるので、図２に示
すようにチッソガスＮ2 の下方をかいくぐるようにして
入口部１８の下部に沿って加熱室１１の内部に侵入しよ
うとする。
供給部１６からチッソガスＮ2 が供給されるが、オーバ
ーフローした高温のチッソガスＮ2 は、図２において矢
印で示すように、入口部１８や出口部１９から外部へ流
出しようとする。チッソガスＮ2 は高温であるので、図
２に示すように入口部１８の上部に沿って入口３０へ向
って流れるが、外部空気Ｅは低温であるので、図２に示
すようにチッソガスＮ2 の下方をかいくぐるようにして
入口部１８の下部に沿って加熱室１１の内部に侵入しよ
うとする。
【００１７】ここで、吸引手段２８が駆動しているた
め、チッソガスＮ2 は図示するように進路を変えて開口
部２９からチェンバー２６に吸入され、ダクト２７を通
って系外へ排出される。また入口３０から侵入してきた
外部空気ＥもこのチッソガスＮ2 に巻き込まれ、チッソ
ガスＮ2 とともにチェンバー２６へ吸入されて系外へ排
出される。また奥側の羽根板２５を入口３０側の羽根板
２５よりも高くしておくことにより、その遮蔽作用によ
り外部空気Ｅが加熱室１１の内部へ侵入するのを効果的
にに阻止できる。
め、チッソガスＮ2 は図示するように進路を変えて開口
部２９からチェンバー２６に吸入され、ダクト２７を通
って系外へ排出される。また入口３０から侵入してきた
外部空気ＥもこのチッソガスＮ2 に巻き込まれ、チッソ
ガスＮ2 とともにチェンバー２６へ吸入されて系外へ排
出される。また奥側の羽根板２５を入口３０側の羽根板
２５よりも高くしておくことにより、その遮蔽作用によ
り外部空気Ｅが加熱室１１の内部へ侵入するのを効果的
にに阻止できる。
【００１８】図５は入口部１８の他の実施例を示してい
る。図示するように、上壁２２に垂設された羽根板２４
は入口３０へ向って次第に長くなっており、また下壁２
３に立設された羽根板２５は加熱室１１へ向って次第に
高くなっている。したがってこのものも、外部空気Ｅは
羽根板２４、２５により加熱室１１へ侵入するのは効果
的に阻止され、矢印にて示すようにチッソガスＮ2 に巻
き込まれてチッソガスＮ2 とともに開口部２９からチェ
ンバー２６ヘ吸入されて系外へ排出される。このように
羽根板の配設仕様は種々考えられる。なお、上記実施例
では入口部１８のみを説明したが、出口部１９も入口部
１８と同じ構造であり、同様の作用が得られる。
る。図示するように、上壁２２に垂設された羽根板２４
は入口３０へ向って次第に長くなっており、また下壁２
３に立設された羽根板２５は加熱室１１へ向って次第に
高くなっている。したがってこのものも、外部空気Ｅは
羽根板２４、２５により加熱室１１へ侵入するのは効果
的に阻止され、矢印にて示すようにチッソガスＮ2 に巻
き込まれてチッソガスＮ2 とともに開口部２９からチェ
ンバー２６ヘ吸入されて系外へ排出される。このように
羽根板の配設仕様は種々考えられる。なお、上記実施例
では入口部１８のみを説明したが、出口部１９も入口部
１８と同じ構造であり、同様の作用が得られる。
【００１９】
【発明の効果】以上説明したように本発明は、入口部と
出口部の下部に設けられた下壁に開口部を開口し、かつ
この開口部からガスを吸引する吸引手段を設けているの
で、加熱室内に外部の空気が侵入するのを効果的に阻止
し、加熱室内の酸素濃度を低く維持して十分な不活性ガ
ス雰囲気中で半田の加熱処理を行うことができ、しかも
チッソガスの回収と外部空気の侵入防止を併せて達成す
ることができる。
出口部の下部に設けられた下壁に開口部を開口し、かつ
この開口部からガスを吸引する吸引手段を設けているの
で、加熱室内に外部の空気が侵入するのを効果的に阻止
し、加熱室内の酸素濃度を低く維持して十分な不活性ガ
ス雰囲気中で半田の加熱処理を行うことができ、しかも
チッソガスの回収と外部空気の侵入防止を併せて達成す
ることができる。
【図１】本発明の一実施例に係るチッソリフロー装置の
断面図
断面図
【図２】本発明の一実施例に係るチッソリフロー装置の
入口部の断面図
入口部の断面図
【図３】本発明の一実施例に係るチッソリフロー装置の
入口部の斜視図
入口部の斜視図
【図４】本発明の一実施例に係るチッソリフロー装置の
入口部の正面図
入口部の正面図
【図５】本発明の他の実施例に係るチッソリフロー装置
の入口部の断面図
の入口部の断面図
【図６】従来手段に係るチッソリフロー装置の要部断面
図
図
５ 基板 ６ 電子部品 １１ 加熱室 １２ ヒータ １４ コンベヤ １６ チッソガス供給部 １８ 入口部 １９ 出口部 ２３ 下壁 ２８ 吸引手段 ２９ 開口部
Claims (1)
- 【請求項１】ヒータが配設された加熱室と、加熱室の入
口部から出口部へ電子部品が搭載された基板を搬送する
コンベヤと、前記加熱室にチッソガスを供給するチッソ
ガス供給部とを備え、前記入口部と前記出口部の上壁と
下壁に前記コンベヤを包囲する羽根板を並設したチッソ
リフロー装置において、前記入口部と前記出口部の下壁
に開口部を開口し、かつ前記開口部からガスを吸引する
吸引手段を設けたことを特徴とするチッソリフロー装
置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP04318205A JP3106744B2 (ja) | 1992-11-27 | 1992-11-27 | チッソリフロー装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP04318205A JP3106744B2 (ja) | 1992-11-27 | 1992-11-27 | チッソリフロー装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06155009A JPH06155009A (ja) | 1994-06-03 |
| JP3106744B2 true JP3106744B2 (ja) | 2000-11-06 |
Family
ID=18096611
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP04318205A Expired - Fee Related JP3106744B2 (ja) | 1992-11-27 | 1992-11-27 | チッソリフロー装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3106744B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| TWI689455B (zh) * | 2019-07-30 | 2020-04-01 | 群翊工業股份有限公司 | 可防板偏之連續通板的氮氣箱 |
-
1992
- 1992-11-27 JP JP04318205A patent/JP3106744B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH06155009A (ja) | 1994-06-03 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
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|
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|
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| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |