JPH07231160A - リフローはんだ付け装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 冷却室における冷えた不活性ガス吹き付けに
伴う装置内での不活性ガスの流れの変動を抑え、リフロ
ー室における不活性ガスの濃度ならびに温度の変動を少
なくして、良好なはんだ付けを可能とするリフローはん
だ付け装置を提供する。 【構成】 はんだを塗布した回路基板に電子部品を装着
してなる被処理物４３をコンベア４４にて予熱室ゾーン
１，２，３およびリフロー室４を通過するように搬送
し、両室通過中に被処理物４３を所望の濃度および温度
の不活性ガスの雰囲気下においてはんだの予熱およびリ
フローを行い、リフロー室４に続く冷却室５で被処理物
４３に冷えた不活性ガスを吹き付けはんだを固化させて
電子部品を回路基板にはんだ付けするリフローはんだ付
け装置において、冷却室５は、被処理物４３の主面にほ
ぼ平行で、かつ、コンベア４４による被処理物４３の搬
送方向を横切るように、冷えた不活性ガスを吹き付ける
手段を備えた。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、はんだを塗布した回路
基板に電子部品を装着してなる被処理物を、予熱室およ
びリフロー室を通過させ、両室通過中に被処理物を不活
性ガスの雰囲気下においてはんだの予熱およびリフロー
を行い、リフロー室に続く冷却室で被処理物に冷えた不
活性ガスを吹き付けはんだを固化させて電子部品を回路
基板にはんだ付けするリフローはんだ付け装置に係り、
特に、冷却室での冷えた不活性ガス吹き付けに伴う装置
内での不活性ガスの流れの変動を抑え、少なくともリフ
ロー室での不活性ガスの濃度ならびに温度の変動を少な
くして、良好なはんだ付けを得ることができるリフロー
はんだ付け装置に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】近年、実装基板の高密度化が進み、電子
部品を回路基板にはんだ付けするに当って、はんだ付け
の信頼性や生産性の観点から、リフロー法が広く用いら
れるようになってきた。はんだ付けに用いるはんだペー
ストははんだ粒子が微細化し、フラックス中の固形物が
少なくなっている。はんだペーストがこのようになる
と、従来の空気を用いたリフロー法ではんだ付けをする
と、はんだ粒子の酸化や活性剤の不足に伴うはんだボー
ルや濡れ不良が多発する。そこで、空気に替えて窒素な
どの不活性ガスを用いるリフロー法が採用されるに至っ
た。このような不活性ガスを用いるリフローはんだ付け
装置は、例えば、特開昭６４−７１５７１号公報などに
記載されている。

【０００３】図８は、従来のリフローはんだ付け装置の
略示構成図である。図８に示すように、従来のリフロー
はんだ付け装置は、予熱領域（予熱室）、本加熱領域
（リフロー室）および冷却領域（冷却室）から構成され
ている。予熱室およびリフロー室は、図示していない被
処理物の搬送路（コンベア）部分では連通されているも
のの、図示していない障壁で区切られており、これら両
室にはガス吹き出し形式の赤外線ヒータ５４が加熱ヒー
タとして採用され、図示していない被処理物搬送路の上
下に一対ずつ設けられていた。

【０００４】これら各赤外線ヒータ５４の間には、上下
対にガス吹き出し方向を自在に調整できるノズル５５が
設けられている。熱媒体となるガスは、パイプライン６
０から各赤外線ヒ−タ５４に吹き出し用ガスとして供給
され、パイプライン６１からのガスは各赤外線ヒータ５
４の間のノズル５５に送られて炉内に噴出される。各赤
外線ヒータ５４やその間から吹き出されたガスはパイプ
ライン６２を経て回収され、ブロア５８、熱交換器５９
を経て冷却ノズル５６に供給される。

【０００５】被処理物は矢印イで示すように、コンベア
によって図の左から右に向かって搬送され、予熱室で３
対の赤外線ヒータ５４により所望の温度に予熱され、次
いで、リフロー室で２対の赤外線ヒータ５４によっては
んだが溶融（リフロー）する温度まで加熱され、続く冷
却室で冷却ノズル５６と冷却ファン５７とによって冷却
されてはんだ付けが完了するものであった。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】冷却室における被処理
物の冷却は、冷却ノズル５６や冷却ファン５７で被処理
物の上下方向から、被処理物の主面にほぼ垂直になるよ
うに冷えた気流を吹き付けて行われている。冷えた気流
は被処理物の主面に当って、被処理物の主面にほぼ平行
な水平方向に方向転換する。この方向転換がリフロー室
と冷却室の境付近あるいは冷却室出口、つまり、冷却室
と装置外との境付近で起こると、リフロー室と冷却室と
の間でガスの流出，流入があって、各室におけるガス濃
度が変動するという問題があった。

【０００７】例えば、冷却室の入口付近に被処理物が位
置すると、冷却ノズル５６から吹き出されたガスは被処
理物の前端部に当り、方向を水平に変えて、一部は冷却
室からリフロー室に向かう流れとなって、冷却室におけ
る酸素濃度の高い冷えたガスがリフロー室に流入する。
リフロー室で酸素濃度が上昇すると、はんだが酸化さ
れ、また、不活性ガス温度が低下して良好なはんだ付け
が得られなくなる。

【０００８】冷却ノズル５６から吹き出すガス流速、あ
るいは冷却ファン５７の回転数を下げ、冷却室からリフ
ロー室に向かう流れを抑えようとすると、冷却効率が低
下してはんだ強度が弱くなる。また、所要の温度まで下
げるように冷却室を長大化するとすれば、それによって
装置全体が大型化する。ガス流速や回転数はそのままと
して、リフロー室に流れ込むガス量を減らすべくリフロ
ー室と冷却室との間隔を広げても、やはり装置全体が大
型化してしまう。

【０００９】本発明は、上記従来技術の問題点を解決す
るためになされたもので、その目的は、冷却室における
冷えた不活性ガス吹き付けに伴う装置内での不活性ガス
の流れの変動を抑え、リフロー室における不活性ガスの
濃度ならびに温度の変動を少なくして、良好なはんだ付
けを得ることができるリフローはんだ付け装置を提供す
ることにある。

【００１０】

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明に係るリフローはんだ付け装置の構成は、は
んだを塗布した回路基板に電子部品を装着してなる被処
理物をコンベアにて予熱室およびリフロー室を通過する
ように搬送し、前記両室通過中に前記被処理物を所望の
濃度および温度の不活性ガスの雰囲気下において前記は
んだの予熱およびリフローを行い、前記リフロー室に続
く冷却室で前記被処理物に冷えた不活性ガスを吹き付け
前記はんだを固化させて前記電子部品を前記回路基板に
はんだ付けするリフローはんだ付け装置において、前記
冷却室は、前記被処理物の主面にほぼ平行で、かつ、前
記コンベアによる前記被処理物の搬送方向を横切るよう
に、冷えた不活性ガスを吹き付ける手段を備えているも
のである。

【００１１】より詳しくは、上記のリフローはんだ付け
装置の構成において、前記冷却室の前記コンベアの一側
方に冷えた不活性ガスを吹き出す開口を備え、前記冷却
室の前記コンベアの他の一側方に不活性ガスを引き込む
開口を備え、不活性ガスが、前記被処理物の主面にほぼ
平行に、かつ、前記被処理物の搬送方向を横切るように
したものである。

【００１２】また、上記のリフローはんだ付け装置の構
成において、前記冷却室の前記コンベアの上下の少なく
とも一方に、被処理物の搬送方向を横切る方向に冷えた
不活性ガスを吹き出す開口を備え、前記冷却室の前記コ
ンベアの一側方に不活性ガスを引き込む開口を備え、不
活性ガスが、前記被処理物の主面にほぼ平行に、かつ、
前記被処理物の搬送方向を横切るようにしたものであ
る。

【００１３】

【作用】上記技術的手段による働きは下記のとおりであ
る。本発明のリフローはんだ付け装置においては、冷却
室に供給される冷えた不活性ガスは、被処理物の主面に
ほぼ平行で、かつ、コンベアによる被処理物の搬送方向
を横切るように流れる。そこで、被処理物が搬送されて
きた場合にガスが被処理物の側面に当っても、その面積
は被処理物の主面に比較して極く僅かなものであり、ガ
スの流れの方向が変えられることはない。回路基板上の
電子部品についてみると、不活性ガスは回路基板の面に
沿って流れるが、各電子部品には、ガス流の下流側で生
ずる乱流によって、流れの陰になる箇所にも冷えたガス
が行き渡り、全ての箇所で充分な冷却が行われる。

【００１４】冷却室においてガスの流れの方向が変わら
ないので、ガスの流速を高めても、冷却室からリフロー
室に、酸素濃度の高い冷えたガスが流入することはな
い。したがって、リフロー室で酸素濃度は上昇せず、ま
た、不活性ガス温度も低下せず、はんだを酸化させるこ
となくリフローできる。さらに、装置を大型化すること
なく、被処理物を確実に冷却して良好なはんだ付けをす
ることができる。

【００１５】

【実施例】以下、本発明の各実施例を図１ないし図７を
参照して説明する。まず、図１ないし図５を参照して第
一の実施例を説明する。 〔実施例 １〕図１は、本発明の一実施例に係るリフロ
ーはんだ付け装置の構成を示す縦断面図、図２は、図１
のＡ−Ａ矢視断面図、図３は、図１のＢ−Ｂ矢視断面
図、図４は、図１のリフロー部におけるコンベアを示す
要部拡大断面図、図５は、図１の冷却部におけるコンベ
アを示す要部拡大断面図である。

【００１６】図１ないし図５における符号の添字ａ，ｂ
は、それぞれ各部品がコンベア４４の上側，下側にある
ことを示す。例えば、予熱室第一ゾーン１における符号
１５ａは、コンベア４４の上側に設けられた赤外線ヒー
タ、符号１５ｂはコンベア４４の下側に設けられた赤外
線ヒータであり、総称する場合には添字ａ，ｂを除き、
赤外線ヒ−タ１５と呼ぶことにする。

【００１７】図１ないし図５に示すリフローはんだ付け
装置は、予熱室第一ゾーン１、予熱室第二ゾーン２、予
熱室第三ゾーン３、リフロー室４、冷却室５、搬入側シ
ール室６および搬出側シ−ル室７からなっている。これ
ら各室を通して被処理物４３を水平に搬送する１対のエ
ンドレスチェーンコンベア（以下単にコンベアという）
４４を設けて、駆動スプロケット４６をモータ４７で駆
動して、被処理物４３を図１に向かって左から右の方向
に搬送するようにコンベア４４を移動させる。なお、４
５はコンベア４４のアイドラである。

【００１８】予熱室第一ゾーン１、予熱室第二ゾーン
２、リフロー室４には、それぞれ貫流送風機１１ａ，１
６ａ，３０ａと、熱ガスを吹き出す末広ノズル１２ａ，
１７ａ，３１ａと、加熱ヒ−タ１３ａ，１８ａ，３２ａ
とからなる熱ガス吹き付け手段としての熱ガス循環手段
２１ａ，２２ａ，３６ａが設けられている。また、予熱
室第一ゾーン１、予熱室第三ゾーン３、リフロー室４に
はそれぞれ赤外線ヒータ１５，３３，３７を設けてい
る。これらの赤外線ヒ−タ１５，３３，３７はコンベア
４４の上下に対称的に配置されている。

【００１９】リフロー室４において、ガス供給ノズル５
２から供給されるガスは、コンベア４４の下側にあって
斜め下方向に吹き出される。これは、コンベア４４上を
搬送される被処理物４３に冷えたガスが直接当らないよ
うにするためである。また、コンベア４４の搬送方向下
流側のガス供給ノズル５２からは上流に、上流側のガス
供給ノズル５２からは下流に向けてそれぞれガスが吹き
出される。これは被処理物４３がコンベア４４上を搬送
されてきたときに、予熱室第三ゾーン３あるいは冷却室
５からリフロー室４にガスが流れ込まないようにするた
めである。

【００２０】被処理物４３に対して末広ノズル１２ａ，
１７ａ，３１ａから吹き出す熱ガスは、コンベア４４上
の伸延方向に沿った斜めの方向を向いている。末広ノズ
ル１２ａ，１７ａからは下流に向け、末広ノズル３１ａ
からは上流に向けて熱ガスを吹き出す。また、貫流送風
機１１ａ，１６ａ，３０ａのガス吸入口側には加熱ヒー
タ１３ａ，１８ａ，３２ａがあり、羽根車４８ａ（図２
参照）で昇圧された熱ガスを末広ノズル１２ａ，１７
ａ，３１ａから被処理物４３に対して吹き出す。なお、
図２において、５０ａは、ベアリング４９ａで支持され
た羽根車４８ａを回転駆動するモータである。

【００２１】図１において、７０は、冷却室５の下部に
ある送風機で、この送風機７０は、熱交換チューブ７２
を内蔵した熱交換器７１、ガス流路７５、７６を経由し
て冷えたガスを被処理物４３に吹き付けるように構成し
たものである。冷却室５には、コンベア４４を横切るよ
うに複数の整流板４１が設けられている。コンベア４４
の上下にある各整流板４１ａ，４１ｂは、図３に詳細を
示すように、コンベア４４に近付けた上下のガス流路板
６５ａ，６５ｂに形成されていて、できるだけ冷えたガ
スが被処理物４３に接近するように配慮したものであ
る。

【００２２】コンベア４４は、リフロー室４などの冷却
室５以外の場所では図４に示す構造であるが、冷却室５
では図５に示す構造となっている。図４，図５におい
て、９０はエンドレスチェーン、９１は、そのエンドレ
スチェーン９０のレール、９２はチェーン押さえであ
る。冷却室５におけるレール９１は冷えたガスの整流板
としても機能するもので、一方のレール９１は該レール
の一部９１ＡがＬ字状をなし、図示していない装置のフ
レームに固定されているが、他方のレール９１は、図３
に示すように固定された整流板７４と離れており、被処
理物４３の幅寸法に合わせて幅寄せが出来るように移動
可能に支持されている（支持構成の説明は省略する）。

【００２３】さらに、図３において、６６，６７は、熱
交換器７１における熱交換チューブ７２に接続する冷媒
の循環用配管である。また、７７は、熱交換器７１で冷
やされたガスを冷却室５に送るガス流路、８０は、冷却
室５内で整流板４１，ガス流路板６５などによって形成
されるガス流路である。送風機７０の回転によって、冷
却室５などでは図３に矢印で示す方向に冷えたガスが流
れる。すなわち、ガス流路７７からガス流路８０へつづ
く部分は、冷却室５のコンベア４４の上下に被処理物４
３の搬送方向を横切る方向に冷えた不活性ガスを吹き出
す開口を構成している。また、ガス流路８０からガス流
路７５へつづく部分は、前記冷却室５の前記コンベア４
４の一側方に不活性ガスを引き込む開口を構成してい
る。

【００２４】次に、このような構成を持つリフローはん
だ付け装置の動作について、ガス供給ノズル５２から供
給するガスを窒素として説明する。リフロー室４にノズ
ル５２から供給される窒素ガスは、リフロー室４を中心
として予熱室第三ゾーン３および冷却室５に流出拡散し
ていき、窒素ガス濃度の分布はリフロー室４が最も高
く、装置の入口および出口に向かって次第に低くなって
いる。

【００２５】予熱室第一ゾーン１ないし予熱室第三ゾー
ン３で予熱され、リフロー室４ではんだが溶融された被
処理物４３は、コンベア４４によって冷却室５に搬入さ
れる。冷却室５のガス流路８０において、被処理物４３
自身も整流板の役割を果たして、図３に矢印で示すよう
に冷えたガスが被処理物４３の上下をガスの流れを乱す
ことなく被処理物４３における上下の主面と平行に分流
し、被処理物４３の搬送方向を横切るように流れて、被
処理物４３は充分に冷却される。

【００２６】整流板として作用するガス流路板６５によ
りガス流路８０の横断面積が小さくされているために、
ガス流路８０におけるガスの流速は増加し、より効率的
に被処理物４３の冷却が行われる。また、被処理物４３
における電子部品にとっては、ガス流の下流に乱流が生
じるので、電子部品が高密度に実装されていても、各電
子部品の全表面に冷えたガスが行き渡って、確実に冷却
が行われる。

【００２７】図３に示すように、冷えたガスは、冷却室
５の図に向かって左側方の開口部から供給されて、整流
板４１でコンベア４４の伸延方向への流れが規制されつ
つコンベア４４を横切って流れ、冷却室５の図に向かっ
て右側方の開口部からガス流路７５に吸い込まれて行
き、熱交換器７１で冷される作用を繰り返す。

【００２８】リフロ−室４からは酸素濃度の高い冷えた
ガスがコンベア４４の伸延方向、すなわち、リフロ−室
４に向かって流れることは殆どなく、その傾向は整流板
４１などの働きで助長されている。このため、特に、リ
フロー室４の窒素ガスの濃度ならびに温度は変動しな
い。したがって、リフロー室４において、はんだは酸化
されることなく充分に溶融する。また、冷却室５では短
期間にしっかり冷却できるので、はんだ組織は微細なま
までその強度は低下しない。短期間のうちに冷却できる
ために冷却室５を長大化させる必要がない。

【００２９】冷却室５でガスの流れに乱れが殆どなく、
流速は増加されてガス流路８０のガス圧力は低下するか
ら、リフロー室４から窒素ガスが冷却室５に流出するこ
とはあってもその逆の現象は起こりえない。すなわち、
本実施例によれば、冷却室５における冷えた不活性ガス
吹き付けに伴う装置内での不活性ガスの流れの変動を抑
え、リフロー室４での不活性ガスの濃度および温度の変
動を少なくして良好なはんだ付けを得ることができる。

【００３０】次に、冷却部の他の実施例について説明す
る。 〔実施例 ２〕図６は、本発明の他の実施例に係るリフ
ローはんだ付け装置の冷却部を示す断面図である。図
中、図３と同一符号のものは先の第一の実施例と同等部
分を示す。また、図６に示す冷却部以外のリフローはん
だ付け装置の全体構成は図１に同じである。図６に示す
実施例では、ガス流路８０Ａは、斜め向きの整流板４２
を用いて、冷えたガスの供給をコンベア４４の上下の斜
め方向から行うように構成されている。被処理物４３も
整流板の機能を果たすことによって、冷えたガスは被処
理物４３上では被処理物４３と平行にコンベア４４を横
切るように流れる。なお、６８は流れを促進する出口側
の整流板である。

【００３１】図６に示す実施例では、先の第一の実施例
と同様の効果が得られるほか、斜め向きの整流板４２を
用いたガスの流れにより、被処理物４３に当るガスが垂
直成分を持っているために、被処理物４３の冷却効率が
垂直成分を持たないものに比べて高く、その分冷却部を
小型化できるという本実施例特有の効果がある。

【００３２】〔実施例 ３〕図７は、本発明の他の実施
例に係るリフローはんだ付け装置の冷却部を示す断面図
である。図中、図３と同一符号のものは先の第一の実施
例と同等部分を示す。また、図７に示す冷却部以外のリ
フローはんだ付け装置の全体構成は図１に同じである。
図７に示す実施例では、ガス送風手段および熱交換器７
１Ａがコンベア４４の上部にある。

【００３３】この実施例では、冷却室５Ａの上部に設け
たモータ８３によってシャフト８５の下端部に位置する
熱交換器７１Ａに設けたファン８４を回転させている。
８１はベアリング、８２はシールである。７３は、上流
側のコンベア４４と揃えて設けた固定した整流板であ
る。熱交換器７１Ａに接続するガス流路７７Ａからガス
流路８０Ｂへつづく部分は、冷却室５Ａのコンベア４４
の上下に被処理物４３の搬送方向を横切る方向に冷えた
不活性ガスを吹き出す開口を構成している。また、ガス
流路８０Ｂからガス流路７５Ａへつづく部分は、前記冷
却室５Ａの前記コンベア４４の一側方に不活性ガスを引
き込む開口を構成している。

【００３４】この例では、熱交換器７１が冷却部の上方
に設置されているだけで、冷却部でのガスの流れは、図
１ないし図５に示した第一の実施例と同じであり、リフ
ロー室４などの窒素ガスの濃度および温度を乱さずに確
実な冷却が遂行される。

【００３５】本発明における冷却部の構成は予熱部やリ
フロー部の構成に支配されることなく自由に適用でき
る。以下、予熱部やリフロー部の実施態様例を説明す
る。 （１）図１に示した実施例で、予熱室第三ゾーン３を省
略したもの。 （２）図１に示した実施例で、予熱室第三ゾーン３を省
略し、予熱室第二ゾーン２における熱ガス循環手段２２
ａをリフロー室４側に置き、リフロー室４の熱ガス循環
手段３６ａは予熱室第二ゾーン２側に置くことによっ
て、両熱ガス循環手段２２ａ，３６ａが背中合わせの配
置になるようにしたもの。 （３）予熱室第一ゾーン１の熱ガス循環手段２１ａの替
わりに、赤外線ヒータを使用したもの。

【００３６】（４）コンベア４４の下側にも不活性ガス
の加熱や吹き付けを行う手段を設けたもの。 （５）各熱ガス循環手段における貫流送風機の替わり
に、シロッコファンを用いたもの。 （６）搬入側シ−ル室６および搬出側シ−ル室７に念の
ため、ガス流入、ガス流出阻止ようのラビリンスを設け
たもの。 （７）図６の実施例で、コンベアの上下いずれか一方か
ら斜め方向に冷えたガスの供給を行うもの。 （８）上記の例を任意に組み合わせたもの。

【００３７】

【発明の効果】以上詳細に説明したように、本発明によ
れば、冷却室における冷えた不活性ガス吹き付けに伴う
装置内での不活性ガスの流れの変動を抑え、リフロー室
における不活性ガスの濃度ならびに温度の変動を少なく
して、良好なはんだ付けを可能とするリフローはんだ付
け装置を提供することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の一実施例に係るリフローはんだ付け装
置の構成を示す縦断面図である。

【図２】図１のＡ−Ａ矢視断面図である。

【図３】図１のＢ−Ｂ矢視断面図である。

【図４】図１のリフロー部におけるコンベアを示す要部
拡大断面図である。

【図５】図１の冷却部におけるコンベアを示す要部拡大
断面図である。

【図６】本発明の他の実施例に係るリフローはんだ付け
装置の冷却部を示す断面図である。

【図７】本発明のさらに他の実施例に係るリフローはん
だ付け装置の冷却部を示す断面図である。

【図８】従来のリフロ−はんだ付け装置の略示構成図で
ある。

【符号の説明】

１…予熱室第一ゾーン、２…予熱室第二ゾーン、３…予
熱室第三ゾーン、４…リフロー室、５，５Ａ…冷却室、
６…搬入側シール室、７…搬出側シール室、４３…被処
理物、２１ａ，２２ａ，３６ａ…熱ガス循環手段、４
１，４２，６８，７３，７４…整流板、４４…コンベ
ア、５２…ガス供給ノズル、６５…ガス流路板、７０…
送風機、７１，７１Ａ…熱交換器、７５，７５Ａ，７
６，７７，７７Ａ，８０，８０Ａ，８０Ｂ…ガス流路、
８４…ファン、９０…エンドレスチェーン、９１、９１
Ａ…レール。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁶ 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 // Ｂ２３Ｋ 101:42 (72)発明者 和田 正文 茨城県竜ヶ崎市向陽台５丁目２番 日立テ クノエンジニアリング株式会社竜ヶ崎工場 内

Claims (3)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 はんだを塗布した回路基板に電子部品を
   装着してなる被処理物をコンベアにて予熱室およびリフ
   ロー室を通過するように搬送し、前記両室通過中に前記
   被処理物を所望の濃度および温度の不活性ガスの雰囲気
   下において前記はんだの予熱およびリフローを行い、前
   記リフロー室に続く冷却室で前記被処理物に冷えた不活
   性ガスを吹き付け前記はんだを固化させて前記電子部品
   を前記回路基板にはんだ付けするリフローはんだ付け装
   置において、 前記冷却室は、前記被処理物の主面にほぼ平行で、か
   つ、前記コンベアによる前記被処理物の搬送方向を横切
   るように、冷えた不活性ガスを吹き付ける手段を備えて
   いることを特徴とするリフローはんだ付け装置。
2. 【請求項２】 請求項１記載のリフローはんだ付け装置
   において、 前記冷却室の前記コンベアの一側方に冷えた不活性ガス
   を吹き出す開口を備え、前記冷却室の前記コンベアの他
   の一側方に不活性ガスを引き込む開口を備え、 不活性ガスが、前記被処理物の主面にほぼ平行に、か
   つ、前記被処理物の搬送方向を横切ることを特徴とする
   リフローはんだ付け装置。
3. 【請求項３】 請求項１記載のリフローはんだ付け装置
   において、 前記冷却室の前記コンベアの上下の少なくとも一方に、
   被処理物の搬送方向を横切る方向に冷えた不活性ガスを
   吹き出す開口を備え、 前記冷却室の前記コンベアの一側方に不活性ガスを引き
   込む開口を備え、 不活性ガスが、前記被処理物の主面にほぼ平行に、か
   つ、前記被処理物の搬送方向を横切ることを特徴とする
   リフローはんだ付け装置。