KR100887320B1

KR100887320B1 - 기판처리장치 및 기판처리방법

Info

Publication number: KR100887320B1
Application number: KR1020020001963A
Authority: KR
Inventors: 이이다나루아키
Original assignee: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
Priority date: 2001-01-15
Filing date: 2002-01-14
Publication date: 2009-03-06
Also published as: KR20020061515A; JP2002217264A; US6709545B2; JP3950299B2; US20020092615A1

Abstract

본 발명은 기판처리장치 및 기판처리방법에 관한 것으로서, 기판처리장치에 있어서 기판반송수단의 승강기구(73, 74) 작동시에 발생하는 파티클이 반송중에 기판에 미치는 영향을 경감시키기 위하여, 승강기구의 외장체를 이루는 케이싱(7)내에 슬리트형의 구멍부(75)를 가지는 칸막이벽(72)을 설치하고, 제 1 실(D1)과 제 2 실(D2)로 구분한다. 웨이퍼를 보유유지하는 반송부본체(6)는 봉형의 지지부재(41)로 고정되어 있고, 해당하는 지지부재는 단부를 가이드축(73)에 지지되어 있다. 제 1 실(D1)에는 가이드축(73)과 지지부재(41)를 승강시키는 구동기구(74)가 설치되어 있고, 지지부재(41)는 가이드축(73)을 따라서 상하로 승강한다. 제 2 실(D2)에는 팬(76)이 설치되어 있고, 바닥면에는 배기구(77)가 형성되어 있다. 팬(76)을 가동시키면 칸막이벽(72)의 구멍부(75)를 통하여 제 1 실(D1)내의 환경이 흡인되고, 상기 반송부본체(6)의 승강시에 발생하는 파티클이 제 2 실(D2)을 경유하여 배기구(77)에서 배출되는 기술을 제공한다.

Description

기판처리장치 및 기판처리방법{SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS AND SUBSTRATE PROCESSING METHOD}

도 1 은 본 발명에 따른 기판처리장치의 일실시형태를 나타내는 평면도이다.

도 2 는 기판처리장치의 일실시형태의 사시도이다.

도 3 은 주반송수단의 전체구조를 나타내는 사시도이다.

도 4 는 케이싱의 내부를 설명하기 위한 횡단면도이다.

도 5 는 반송부 본체를 설명하기 위한 종단면도이다.

도 6 은 반송부 본체의 구조를 설명하기 위한 사시도이다.

도 7 은 반송부 본체에 설치되는 배기구의 배기경로를 설명하기 위한 개략 종단면도이다.

도 8 은 반송부 본체에 설치되는 배기구의 배기경로를 설명하기 위한 개략 횡단면도이다.

도 9 는 본 발명의 일실시형태의 작용을 설명하기 위한 도이다.

도 10 은 본 발명의 다른 실시형태를 나타내는 개략도이다.

도 11 은 본 발명의 또 다른 실시형태를 나타내는 개략도이다.

도 12 는 본 발명의 또 다른 실시형태를 나타내는 개략도이다.

도 13 은 도 12에 나타난 실시형태의 작용을 설명하기 위한 도이다.

도 14 는 본 발명의 또 다른 실시형태를 나타내는 개략도이다.

도 15 는 본 발명의 또 다른 실시형태를 나타내는 개략도이다.

도 16 은 종래의 기판처리장치를 나타내는 평면도이다.

도 17 은 웨이퍼반송수단의 일례를 나타내는 평면도이다.

<주요부위를 나타내는 도면부호의 설명>

C : 카세트 W : 웨이퍼

S1 : 처리부 21 : 카세트 스테이션

4 : 주반송수단 41 : 지지부재

5 : 액처리유니트 53 : 반송구

6 : 반송부 본체 7 : 케이싱

71 : 개구부 72 : 칸막이 벽

73 : 가이드 축 74 : 구동기구

75 : 구멍부 76 : 팬

77 : 배기구 8 : 가스공급수단

81 : 가스토출구멍

본 발명은 예를들면 반도체웨이퍼와 액정디스플레이용 기판등의 기판표면상에 레지스트액의 도포, 노광 및 현상등의 처리를 실행하기 위한 기판처리장치 및 기판처리방법에 관한 것이다.

반도체웨이퍼와 액정디스플레이기판(LCD 기판)의 표면상에 회로패턴을 형성하는 공정은 여러가지 기술로 갈라진다. 기판처리장치에 있어서는 각 공정별 전용 처리유니트를 설치하고 있고, 이들 유니트를 복수그룹으로 맞추어 시스템을 구성하고 있다. 처리되는 기판은 반송수단에 의해 각 유니트간을 이동할 수 있도록 되어 있다. 기판처리장치에 의해 처리된 기판상에는 예를들면, 소정패턴의 레지스트막이 형성된다.

도 16에 나타난 종래의 기판처리장치의 개략구성 및 동작을 설명한다. 기판처리장치는 기판의 반입측에서 후면측을 향하는 순서로, 카세트스테이션(1A), 처리블록(1B), 인터페이스 유니트(1C) 및 노광장치(1D)를 구비한다.

웨이퍼(W)를 수납한 기판카세트(C)는 카세트스테이션(1A)으로부터 기판처리장치내에 반입된다. 카세트스테이션(1A)과 처리블록(1B)과의 사이에는 도시를 생략한 웨이퍼반송수단이 설치되어 있다. 웨이퍼(W)는 웨이퍼반송수단에 의해 카세트스테이션(1A)으로부터 처리블록(1B)으로 이동된다.

처리블록(1B)에 주목하면 주반송수단(10)을 중심으로 카세트스테이션(1A)측에서 보면 전면측, 좌측 및 후면측에 각각 선반유니트(12)가 배치되고, 우측으로 액처리유니트(13)가 배치되어 있다. 주반송수단(10)은 진퇴가능, 승강가능 및 수평방향으로 회전이 가능한 메인암(11)을 포함한다. 각 선반유니트(12)는 가열처리유니트, 냉각처리용 유니트등의 복수의 처리유니트를 다단으로 적층하고 있다. 액처리유니트(13)는 도포처리용 유니트, 현상처리유니트등으로 구성된다.

인터페이스 유니트(1C)는 주반송수단(10)과 노광장치(1D)와의 사이에서 웨이퍼(W)의 반송을 실행한다.

주반송수단(10)에 대해서, 상세하게 설명한다. 주반송수단(10)은 소정각도(θ)만 회전할 수 있는 회전대와, 이 회전대상에 설치되는 베이스승강기구를 구비한다. 베이스는 진퇴가 자유로운 암(11)을 포함한다. 웨이퍼(W)는 암(11)에 의해 보유유지된다. 따라서 각 유니트간에서 웨이퍼(W)의 반송을 실행할 때에는 진퇴기능 및 승강기능을 가지는 베이스가 일체적으로 회전대위에서 소정각도 회전한다.

도시하지는 않지만, 주반송수단(10)의 승강기구는 암(11)의 승강동작을 안내하는 가이드 축을 포함한다. 가이드축을 따라서 암(11)이 빈번하게 승강동작을 하므로 가이드축 표면은 암(11)에 의해 빈번하게 마찰된다. 주반송수단(10)안에 포함되는 부재안에서도, 가이드 축은 발진의 위험이 높은 부재이다. 그로 인하여 주반송수단(10)이 회전할 때, 가이드 축에 의해 발생한 먼지 또는 파티클이 주위로 비산해버리는 위험이 있다. 또한, 주반송수단(10)은 진퇴기구 및 승강기구를 갖추는 기체를 일체적으로 회전대위에서 회전시킨 것이므로 승강기구의 동력 및 제어를 위한 배선을 회전운동에 적응하도록 처리하지 않으면 안되고, 설치스페이스가 커져버리는 문제점이 지적된다.

상기 문제점을 해결하기 위하여 본 원발명자는 웨이퍼(W)를 주반송하기 위한 수단으로서 예를들면 도 17에 나타나는 바와 같은 구성을 검토하고 있다. 도 17에 있어서, 다단으로 적층하여 액처리유니트(15)의 개폐부(16)를 사이에 끼우도록 한쌍의 승강기구(14)가 설치되어 있다. 암(11)을 구비하는 반송본체(18)는 지지부재(17)에 의해 지지된다. 한쌍의 승강기구(14)는 지지부재(17)의 승강동작을 안내하는 가이드축을 포함하고 있고, 지지부재(17)를 매개하여 반송부 본체(18)를 승강시킨다.

반송부본체(18)는 암(11)을 소정각도(θ) 회전시키는 위한 회전기구와 암(11)을 전후로 이동 시키기 위한 진퇴기구를 포함하고 있다. 따라서, 암(11)에 지지되는 웨이퍼(W)는 반송부 본체(18)의 주위를 포위하는 다른 처리유니트(도시한 액처리 유니트(15) 이외의 처리유니트)에도 반송된다.

상기 구성에 의하면, 회전기구와 승강기구를 구분하여 설치하고 있으므로, 배선처리가 간단해진다.

그런데, 도 17에 나타난 반송수단 에서는 한쌍의 승강기구(14)가 액처리 유니트(15)의 개폐부(16) 근방에 설치되어 있기 때문에 웨이퍼(W)의 반송시에 개폐부(16)가 닫히면, 반송부 본체(18)의 승강동자 또는 진퇴동작등에 의해 발생되는 풍압이 예를들면 승강기구(14)에서 발생한 파티클을 띄우고, 이 올라간 파티클이 액처리유니트(15)내로 침입해버리는 위험이 있다.

본 발명의 목적은 기판의 반송수단에 설치되는 승강기구의 동작에 수반하여 발생한 파티클이 처리유니트내에 침입하는 것을 방지할 수 있는 기판처리장치 및 기판처리방법을 제공하는 것이다.

하나의 국면에 있어서, 본 발명에 따른 기판처리장치는, 반송구를 통하여 처리용기내에 운반된 기판에 대해서 처리를 실행하는 처리유니트와, 반송구에 대향하도록 설치되고, 반송구를 통하여 처리유니트와의 사이에서 기판의 인수 및 인도를 실행하기 위한 진퇴가 자유로운 암을 가지는 반송기체(搬送基體)와, 상하 방향으로 긴 개구부를 가지는 케이싱과, 개구부를 통하여 케이싱의 내외에 걸쳐서 연장되고, 케이싱 밖에서 반송기체를 지지하는 지지부재와, 케이싱내에 설치되고, 지지부재를 상하방향으로 승강시키는 승강기구와, 케이싱내의 가스를 배기하기 위한 배기수단을 구비한다.

상기 구성에 의하면, 기판의 반송에 구애되는 부위 가운데, 발진의 위험이 큰 승강기구를 케이싱으로 둘러싸고, 케이싱내에 배기수단을 설치하므로 반송기체의승강시에 승강기구에서 발생한 파티클이 액처리유니트의 반송구측에 이동하는 것을 억제할 수 있다.

바람직한 실시형태로는, 케이싱은 통기구멍을 가지는 칸막이벽에 의해 구획된 제 1 실과, 제 2 실을 가진다. 제 1 실은 지지부재가 통과하는 개구부를 가진다. 승강기구는, 제 1 실에 배치되고, 배기수단은, 제 2 실에 배치된다. 이와 같이 하면, 제 1 실에서 발생한 파티클을 통기구멍을 통하여 제 2 실에 흡인하고, 또한, 이 파티클을 외부로 방출하는 것이 가능하다.

상기의 경우, 칸막이벽은 예를들면 수직방향으로 신장하는 수직벽이고, 통기구멍은 지지부재의 상하이동의 길이에 대응하는 길이의 종길이의 슬리트이다. 이와 같이 하면 승강기구에 포함되는 예를들면 가이드축과 같은 발진하기 쉬운 부위의 전체에서부터 남김없이 파티클을 배출하는 것이 가능하다. 특히, 처리유니트이 복수단으로 중복하여 설치되고, 반송기체의 승강빈도가 높아지는 경우에 유효하다. 또한, 케이싱은 처리유니트의 반송구를 끼워서 한쌍으로 설치하여도 용이하다.

하나의 실시형태에서는, 배기수단은 케이싱내에 배치된 배기팬을 포함한다. 이 경우, 복수의 배기팬을 케이싱내에서 상하로 배열하도록 배치하여도 무방하다.

케이싱내를 상기 기술한 바와 같이 제 1 실과 제 2 실로 구획하는 경우에는 바람직하게는, 복수의 배기팬을 제 2 실내에서 상하로 배열하도록 배치한다. 배기팬은 예를들면, 수평면내를 회전하는 방향으로 배치된다. 이 경우, 복수의 배기팬내, 상측으로 배치된 배기팬은 가스를 위쪽으로 유도하고, 하측에 배치된 배기팬은 가스를 하측으로 유도하도록 하여도 용이하다. 이와같이 실행하면, 배기길이가 단축되고, 저능력의 팬을 사용하는 것이 가능해진다.

바람직하게는, 반송기체는 암을 수평면내에서 소정의 각도로 회전시키기 위한 회전기구를 포함한다. 상기 기술한 바와 같이, 바람직한 실시형태로는 승강기구 및 배기수단을 내부에 갖추는 케이싱은, 반송구를 사이에 끼워서 한쌍 설치된다. 이와 같은 구성이면, 승강기구와 회전기구를 구분하고, 승강기구를 회전하지 않도록 하고 있으므로, 승강기구의 동력 및 제어를 위한 배선처리가 용이해진다.

전형적으로는, 처리유니트는 복수단으로 중복하여 배치된 복수의 유니트를 포함한다. 또한, 처리유니트는 예를들면, 반송구를 개폐하는 셔터를 포함한다.

다른 실시형태로는, 케이싱은 반송구에 임하는 벽과, 반송구에 임하지 않은 벽을 포함하고, 개구부는, 반송구에 임하지 않는 벽으로 형성하고 있다. 이와 같이 하면, 케이싱내에서 파티클이 발생한다고 하여도, 개구부가 반송구로부터 원거리에 위치하고 있으므로, 파티클이 반송구에 침입하기 어려워진다.

또한, 다른 실시형태에서는, 지지부재는 반송기체내에서 발생한 파티클을 케이싱까지 인도하기 위한 통기로를 가진다. 예를들면, 암의 회전기구에서 발생한 파티클은 지지부재의 통기로를 경유하여 케이싱내에 흡인되고, 외부에 방출된다. 지지부재는, 예를들면, 중공형태이다.

다른 국면에 있어서, 이 발명을 따라서 기판처리장치는 기판반송구를 통하여 처리용기내에 운반된 기판에 대해서 처리를 실행하는 처리유니트와, 반송구에 대향하도록 설치되고, 반송구를 통하여 처리유니트와의 사이에서 기판의 반송을 실행하기위한 진퇴가 자유로운 암을 가지는 반송기체와, 상하방향으로 긴 개구부를 가지는 케이싱과, 개구부를 통하여 케이싱내외에 걸쳐서 신장되고, 케이싱 밖에서 반송기체를 지지하는 지지부재와, 케이싱내에 설치되고, 지지부재를 상하방향으로 승강시키는 승강기구와, 반송구를 통하여 파티클이 처리유니트내에 침입하는 것을 방지하기 위하여 반송구에 임하는 위치에 가스의 흐름을 작동하는 가스공급수단을 구비한다.

상기 구성에 의하면, 처리유니트의 반송구를 향하여 예를들면 퍼지가스를 공급하고, 가스의 카텐을 형성할 수 있다. 가스의 카텐은 기판반송구의 외부환경에 대해서 배리어의 역활을 하므로, 기판이 처리유니트내에 반입될 때에 오염되는 것을 방지할 수 있다. 또한, 파티클이 반송구를 통하여 처리유니트내에 침입하는 것 도 방지된다.

처리유니트는, 예를들면, 반송구를 개폐하는 셔터를 포함하고, 가스공급수단은 셔터가 열려 암과 처리유니트와의 사이에서 기판의 반송이 실행되고 있을 때 가스의 공급을 실행한다. 또한, 가스 공급수단은 예를들면, 반송구를 사이에 끼우는 좌우의 위치에 가스 흡출하는 입구를 포함하고, 좌우 가스를 흡출구로부터, 상호 대향하는 방향으로 가스가 흡출된다.

하나의 실시형태에서는, 처리유니트는 복수단으로 중복하여 설치된 복수의 유니트를 포함하고, 가스공급수단은, 최하단의 유니트에 대응하는 위치에서 최상단의 유니트에 대응하는 위치까지 연장하는 가스공급관을 포함한다. 가스공급관은, 각 유니트의 반송구에 대향하는 위치에 가스토출구멍을 가진다.

처리유니트는 예를들면, 복수단으로 중복하여 설치된 복수의 유니트를 포함하고, 가스공급수단은, 각 유니트별로 독립하여 설치돈다. 이 경우, 바람직하게는 각 유니트는 반송구를 개폐하는 셔터를 구비하고, 각 가스공급수단은 대응하는 유니트의 셔터가 열려있을 때만 가스를 공급한다.

케이싱은, 예를들면 반송구에 임하는 벽과, 반송구에 임하지 않는 벽을 포함하고,개구부는 반송구에 임하지 않는 벽으로 형성되어 있다.

이 발명에 따른 기판처리방법은, 기판반송구를 통하여 처리용기내에 운반된 기판에 대해서 처리를 실행하는 처리유니트와, 반송구에 대향하도록 설치되고, 반송구를 통하여 처리유니트와의 사이에서 기판의 반송을 실행하기 위한 진퇴가 자유로운 암을 가지는 반송기체와, 상하방향으로 긴 개구부를 가지는 케이싱과, 개구부를 통하여 케이싱의 내외에 걸쳐서 신장하고, 케이싱 밖에서 반송기체를 지지하는 지지부재와, 케이싱내에 설치되고, 지지부재를 상하방향으로 승강시키는 승강기구를 구비한 기판처리장치를 이용한다. 한 국면으로는, 기판처리방법은 반송구를 통과하는 암에 의해 반송기체와 처리유니트와의 사이에서 기판의 반송을 실행하는 공정과, 케이싱의 개구부 근방의 가스를 케이싱내에 흡인하는 공정과, 케이싱내의 가스를 배기하는 공정을 구비한다.

다른 국면으로는 기판처리방법은 반송구를 통과하는 암에 의해 반송기체와 처리유니트와의 사이에서 기판의 반송을 실행하는 공정과, 반송구에 임하는 위치에 가스를 공급하여, 반송구를 통하여 파티클이 처리유니트내에 침입하는 것을 방지하는 가스의 흐름을 실행하는 공정을 구비한다.

상기 기술과 다른 목적, 특징, 관점은 첨부된 도면과 다음에 기술된 상세한 설명에서 명확해질 것이다.

도 1 및 도 2를 참조하여 피처리기판인 웨이퍼(W)에 대해서 소정의 레지스트 패턴을 형성하는 패턴 형성장치를 예로 설명한다.

도안에서 21은 예를들면 13매의 웨이퍼(W)를 밀폐수납된 카세트(C)를 반입출 하기 위한 카세트스테이션이고, 이 카세트 스테이션(21)에는 상기 카세트(C)를 재치하는 재치부(22)와, 이 재치부(22)에 볼때 전방의 벽면에 설치되는 개폐부(23)와, 개폐부(23)를 매개하여 카세트(C)로 부터 웨이퍼(W)를 취출하기위한 반송수단(24)이 설치된다. 카세트스테이션(21)의 안측에는 케이싱(30)에서 주위를 포위하는 처리부(S1)가 접속되어 있고, 이 처리부(S1)에는 앞측에서 부터 가열 ·냉각계의 유니트를 다단화 한 선반유니트(31, 32, 33)와, 선반유니트(31, 32, 33) 및 주반송수단(4(4A, 4B))은 카세트스테이션(21)측에서 볼때 전후 일렬로 배열되어 있고, 각각의 접속부위(G)에는 미도시의 웨이퍼반송용의 개구부가 형성되어 있기 때문 에, 이 처리부(S1)내에 있어서 웨이퍼(W)는 일단측의 선반유니트(31)로부터 타단측의 선반유니트(33) 까지 자유롭게 이동하는 것이 가능하게 되어 있다. 또한, 주반송수단(4(4A, 4B))은 카세트스테이션(21)에서 볼때 전후방향에 배치되는 선반유니트(31, 32, 33)측의 일면부와, 후 기술하는 예를들면 우측의 액처리유니트(5(5A, 5B))측의 일면부와, 좌측의 일면부를 이루는 배면부로 구성되는 구획벽(40)에 의해 포위되는 공간내에 재치되고 있다.

주반송수단(4(4A, 4B))의 선반유니트(31, 32, 33)가 접속되어 있지 않는 부위 예를들면, 상기 기술의 우측면부에는, 각각 도포유니트와 현상유니트등을 다단화 한 액처리유니트(5(5A, 5B))가 설치되어 있다. 34, 35는 예를들면, 온도 또는 습도의 조절장치, 펌프, 닥트등을 구비한 온습도 조정 유니트이다.

액처리유니트(5(5A, 5B))는 예를들면 도 2에 나타나는 바와 같이 도포액과 현상액인 약액공급용의 스페이스를 이루는 수납부(51)상에 도포장치 또는 현상장치가 수납되는 처리용기(52)가 복수단 예를들면 5단으로 적층된 구성으로 되어 있고, 이 처리용기(52)의 주반송수단(4(4A, 4B))측의 측면에는, 웨이퍼(W)의 반입출시에 후 기술하는 웨이퍼 반송암이 침입 할 수 있도록 반송구(53)가 형성되어 있고, 이 반송구(53)에는 미도시의 개폐가 자유로운 셔터가 설치되어 있다. 또한, 선반유니트(31, 32, 33)에 대해서는 가열유니트와 냉각유니트외에 웨이퍼의 반송 유니트와 소수화처리 유니트등을 예를들면 상하 10단으로 할당하고 있다.

이 처리부(S1(케이싱(30))의 상부에는 미도시의 팬필터 유니트(FFU)가, 또한 바닥부에는 미도시의 배기수단이 설치되어 있고, 청정한 공기가 다운플로로서 흐를도록 이루고 있다. 또한, 처리부(S1)에 있어서의 선반유니트(33)의 안측에는 인터페이부(S2)를 매개하여 노광장치(S3)가 접속되어 있다. 인터페이스부(S2)는 반송수단(36)과 버퍼카세트(C0)를 구비하고 있고, 상기 처리부(S1)와 노광장치(S3)과 버퍼카세트(C0)와의 사이에서 웨이퍼(W)의 반송을 실행하는 것이다.

상기에서 본 실시형태에 있어서의 주요부인 주반송수단(4(4A, 4B))의 구성에 대해서 주반송수단(4A)을 예를들어 설명한다. 상세설명에 앞서, 도 1, 2를 참조하면서 전체개략을 설명하면, 이 주반송수단(4A)은 웨이퍼(W)의 보유유지 및 반송을 실행하는 반송부본체(6)와 이 반송부본체(6)의 선단을 지지하여 일체적으로 승강하도록 구성된 수평의 지지부재(41)를 구비하고 있다. 지지부재(41)의 양측에는 종길이의 케이싱(7(7A, 7B))이 설치되어 있고, 이 안에 설치된 후 기술하는 구동부에 의해 지지부재(41)가 승강되도록 구성되어 있다.

다음으로, 도 3, 도 4 및 도 5를 참조하면서 케이싱(7) 및 반송부 본체(6)의 설명을 실행한다. 도 3은 주반송수단(4)을 설명하기 위한 개략 사시도이고, 케이싱(7(7A, 7B))은 동일형태로 또한, 반송부 본체(6)에서 볼때 좌우대칭으로 배치되기 때문에 여기에서는, 케이싱(7A)만을 도시하고 있다. 우선 케이싱(7A)부터 설명하면, 이 케이싱(7A)은 미도시의 케이싱(7B)과 대향하는 측면에 지지부재(41)의 이동영역 즉 웨이퍼(W)의 상하방향의 반송영역에 대향하도록 종방향으로 슬리트형의 개구부(71)가 형성되어 있고, 그 내부는 상기 개구부(71)가 형성되는 측면을 전방으로 하면, 칸막이벽(72)에 의해 예를들면 개구부를 가지는 전방측의 제 1 실(D1)과, 후측의 제 2 실(D2)로 구획되고 있다.

제 1 실(D1)에는 수직으로 이어지는 안내수단인 가이드축(73)이 설치되어 있고, 지지부재(41)의 단부에 형성되는 횡단면의 오목형의 연결접합부(42)에 끼워져, 해당 지지부재(41)를 승강이 자유롭게 가이드하도록 이루고 있다. 또한, 제 1 실(D1)에는 천정 및 바닥면의 근방에 각각 설치되는 도르래(74a, 74b)와, 여기에 감겨진 벨트(74c)로 이루어지는 구동기구(74)가 설치되어 있고, 벨트(74c)는 지지부재(41)를 관통하여 일체적으로 고정되어 있다. 따라서 벨트(74c)가 도시하지 안은 모터의 구동력에 의해 회전구동하면, 그 구동에 수반하여 지지부재(41)가 가이드축(73)을 따라서 승강하는 조립으로 되어 있다. 또한, 케이싱(7A, 7B)의 각각의 구동기구(74)는 동기하여 회전하도록 구성되어 있고, 특허청구범위에 있어서의 [승강기구]는 이예에서는 케이싱(7A, 7B)에 있어서의 각각의 구동기구(74) 및 가이드축(73)을 포함한 것이다.

도 4는 케이싱(7A)내를 나타내는 횡단면도이고, 도시하는 바와 같이 제 1 실(D1)과 제 2 실(D2)를 구획하는 칸막이벽(72)에는 예를들면 상기 개구부(71)에 보다도 협소한 슬리트형의 통기구멍을 가지는 구멍부(75)가 예를들면, 지지부재(41)가 가이드축(73)을 따라서 이동하는 상하방향의 이동영역에 대응하는 길이에 걸쳐서 형성되어 있다.

제 2 실(D2)에는 각각 수평으로 회전하는 팬(76)이 예를들면 등간격으로 다단으로 배치되어 있다. 상세한 기술은 후기술하지만, 이 팬(76)은 상기 구멍부(76)를 통하여 제 1 실(D1)측의 환경을 케이싱(7(7A))외부로 배기하기 위한 배기수단이고, 제 2 실(D2)의 바닥면에는 이 배기를 실행하기 위한 배기구(77)가 형성되어 있다.

다음으로 도 3, 도 5, 도 6, 도 7 및 도 8을 참조하여 반송부본체(6)의 설명을 실행한다. 반송부본체(6)는 도 3에 나타나는 바와 같이, 상기 지지부재(41)에 선단이 고정된 승강대(61)상에 회전기구(62)를 매개하여 수직축주위에 θ회전할 수 있도록 설치되어 있고, 지지부재(41)와 함게 일체적으로 승강하도록 이루고 있다. 이 반송부본체(6)의 바닥면을 이루는 판형의 반송기체(63)의 표면에는 도 6에 나타나는 바와 같이 후 기술하는 암이 전진하는 방향에서 볼때 후방측으로 예를들면 다수의 구멍부로 이루어지는 배기구(152)가 형성되어 있다. 또한, 반송기체(63)의 양측면에는 X방향으로 이어지는 가이드축(153)이 예를들면 평행해지도록 형성되어 있다.

64는 암지지부이고, 기판반송수단인 세개의 기초 암(65(65a, 65b, 65c))을 반송수기체(63)의 상측에서 지지하고, 이들 암(65(65a, 65b, 65c)) 안에서 선택된 것을 가이드 홈(153)을 따라서 진퇴시키도록 구성되어 있다. 또한, 도 6에 나타나는 암(65(65a, 65b, 65c))의 위치는 후퇴위치이고, 상기 기술한 배기구(152)의 위치는 이 후퇴위치에 있어서의 암(65(65a, 65b, 65c))의 말굽형 부분으로 포위된 웨 이퍼 보유유지영역(156)보다 후방측으로 형성되어 있다.

또한, 웨이이퍼(W)의 반송할 때에는 도 6안에 있어서 반송기체(63)의 후단에 위치하는 암 지지부재(64)가 상기 반송기체(63)의 선단근방까지 전진하고, 예를들면 하나의 암(65(65a, 65b, 65c)) 전방의 웨이퍼 보유유지영역(156)이 예를들면 액처리유니트(5)등의 웨이퍼(W) 반송하고 먼저 진입하도록 이루고 있다.

반송기체(63)의 상측에는 암(65(65a, 65b, 65c))의 후퇴시에 있어서 웨이퍼 보유유지영역(156)을 외부에서 구획하여 소정의 온도, 습도환경으로 하기 위하여 암지지부(64) 및 암(65(65a, 65b, 65c))을 덮는 커버체(66)가 설치되어 있다. 반송기체(63) 및 커버체(66)는 케이스체(160)를 구성하는 것이고 이 케이스체(160)는 암(65(65a, 65b, 65c))이 진퇴할 수 있도록, 전면측을 개구하여 암(65(65a, 65b, 65c))의 주위를 포위하고, 그 내벽면에는 예를들면, 후퇴위치에 있어서 암(65(65a, 65b, 65c))의 웨이퍼보유유지영역(156)을 좌우 양측에서 끼우도록 예를들면 판넬형의 기체공급부(161(161a, 161b))가 설치되어 있다. 이 기체공급부(161(161a. 161b))에는 각 암(65(65a, 65b, 65c))의 웨이퍼보유유지영역(156)에 대해서 기체의 공급을 실행할 수 있도록 웨이퍼보유유지영역(156)의 전후에 걸쳐서 또는, 암의 각단의 높이위치에 따라서 다수의 가스공급구멍(162)이 형성되어 있다.

또한, 기체공급부(161(161a, 161b))의 후단에는 예를들면 처리부(S1(케이싱(30))의 상부에 설치되는 조정부(163)로부터 팬(164) 및 파티클제거용의 청정화필터(165)를 매개하여 배관되는 예를들면 플렉시블 튜부로 이루어지는 기체공급관(166)이 접속되어 있다. 조정부(163)는 예를들면 공장내의 공기(외부공기)를 취입하고, 이것을 온도조정하여 케이스체(160)내에 공급하기 위한 것이고, 예를들면 취입한 공기를 일단 0℃ 이하로 냉각하여 제습하고, 가습기에서 소정의 습도록 가습하여 가열기에서 소정의 온도까지 가열하도록 구성되어 있다. 이와같이 하여 조정된 공기는 팬(164)에서 보내지고, 청정화필터(165)에서 청정화 된 케이스체(160)내로 공급되도록 이루고 있다.

상기 기술한 배기구(152)는 케이스체(160)의 내부환경을 흡인하여 전방측에서 후방측으로 흐르는 기류를 형성하기 위한 것이고, 이하 도 7 및 도 8을 참조하면서 배기구(152)와 접속하는 배기측에 대해서 설명을 한다. 도시하는 바와 같이 배기구(152)의 하류측에는 반송기체(63), 회전기구(62) 및 승강대(61)상의 내부를 연결하는 유통로(171)가 형성되어 있고, 이 유통로(171)는 지지부(41)내에 형성되는 중공부(172)에게 접속되어 있다. 도 3에서 설명을 생략하였지만, 중공부(172)는 지지부(41)내부를 길이방향으로 관통하도록 형성되어 있고, 그 양단부를 이루는 구멍부(173)는 연결접합부(42)에 있어서 칸막이 벽(72)과 대향하는 수직면으로 형성되어 있다. 이와 같이 배기구(152)는 유통로(171) 및 중공부(172)를 매개하여 제 1 실(D1)과 연결되어 있기 때문에, 제 1 실(D1)에서 배기를 실행하면 배기구(152)에 있어서의 흡인도 동시에 실행되는 조립으로 되어 있다. 또한, 도 8에 나타나는 바와 같이 칸막이벽(72)에는 기술하는 예를들면 지지부재(41)의 승강영역과 대응하도록 상하로 움직이는 슬리트형의 제 2 개구부(75)가 형성되어 있기 때문에, 제 2 실(D2)에 있어서 배기를 실행하면, 이 제 2 개구부(75)를 통하여 제 1 실(D1)측의 환경이 흡인되도록 이루고 있다. 또한, 유통로(171) 및 중공부(172)는 배기로에 상당하는 것이다.

다음으로 본 실시형태에 있어서의 작용을 설명한다. 우선, 카세트(C)가 세트스테이션(21)에 반입되면, 개폐부(23)와 함께 카세트(C)의 덮개가 열리고 반송수단(24)에 의해 웨이퍼(W)가 취출된다. 그리고 웨이퍼(W)는 반송수단(24)에서 선반유니트(31)안의 반송유니트(재치대가 재치하고 있는 유니트)를 통하여 주반송수단(4A)으로 반송되고, 예를들면 액처리유니트(5A)내의 도포장치에서 레지스트액의 도포가 실행된 후, 주반송수단(4A)으로부터 선반유니트(32)의 반송유니트, 주반송수단(4B), 선반유니트(33)의 반송유니트 및 인터페이스부(S2)의 반송수단(36)을 경유하여 노광장치(S3)로 반송되고, 노광이 실행된다. 또한, 웨이퍼(W)에 레지스트를 도포하기 전 에는 선반유니트(31, 32, 33)에 포함되는 처리유니트에서 예를들면, 소수화처리, 냉각처리가 실행되고, 레지스트를 도포한 후는 가열처리 및 냉각처리가 실행된다. 노광 후, 웨이퍼(W)는 역의 경로로 주반송수단(4A)까지 반송되고, 예를들면 액처리유니트(5A)내의 현상유니트에서 현상되고, 이와 같이 소정의 레지스트패턴이 형성된다. 또한, 현상전후에는 선반유니트(31, 32, 33)에서 가열 및 냉각처리등의 전 처리 및 후 처리가 실행된다.

여기에서, 주반송수단(4A)을 예를 들어, 웨이퍼(W)의 반송시에 있어서의 작용에 대해서 케이싱(7(7A, 7B)에 주목하여 설명하면, 케이싱(7(7A, 7B))내의 가이드 축(73) 및 구동기구(74)의 구동에 의해 지지부재(41)가 승강할 때, 제 2 실(D2)에서는 항상 팬(76)이 운전하고 있고, 배기구(77)를 향하여 하강류가 형성된다. 따라서, 도 9에 나타나는 바와 같이, 제 1 실(D1)내의 환경은 구멍부(75)를 매개하여 제 2 실(D2)측에 흡인되고, 제 2 실(D2)내의 상기 하강류와 함께 배기구(77)로 흐르고, 이 배기구(77)에서 웨이퍼(W)가 재치되는 환경외측인 기판처리장치 본체의 외측 즉, 케이싱(30)의 하측으로 배기되게 된다.

또한, 팬(76)을 회전시키는 있는 동안은 제 1 실(D1)내에도 개구부(71)에서 구멍부(75)에 이르는 기류가 형성되는 경우가 되고, 예를들면 제 1 실(D1)내에 존재하는 파티클은 개구부(71)에서 외측으로 대부분이 돌출하는 경우가 없다. 이와 같은 상황아래에서 승강하는 반송부 본체(6)가 목적으로 하는 유니트의 높이에 도달하면, 예를들면 미도시의 제어부에 의해 선택된 하나의 암(65)에 의해 웨이퍼(W)의 반송이 실행된다. 구체적으로는 예를들면 액처리유니트(5A)를 예로 들면, 반송구(53)의 미도시의 셔터가 열리고, 암지지부(64)의 진퇴에 수반하여 암(66)이 예를들면 도포유니트가 설치된 처리용기(52)내로 침입한다.

상기 기술한 실시형태에 의하면 반송부 본체(6)의 승강기구를 포위하는 케이싱(7(7A, 7B))의 내부를 슬리트형의 구멍부(75)를 형성한 칸막이벽(72)에서 구분하고, 가이드 축(73)을 포함하는 제 1 실(D1)측의 환경을 상기 구멍부(75)를 통하여 제 2 실(D2)측에서 흡인하고 있기 때문에, 지지부재(41)의 승강시에 해당 지지부재(41)의 연결접합부(42)와 가이드축(73)이 마찰될 경우, 혹은 구동기구(75)의 구동시에 발생하는 파티클은 개구부(71)에서 전방측으로는 대부분 방출되지 않고, 암(65)은 청정한 환경하에서 웨이퍼(W)의 반송을 실행할 수 있다.

또한, 본 실시형태에 있어서, 칸막이벽(72)에 형성한 구멍부(75)는 슬리트형 의 것에 한정되는 것은 아니고, 예를들면 복수 설치되는 각각의 팬(76)에 대응 하는 높이의 위치에 복수의 구멍을 설치하도록 하여도 용이하고, 전면에 다수의 미소한 구멍부를 형성하도록 하여도 용이하다. 또한, 각 단계의 팬(76)에 대해서는 하위 위치일 수록 팬의 회전수가 빨라지도록 설정하는 것으로, 배기류의 흐름이 원활하게 할 수 있다. 또한, 도시한 실시형태에서는, 전체 팬(76)이 가스를 아래측을 향하게 유도하는 것이었지만, 변형예로서, 복수의 팬의 내, 상측에 배치된 배기팬은 가스를 상측으로 유도하고, 아래측에 배치된 팬은 가스를 아래측에 유도하도록 하여도 용이하다. 이와 같이 실시하면, 배기길이가 단축되고, 저능력의 팬을 상용하는 것이 가능해진다.

또한, 본 발명에서는, 이하에 나타내는 제 2 실시형태에 의해서도 반송시에 있어서의 웨이퍼(W)로의 파티클의 영향을 억제할 수 있다. 본 실시형태는 예를들면 상기 기술의 실시형태와 동일한 주 반송수단(4A)을 이용할 때, 예를들면 도 10에 나타나는 바와 같이 반송구(53)를 끼우도록 하여 가스공급수단(8(8A, 8B))를 설치한 것이다. 이들 가스공급수단(8(8A, 8B))에는 예를들면, 수직의 가스공급관(80)을 따라서 다수의 가스토출구멍(81)이 형성되는 것이 이용되고, 각각의 가스 토출구멍(81)이 대향하도록 배치된다. 이 가스공급수단(8(8A, 8B))은 암(65)이 침입하기위하여 반송구(53)에 설치되는 미도시의 셔터가 열리면 가스토출구멍(81)으로부터 퍼지가스 예를들면 질소등의 불활성가스를 공급한다. 상기 가스 토출구멍(81)은, 예를들면 도 11에 나타나는 바와 같이 적어도 액처리유니트(5A)를 구성하는 각 처리용기(52)의 반송구(53)의 높이에 대응한 위치에 복수 개소에 형성 된다. 가스공급관(80)의 기초단측에는 가스공급원(82)이 접속되어 있고, 해당 가스공급관(80)에 개설된 밸브(83)의 개폐를 제어부(84)에서 제어하는 것으로 상기 기술한 가스공급의 ON, OFF가 제어된다. 또한, 퍼지가스의 공급은 상기 셔터의 개폐에 구애되지 않고 상시 실행하도록 하여도 용이하다.

또한, 이와 같은 구성에 의하면 반송구(53(셔터))의 개방시에 해당 개구부위 근방에 공급되는 퍼지가스가 이른바, 기류카텐을 형성하여 해당 퍼지가스 공급영역의 외부환경에 대한 배리어의 역활을 가지고 있기 때문에, 웨이퍼(W)는 액처리유니트(5A)에 침입시에 오염되는 위험이 적은 이점이 있다.

이 제 2 실시형태는 예를들면, 도 12에 나타나는 바와 같이 지지부재(41)를 중공부재로서 구성하는 것으로, 웨이퍼(W)를 오염에서 방지하는 효과를 높일 수 있다. 이 예에 있어서, 지지부재(41)의 내부에는 도시하는 바와 같이 길이방향으로 관통하는 유통로(400)가 형성되고, 이 유통로(400)는 처리용기(52)의 반송구(53)와 대향하여 상기 지지부재(41)의 중앙부 측면에 형성되는 흡인구(41a)와 연통한다. 또한, 유통로(400)의 도중에는 흡인구(41a)를 끼우는 위치에 상호 상반하는 방향 즉 유통로(400)의 양단을 이루는 개구부(41b)를 향하여 송풍을 실행하는 두개의 팬(41c)이 개설되어 있다.

이와 같은 장치에 있어서, 가스공급수단(8(8A, 8B))에서 퍼지가스의 공급을 실행함과 함께 팬(41c)을 구동시키면, 도 13에 나타나는 바와 같이 흡인구(41a) 전방의 환경은 유통로(400)를 통하여 케이싱(7(7A, 7B))내로 흡인 되고, 퍼지가스는 흡인구(41a)에 향하는 기류를 형성한다. 퍼지가스는 웨이퍼(W)의 반송영역의 외부에 대해서 배리어의 역활을 가지는 동시에, 미소한 파티클을 해당 반송영역에서 제거하는 역활을 가지고 있기 때문에, 웨이퍼(W)를 한층 깨끗한 상태로 액처리 유니트에 진입시키는 것이 가능하도록 한다.

그런데, 기술한 바와 같이 처리부(S1)내는 소정의 양의 압력으로 유지되어 있기 때문에, 퍼지가스의 토출량이 많으면 웨이퍼 반송공간의 압력에 영향을 부여해버리는 위험이 있다. 그러나 예를들면 도 14에 나타나는 바와 같이, 액처리유니트(5A)의 각 단별로 별개로 가스공급수단(91(91A, 91B)), (92(92A, 92B)),(93(93A, 93B))을 설치하는 것과 함께 상기 기술의 제어부(84)에서 각 밸브(83)의 개폐를 제어하도록 구성하고, 예를들면 반송구(53)를 덮는 미도시의 셔터가 열릴 때, 해당반송구(53)에 대응하는 가스공급수단만으로 가스의 공급을 실행하도록 하는 것으로, 처리부(S1)의 압력의 영향을 작게 할 수 있다.

또한, 최초의 실시형태에 있어서는, 배기구(77)를 개구부(71)에서 이탈한 위치에 설치하는 것으로, 암(66)의 이동영역이 오염되는 것을 회피하도록 하였지만, 예를들면 도 15에 나타나는 바와 같이 개구부(71)의 위치를 반송구(53)에서 이탈된 측면에 형성하고,지지부재(41)를 L자형으로 굴곡시키는 구성으로 하는 것도 가능하다. 이와 같은, 실시형태는 단독으로 실시하여도 용이하지만, 최초의 실시형태 또는 제 2 실시형태를 조합시키는 것으로 효과를 극대화 할 수 있다.

본 실시형태에서는, 반도체웨이퍼의 표면에 레지스트패턴을 형성하는 도포, 현상장치를 예를들어 설명하였지만, 본 발명은 여기에 한정되지 않고, 예를들면 기 판표면에 유기계 실리카겔을 도포하며, 이것을 가열하여 유리막을 형성하는 장치에적용하여 액처리유니트인 실리카겔 도포유니트에 기판을 반송하는 부위에 상기 기술의 실시형태를 조립하도록 하여도 용이하고, 기판으로서는 웨이퍼에 한정되지 않고 LCD기판에서도 용이하다.

본 발명은, 상기 발명은 상기 기술 및 실시예에 의해서 나타내고 있으며 상세하게 서술되거나 묘사되고 있으며, 본 발명의 범위 및 취지는 종속된 청구항에 의해서만 한정되어 있음을 명확하게 알 수 있다.

Claims

기판반송구를 통하여 처리용기내에 운반된 기판에 대해서 처리를 실행하는 처리유니트와,

상기 기판반송구에 대향하도록 설치되고, 상기 기판반송구를 통하여 상기 처리유니트와의 사이에서 기판의 인수 및 인도를 실행하기 위한 진퇴가 자유로운 암을 가지는 반송기체와,

상하방향으로 긴 개구부를 가지는 케이싱과,

상기 개구부를 통하여, 상기 케이싱 내외에 걸쳐서 신장되고, 상기 케이싱 외측에서 상기 반송기체를 지지하는 지지부재와,

상기 케이싱내에 설치되고, 상기 지지부재를 상하 방향으로 승강시키는 승강기구와,

상기 케이싱내의 가스를 배기하기 위한 배기수단을 구비하고,

상기 케이싱은 통기구멍을 가지는 칸막이벽에 의해 구획된 제 1 실과 제 2 실을 갖추고, 상기 제 1 실은 상기 개구부를 갖추고, 상기 승강기구는 상기 제 1 실에 배치되고, 상기 배기수단은 상기 제 2 실에 배치되고,

상기 배기수단은 상기 제 2 실에 상하로 복수단 설치된 복수의 배기팬과 수평면내를 회전하는 배기팬을 포함하고,

상기 복수의 배기팬 중에서 상측에 배치된 배기팬은 가스를 상측으로 유도하고 아래측에 배치된 배기팬은 가스를 하측으로 유도하는 것을 특징으로 하는 기판처리장치.
삭제
청구항 1 에 있어서,

상기 칸막이벽은 수직방향으로 신장되는 수직벽이고,

상기 통기구멍은, 상기 지지부재의 상하이동의 길이에 대응하는 길이의 종형 길이의 슬리트인 것을 특징으로 하는 기판처리장치.
청구항 1 에 있어서,

상기 배기수단은, 상기 케이싱내에 배치된 배기팬을 포함하는 것을 특징으로 하는 기판처리장치.
청구항 1 에 있어서,

상기 배기수단은 상기 케이싱내에서 상하로 복수단 설치된 복수의 배기팬을 포함하는 것을 특징으로 하는 기판처리장치.
삭제
삭제
삭제
청구항 1 에 있어서,

상기 반송기체는 상기 암을 수평면내에서 소정의 각도로 회전시키기 위한 회전기구를 포함하는 것을 특징으로 하는 기판처리장치.
청구항 1 에 있어서,

상기 승강기구 및 상기 배기수단을 내부에 가지는 상기 케이싱은,

상기 기판반송구를 사이에 끼워서 한 쌍으로 설치되어 있는 것을 특징으로 하는 기판처리장치.
청구항 1 에 있어서,

상기 처리유니트는 복수단으로 중복되어 배치된 복수의 유니트를 포함하는 것을 특징으로 하는 기판처리장치.
청구항 1 에 있어서,

상기 처리유니트는, 상기 기판반송구를 개폐하는 셔터를 포함하는 것을 특징으로 하는 기판처리장치.
청구항 1 에 있어서,

상기 케이싱은 상기 기판반송구에 임하는 벽과, 상기 기판반송구에 임하지 않는 벽을 포함하고,

상기 개구부는, 상기 기판반송구에 임하지 않는 벽에 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 기판처리장치.
청구항 1 에 있어서,

상기 지지부재는, 상기 반송기체내에서 발생한 파티클을 상기 케이싱까지 유도하기 위한 통기로를 가지는 것을 특징으로 하는 기판처리장치.
기판반송구를 통하여 처리용기내에 운반된 기판에 대해서 처리를 실행하는 처리유니트와,

상기 기판반송구에 대향하도록 설치되고, 상기 기판반송구를 통하여 상기 처리유니트와의 사이에서 기판의 인수 및 인도를 실행하기 위한 진퇴가 자유로운 암을 가지는 반송기체와,

상하방향으로 긴 개구부를 가지는 케이싱과,

상기 개구부를 통하여 상기 케이싱의 내외에 걸쳐서 신장되고, 상기 케이싱의 외측에서 상기 반송기체를 지지하는 지지부재와,

상기 케이싱내에 설치되고, 상기 지지부재를 상하방향으로 승강시키는 승강기구와,

상기 기판반송구를 통하여 파티클이 상기 처리유니트내에 침입하는 것을 방지하기 위하여, 상기 기판반송구에 임하는 위치에 가스의 흐름을 만드는 가스공급수단을 구비하는 것을 특징으로 하는 기판처리장치.
청구항 15 에 있어서,

상기 처리유니트는, 상기 기판반송구를 개폐하는 셔터를 포함하고,

상기 가스공급수단은 상기 셔터가 열려, 상기 암과 상기 처리유니트와의 사이에서 기판의 반송이 실행되고 있을때 가스의 공급을 실행하는 것을 특징으로 하는 기판처리장치.
청구항 15 에 있어서,

상기 가스공급수단은, 상기 기판반송구를 사이에 끼우는 좌우위치에 가스흡출구를 포함하고,

상기 좌우의 가스흡출구로부터, 상호 대향하는 방향에 가스가 흡출되는 것을 특징으로 하는 기판처리장치.
청구항 15 에 있어서,

상기 처리유니트는, 복수단으로 중복하여 설치된 복수의 유니트를 포함하고,

상기 가스공급수단은, 최하단의 상기 유니트에 대응하는 위치에서 최상단의 상기 유니트에 대응하는 위치까지 신장되는 가스공급관을 포함하고,

상기 가스공급관은, 상기 복수의 유니트 각각의 반송구에 대응하는 위치에 가스토출구멍을 가지는 것을 특징으로 하는 기판처리장치.
청구항 15 에 있어서,

상기 처리유니트는, 복수단으로 중복하여 설치된 복수의 유니트를 포함하고,

상기 가스공급수단은, 상기 복수의 유니트 각각에 독립하여 설치되어 있는 것을 특징으로 하는 기판처리장치.
청구항 19 에 있어서,

상기 복수의 유니트 각각은, 상기 기판반송구를 개폐하는 셔터를 구비하고,

상기 각 가스공급수단은, 대응하는 유니트의 셔터가 열려있을때만 가스를 공급하는 것을 특징으로 하는 기판처리장치.
청구항 15 에 있어서,

상기 케이싱은, 상기 기판반송구에 임하는 벽과, 상기 기판반송구에 임하지 않는 벽을 포함하고,

상기 개구부는 상기 기판반송구에 임하지 않는 벽에 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 기판처리장치.
기판반송구를 통하여 처리용기내에 운반된 기판에 대해서 처리를 실행하는 처리유니트와,

상기 기판반송구에 대향하도록 설치되고, 상기 기판반송구를 통하여 상기 처리유니트와의 사이에서 기판의 인수 및 인도를 실행하기 위한 진퇴가 자유로운 암을 가지는 반송기체와,

상하방향으로 긴 개구부를 가지는 케이싱과,

상기 개구부를 통하여, 상기 케이싱 내외에 걸쳐서 신장되고, 상기 케이싱 외측에서 상기 반송기체를 지지하는 지지부재와,

상기 케이싱 내측에 설치되고, 상기 지지부재를 상하방향으로 승강시키는 승강기구를 구비한 기판처리장치를 이용 한 기판처리방법에서,

상기 기판반송구를 통과하는 상기 암에 의해 상기 반송기체와 상기 처리유니트와의 사이에서 기판의 인수 및 인도를 실행하는 공정과,

상기 케이싱의 개구부 근방의 가스를 상기 케이싱내에 흡입하는 공정과,

상기 케이싱내의 가스를 배기하는 공정을 구비하고,

상기 케이싱 내에서 상하로 배치된 복수의 배기팬 중, 상방에 배치된 배기팬이 가스를 상방으로 유도하고, 하방에 배치된 배기팬이 가스를 하방으로 유도하는 것을 특징으로 하는 기판처리방법.
기판반송구를 통하여 처리용기내에 운반된 기판에 대해서 처리를 실행하는 처리유니트와,

상기 기판반송구에 대향하도록 설치되고, 상기 기판반송구를 통하여 상기 처리유니트와의 사이에서 기판의 인수 및 인도를 실행하기 위한 진퇴가 자유로운 암을 가지는 반송기체와,

상하방향으로 긴 개구부를 가지는 케이싱과,

상기 개구부를 통하여, 상기 케이싱 내외에 걸쳐서 신장되고, 상기 케이싱 외측에서 상기 반송기체를 지지하는 지지부재와,

상기 케이싱 내측에 설치되고, 상기 지지부재를 상하방향으로 승강시키는 승강기구를 구비한 기판처리장치를 이용 한 기판처리방법에서,

상기 기판반송구를 통과하는 상기 암에 의해 상기 반송기체와 상기 처리유니트와의 사이에서 기판의 반송을 실행하는 공정과,

상기 기판반송구에 임하는 위치에 가스를 공급하여, 상기 기판반송구를 통하여 파티클이 상기 처리유니트내에 침입하는 것을 방지하는 가스의 흐름를 실행하는 공정을 구비하는 것을 특징으로 하는 기판처리방법.