JP7037049B2 - Efem - Google Patents
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Description
まず、EFEM1及びその周辺の概略構成について、図1及び図2を用いて説明する。図1は、本実施形態に係るEFEM1及びその周辺の概略的な平面図である。図2は、EFEM1の電気的構成を示す図である。図1に示すように、EFEM1は、筐体2と、搬送ロボット3と、複数のロードポート4と、制御装置5(本発明の制御部)とを備える。EFEM1の後方には、ウェハW(本発明の基板)に所定の処理を施す基板処理装置6が配置されている。EFEM1は、筐体2内に配置された搬送ロボット3によって、ロードポート4に載置されているFOUP(Front-Opening Unified Pod)100と基板処理装置6との間でウェハWの受渡しを行う。FOUP100は、複数のウェハWを上下方向に並べて収容可能な容器であり、後端部(前後方向における筐体2側の端部)に蓋101が取り付けられている。FOUP100は、例えば、ロードポート4の上方に設けられた不図示のレールに吊り下げられて走行する、不図示のOHT(天井走行式無人搬送車)によって搬送される。OHTとロードポート4との間で、FOUP100の受渡しが行われる。
次に、筐体2及びその内部の構成について、図3~図5を用いて説明する。図3は、筐体2の正面図である。図4は、図3のIV-IV断面図である。図5は、図3のV-V断面図である。なお、図3においては、隔壁の図示を省略している。また、図5においては、搬送ロボット3等の図示を省略している。
帰還路43の詳細構成について、図4及び図5を用いて説明する。図4に示すように、帰還路43は、搬送室41の前端部に配置されて搬送室41を形成している、柱21~24(本発明の柱部材)の内部に設けられている。すなわち、柱21~24は中空になっており、それらの内部に、窒素が流れる空間21a~24aがそれぞれ形成されている(図4参照)。つまり、空間21a~24aが、それぞれ帰還路43となっている。帰還路43は、支持板37の前端部に形成された開口37bによってユニット設置室42と連通している(図5参照)。左右方向において、柱21~24の間に、前述した複数の開口38(本発明の開口)がそれぞれ配置されている(図4参照)。つまり、柱21~24及び複数の開口38は、左右方向において互いに重ならないように配置されている。また、柱21~24の下側部分には、搬送室41内の窒素を帰還路43(空間21a~24a)に案内するための導入ダクト27~30がそれぞれ取り付けられている。導入ダクト27~30は、搬送ロボット3のアーム機構3b(図3参照)の可動範囲(ウェハWが搬送される搬送領域)よりも下方に配置されており、アーム機構3bと干渉しない。このため、導入ダクト27~30は、柱21~24よりも後方に突出させることができる。なお、帰還路43において必要な流路面積を確保するために、柱21、24は柱22、23と比べて左右方向において太くなっており、空間21a、24aの断面積は空間22a、23aの断面積よりも大きい(図4参照)。
次に、ユニット設置室42内の構成及び圧力制御について説明する。搬送室41内の酸素濃度を酸素濃度計55(図2参照)によって、搬送室41内の圧力を第1圧力計56(図2参照)によってそれぞれ検出し、制御装置5が供給バルブ61及び排出バルブ62の開度を制御している。しかしながら、上記制御だけでは、酸素濃度が所望の値以下(例えば100ppm以下)になりにくいことが本願発明者により知見された。本願発明者による検討の結果、ユニット設置室42内の圧力が外部の圧力よりも低くなりやすく、外部からユニット設置室42内に大気が侵入しやすくなっていることが判明した。その原因は、開口37a(図5参照)の流路抵抗と比べて帰還路43の流路抵抗が高く、FFU44によってユニット設置室42から搬送室41に送られる窒素の流量と比べて、帰還路43を通ってユニット設置室42に戻る窒素の流量が少なくなりやすいためであると考えられた。このため、本実施形態では、ファン46によって、帰還路43内の窒素をユニット設置室42側に積極的に戻している。
4 ロードポート
5 制御装置(制御部)
6 基板処理装置
21~24 柱(柱部材)
27~30 導入ダクト
38 開口
41 搬送室
42 ユニット設置室
43 帰還路
46 ファン
49 ファン駆動モータ(駆動部)
56 第1圧力計(第1圧力検出部)
57 第2圧力計(第2圧力検出部)
61 供給バルブ(ガス供給部)
62 排出バルブ(排出部)
Claims (8)
- 基板が搬送される搬送室と、
前記搬送室に不活性ガスを送るファンフィルタユニットが設置されたユニット設置室と、
前記搬送室内を流れた前記不活性ガスを前記ユニット設置室に戻すための帰還路と、を備え、
所定の奥行方向における前記搬送室の一方側の端部に、前記基板に所定の処理を施す基板処理装置が接続されるEFEMであって、
前記帰還路は、前記奥行方向における前記搬送室の前記一方側の端部には配置されておらず、前記奥行方向における前記搬送室の他方側の端部に配置されていることを特徴とするEFEM。 - 前記奥行方向における前記搬送室の前記他方側の端部に配置され、前記搬送室を形成している柱部材を備え、
前記柱部材は、中空であり、
前記帰還路は、前記柱部材の内部に設けられていることを特徴とする請求項1に記載のEFEM。 - 前記柱部材に取り付けられて前記帰還路と連通し、前記搬送室内の前記不活性ガスを前記帰還路へ案内する導入ダクトと、
前記導入ダクト内に設けられ、前記帰還路内の前記不活性ガスを前記ユニット設置室側へ送るファンと、を備えることを特徴とする請求項2に記載のEFEM。 - 前記搬送室と、前記ユニット設置室と、前記帰還路と、を有し、前記不活性ガスを循環させるように構成された循環路、を備え、
前記循環路は、前記搬送室内の前記不活性ガスが下方に流れるように構成され、
前記導入ダクトには、前記不活性ガスが流入する開口部が形成され、
前記開口部は、下方を向いていることを特徴とする請求項3に記載のEFEM。 - 前記奥行方向と直交する幅方向に並べて配置された複数の前記柱部材と、
前記搬送室よりも前記奥行方向における前記他方側に配置され、且つ、前記幅方向に並べて配置された、前記基板を収容する容器がそれぞれ載置される複数のロードポートと、を備え、
前記搬送室の前記奥行方向における前記他方側の端部には、各ロードポートに載置される前記容器に前記基板を搬出入するための複数の開口が形成され、
前記複数の開口は、前記幅方向において前記複数の柱部材の間にそれぞれ配置され、
前記複数の柱部材それぞれの内部に、前記帰還路が設けられていることを特徴とする請求項2~4のいずれかに記載のEFEM。 - 複数の前記帰還路のうち前記幅方向における端に位置している帰還路の、前記奥行方向及び前記幅方向の両方と直交する断面積は、
前記複数の帰還路のうち前記幅方向における端以外に位置している帰還路の前記断面積よりも大きいことを特徴とする請求項5に記載のEFEM。 - 前記搬送室、前記ユニット設置室、及び前記帰還路のうち少なくともいずれかに前記不活性ガスを供給するガス供給部と、
前記搬送室、前記ユニット設置室、及び前記帰還路のうち少なくともいずれかから前記不活性ガスを含む気体を排出する排出部と、
前記搬送室内に設置された第1圧力検出部と、
制御部と、を備え、
前記制御部は、前記不活性ガスの供給量又は前記搬送室の第1圧力検出部の検出結果に応じて、前記排出部からのガス排気量を調整することを特徴とする請求項1~6のいずれかに記載のEFEM。 - 前記帰還路内の前記不活性ガスを前記ユニット設置室側へ送るファンと、
前記ファンを回転駆動する駆動部と、
前記ユニット設置室内に配置された第2圧力検出部と、
制御部と、を備え、
前記制御部は、前記第2圧力検出部の検出結果に基づき、前記ユニット設置室内の圧力が目標圧力に維持されるように前記駆動部を制御することを特徴とする請求項1~7のいずれかに記載のEFEM。
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