JP2022170477A - Ｅｆｅｍ - Google Patents

Abstract

【課題】ガスを循環させるタイプのＥＦＥＭにおいて、基板のパーティクル汚染を低減できる技術の提供。【解決手段】基板が搬送される搬送空間を形成する搬送室Ｔ２と、搬送室Ｔ２の一方側から他方側に流れたガスを帰還させる帰還路Ｔ３と、を含んで構成される循環経路を備えるＥＦＥＭ１００であって、帰還路Ｔ３と搬送室Ｔ２が隔壁を挟んで設けられており、循環経路をガスが循環している状態において、隔壁の両側に帰還路Ｔ３の側が高圧となるような差圧が形成されるものであり、帰還路Ｔ３に設けられ、ここを流れるガスに含まれるパーティクルを電気的に捕獲する捕獲部５を備える。【選択図】図３

Description

本発明は、ガスを循環させることが可能なＥＦＥＭ（Equipment Front End Module）に関する。

半導体の製造工程等では、高度の清浄環境が必要とされる。近年、半導体の製造工場等において清浄環境を形成するにあたって、ダウンフロー方式に代わって、ミニエンバイロメント方式が採用されることが多くなってきている。ミニエンバイロメント方式は、被処理物である基板（例えばウエハ）の周囲だけに局所的な清浄環境を形成する方式であり、工場全体を清浄環境とするダウンフロー方式に比べて、低コストで高度の清浄環境を形成することができる。

ミニエンバイロメント方式においては、ウエハは、外部の雰囲気よりも高い清浄度に保たれた、ＦＯＵＰ（Front Opening Unified Pod）、カセット、ポッド、などと呼ばれる密閉式の格納容器に格納されて、搬送・保管等される。そして、格納容器に格納されたウエハは、処理装置に接続されたＥＦＥＭを介することにより、外部の雰囲気に晒されることなく、格納容器と処理装置との間で授受される。

ＥＦＥＭは、具体的には例えば、略閉止された搬送室を内部に形成する筐体、格納容器との間でのインターフェース部として機能するロードポート、などを含んで構成される。ロードポートは筐体の一方側に接続され、筐体の他方側に処理装置が接続される。そして、搬送室に配置されている搬送装置が、ロードポートに接続される格納容器と処理装置との間で、ウエハの搬出入を行う。

ところで、素子の高集積化や回路の微細化が進む近年においては、酸化などといった表面性状の変化がウエハに生じることがないように、ウエハの周囲を、酸素、水分、などの含有量が十分に低い雰囲気、例えば不活性ガスの雰囲気とすることが求められるケースも増えている。

このような要求に応じるべく、筐体の内部に不活性ガスなどを循環させるＥＦＥＭが提案されている。例えば、特許文献１，２に記載されているＥＦＥＭでは、搬送室の上方に設けられたファンフィルタユニットによって、搬送室に不活性ガスのダウンフローが形成され、搬送室の下側に到達した不活性ガスが帰還路に導入されてここを上向きに流れて、ファンフィルタユニットを通じて再び搬送室に送出されるようになっている。

このように、不活性ガスを循環させる構成のＥＦＥＭによると、不活性ガスの消費量を抑制しつつ、搬送室を不活性ガスの雰囲気下におくことができる。

特開２０１９－１６１１６号公報 特開２０１７－５２８３号公報

ガスを循環させるＥＦＥＭにおいては、循環経路をガスが循環している状態において、帰還路と搬送室とを隔てる隔壁の両側に、帰還路の側が高圧となるような差圧が形成される場合がある。

例えば、特許文献１に開示されているＥＦＥＭは、筐体の柱の中空部に帰還路が設けられている。そして、搬送室を流れてきたガスをこの帰還路に送出するためのファンが設けられており、このファンによって帰還路にガスを積極的に送出することで、搬送室よりも狭い帰還路を通じてガスを帰還させている。このようなファンが設けられることで帰還路の圧力が高まり、帰還路と搬送室とを隔てる隔壁の両側（すなわち、柱の内と外）に、帰還路の側が高圧となるような差圧が形成される。

また例えば、特許文献２に開示されているＥＦＥＭでは、筐体内が仕切壁によって搬送室と帰還路に区画されている。ここでは、循環経路にガスを供給するための供給配管が帰還路の途中に接続されており、帰還路の途中位置からガスが供給される。帰還路にガスが供給されることで帰還路の圧力が高まり、帰還路と搬送室とを隔てる隔壁である仕切壁の両側に、帰還路の側が高圧となるような差圧が形成される。

ところが、このような差圧が形成されると、帰還路と搬送室を隔てる隔壁にある微小な隙間を通じて、帰還路から搬送室に僅かなガスの漏れ（リーク）が生じてしまう可能性がある。このようなガスの漏れが生じると、帰還路を流れるガスに含まれているパーティクル、すなわち、本来であればファンフィルタユニットで除去されるはずのパーティクルが、ガスとともに搬送室に流入し、搬送室内のウエハに付着してしまう虞がある。

本発明は、上記の課題を解決するためになされたものであり、ガスを循環させるタイプのＥＦＥＭにおいて、基板のパーティクル汚染を低減できる技術の提供を目的としている。

本発明は、かかる目的を達成するために、次のような手段を講じたものである。

すなわち、本発明は、基板が搬送される搬送空間を形成する搬送室と前記搬送室の一方側から他方側に流れたガスを帰還させる帰還路とを含んで構成される循環経路を備えるＥＦＥＭであって、前記帰還路と前記搬送室が隔壁を挟んで設けられており、前記循環経路をガスが循環している状態において、前記隔壁の両側に前記帰還路の側が高圧となるような差圧が形成されるものであり、前記帰還路に設けられ、ここを流れるガスに含まれるパーティクルを電気的に捕獲する捕獲部を備える、ことを特徴とする。

この構成によると、帰還路を流れるガスに含まれるパーティクルが電気的に捕獲されるので、帰還路からこれよりも低圧である搬送室に向けてガスの漏れが生じたとしても、搬送室のパーティクル量が増加しにくい。したがって、搬送室にある基板へのパーティクルの付着を十分に抑制することができる。さらに、帰還路を流れるガスに含まれるパーティクルを例えば気体透過型のフィルタで捕獲しようとすると、帰還路の流路抵抗が大幅に増大することが避けられないが、ここでは、帰還路に設けられる捕獲部がパーティクルを電気的に捕獲するものであるので、帰還路の流路抵抗を大きく増大させずにパーティクルを捕獲することができる。

前記ＥＦＥＭにおいて、前記捕獲部が、ガスに含まれるパーティクルを静電気力によって帯電面に付着させて捕獲するものである、ことが好ましい。

この構成によると、帰還路を流れるガスに含まれるパーティクルを、簡易な構成で十分に捕獲することが可能であり、メンテナンスも容易である。例えば、パーティクルをフィルタで捕獲する場合、定期的なフィルタ交換が必要となるが、パーティクルを帯電面に付着させて捕獲するものであれば、帯電面の帯電を解除して帯電面を拭き取るなどといった比較的簡便な作業で、パーティクルを回収することができる。

前記ＥＦＥＭが、複数のパネルと、前記複数のパネルを支持する支柱と、を含んで構成される筐体、を備え、前記支柱が中空であって、前記帰還路が、前記支柱の中空部に設けられており、前記捕獲部が、前記支柱の内壁面に設けられている、ことが好ましい。

この構成によると、帰還路が支柱の中空部に設けられるので、装置のフットプリントが小さく抑えられる。

前記ＥＦＥＭにおいて、前記支柱が、前記捕獲部へのアクセスを可能にする開口と、前記開口の閉鎖および開放が自在であるカバー部と、を備えることが好ましい。

この構成によると、開口が開放された状態とすることで、該開口を介して捕獲部にアクセスすることができる。したがって、捕獲部のメンテナンスを難なく行うことができる。

前記ＥＦＥＭにおいて、前記循環経路が、前記搬送室に配置されている所定の装置の内部を流れたガスを帰還させる個別帰還路、を含んでおり、前記個別帰還路と前記搬送室が隔壁を挟んで設けられており、前記循環経路をガスが循環している状態において、前記隔壁の両側に前記個別帰還路の側が高圧となるような差圧が形成されるものであり、前記捕獲部が、前記帰還路と前記個別帰還路の各々に設けられる、ことが好ましい。

この構成によると、搬送室に配置されている装置の内部を流れたガスを、個別帰還路を通じて帰還させるので、該装置の内部で発生したパーティクルが搬送室に放出されて搬送室内の基板に付着する、といった事態の発生を十分に抑制することができる。また、個別帰還路を流れるガスに含まれるパーティクルが電気的に捕獲されるので、個別帰還路からこれよりも低圧である搬送室に向けてガスの漏れが生じたとしても、搬送室のパーティクル量が増加しにくい。

前記ＥＦＥＭにおいて、前記搬送室に配置されている所定の装置の内部を流れたガスを導く接続管が、前記帰還路の途中であって前記捕獲部よりも上流側の位置に、接続されている、ことが好ましい。

この構成によると、搬送室に配置されている装置の内部を流れたガスが、帰還路を通じて帰還されるので、該装置の内部で発生したパーティクルが搬送室に放出されて、搬送室内の基板に付着する、といった事態の発生を十分に抑制することができる。また、装置の内部を流れたガスは、捕獲部よりも上流の位置において帰還路に導入されるので、搬送室を流れてきたガスと、装置の内部を流れてきたガスと、を含む集合ガスに含まれるパーティクルが、捕獲部において捕獲されることになる。したがって、両方のガスに含まれるパーティクルを効率的に捕獲することができる。

本発明によると、ガスを循環させるタイプのＥＦＥＭにおいて、基板のパーティクル汚染を低減することができる。

実施形態に係るＥＦＥＭの外観を模式的に示す斜視図。 該ＥＦＥＭを模式的に示す平面図。 該ＥＦＥＭを模式的に示す側面図であって、帰還路を含む側面を示す図。 該ＥＦＥＭを模式的に示す側面図であって、搬送装置と接続される個別帰還路を含む側面を示す図。 該ＥＦＥＭを模式的に示す側面図であって、アライナと接続される個別帰還路を含む側面を示す図。 筐体の前壁を構成するパネルを後方から見た図。 図６において、ファンフィルタユニット、ケミカルフィルタ、および、カバー部を取り外した状態を示す図。 角支柱およびここに設けられている帯電部を示す図。 変形例に係るＥＦＥＭを模式的に示す側面図。

以下、本発明の実施形態を、図面を参照しつつ説明する。

＜１．ＥＦＥＭの全体構成＞
実施形態に係るＥＦＥＭ（Equipment Front End Module）１００の全体構成について、図１～図３を参照しながら説明する。図１は、実施形態に係るＥＦＥＭ１００の外観を模式的に示す斜視図である。図２は、ＥＦＥＭ１００の要部を模式的に示す平面図である。図３は、ＥＦＥＭ１００の要部を模式的に示す側面図である。

ＥＦＥＭ１００は、ウエハ９に対する各種の処理を行う処理装置９００とウエハ９を収容する格納容器９０との間でウエハ９の受け渡しを行うモジュールであり、図１に示されるように、処理装置９００（典型的には、処理装置９００のロードロック室）と接続されて用いられる。格納容器（キャリア）９０は、図３に示されるように、ウエハ９を水平姿勢で多段に収容する本体部９１と、本体部９１の一方の側壁に設けられた開口を塞ぐ蓋部９２とを備える密閉式の容器であり、ＦＯＵＰ（Front-Opening Unified Pod）、カセット、などともよばれる。

ＥＦＥＭ１００は、図１に示されるように、複数（図の例では３個）のロードポート１と、本体部２と、制御部３と、を備えている。ロードポート１は、本体部２の一端側に配置され、本体部２の他端側（すなわち、ロードポート１が接続されるのとは逆側の端部）に、処理装置９００が接続される。以下においては、説明の便宜上、本体部２に対してロードポート１が接続される側を「前方」とよび、処理装置９００が接続される側を「後方」とよぶ。また、前後方向と直交する水平方向を「左右方向」とよぶ。

（ロードポート１）
ロードポート１は、格納容器９０をＥＦＥＭ１００に接続するためのモジュールであり、ベース板１１、載置部１２、ドア部１３、などを備える。

ベース板１１は、起立姿勢で配置される平板状の部材である。ベース板１１の一方の主面には、水平姿勢で突出する支持台１２１が設けられており、その上に載置部１２が設けられている。載置部１２は、その上面が、格納容器９０が載置される載置面を形成する。載置部１２には、これを支持台１２１上で進退させる機構（載置部駆動機構）が設けられており、これの駆動を受けて、載置部１２は、ベース板１１に近接した近接位置とベース板１１から離間した離間位置との間で移動される。また、載置部１２には、ここに載置されている格納容器９０内の雰囲気を所定のガス（ここでは、窒素ガス）に置換するための機構（ガス置換機構）が設けられている。

一方、ベース板１１には、載置部１２に格納容器９０が載置されたときにその蓋部９２と対向するような位置に、開口１１１が形成されている。そして、この開口１１１を塞ぐように、ドア部１３が設けられている。ドア部１３には、これと対向配置された蓋部９２を本体部９１から取り外す（ラッチを解除する）とともに、蓋部９２をドア部１３と連結して一体化（ドッキング）する機構（蓋保持機構）が設けられている。また、ドア部１３には、これを移動させる機構（ドア部駆動機構）が設けられており、これの駆動を受けて、ドア部１３は、開口１１１を塞ぐ閉鎖位置と、開口１１１の下方に退避してこれを開放する開放位置との間で、移動される。

載置部１２、ドア部１３、および、各種の駆動機構が格納されるケース１４は、ベース板１１に支持されており、これら各部１２，１３，１４を支持したベース板１１が、本体部２の筐体２１の前壁に形成された開口２１１１を塞ぐように取り付けられる。

ロードポート１の動作は、次の通りである。まず、未処理のウエハ９を格納した格納容器９０が、ＯＨＴ、ＡＭＨＳ、ＰＧＶ、等の外部ロボットによって搬送されてきて、載置部１２の上面に、蓋部９２がドア部１３と対向するような向きで載置される。このとき、載置部１２は離間位置に配置されており、格納容器９０が載置部１２に載置された後、載置部駆動機構が、載置部１２を離間位置から近接位置に移動させる。これにより、載置部１２に載置された格納容器９０の蓋部９２が、ドア部１３と近接しつつ対向配置された状態となる。

このような状態となると、ドア部１３に設けられている蓋保持機構が、格納容器９０の蓋部９２を本体部９１から取り外すとともにドア部１３と連結して一体化する。続いて、ドア部駆動機構が、ドア部１３を、これと一体化されている蓋部９２とともに、閉鎖位置から開放位置に移動させる。これによって、格納容器９０の内部が、開口１１１を介して本体部２の内部と連通した状態となり、格納容器９０に格納されている未処理のウエハ９が、本体部２の内部に配置されている搬送装置２２（後述する）によって取り出される。

（本体部２）
本体部２は、複数のロードポート１と処理装置９００の間に介在して設けられる直方体状の機枠である筐体２１を備える。筐体２１は、図２、図３に示されるように、複数のパネル２１１、複数の角支柱２１２、複数の中間支柱２１３、支持板２１４、などを含んで構成される。

パネル２１１は、筐体２１の周壁面を構成するための略矩形の平板状の部材であり、ここでは、６個のパネル２１１が、直方体状に組み合わされている。すなわち、６個のパネル２１１のうちの４個は、鉛直姿勢で配置されて、筐体２１の前壁、後壁、左壁、あるいは、右壁を構成する。また、残る２個のパネル２１１は、水平姿勢で配置されて、筐体２１の天井、あるいは、底板を構成する。これら６個のパネル２１１は、内部のガスが流出する隙間を生じないよう精密に取り付けられており、６個のパネル２１１で囲まれる空間が、略気密な閉止空間とされている。いうまでもなく、隣り合うパネル２１１の間には、内部空間の気密性を高めるために、シール部材などが設けられてもよい。

筐体２１の前壁を構成するパネル２１１には、複数の開口２１１１が設けられており、各開口２１１１を気密に塞ぐように、ロードポート１（具体的には、ベース板１１）が取り付けられる（図１）。一方、筐体２１の後壁を構成するパネル２１１には、処理装置９００の例えばロードロック室が接続される。該後壁を構成するパネル２１１には、筐体２１とロードロック室とを連通させるための開口が形成されており、該開口はゲートバルブ２１１２などによって気密に閉鎖できるように構成されている。

角支柱２１２は、パネル２１１を支持するための棒状の部材であり、筐体２１の四隅にそれぞれ設けられる。すなわち、筐体２１の左前角、右前角、左後角、および、右後角のそれぞれに、角支柱２１２が設けられる。各角支柱２１２は筒状であって、内部に中空部２１２１が形成されている。

後述する搬送装置２２などとの干渉を避けるためには、各角支柱２１２の前後幅は、１００ｍｍ以内とされることが好ましい。一方で、後述するように角支柱２１２の中空部２１２１は帰還路Ｔ３を構成するものであり、その流路抵抗を小さくするためには、各角支柱２１２の左右幅をできるだけ大きくすることが好ましい。しかしながら、左右幅が大きくなるにつれて装置のフットプリントが大きくなる。これらのバランスを考慮して、各角支柱２１２の左右幅は、例えば２００ｍｍ程度とされる。

中間支柱２１３は、前壁を構成するパネル２１１を支持するための棒状の部材であり、該パネル２１１における、隣り合う開口２１１１の間に設けられる。ここでは、３個のロードポート１に対応して３個の開口２１１１が設けられており、右側の開口２１１１と真ん中の開口２１１１の間、および、真ん中の開口２１１１と左側の開口２１１１の間に、それぞれ中間支柱２１３が設けられる。各中間支柱２１３は、角支柱２１２と同様、筒状であって、内部に中空部２１３１が形成されている。

搬送装置２２などとの干渉を避けるためには、各中間支柱２１３の前後幅も、１００ｍｍ以内とされることが好ましい。一方で、後述するように中間支柱２１３の中空部２１３１は個別帰還路Ｔ４を構成するものであり、その流路抵抗を小さくするためには、各中間支柱２１３の左右幅をできるだけ大きくすることが好ましい。しかしながら、左右幅が大きくなるにつれて隣り合うロードポート１の間隔が広くなってしまう。これらのバランスを考慮して、各中間支柱２１３の左右幅は、例えば８０ｍｍ程度とされる。

支持板２１４は、６枚のパネル２１１で囲まれる空間を上下に区画するための略矩形の平板状の部材であり、天井を構成するパネル２１１の近傍に、水平姿勢で設けられる。６枚のパネル２１１で囲まれる空間のうち、支持板２１４よりも上側の空間を、以下「ユニット設置室Ｔ１」とよぶ。ユニット設置室Ｔ１には、ファンフィルタユニット４１などが配置される。また、６枚のパネル２１１で囲まれる空間のうち、支持板２１４よりも下側の空間を、以下「搬送室Ｔ２」とよぶ。搬送室Ｔ２は、ロードポート１に載置された格納容器９０と処理装置９００との間でウエハ９が搬送される空間（搬送空間）を形成する。

搬送室Ｔ２には、搬送装置２２、アライナ２３、などが配置される。搬送装置２２は、搬送室Ｔ２の略中央に配置される。一方、アライナ２３は、搬送装置２２の右側に配置される。ここでは、筐体２１の右壁を構成するパネル２１１が、前側の端辺および後側の端辺から左右方向に立ち上がる部分を含む断面コ字状とされており、これによって搬送室Ｔ２内に、右側の角支柱２１２よりもさらに右方に張り出した空間が形成されている。アライナ２３は、この張り出した空間に配置される。

搬送装置２２について、図４を参照しながら説明する。図４は、ＥＦＥＭ１００の要部を模式的に示す側面図であり、搬送装置２２およびこれと接続される個別帰還路Ｔ４（後述する）を含む側面が示されている。

搬送装置２２は、ロードポート１に載置されているＦＯＵＰ９０と処理装置９００との間でウエハ９を搬送する装置であり、ハンド２２１、アーム２２２、昇降柱２２３、駆動機構２２４、ケース２２５、などを含んで構成される。

ハンド２２１は、メカクランプ方式、バキュームチャック方式、静電チャック方式、などの適宜の方式で、ウエハ９を把持する部材であり、アーム２２２の先端部に接続される。アーム２２２の先端部に接続されるハンド２２１の個数は、１個であってもよいし２個以上であってもよい。アーム２２２は、例えば多関節構造を有し、駆動機構２２４の駆動を受けて水平面内で自在に旋回する。昇降柱２２３は、アーム２２２と接続される棒状の部材であり、駆動機構２２４の駆動を受けて昇降する。駆動機構２２４は、アーム２２２、昇降柱２２３、などを駆動するための機構であり、モータ、ボールネジ機構、などを含んで構成される。

ケース２２５は、搬送室Ｔ２内に固定されており、内部に駆動機構２２４が収容される。ケース２２５の上面には開口２２５１が設けられており、ここに昇降柱２２３が挿通される。昇降柱２２３は、ケース２２５の内部に配置された下端において、駆動機構２２４と接続され、ケース２２５の上方に突出した上端において、アーム２２２と接続される。昇降柱２２３の昇降が妨げられないように、開口２２５１の内直径は、昇降柱２２３の外直径よりも僅かに大きく、両者の間には僅かな隙間が形成される。

ケース２２５の側壁には貫通口２２５２が設けられており、この貫通口２２５２と後述する閉鎖ダクト２１６とが、接続管２２６を介して接続される。ケース２２５には、ケース２２５内のガスを、貫通口２２５２を介して接続管２２６に送出するためのファン２２７が設けられている。ファン２２７が駆動されることで、ケース２２５内のガスが、ここで発生したパーティクルとともに、接続管２２６に排出される。

搬送装置２２は、制御部３の制御下で所定の搬送動作を実行する。すなわち、搬送装置２２は、昇降柱２２３の昇降、アーム２２２の旋回、ハンド２２１におけるウエハ９の把持および解除、などの動作を組み合わせて行うことで、例えば、ロードポート１に載置されているＦＯＵＰ９０から未処理のウエハ９を取り出して処理装置９００に搬入し、また、処理装置９００から処理済みのウエハ９を搬出してロードポート１に載置されているＦＯＵＰ９０に格納する。

アライナ２３について、図５を参照しながら説明する。図５は、ＥＦＥＭ１００の要部を模式的に示す側面図であり、アライナ２３およびこれと接続される個別帰還路Ｔ４（後述する）を含む側面が示されている。

格納容器９０に収容されているウエハ９は、格納容器９０が外部ロボットによって搬送されてきてロードポート１の載置部１２に載置されるまでの間に、微小な位置ずれを起こしている可能性がある。アライナ２３は、この位置ずれを検出するとともに、位置ずれを是正するための位置補正（アライメント）を行う装置であり、テーブル２３１、回転柱２３２、駆動機構２３３、検出部２３４、ケース２３５、などを含んで構成される。

テーブル２３１は、アライメントの対象となるウエハ９が載置される部材である。回転柱２３２は、テーブル２３１の下面の中心位置に接続される棒状の部材であり、駆動機構２３３の駆動を受けて中心軸の回りで回転する。駆動機構２３３は、回転柱２３２などを駆動するための機構であり、モータ、プーリ、などを含んで構成される。検出部２３４は、回転するテーブル２３１に載置されているウエハ９の周縁位置などに基づいて、該ウエハ９が所期の位置からどれだけずれているかを検出する。

ケース２３５は、搬送室Ｔ２内に設けられた支持台（図示省略）に支持されており、内部に駆動機構２３３が収容される。ケース２３５の上面には開口２３５１が設けられており、ここに回転柱２３２が挿通される。回転柱２３２は、ケース２３５の内部に配置された下端において、駆動機構２３３と接続され、ケース２３５の上方に突出した上端において、テーブル２３１と接続される。回転柱２３２の回転が妨げられないように、開口２３５１の内直径は、回転柱２３２の外直径よりも僅かに大きく、両者の間には僅かな隙間が形成される。

ケース２３５の側壁には貫通口２３５２が設けられており、この貫通口２３５２と後述する閉鎖ダクト２１６とが、接続管２３６を介して接続される。ケース２３５には、ケース２３５内のガスを、貫通孔２３５２を介して接続管２３６に送出するためのファン２３７が設けられている。ファン２３７が駆動されることで、ケース２３５内のガスが、ここで発生したパーティクルとともに、接続管２３６に排出される。

アライナ２３は、制御部３の制御下で所定のアライメント動作を実行する。すなわち、搬送装置２２が、格納容器９０から取り出したウエハ９をアライナ２３のテーブル２３１に載置すると、アライナ２３は、テーブル２３１を回転させつつ、テーブル２３１に載置されているウエハ９の周縁位置を検出部２３４で検出して、該ウエハ９が所期の位置からどれだけずれているかを特定する。特定された位置ずれ量は、制御部３に通知される。制御部３は、搬送装置２２がテーブル２３１に載置されているウエハ９を搬出するときのハンド２２１の受け取り位置を、該位置ずれ量に応じて補正する。これによって、ウエハ９とハンド２２１との位置関係が所期のものとなる。すなわち、ウエハ９は、位置ずれが是正されて適切に位置合わせされた状態でアライナ２３から搬出されて、処理装置９００に搬入される。

（制御部３）
再び図１を参照する。制御部３は、ＥＦＥＭ１００が備える各部の動作を制御する。具体的には、制御部３は、ロードポート１の動作に係る各種の制御、搬送装置２２の動作に係る各種の制御、アライナ２３の動作に係る各種の制御、筐体２１における窒素循環（後述する）に係る各種の制御、などを行う。

制御部３のハードウェアとしての構成は、一般的なコンピュータと同様である。すなわち、制御部３は、各種演算処理を行うＣＰＵ、必要なプログラムを記憶する読み出し専用のメモリであるＲＯＭ、各種情報を記憶する読み書き自在のメモリであるＲＡＭ、制御用ソフトウェアやデータなどを記憶しておく磁気ディスク、各種のインターフェース、などを備えている。制御部３のＣＰＵがメモリに格納されたプログラムを実行することによって、ＥＦＥＭ１００において所定の動作が行われる。

＜２．循環経路＞
ＥＦＥＭ１００が稼働状態にあるとき、筐体２１の内部空間は、所定のガス（この実施形態では、窒素ガス）で満たされており、該所定のガスが循環するように構成されている。ガスが循環される循環経路について、図２～図５に加え、図６，図７を参照しながら説明する。図６は、筐体２１の前壁を構成するパネル２１１を後方から見た図である。図７は、図６において、ファンフィルタユニット４１、ケミカルフィルタ４２、および、カバー部２０２を取り外した状態を示す図である。

循環経路は、図３～図５に示されるように、ファンフィルタユニット４１などが配置されるユニット設置室Ｔ１、搬送空間を形成する搬送室Ｔ２、搬送室Ｔ２の一方側から他方側に流れた窒素ガスを帰還させる帰還路Ｔ３（図３）、および、搬送室Ｔ２に配置されている搬送装置２２およびアライナ２３の各内部を流れたガスを帰還させる個別帰還路Ｔ４（図４、図５）を含んで構成される。

（ユニット設置室Ｔ１、搬送室Ｔ２）
上記の通り、ユニット設置室Ｔ１は、６枚のパネル２１１で囲まれる空間のうち、支持板２１４よりも上側の空間である。また、搬送室Ｔ２は、６枚のパネル２１１で囲まれる空間のうち、支持板２１４よりも下側の空間である。つまり、ユニット設置室Ｔ１と搬送室Ｔ２は、支持板２１４を介して隔てられている。この支持板２１４には開口２１４１が設けられており（図７）、ユニット設置室Ｔ１と搬送室Ｔ２は、この開口２１４１を介して連通している。

ユニット設置室Ｔ１には、ファンフィルタユニット４１およびケミカルフィルタ４２が設けられる。

ファンフィルタユニット（ＦＦＵ）４１は、搬送室Ｔ２を下向きに流れる層流を形成するためのユニットであり、支持板２１４に支持されて、ユニット設置室Ｔ１に収容される。図３などに示されるように、ファンフィルタユニット４１は、ファン４１１およびフィルタ４１２を含んで構成される。ファン４１１は、上側からガスを吸い込んで下向きに送出する。フィルタ４１２は、例えばＵＬＰＡフィルタにより構成され、ファン４１１によって送出されるガスに含まれるパーティクルを捕獲して除去する。

ファンフィルタユニット４１のファン４１１が稼働されると、ユニット設置室Ｔ１内の窒素ガスが、フィルタ４１２によって清浄化されつつ、支持板２１４に設けられている開口２１４１を介して、搬送室Ｔ２に送出される。これによって、搬送室Ｔ２を下向きに流れる層流（ダウンフロー）が形成される。

ケミカルフィルタ４２は、活性ガス、分子状汚染物質、などを除去するフィルタであり、ユニット設置室Ｔ１内であって、ファンフィルタユニット４１の上流側に配置される。したがって、ユニット設置室Ｔ１内に流入した窒素ガスは、ケミカルフィルタ４２を通る際に活性ガス、分子状汚染物質、などを除去されてから、ファンフィルタユニット４１に流入することになる。

（帰還路Ｔ３）
帰還路Ｔ３は、前側に配置される２本の角支柱（すなわち、左前角と右前角にそれぞれ配置される角支柱であり、以下「前角支柱」ともいう）２１２の各中空部２１２１に設けられる。

図３に示されるように、各前角支柱２１２の後面における下端近傍の位置には、中空部２１２１と連通する開口２１２２が形成されており、この開口２１２２を塞ぐように、開放ダクト２１５が設けられている。図３、図６などに示されるように、開放ダクト２１５は、前角支柱２１２に沿って下方に延在して、開口端２１５１に至っている。開口端２１５１は、開口２１２２よりも下方の位置において下向きに開口して、開放ダクト２１５の内部と搬送室Ｔ２とを連通させている。つまり、各前角支柱２１２の中空部２１２１によって形成される帰還路Ｔ３は、開口２１２２および開放ダクト２１５を介して、搬送室Ｔ２と連通している。

また、図３、図７などに示されるように、各前角支柱２１２は、上端部分において梁部材２１７と接続されている。梁部材２１７の内部には中空部が形成されており、この中空部に各前角支柱２１２の中空部２１２１が連通している。梁部材２１７の中空部は、支持板２１４に設けられた開口２１４２（図７）を介して、ユニット設置室Ｔ１と連通している。つまり、各前角支柱２１２の中空部２１２１によって形成される帰還路Ｔ３は、梁部材２１７の中空部および支持板２１４の開口２１４２を介して、ユニット設置室Ｔ１と連通している。

帰還路Ｔ３には、第１ファン４３が配置される。第１ファン４３は、図３に示されるように、開放ダクト２１５の内部に配置され、下側からガスを吸い込んで上向きに送出して、帰還路Ｔ３を上向きに流れる気流を形成する。すなわち、第１ファン４３が稼働されると、搬送室Ｔ２内の窒素ガス（すなわち、搬送室Ｔ２を下向きに流れて、搬送室Ｔ２の底部近傍に到達した窒素ガス）が、開放ダクト２１５を介して吸い込まれて、帰還路Ｔ３内に上向きに送出される。帰還路Ｔ３を上向きに流れた窒素ガスは、ユニット設置室Ｔ１に流入する。つまり、搬送室Ｔ２を下向きに流れた窒素ガスが、帰還路Ｔ３を通じて、ユニット設置室Ｔ１に帰還される。ユニット設置室Ｔ１に帰還した窒素ガスは、フィルタ４２，４１２によって清浄化された上で、再び搬送室Ｔ２に送出されることになる。

（個別帰還路Ｔ４）
個別帰還路Ｔ４は、２本の中間支柱２１３の各中空部２１３１に設けられる。

図４、図５に示されるように、各中間支柱２１３の後面における下端近傍の位置には、中空部２３１３と連通する開口２１３２が形成されており、この開口２１３２を塞ぐように、閉鎖ダクト２１６が設けられている。図４、図５、図６などに示されるように、閉鎖ダクト２１６は、中間支柱２１３に沿って下方に延在して、搬送室Ｔ２に対して閉じられた閉鎖端２１６１に至っている。

図２、図４に示されるように、左側に配置される中間支柱２１３に設けられる閉鎖ダクト２１６には、搬送装置２２のケース２２５から伸びる接続管２２６が接続される。また、図２、図５に示されるように、右側に配置される中間支柱２１３に設けられる閉鎖ダクト２１６には、アライナ２３のケース２３５から伸びる接続管２３６が接続される。つまり、各中間支柱２１３の中空部２１３１によって形成される個別帰還路Ｔ４は、開口２１３２、閉鎖ダクト２１６、および、接続管２２６，２３６を介して、搬送室Ｔ２に配置されている各装置２２，２３のケース２２５，２３５と連通している。

また、図４、図５、図７などに示されるように、各中間支柱２１３は、上端部分において梁部材２１７と接続されている。梁部材２１７の内部には中空部が形成されており、この中空部に各中間支柱２１３の中空部２１３１が連通している。また、上記の通り、梁部材２１７の中空部は、支持板２１４に設けられた開口２１４２（図７）を介して、ユニット設置室Ｔ１と連通している。つまり、各中間支柱２１３の中空部２１３１によって形成される個別帰還路Ｔ４は、梁部材２１７の中空部および支持板２１４の開口２１４２を介して、ユニット設置室Ｔ１と連通している。

個別帰還路Ｔ４には、第２ファン４４が配置される。第２ファン４４は、図４、図５に示されるように、閉鎖ダクト２１６の内部に配置され、下側からガスを吸い込んで上向きに送出して、個別帰還路Ｔ４を上向きに流れる気流を形成する。すなわち、第２ファン４４が稼働されると、搬送室Ｔ２に配置されている各装置２２，２３のケース２２５，２３５から送出された窒素ガスが、接続管２２６，２３６を介して閉鎖ダクト２１６に吸い込まれて、個別帰還路Ｔ４を上向きに送出される。個別帰還路Ｔ４を上向きに流れた窒素ガスは、ユニット設置室Ｔ１に流入する。つまり、各装置２２，２３の内部を流れた窒素ガスが、個別帰還路Ｔ４を通じて、ユニット設置室Ｔ１に帰還される。ユニット設置室Ｔ１に帰還した窒素ガスは、フィルタ４２，４１２によって清浄化された上で、再び搬送室Ｔ２に送出されることになる。

以上の通り、ＥＦＥＭ１００の筐体２１の内部には、ユニット設置室Ｔ１、搬送室Ｔ２、帰還路Ｔ３、および、個別帰還路Ｔ４を含んで構成される循環経路が形成される。この循環経路には、ここに窒素ガスを供給するガス供給部４５と、該循環経路から窒素ガスを排出するガス排出部４６とが設けられる。

ガス供給部４５は、図３に示されるように、供給管４５１と、ここに設けられた供給バルブ４５２とを含んで構成される。供給管４５１は、一端がユニット設置室Ｔ１の側壁に接続されるとともに、他端が窒素ガスの供給源と接続される。供給バルブ４５２は、例えば開度の調整が自在であるマスフローコントローラを含んで構成され、制御部３からの指示に応じて、供給管４５１を流れる窒素ガスの量（すなわち、窒素ガスの供給量）を変更する。

制御部３は、循環経路を循環される窒素ガスの酸素濃度、水分濃度、などを監視しており、該濃度が所定値以下に維持されるように、供給バルブ４５２の開度などを制御する。具体的には例えば、酸素濃度が所定値を超えた場合に、供給バルブ４５２を制御して、循環経路に供給される窒素ガスの流量を増加させて、酸素濃度を低下させる。

ガス排出部４６は、図３に示されるように、排出管４６１と、ここに設けられた排出バルブ４６２とを含んで構成される。排出管４６１は、一端が搬送室Ｔ２の側壁の下端近傍に接続されるとともに、他端が排気ラインと接続される。排出バルブ４６２は、例えば開度の調整が自在であるマスフローコントローラを含んで構成され、制御部３からの指示に応じて、排出管４６１を流れる窒素ガスの量（すなわち、窒素ガスの排出量）を変更する。

制御部３は、循環経路内の所定の少なくとも１箇所以上の各位置の圧力を監視しており、各位置の圧力が所定の適正範囲内に維持されるように、排出バルブ４６２の開度などを制御する。具体的には例えば、該圧力値が適正範囲よりも大きくなった場合に、排出バルブ４６２の開度を大きくし、該圧力値が適正範囲よりも小さくなった場合に、排出バルブ４６２の開度を小さくする。制御部３が適切な制御を行っている状態において、搬送室Ｔ２の圧力は、筐体２１の外部空間の圧力よりも僅かに高圧となる。すなわち、搬送室Ｔ２の圧力値の適正範囲は、筐体２１の外部空間の圧力値よりも僅かに高い値に設定される。これによって、搬送室Ｔ２から筐体２１の外部空間へ窒素ガスが漏出することを抑制しつつ、筐体２１の外部空間から搬送室Ｔ２へ外気が侵入することが防止される。

＜３．捕獲部５＞
上記の通り、ＥＦＥＭ１００の筐体２１の内部空間には、ユニット設置室Ｔ１、搬送室Ｔ２、帰還路Ｔ３、および、個別帰還路Ｔ４を含む循環経路が形成されており、ユニット設置室Ｔ１から送出されて搬送室Ｔ２を下向きに流れて、帰還路Ｔ３を通じて再びユニット設置室Ｔ１に帰還される窒素ガスの循環が形成される。また、搬送室Ｔ２内に配置されている装置２２，２３の内部を流れて、個別帰還路Ｔ４を通じて再びユニット設置室Ｔ１に帰還される窒素ガスの循環が形成される。

この循環経路において、帰還路Ｔ３および個別帰還路Ｔ４の流路断面積は、ユニット設置室Ｔ１と搬送室Ｔ２とを連通させる開口２１４１の流路断面積よりも小さく、前者の流路抵抗は、後者の流路抵抗よりも大きい。このため、帰還路Ｔ３および個別帰還路Ｔ４から帰還される窒素ガスの流量に比べて、開口２１４１を通じて送出される窒素ガスの流量が多くなって、ユニット設置室Ｔ１の圧力が低下する傾向が生じ得る。ユニット設置室Ｔ１の圧力が筐体２１の外部空間の圧力よりも低圧になってしまうと、外部空間からユニット設置室Ｔ１へ外気が侵入する虞がある。しかしながら、このＥＦＥＭ１００では、第１ファン４３および第２ファン４４によって窒素ガスを帰還路Ｔ３あるいは個別帰還路Ｔ４に積極的に送出しており、これによって、ユニット設置室Ｔ１の圧力低下を抑制し、外気の侵入を防いでいる。

一方で、第１ファン４３が帰還路Ｔ３に窒素ガスを送出することによって、帰還路Ｔ３の圧力が高まり、帰還路Ｔ３と搬送室Ｔ２とを隔てる隔壁の両側（すなわち、前角支柱２１２の内と外）に、帰還路Ｔ３の側が高圧となるような差圧が形成される。同様に、第２ファン４４が帰還路Ｔ３に窒素ガスを送出することによって、個別帰還路Ｔ４の圧力が高まり、個別帰還路Ｔ４と搬送室Ｔ２とを隔てる隔壁の両側（すなわち、中間支柱２１３の内と外）に、個別帰還路Ｔ４の側が高圧となるような差圧が形成される。

帰還路Ｔ３と搬送室Ｔ２とを隔てる隔壁の両側に、帰還路Ｔ３の側が高圧となるような差圧が形成されると、該隔壁にある微小な隙間を通じて、帰還路Ｔ３から搬送室Ｔ２に僅かなガスの漏れ（リーク）が生じてしまう可能性がある。ここで、帰還路Ｔ３を流れるガスには、パーティクルが含まれている可能性がある。すなわち、搬送室Ｔ２に形成されるダウンフローは、搬送室Ｔ２内に浮遊しているパーティクルを下方に押し流す役割も担っており、帰還路Ｔ３を通じて帰還される窒素ガスには、搬送室Ｔ２内を浮遊していたパーティクルが含まれている可能性がある。このようなパーティクルを含んだガスが搬送室Ｔ２に漏れてしまうと、搬送室Ｔ２の清浄度が低下する虞がある。

同様に、個別帰還路Ｔ４と搬送室Ｔ２とを隔てる隔壁の両側に、個別帰還路Ｔ４の側が高圧となるような差圧が形成されると、該隔壁にある微小な隙間を通じて、個別帰還路Ｔ４から搬送室Ｔ２に僅かなガスの漏れが生じてしまう可能性がある。ここで、個別帰還路Ｔ４を流れるガスにも、パーティクルが含まれている可能性がある。すなわち、搬送装置２２あるいはアライナ２３が駆動された際に、駆動機構２２４，２３３などで発生してケース２２５，２３５内を浮遊するパーティクルは、ファン２２７，２３７によって、ケース２２５，２３５内の窒素ガスとともに、接続管２２６，２３６を介して送出され、これと接続されている個別帰還路Ｔ４に流入する。したがって、該個別帰還路Ｔ４を流れるガスには、各装置２２，２３の駆動機構２２４，２３３などで発生したパーティクルが含まれている可能性がある。このようなパーティクルを含んだガスが搬送室Ｔ２に漏れてしまうと、搬送室Ｔ２の清浄度が低下する虞がある。

そこで、このＥＦＥＭ１００では、帰還路Ｔ３および個別帰還路Ｔ４の各々に、パーティクルを捕獲する捕獲部５を設けている。この捕獲部５について、図６、図７に加え、図８を参照しながら説明する。図８は、前角支柱２１２およびここに設けられている帯電部５１を示す図である。

捕獲部５は、ガスに含まれるパーティクルを電気的に捕獲するものであり、帯電部５１と、帯電部５１に電圧を印加する電圧印加部５２と、これらを接続する導線５３と、を備える。

帯電部５１は、薄肉状の部材であり、一方の主面が帯電面５１１を構成する。電圧印加部５２が導線５３を通じて帯電部５１に所定の電圧を印加すると、帯電部５１の帯電面５１１が帯電する。帯電面５１１が帯電すると、その周囲にあるパーティクルが静電気力によって引きつけられて、帯電面５１１に付着（吸着）して捕獲される。

上記の通り、各前角支柱２１２および各中間支柱２１３は、いずれも、断面が矩形の筒状であって、内部に形成される中空部２１２１，２１３１が、帰還路Ｔ３あるいは個別帰還路Ｔ４を構成する。帯電部５１は、各前角支柱２１２および各中間支柱２１３の内壁面に設けられる。

ここで帯電部５１が取り付けられる各支柱（対象支柱）２１２，２１３の構成について、具体的に説明する。対象支柱２１２，２１３は、後方側が開口した断面コ字状の本体部２０１と、本体部２０１の後方側の開口２０１１を気密に塞ぐように本体部２０１に取り付けられるカバー部２０２と、を含んで構成されており、カバー部２０２がこの開口２０１１を気密に塞ぐことによって、気密な中空部２１２１，２１３１が形成されるようになっている。カバー部２０２が本体部２０１から取り外されると、本体部２０１の後方側の開口２０１１が露出して、本体部２０１の内壁面（すなわち、前方の内壁面２０１ａ、および、左右の内壁面２０１ｂ）にアクセス可能な状態となる。

帯電部５１は、カバー部２０２を取り外したときに開口２０１１を介してアクセス可能な内壁面に設けられる。具体的には、帯電部５１は、前方の内壁面２０１ａに、帯電面５１１を後方に向けるようにして、取り付けられる。帯電部５１を内壁面２０１ａに取り付ける態様はどのようなものであってもよい。例えば、内壁面２０１ａに複数のスタッドボルト２０３を立設しておき、各スタッドボルト２０３が、帯電部５１に設けられている各貫通孔を挿通され、その上からナット２０４が締結されることによって、該内壁面２０１ａに帯電部５１が取り付けられるものとしてもよい。

帯電部５１から伸びる導線５３は、開放ダクト２１５（あるいは閉鎖ダクト２１６）を通って、ここに収容されている第１ファン４３（あるいは第２ファン４４）から伸びる配線とともに引き出されて、電圧印加部５２に接続される。

帯電部５１は、これが取り付けられる内壁面２０１ａの略全体をカバーするような形状およびサイズとされることが好ましい。すなわち、帯電部５１は、左右幅が内壁面２０１ａの左右幅と略同一とされ、上下寸法が内壁面２０１ａの上下寸法と略同一とされることが好ましい。あるいは、内壁面２０１ａよりも小さな帯電部５１が複数個配列されることによって、内壁面２０１ａの略全体がカバーされてもよい。

対象支柱２１２，２１３の内壁面２０１ａに設けられている帯電部５１に対して電圧印加部５２が所定の電圧を印加すると、帯電面５１１が帯電する。すると、帯電面５１１の周囲にあるパーティクル、すなわち、対象支柱２１２，２１３の中空部２１２１，２１３１によって構成される帰還路Ｔ３あるいは個別帰還路Ｔ４を流れる窒素ガスに含まれるパーティクルが、静電気力によって引きつけられて、帯電面５１１に吸着して捕獲される。これによって、帰還路Ｔ３あるいは個別帰還路Ｔ４を流れる窒素ガスに含まれるパーティクルが除去される。したがって、帰還路Ｔ３あるいは個別帰還路Ｔ４からこれよりも低圧である搬送室Ｔ２に向けてガスの漏れが生じたとしても、搬送室Ｔ２のパーティクル量が増加しにくい。すなわち、搬送室Ｔ２の清浄度が低下しにくい。

なお、帯電面５１１には、捕獲されたパーティクルが蓄積していく。そこで、ＥＦＥＭ１００のメンテナンス時などといった適宜のタイミングで、帯電部５１に対する電圧の印加を停止するとともに、帯電面５１１に付着しているパーティクルを拭き取って回収する作業（ウエットクリーニング）が行われることが好ましい。ここでは、帯電部５１は、カバー部２０２を取り外すことで露出する開口２０１１を通じてアクセス可能な位置に設けられている。したがって、作業者は、カバー部２０２を取り外し、開口２０１１の奥に現れる帯電面５１１を布などで拭き取ることで、帯電面５１１に付着しているパーティクルを回収することができる。

＜４．効果＞
上記の実施形態に係るＥＦＥＭ１００は、ウエハ９が搬送される搬送空間を形成する搬送室Ｔ２と搬送室Ｔ２の一方側から他方側に流れたガスを帰還させる帰還路Ｔ３とを含んで構成される循環経路を備える。そして、このＥＦＥＭ１００は、帰還路Ｔ３と搬送室Ｔ２が隔壁を挟んで設けられており、循環経路をガスが循環している状態において、隔壁の両側に帰還路Ｔ３の側が高圧となるような差圧が形成されるものであり、帰還路Ｔ３に設けられ、ここを流れるガスに含まれるパーティクルを電気的に捕獲する捕獲部５を備える。

この構成によると、帰還路Ｔ３を流れるガスに含まれるパーティクルが電気的に捕獲されるので、帰還路Ｔ３からこれよりも低圧である搬送室Ｔ２に向けてガスの漏れが生じたとしても、搬送室Ｔ２のパーティクル量が増加しにくい。したがって、搬送室Ｔ２にあるウエハ９へのパーティクルの付着を十分に抑制することができる。

また、帰還路Ｔ３を流れるガスに含まれるパーティクルを例えば気体透過型のフィルタ（物理パーティクルフィルタ）で捕獲しようとすると、帰還路Ｔ３の流路抵抗が大幅に増大することが避けられず、帰還路Ｔ３にガスを送出するファン（第１ファン）４３の大型化などが避けられない。ここでは、帰還路Ｔ３に設けられる捕獲部５がパーティクルを電気的に捕獲するものであるので、帰還路Ｔ３の流路抵抗を大きく増大させずにパーティクルを捕獲することができる。したがって、第１ファン４３の大型化などが回避される。

さらに、上記の構成では、帰還路Ｔ３に捕獲部５が設けられるので、循環経路を流れるガスに含まれるパーティクルが、ファンフィルタユニット４１のフィルタ４１２と捕獲部５とで分散して捕獲されることになる。したがって、捕獲部５が設けられない場合に比べて、フィルタ４１２に蓄積されるパーティクルの量が少なくなる。これにより、ファンフィルタユニット４１が延命され、その交換周期が長くなる。

また、上記の実施形態に係るＥＦＥＭ１００においては、捕獲部５が、ガスに含まれるパーティクルを静電気力によって帯電面５１１に付着させて捕獲するものである。

この構成によると、帰還路Ｔ３を流れるガスに含まれるパーティクルを、簡易な構成で十分に捕獲することが可能であり、メンテナンスも容易である。例えば、パーティクルをフィルタで捕獲する場合、定期的なフィルタ交換が必要となるが、パーティクルを帯電面５１１に付着させて捕獲するものであれば、帯電面５１１の帯電を解除して帯電面５１１を拭き取るなどといった比較的簡便な作業で、パーティクルを回収することができる。

また、上記の実施形態に係るＥＦＥＭ１００は、複数のパネル２１１と、複数のパネル２１１を支持する支柱２１２，２１３と、を含んで構成される筐体２１、を備え、前角支柱２１２が中空であって、帰還路Ｔ３が、前角支柱２１２の中空部２１２１に設けられており、捕獲部５が、前角支柱２１２の内壁面２０１ａに設けられている。

この構成によると、帰還路Ｔ３が前角支柱２１２の中空部２１２１に設けられるので、装置のフットプリントが小さく抑えられる。その反面、帰還路Ｔ３が前角支柱２１２の中空部２１２１という狭い空間に制限されることで、帰還路Ｔ３の流路抵抗が比較的大きなものとなることが避けられないが、ここでは、帰還路Ｔ３に設けられる捕獲部５がパーティクルを電気的に捕獲するものであるので、上記の通り、捕獲部５が設けられることによる流路抵抗の増大幅が十分に小さい。したがって、第１ファン４３の大型化などが回避される。

また、上記の実施形態に係るＥＦＥＭ１００は、前角支柱２１２が、捕獲部５へのアクセスを可能にする開口２０１１と、開口２０１１の閉鎖および開放が自在であるカバー部２０２と、を備える。

この構成によると、開口２０１１が開放された状態とすることで、該開口２０１１を介して捕獲部５にアクセスすることができる。したがって、捕獲部５のメンテナンスを難なく行うことができる。

また、上記の実施形態に係るＥＦＥＭ１００は、循環経路が、搬送室Ｔ２に配置されている所定の装置２２，２３の内部を流れたガスを帰還させる個別帰還路Ｔ４、を含んでおり、個別帰還路Ｔ４と搬送室Ｔ２が隔壁を挟んで設けられており、循環経路をガスが循環している状態において、隔壁の両側に個別帰還路Ｔ４の側が高圧となるような差圧が形成されるものであり、捕獲部５が、帰還路Ｔ３と個別帰還路Ｔ４の各々に設けられる。

この構成によると、搬送室Ｔ２に配置されている装置２２，２３の内部を流れたガスを、個別帰還路Ｔ４を通じて帰還させるので、該装置２２，２３の内部で発生したパーティクルが搬送室Ｔ２に放出されて搬送室Ｔ２内のウエハ９に付着する、といった事態の発生を十分に抑制することができる。また、個別帰還路Ｔ４を流れるガスに含まれるパーティクルが電気的に捕獲されるので、個別帰還路Ｔ４からこれよりも低圧である搬送室Ｔ２に向けてガスの漏れが生じたとしても、搬送室Ｔ２のパーティクル量が増加しにくい。

＜５．他の実施形態＞
上記の実施形態においては、搬送装置２２あるいはアライナ２３の内部を流れたガスを導く接続管２２６，２３６が、中間支柱２１３に接続されるものとしたが、図９に示されるＥＦＥＭ１００ａのように、該接続管２２６，２３６が、帰還路Ｔ３の途中であって、捕獲部５よりも上流側の位置（具体的には例えば、前角支柱２１２に設けられる開放ダクト２１５における開口端２１５１と第１ファン４３との間の位置）に接続されてもよい。

この構成によると、搬送装置２２およびアライナ２３の内部を流れたガスは、帰還路Ｔ３の途中であって捕獲部５よりも上流側の位置から帰還路Ｔ３に導入されて、帰還路Ｔ３を通じて帰還されることになる。したがって、該装置２２，２３の内部で発生したパーティクルが搬送室Ｔ２に放出されて、搬送室Ｔ２内のウエハ９に付着する、といった事態の発生を十分に抑制することができる。また、各装置２２，２３の内部を流れたガスは、捕獲部５よりも上流の位置において帰還路Ｔ３に導入されるので、搬送室Ｔ２を流れてきたガスと、装置２２，２３の内部を流れてきたガスと、を含む集合ガスに含まれるパーティクルが、捕獲部５において捕獲されることになる。したがって、両方のガスに含まれるパーティクルを効率的に捕獲することができる。

なお、図９の例では、搬送装置２２のケース２２５から伸びる接続管２２６と、アライナ２３のケース２３５から伸びる接続管２３６の両方が、同じ前角支柱２１２に接続されるものとしたが、搬送装置２２の側の接続管２２６を例えば左側の前角支柱２１２に接続し、アライナ２３の側の接続管２３６を例えば右側の前角支柱２１２に接続してもよい。

上記の実施形態において、帰還路Ｔ３は、各前角支柱２１２の中空部２１２１によって構成されるものとしたが、帰還路Ｔ３を構成する態様はこれに限らない。また、個別帰還路Ｔ４は、各中間支柱２１３の中空部２１３１によって構成されるものとしたが、個別帰還路Ｔ４を構成する態様もこれに限らない。

例えば、後側に配置される角支柱２１２の中空部２１２１、あるいは、中間支柱２１３の中空部２１３１が、帰還路Ｔ３を構成するものとしてもよい。あるいは、角支柱２１２の中空部２１２１が、個別帰還路Ｔ４を構成するものとしてもよい。

また例えば、筐体２１の周壁（前壁、後壁、左壁、あるいは、右壁）を構成するパネル２１１の近傍に、該パネル２１１との間に間隔を設けつつこれと平行に延在する仕切りパネルを設け、該パネル２１１と仕切りパネルとの間の空間によって、帰還路Ｔ３または（および）個別帰還路Ｔ４を構成してもよい。

上記の実施形態では、循環経路をガスが循環している状態において、帰還路Ｔ３（あるいは個別帰還路Ｔ４）と搬送室Ｔ２とを隔てる隔壁の両側に、帰還路Ｔ３（あるいは個別帰還路Ｔ４）の側が高圧となるような差圧が形成されるところ、この差圧は、１０(Pa) 以上、かつ、１００(Pa) 以下であることが好ましく、特に好ましくは、３０(Pa) 以上、かつ、５０(Pa) 以下であることが好ましい。すなわち、本発明は、帰還路Ｔ３（あるいは個別帰還路Ｔ４）と搬送室Ｔ２との間に、このような差圧が形成される場合に、特に有効に機能する。

上記の実施形態において、個別帰還路Ｔ４は必須の構成ではなく、これが省略されてもよい。例えば、搬送装置２２または（および）アライナ２３の各ケース２２５，２３５から伸びる接続管２２６，２３６を排気ラインと接続して、ケース２２５，２３５内のガスが循環されずに排気されるものとしてもよい。個別帰還路Ｔ４が設けられない場合に、中間支柱２１３の中空部２１３１が、帰還路Ｔ３を構成するものとしてもよい。

上記の実施形態において、捕獲部５は、ガスに含まれるパーティクルを静電気力によって帯電面５１１に付着させて捕獲するものであるとしたが、捕獲部５の構成はこれに限られるものではない。すなわち、捕獲部５は、ガスに含まれるパーティクルを電気的に捕獲するものであればよく、例えば、ガスの流路途中に電極を配置してこれを用いて電磁場を形成することで、パーティクルを電気的に捕獲するものであってもよい。あるいは、プラズマを発生させることでガスに含まれるパーティクルを電気的に捕獲するものであってもよい。

上記の実施形態において、捕獲部５の帯電部５１を帯電させる態様はどのようなものであってもよく、例えば、電荷供給源となる端子を帯電部に接触させることで、帯電部に電荷を供給して蓄積させるものであってもよい。あるいは、コロナ放電方式で帯電部を帯電させるものであってもよい。

上記の実施形態において、第１ファン４３および第２ファン４４は必須の構成ではなく、これの一方あるいは両方が省略されてもよい。

上記の実施形態においては、ガス供給部４５の供給管４５１がユニット設置室Ｔ１に接続されて、ユニット設置室Ｔ１に窒素ガスが供給されるものとしたが、窒素ガスの供給位置はここに限るものではなく、循環経路における任意の位置から窒素ガスを供給するものとしてよい。例えば、ガス供給部４５の供給管４５１を帰還路Ｔ３に接続して、帰還路Ｔ３に窒素ガスが供給されるものとしてもよい。帰還路Ｔ３に窒素ガスが供給される場合、窒素ガスの供給によって帰還路Ｔ３の圧力が高まるので、たとえ第１ファンフィルタユニット３が設けられなかったとしても、循環経路を窒素ガスが循環している状態において、帰還路Ｔ３と搬送室Ｔ２とを隔てる隔壁の両側（すなわち、前角支柱２１２の内と外）に、帰還路Ｔ３の側が高圧となるような差圧が形成される可能性がある。ひいては、帰還路Ｔ３から搬送室Ｔ２にガスの漏れが生じてしまう可能性がある。しかしながら、上記の通り、帰還路Ｔ３に捕獲部５が設けられることで、このようなガスの漏れが生じたとしても、搬送室Ｔ２のパーティクル量が増加しにくい。すなわち、搬送室Ｔ２の清浄度が低下しにくい。

上記の実施形態においては、ガス排出部４６の排出管４６１が搬送室Ｔ２に接続されて、搬送室Ｔ２から窒素ガスが排出されるものとしたが、窒素ガスの排出位置はここに限るものではなく、循環経路における任意の位置から窒素ガスを排出するものとしてよい。

上記の実施形態において、ハンド２２１が、クランプ部材が駆動機構によって駆動されることでウエハ９の保持および開放を行う、いわゆるメカクランプ方式でウエハ９を把持する場合、クランプ部材が駆動された際に発生したパーティクルを吸引して接続管２２６に導入する構成を設けてもよい。

上記の実施形態において、搬送装置２２のケース２２５に設けられるファン２２７の近傍に、パーティクルを捕獲するためのフィルタが設けられてもよい。同様に、アライナ２３のケース２３５に設けられるファン２３７の近傍に、パーティクルを捕獲するためのフィルタが設けられてもよい。

上記の実施形態において、循環経路を循環するガスは窒素ガスであるとしたが、循環するガスは窒素ガスに限られるものではなく、他のガス（例えば、アルゴンガスなどといった各種の不活性ガス、ドライエア、など）であってもよい。

上記の実施形態において、搬送対象物はウエハ９に限られるものではなく、ガラス基板などであってもよい。

上記の実施形態においては、本発明がＥＦＥＭ１００に適用される場合が例示されていたが、本発明の適用対象はＥＦＥＭ１００に限られるものではない。例えば、清浄環境が求められる対象物が搬送される搬送空間を内部に形成する様々な装置に適用することが可能である。具体的には例えば、格納容器に格納された対象物（例えば、格納容器９０に格納されたウエハ９）の交換、並び替え、などを行うソータ装置に適用することが可能である。また例えば、複数の処理ユニットを含んで構成される基板処理装置において、処理ユニット間で基板が搬送される搬送空間を形成する搬送ユニットに適用することも可能である。他にも、清浄環境が求められる対象物が保管される保管空間が内部に形成される装置（例えば、ストッカー装置）、清浄環境が求められる対象物が処理される処理空間が内部に形成される装置（例えば、各種の基板処理装置）、などに本発明を適用することも可能である。

その他の構成も、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で種々変形が可能である。

１００ ＥＦＥＭ
１ ロードポート
２ 本体部
２１ 筐体
２１１ パネル
２１２ 角支柱
２１３ 中間支柱
２０１ 本体部
２０２ カバー部
２２ 搬送装置
２２５ ケース
２２６ 接続管
２３ アライナ
２３５ ケース
２３６ 接続管
３ 制御部
４１ ファンフィルタユニット
４２ ケミカルフィルタ
４３ 第１ファン
４４ 第２ファン
４５ ガス供給部
４６ ガス排出部
５ 捕獲部
５１ 帯電部
５１１ 帯電面
５２ 電圧印加部
５３ 導線
Ｔ１ ユニット設置室
Ｔ２ 搬送室
Ｔ３ 帰還路
Ｔ４ 個別帰還路

Claims (6)

1. 基板が搬送される搬送空間を形成する搬送室と前記搬送室の一方側から他方側に流れたガスを帰還させる帰還路とを含んで構成される循環経路を備えるＥＦＥＭであって、
   前記帰還路と前記搬送室が隔壁を挟んで設けられており、前記循環経路をガスが循環している状態において、前記隔壁の両側に前記帰還路の側が高圧となるような差圧が形成されるものであり、
   前記帰還路に設けられ、ここを流れるガスに含まれるパーティクルを電気的に捕獲する捕獲部を備える、
   ことを特徴とする、ＥＦＥＭ。
2. 請求項１に記載のＥＦＥＭであって、
   前記捕獲部が、
   ガスに含まれるパーティクルを静電気力によって帯電面に付着させて捕獲するものである、
   ことを特徴とする、ＥＦＥＭ。
3. 請求項１または２に記載のＥＦＥＭであって、
   複数のパネルと、前記複数のパネルを支持する支柱と、を含んで構成される筐体、
   を備え、
   前記支柱が中空であって、
   前記帰還路が、前記支柱の中空部に設けられており、
   前記捕獲部が、前記支柱の内壁面に設けられている、
   ことを特徴とする、ＥＦＥＭ。
4. 請求項３に記載のＥＦＥＭであって、
   前記支柱が、
   前記捕獲部へのアクセスを可能にする開口と、
   前記開口の閉鎖および開放が自在であるカバー部と、
   を備えることを特徴とする、ＥＦＥＭ。
5. 請求項１から４のいずれかに記載のＥＦＥＭであって、
   前記循環経路が、前記搬送室に配置されている所定の装置の内部を流れたガスを帰還させる個別帰還路、を含んでおり、
   前記個別帰還路と前記搬送室が隔壁を挟んで設けられており、前記循環経路をガスが循環している状態において、前記隔壁の両側に前記個別帰還路の側が高圧となるような差圧が形成されるものであり、
   前記捕獲部が、前記帰還路と前記個別帰還路の各々に設けられる、
   ことを特徴とする、ＥＦＥＭ。
6. 請求項１から４のいずれかに記載のＥＦＥＭであって、
   前記搬送室に配置されている所定の装置の内部を流れたガスを導く接続管が、前記帰還路の途中であって前記捕獲部よりも上流側の位置に、接続されている、
   ことを特徴とする、ＥＦＥＭ。

Images