CN115249632A - Efem - Google Patents

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Sinfonia Technology Co Ltd
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Abstract

一种包括循环路径的EFEM，该循环路径包括被构造为形成对基板进行传送的传送空间的传送室以及被构造为使从传送室的一侧流动到另一侧的气体返回的返回路径，该EFEM包括：捕获部件，其设置在返回路径中并被构造为以电气方式捕获流过返回路径的气体中所包含的粒子，其中返回路径和传送室被设置成使得分隔壁插在它们之间并且在分隔壁的两侧产生压差，从而在气体在循环路径中循环的状态下使得返回路径那一侧上的压力变得高于传送室那一侧上的压力。

Description

EFEM
相关申请的交叉引用
本申请基于2021年4月28日提交的日本专利申请第2021-076629号并要求其优先权，其全部内容通过引用并入本文。
技术领域
本发明涉及一种能够使气体进行循环的EFEM(设备前端模块)。
背景技术
在半导体制造工艺等中需要高清洁度的环境。近年来，当在半导体制造厂等中形成清洁环境时，通常采用微环境法而不是下冲流法。微环境法是仅在作为工件的基板(例如晶圆)周围形成局部清洁环境的方法。与使整个工厂保持在清洁环境中的下冲流法相比，微环境法可以形成成本较低且更先进的清洁环境。
在微环境法中，在被称为FOUP(前开式晶圆传送盒)、晶舟、晶圆盒等的保持比外部大气更清洁的封闭储存容器中对晶圆进行存放、传送和保藏。然后，通过与处理设备连接的EFEM在不暴露在外部大气中的情况下在储存容器与该处理设备之间输送被存放在储存容器中的晶圆。
具体地，EFEM被构造为例如包括其中形成有基本上封闭的传送室的壳体、用作储存容器的接口部件的装载端口等等。装载端口与壳体的一侧连接并且处理设备与壳体的另一侧连接。设置在传送室中的传送装置在与装载端口连接的储存容器和处理设备之间装卸晶圆。
顺便说一下，近年来，随着元件的高度集成化和电路的小型化，需要将晶圆的周围环境保持在具有足够低含量的氧、水等的气氛(例如惰性气体气氛)中的情况越来越多，以使得在晶圆上不会发生诸如氧化的表面质地变化。
为了满足这样的要求，已经提出了一种使惰性气体等在壳体内进行循环的EFEM。例如，在专利文献1和2记载的EFEM中，设置在传送室上方的风扇过滤器单元在传送室中形成惰性气体的下冲流。到达传送室下侧的惰性气体被引入到返回路径中，以在其中向上流动并被风扇过滤器单元送回传送室。
根据如上所述的具有使惰性气体进行循环的构造的EFEM，可以将传送室保持在惰性气体气氛中并同时抑制惰性气体的消耗。
现有技术文献
专利文献
专利文献1：日本专利申请公开第2019-16116号
专利文献2：日本专利申请公开第2017-5283号
在使气体进行循环的EFEM中，在气体在循环路径中循环的同时，可以在将返回路径与传送室隔开的分隔壁的两侧产生压差，使得返回路径那一侧上的压力变得高于传送室那一侧上的压力。
例如，在专利文献1公开的EFEM中，返回路径设置在壳体立柱的中空部分中。设置风扇将流过传送室的气体送到返回路径。通过用风扇主动将气体送到返回路径，气体通过比传送室更窄的返回路径返回。通过设置这样的风扇，增大了返回路径中的压力，并且在将返回路径与传送室隔开的分隔壁的两侧(即，立柱的内侧和外侧)产生压差，使得返回路径那一侧上的压力变得高于传送室那一侧上的压力。
此外，例如，在专利文献2公开的EFEM中，壳体的内部被分隔壁分为传送室和返回路径。用于向循环路径供应气体的供应管与返回路径的中间部分连接，并且从返回路径的中间位置供应气体。通过向返回路径供应气体，返回路径中的压力增大，并且在将返回路径与传送室隔开的分隔壁的两侧产生压差，使得返回路径那一侧上的压力变得高于传送室那一侧上的压力。
然而，在产生这种压差时，可能会通过将返回路径与传送室隔开的分隔壁中的微小间隙从返回路径到传送室发生轻微的气体泄漏。当发生这种气体泄漏时，流过返回路径的气体中所包含的粒子、即通常应通过风扇过滤器单元去除的粒子可能会与气体一起流入到传送室中并且可能附着在传送室中的晶圆上。
发明内容
本发明的一个目的是提供一种能够减少气体循环型EFEM中的基板的粒子污染的技术。
本发明已采取以下措施来实现这种目的。
即，本发明涉及一种包括循环路径的EFEM，该循环路径包括被构造为形成对基板进行传送的传送空间的传送室以及被构造为使从传送室的一侧流动到另一侧的气体返回的返回路径，该EFEM包括捕获部件，其设置在返回路径中并被构造为以电气方式捕获流过返回路径的气体中所包含的粒子，其中返回路径和传送室被设置成使得分隔壁插在它们之间并且在分隔壁的两侧产生压差，从而在气体在循环路径中循环的状态下使得返回路径那一侧上的压力变得高于传送室那一侧上的压力。
根据这种构造，以电气方式捕获流过返回路径的气体中所包含的粒子。因此，即使气体从返回路径朝向压力比返回路径中的压力更低的传送室泄漏，传送室中的粒子数量也不太可能增加。因此，可以充分抑制粒子附着在传送室中的基板上。此外，当通过例如气体渗透型过滤器捕获流过返回路径的气体中所包含的粒子时，返回路径的流路阻力不可避免地会显著增加。由于设置在返回路径中的捕获部件以电气方式捕获粒子，因此可以在不显著增加返回路径的流路阻力的情况下捕获粒子。
在该EFEM中，优选地，捕获部件被构造为通过经由静电力使粒子附着在带电表面上来捕获气体中所包含的粒子。
根据这种构造，能够以简单的构造充分地捕获流过返回路径的气体中所包含的粒子，并且容易进行维护。例如，当使用过滤器捕获粒子时，需要定期更换过滤器。然而，如果通过使粒子附着在带电表面上来捕获粒子，则可以通过诸如解除带电表面的电力并擦拭带电表面的相对简单的操作来收集粒子。
该EFEM优选还包括壳体，其包括多个面板以及被构造为支撑多个面板的支柱，其中支柱包括中空部分，其中返回路径设置在中空部分中，并且其中捕获部件设置在支柱的内壁表面上。
根据这种构造，返回路径设置在支柱的中空部分中。因此，可以将设备的占地面积抑制为较小的尺寸。
在该EFEM中，优选地，支柱包括能够接近捕获部件的开口以及被构造为能够关闭和打开开口的盖部。
根据这种构造，通过将开口保持在打开状态，可以通过该开口接近捕获部件。因此，能够容易地进行捕获部件的维护。
在该EFEM中，优选地，循环路径包括独立返回路径，其被构造为使设置在传送室中的预定装置内流动的气体返回，其中独立返回路径和传送室被设置成使得分隔壁插在它们之间，以使得当气体在循环路径中循环时在分隔壁的两侧产生压差，从而保持独立返回路径那一侧上的压力高于传送室那一侧上的压力，并且其中捕获部件设置在返回路径和独立返回路径中的每一个中。
根据这种构造，在设置在传送室中的预定装置内流动的气体通过独立返回路径返回。因此，能够充分防止发生在装置内产生的粒子被排出到传送室并附着在传送室中的基板上的情况。此外，以电气方式捕获流过独立返回路径的气体中所包含的粒子。因此，即使气体从独立返回路径朝向压力比独立返回路径中的压力更低的传送室泄漏，传送室中的粒子数量也不太可能增加。
在该EFEM中，优选地，被构造为对设置在传送室中的预定装置内流动的气体进行引导的连接管在捕获部件的上游侧与返回路径的中间部分连接。
根据这种构造，在设置在传送室中的装置内流动的气体通过返回路径返回。因此，能够充分防止发生在装置内产生的粒子被排出到传送室并附着在传送室中的基板上的情况。此外，由于在捕获部件的上游侧将将装置内流动的气体引入到返回路径中，因此包括流过传送室的气体和流过装置的气体的混合气体中所包含的粒子被捕获部件捕获。因此，可以有效地捕获两种气体中所包含的粒子。
附图说明
包含在说明书中并构成说明书的一部分的附图示出了本发明的实施方式。
图1是示意性示出根据本发明的一个实施方式的EFEM的外观的立体图。
图2是示意性示出EFEM的平面图。
图3是示意性示出EFEM的侧视图，其中示出了包括返回路径的侧表面。
图4是示意性示出EFEM的侧视图，其中示出了包括与传送装置连接的独立返回路径的侧表面。
图5是示意性示出EFEM的侧视图，其中示出了包括与对准器连接的独立返回路径的侧表面。
图6是构成壳体的前壁的面板的后视图。
图7是示出从图6中移除了风扇过滤器单元、化学过滤器和盖部的状态的视图。
图8是示出拐角支柱和安装在其上的带电部件的视图。
图9是示意性示出根据一种变型的EFEM的侧视图。
具体实施方式
现在将详细参照各种实施方式，它们的例子在附图中示出。在以下详细说明中，阐述了许多具体细节来提供对本发明的透彻理解。然而，对于本领域一般技术人员来说显而易见的是可以在没有这些具体细节的情况下实践本发明。在其他情况下，没有对众所周知的方法、过程、系统和组件进行详细描述，以免不必要地模糊各种实施方式的方面。
在下文中，将参照附图描述本发明的实施方式。
<1.EFEM的整体构造>
将参照图1至图3描述根据本发明的一个实施方式的EFEM(设备前端模块)100的整体构造。图1是示意性示出根据该实施方式的EFEM100的外观的立体图。图2是示意性示出EFEM100的主要部分的平面图。图3是示意性示出EFEM100的主要部分的侧视图。
EFEM100是被构造为在被构造为在对晶圆9进行各种处理的处理设备900与被构造为容纳晶圆9的储存容器90之间递送晶圆9的模块。如图1所示，EFEM100通过与处理设备900(通常是处理设备900的负载锁定室)进行连接来使用。如图3所示，储存容器(载体)90是封闭型容器，其包括被构造为以水平姿态多级地容纳晶圆9的主体部91，以及被构造为关闭设置在主体部91的一个侧壁上的开口的盖部92。储存容器90也被称为FOUP(前开式晶圆传送盒)、晶舟等。
如图1所示，EFEM100包括多个(在该图的例子中为三个)装载端口1、主体部件2和控制部件3。装载端口1设置在主体部件2的一个端部侧。处理设备900与主体部件2的另一个端部侧(即，与连接装载端口1的一侧相对的一侧上的端部)连接。在下文中，为了便于说明，将主体部件2的连接有装载端口1的一侧称为“前部”，并且将主体部件2的连接有处理设备900的一侧称为“后部”。另外，将与前-后方向正交的水平方向称为“左-右方向”。
(装载端口1)
装载端口1是被构造为将储存容器90连接至EFEM100的模块，并且包括基板11、安装部件12、门部件13等。
基板11是以直立姿态设置的平板状构件。在基板11的一个主表面上设有以水平姿态突出的支撑基座121，并且安装部件12设置在支撑基座121上。安装部件12的上表面形成用于安装储存容器90的安装表面。安装部件12设有被构造为使安装部件12在支撑基座121上进退的机构(安装部件驱动机构)。通过该机构的驱动，安装部件12在紧邻基板11的接近位置与远离基板11的隔开位置之间移动。此外，安装部件12设有被构造为用预定气体(在本实施方式中为氮气)来替换安装在安装部件12上的储存容器90中的气氛的机构(气体替换机构)。
同时，基板11具有开口111，其形成在使该开口111在储存容器90安装在安装部件12上时面对盖部92的位置处。门部件13被设置为用于关闭开口111。门部件13包括被构造为将与门部件13相对地设置的盖部92从主体部91移除(解锁)并且将盖部92与门部件13连接且集成(对接)的机构(盖保持机构)。此外，门部件13设有被构造为使门部件13移动的机构(门部件驱动机构)。通过门部件驱动机构的驱动，门部件13在使门部件13关闭开口111的关闭位置与使门部件13退回到开口111下方的位置来打开开口111的打开位置之间移动。
安装部件12、门部件13和储存由各种驱动机构的外壳14由基板11支撑。支撑安装部件12、门部件13和外壳14的基板11进行附接来关闭形成在主体部件2的壳体21的前壁中的开口2111。
装载端口1的操作如下。首先，通过诸如OHT、AMHS、PGV等的外部机器人传送容纳有未处理的晶圆9的储存容器90，使得盖部92以面朝门部件13的取向安装在安装部件12的上表面上。此时，安装部件12设置在隔开位置。在将储存容器90安装在安装部件12上之后，安装部件驱动机构使安装部件12从隔开位置移动到接近位置。结果，将安装在安装部件12上的储存容器90的盖部92设置成在靠近门部件13的同时面对门部件13。
在这种状态下，设置在门部件13中的盖保持机构将储存容器90的盖部92从主体部分91上移除，并将盖部92连接并集成到门部件13上。随后，门部件驱动机构将门部件13与和门部件13集成的盖部92一起从关闭位置移动到打开位置。结果，储存容器90的内部通过开口111与主体部件2的内部连通，并且储存在储存容器90中的未处理的晶圆9通过设置在主体部件2内的传送机构22(稍后描述)取出。
(主体部件2)
主体部件2包括设置在多个装载端口1与处理设备900之间的壳体21，其是长方体状的框架。如图2和图3所示，壳体21包括多个面板211、多个拐角支柱212、多个中间支柱213、支撑板214等。
面板211是形成壳体21的外周壁表面的基本上矩形平板状的构件。在这个例子中，六个面板211组合成长方体形状。即，六个面板211中的四个以竖直姿态设置为形成壳体21的前壁、后壁、左壁和右壁。此外，其余两个面板211以水平姿态设置为形成壳体21的顶板和底板。这六个面板211进行精确的附接，以免产生可能使内部气体流出的间隙。由六个面板211围成的空间是基本上气密的封闭空间。毫无疑问，也可以在相邻的面板211之间设置密封构件等来提高内部空间的气密性。
构成壳体21的前壁的面板211设有多个开口2111。装载端口1(具体地，基板11)进行附接来气密地关闭每个开口2111(参见图1)。另一方面，例如，处理设备900的负载锁定室与构成壳体21的后壁的面板211连接。构成后壁的面板211形成有被构造为使壳体21与负载锁定室连通的开口。该开口被构造为通过闸阀2112等来关闭。
拐角支柱212是被构造为支撑面板211的杆状构件并且分别设置在壳体21的四个拐角处。即，拐角支柱212分别设置在壳体21的左前拐角、右前拐角、左后拐角和右后拐角处。每个拐角支柱212都具有管状形状并具有形成在其中的中空部分2121。
为了避免干涉将在之后描述的传送装置22等，优选将每个拐角支柱212的前-后宽度设置为100mm以下。同时，如将在之后描述的那样，拐角支柱212的中空部分2121构成返回路径T3。为了减小中空部分2121的流路阻力，优选尽可能地增加每个拐角支柱212的左-右宽度。然而，随着左-右宽度的增加，设备的占地面积增加。考虑到其平衡，每个拐角支柱212的左-右宽度例如被设置为大约200mm。
中间支柱213是被构造为支撑构成前壁的面板211的杆状构件，并且设置在面板211的相邻的开口2111之间。在这个例子中，设置三个开口2111与三个负载端口1对应。中间支柱213分别设置在右侧开口2111与中间开口2111之间以及中间开口2111与左侧开口2111之间。与拐角支柱212一样，每个中间支柱213都具有管状形状并具有形成在其中的中空部分2131。
为了避免干涉将在之后描述的传送装置22等，优选将每个中间支柱213的前-后宽度也设置为100mm以下。同时，如将在之后描述的那样，中间支柱213的中空部分2131构成独立返回路径T4。为了减小中空部分2131的流路阻力，优选每个中间支柱213的左-右宽度应尽可能大。然而，随着左-右宽度的增加，相邻的装载端口1之间的距离变宽。考虑到其平衡，每个中间支柱213的左-右宽度例如被设置为大约80mm。
支撑板214是基本上矩形平板状的构件，其被构造为竖直地划分由六个面板211围成的空间，并且以水平姿态设置在构成顶板的面板211附近。在由六个面板211围成的空间中，支撑板214上方的空间在下文中称为“单元安装室T1”。风扇过滤器单元41等设置在单元安装室T1中。此外，在由六个面板211围成的空间中，支撑板214下方的空间在下文中称为“传送室T2”。传送室T2形成在安装在装载端口1上的储存容器90与处理设备900之间传送晶圆9的空间(传送空间)。
传送装置22、对准器23等设置在传送室T2中。传送装置22基本上设置在传送室T2的中心处。另一方面，对准器23设置在传送装置22的右侧。在这个例子中，构成壳体21的右壁的面板211具有U形横截面，其包括在左-右方向上从前端侧和后端侧突出的部分，由此在传送室T2内形成向右拐角支柱212的右侧伸出的空间。对准器23设置在该伸出空间中。
将参照图4描述传送装置22。图4是示意性示出EFEM100的主要部分的侧视图，其中示出了传送装置22以及包括与传送装置22连接的独立返回路径T4(稍后描述)的侧表面。
传送装置22是被构造为在安装在装载端口1上的FOUP90与处理设备900之间传送晶圆9的装置，并且被构造为包括手部221、臂部222、升降支柱223、驱动机构224、外壳225等。
手部221是通过诸如机械夹紧法、真空吸附法、静电吸附法等的适当方法夹持晶圆9的构件并且与臂部222的顶端连接。与臂部222的顶端连接的手部221的数量可以是一个或两个或更多。臂部222例如为铰接结构，并且通过驱动机构224驱动成在水平面内自由旋转。升降支柱223是与臂部222连接的杆状构件并且通过驱动机构224的驱动而上下移动。驱动机构224是被构造为驱动臂部222、升降支柱223等的机构，并且包括马达、滚珠丝杠机构等。
外壳225固定在传送室T2中。驱动机构224容纳在外壳225内。开口2251设置在外壳225的上表面上。升降支柱223插入到开口2251中。升降支柱223在设置在外壳225内的下端部处与驱动机构224连接并且在从外壳225向上突出的上端部处与臂部222连接。开口2251的内径略大于升降支柱223的外径，以免妨碍升降支柱223的升降。在开口2251与升降支柱223之间形成微小间隙。
在外壳225的侧壁中设有通孔2252。通孔2252和将在之后描述的封闭管道216通过连接管226彼此连接。外壳225设有风扇227，其被构造为将外壳225中的气体通过通孔2252送到连接管226。通过驱动风扇227，外壳225中的气体与其中产生的粒子一起被排出到连接管226。
传送装置22在控制部件3的控制下执行预定的传送操作。即，通过组合地进行诸如使升降支柱223进行升降、使臂部222进行旋转、在手部221上夹持和释放晶圆9等的操作，传送装置22从安装在装载端口1上的FOUP90取出未处理的晶圆9并将未处理的晶圆9装入到处理设备900中。此外，传送装置22从处理设备900中卸载处理后的晶圆9并将处理后的晶圆9存放在安装在装载端口1上的FOUP90中。
将参照图5描述对准器23。图5是示意性示出EFEM100的主要部分的侧视图，其中示出了对准器23以及包括与对准器23连接的独立返回路径T4(稍后描述)的侧表面。
被存放在储存容器90中的晶圆9在储存容器90通过外部机器人运送并被安装在装载端口1的安装部件12上时可能会发生轻微的位置偏移。对准器23是用于检测位置偏移并进行位置校正(对准)来校正位置偏移的装置。对准器23包括台板231、旋转支柱232、驱动机构233、检测部件234、外壳235等。
台板231是用于放置要进行对准的晶圆9的构件。旋转支柱232是与台板231的下表面的中心位置连接的杆状构件并且在驱动机构233的驱动下围绕中心轴线旋转。驱动机构233是被构造为驱动旋转支柱232等的机构，并且包括马达、滑轮等。检测部件234基于放置在旋转台板231上的晶圆9的外周边缘位置等来检测晶圆9从期望位置偏移的量。
外壳235由设置在传送室T2中的支撑基座(未被示出)支撑。驱动机构233容纳在外壳235内。开口2351设置在外壳235的上表面上。旋转支柱232插入到开口2351中。旋转支柱232在设置在外壳235内的下端部处与驱动机构233连接并且在从外壳235向上突出的上端部处与台板231连接。开口2351的内径略大于旋转支柱232的外径，以免妨碍旋转支柱232的旋转。在开口2351与旋转支柱232之间形成微小间隙。
在外壳235的侧壁中设有通孔2352。通孔2352和将在之后描述的封闭管道216通过连接管236彼此连接。外壳235设有风扇237，其被构造为将外壳235中的气体通过通孔2352送到连接管236。通过驱动风扇237，外壳235中的气体与其中产生的粒子一起被排出到连接管236。
对准器23在控制部件3的控制下执行预定的对准操作。即，当传送装置22将从储存容器90中取出的晶圆9放置在对准器23的台板231上时，对准器23在使台板231旋转的同时使用检测部件234检测放置在台板231上的晶圆9的外周边缘位置并且精确测定晶圆9从期望位置偏移的量。将精确测定的位置偏移量报告给控制部件3。当传送装置22将放置在台板231上的晶圆9卸下时，控制部件3根据位置偏移量来校正手部221的接收位置。结果，使晶圆9和手部221之间的位置关系变为期望的位置关系。即，在晶圆9经过位置偏移校正而被适当地对准的状态下，从对准器23上卸下晶圆9。将晶圆9装入到处理设备900中。
(控制部件3)
再次参照图1，控制部件3控制EFEM100中包括的各个部件的操作。具体地，控制部件3进行与装载端口1的操作有关的各种控制、与传送装置22的操作有关的各种控制、与对准器23的操作有关的各种控制、与壳体21中的氮气循环(稍后描述)有关的各种控制等。
控制部件3的硬件构造与一般算机的硬件构造相同。即，控制部件3包括进行各种运算处理的CPU、作为存储所需程序的只读存储器的ROM、作为存储各种信息的读/写存储器的RAM、对控制软件、数据等进行存储的磁盘、各种接口等。当控制部件3的CPU执行存储在存储器中的程序时，在EFEM100中执行预定的操作。
<2.循环路径>
当EFEM100处于操作状态时，壳体21的内部空间填充有预定气体(在本实施方式中为氮气)并被构造成使预定气体在内部空间中循环。除了图2至图5，还将参照图6和图7来描述使气体进行循环的循环路径。图6是构成壳体21的前壁的面板211的后视图。图7是示出从图6中移除了风扇过滤器单元41、化学过滤器42和盖部202的状态的视图。
如图3至图5所示，循环路径包括设置有风扇过滤器单元41等的单元安装室T1、形成传送空间的传送室T2、被构造为使从传送室T2的一侧流到另一侧的氮气返回的返回路径T3(参照图3)以及被构造为使在设置在传送室T2中的传送装置22和对准器23内流动的气体返回的独立返回路径T4(参见图4和图5)。
(单元安装室T1和传送室T2)
如上所述，单元安装室T1是由六个面板211围成的空间中的支撑板214上方的空间。此外，传送室T2是由六个面板211围成的空间中的支撑板214下方的空间。即，单元安装室T1和传送室T2被支撑板214隔开。支撑板214设有开口2141(见图7)。单元安装室T1和传送室T2通过开口2141相互连通。
风扇过滤器单元41和化学过滤器42设置在单元安装室T1中。
风扇过滤器单元(FFU)41是被构造为在传送室T2中形成向下流动的层流的单元并且通过支撑板214支撑而被容纳在单元安装室T1中。如图3等所示，风扇过滤器单元41包括风扇411和过滤器412。风扇411从上方吸入气体并将气体向下输送。过滤器412例如由ULPA过滤器构成。过滤器412捕获并去除通过风扇411输送的气体中所包含的粒子。
当风扇过滤器单元41的风扇411运转时，单元安装室T1中的氮气在被过滤器412清洁的同时通过设置在支撑板214中的开口2141被输送到传送室T2。结果，在传送室T2中形成向下流动的层流(下冲流)。
化学过滤器42是被构造为去除活性气体、分子污染物等的过滤器，并且在单元安装室T1中设置在风扇过滤器单元41的上游侧。因此，流入到单元安装室T1中的氮气将在活性气体、分子污染物等在穿过化学过滤器42时被去除之后流入到风扇过滤器单元41中。
(返回路径T3)
返回路径T3设置在设置于前侧的两个拐角支柱(即，分别设置在左前拐角和右前拐角处的拐角支柱，它们在下文中也将称为“前拐角支柱”)212的每个中空部分2121中。
如图3所示，与中空部分2121连通的开口2122在每个前拐角支柱212的后表面上形成在下端部附近的位置处，并且设有开口管道215来封闭开口2122。如图3、图6等所示，开口管道215沿着前拐角支柱212向下延伸并到达开口端部2151。开口端部2151在开口2122下方的位置处向下打开，以使开口管道215的内部与传送室T2连通。也就是说，由每个前拐角支柱212的中空部分2121形成的返回路径T3经由开口2122和开口管道215与传送室T2连通。
此外，如图3、图7等所示，每个前拐角支柱212都在其上端部分处与梁构件217连接。在梁构件217内形成有中空部分。每个前拐角支柱212的中空部分2121与梁构件217的中空部分连通。梁构件217的中空部分通过设置在支撑板214中的开口2142(参见图7)与单元安装室T1连通。即，由每个前拐角支柱212的中空部分2121形成的返回路径T3经由梁构件217的中空部分和支撑板214的开口2142与单元安装室T1连通。
在返回路径T3中设有第一风扇43。如图3所示，第一风扇43设置在开口管道215内并且被构造为从下侧吸入气体并将气体向上输送，以形成向上流过返回路径T3的气流。即，当第一风扇43运转时，传送室T2中的氮气(即，在传送室T2中向下流动并到达传送室T2底部附近的氮气)被吸入到开口管道215中并在返回路径T3中向上输送。通过返回路径T3向上流动的氮气流入到单元安装室T1中。即，在传送室T2中向下流动的氮气通过返回路径T3返回到单元安装室T1。返回到单元安装室T1的氮气通过过滤器42、412净化后送回到传送室T2。
(独立返回路径T4)
独立返回路径T4设置在两个中间支柱213的每个中空部分2131中。
如图4和图5所示，与中空部分2131连通的开口2132在每个中间支柱213的后表面上形成在下端部附近的位置处。封闭管道216形成为封闭开口2132。如图4、图5、图6等所示，封闭管道216沿着中间支柱213向下延伸到达相对于传送室T2被封闭的封闭端部2161。
如图2和图4所示，从传送装置22的外壳225伸出的连接管226与设置在左侧设置的中间支柱213中的封闭管道216连接。此外，如图2和图5所示，从对准器23的外壳235伸出的连接管236与设置在右侧设置的中间支柱213中的封闭管道216连接。即，由每个中间支柱213的中空部分2131形成的独立返回路径T4经由开口2132、封闭管道216以及连接管226和236与设置在传送室T2中的传送装置22的外壳225和对准器23的外壳235连通。
此外，如图4、图5、图7等所示，每个中间支柱213都在其上端部分处与梁构件217连接。在梁构件217内形成有中空部分。每个中间支柱213的中空部分2131与梁构件217的中空部分连通。此外，如上所述，梁构件217的中空部分通过设置在支撑板214中的开口2142(参见图7)与单元安装室T1连通。即，由每个中间支柱213的中空部分2131形成的独立返回路径T4经由梁构件217的中空部分和支撑板214的开口2142与单元安装室T1连通。
在独立返回路径T4中设有第二风扇44。如图4和图5所示，第二风扇44设置在封闭管道216内。第二风扇44从下方吸入气体并将气体向上输送，以形成向上流过独立返回路径T4的气流。即，当第二风扇44运转时，从设置在传送室T2中的输送装置22的外壳225和校准器23的外壳235输送的氮气经由连接管226、236被吸入到封闭管道216中并且通过独立返回路径T4向上输送。通过独立返回路径T4向上流动的氮气流入到单元安装室T1中。即，在传送装置22和校准器23中的每一个内流动的氮气通过独立返回路径T4返回到单元安装室T1。返回到单元安装室T1的氮气被过滤器42、412净化后送回到传送室T2。
如上所述，包括单元安装室T1、传送室T2、返回路径T3和独立返回路径T4的循环路径形成在EFEM100的壳体21内。在该循环路径中，设有被构造为供应氮气的气体供应部件45和被构造为从循环路径排出氮气的气体排出部件46。
如图3所示，气体供应部件45包括供应管451和设置在供应管451处的供应阀452。供应管451的一个端部与单元安装室T1的侧壁连接，并且另一个端部与氮气供应源连接。供应阀452被构造为例如包括能够自由调整开度的质量流量控制器。响应于来自控制部件3的指令，控制阀542改变流过供应管451的氮气的量(即，氮气的供应量s)。
控制部件3监测在循环路径中循环的氮气的氧浓度、水浓度等并控制供应阀452等的开度，以使上述浓度保持在预定值以下。具体地，例如，在氧浓度超过预定值的情况下，控制部件3控制供应阀452增加供应至循环路径的氮气的流量并降低氧浓度。
如图3所示，气体排出部件46包括排出管461和设置在排出管461处的排出阀462。排出管461的一个端部被连接到传送室T2的侧壁的下端部附近，并且其另一个端部与排气管线连接。排出阀462被构造为例如包括能够自由调节开度的质量流量控制器。响应于来自控制部件3的指令，排出阀462改变流过排出管461的氮气的量(即，氮气的排出量)。
控制部件3监测循环路径中的至少一个预定位置中的压力并控制排出阀462等的开度，以使每个位置处的压力都保持在预定的适当范围内。具体地，例如，当压力值变得大于适当范围时使排出阀462的开度增大，并且当压力值变得小于适当范围时使排出阀462的开度减小。在控制部件3进行适当控制的状态下，传送室T2内的压力变得稍高于壳体21的外部空间中的压力。即，传送室T2的压力值的适当范围被设置为比壳体21的外部空间中的压力值稍高的值。结果，在抑制氮气从传送室T2向壳体21的外部空间泄漏的同时，能够防止外部空气从壳体21的外部空间进入传送室T2。
<3.捕获部件5>
如上所述，在EFEM100的壳体21的内部空间中形成有包括单元安装室T1、传送室T2、返回路径T3和独立返回路径T4的循环路径。从单元安装室T1送出的氮气在传送室T2中向下流动并通过返回路径T3返回到单元安装室T1，从而形成氮气的循环。另外，氮气在设置在传送室T2中的传送装置22和对准器23内流动。该氮气通过独立返回路径T4返回到单元安装室T1。
在该循环路径中，返回路径T3和独立返回路径T4的流路横截面积小于使单元安装室T1和传送室T2相互连通的开口2141的流路横截面积。返回路径T3和独立返回路径T4的流路阻力大于开口2141的流路阻力。因此，通过开口2141输送的氮气的流量倾向于大于从返回路径T3和独立返回路径T4返回的氮气的流量，并且单元安装室T1中的压力倾向于降低。在单元安装室T1中的压力变得低于壳体21的外部空间中的压力的情况下，外部空气可能从外部空间进入单元安装室T1。然而，在该EFEM100中，通过第一风扇43和第二风扇44将氮气主动送到返回路径T3或独立返回路径T4，从而抑制了单元安装室T1中的压力下降并防止了外部空气的侵入。
同时，当第一风扇43将氮气送到返回路径T3时，返回路径T3中的压力增大，并且在将返回路径T3与传送室T2隔开的分隔壁的两侧(即，在前拐角支柱212的内侧和外侧)产生压差，使得返回路径T3那一侧上的压力变得高于传送室T2那一侧上的压力。类似地，当第二风扇44将氮气送到返回路径T3时，独立返回路径T4中的压力增大，并且在将独立返回路径T4与传送室T2隔开的分隔壁的两侧(即，在中间支柱213的内侧和外侧)产生压差，使得独立返回路径T4那一侧上的压力变得高于传送室T2那一侧上的压力。
当在将返回路径T3与传送室T2隔开的分隔壁的两侧产生压使得返回路径T3那一侧上的压力变得高于传送室T2那一侧上的压力时，存在可能通过形成在分隔壁中的微小间隙从返回路径T3到传送室T2发生轻微的气体泄漏的可能性。在这方面，流过返回路径T3的气体可能含有粒子。即，形成在传送室T2中的下冲流也起到将漂浮在传送室T2中的粒子向下推动的作用，并且通过返回路径T3返回的氮气可能含有漂浮在传送室T2中的粒子。在包含有这些粒子的气体泄漏到传送室T2中的情况下，传送室T2的清洁度可能会降低。
类似地，当在将独立返回路径T4与传送室T2隔开的分隔壁的两侧产生压差使得独立返回路径T4那一侧上的压力变得高于传送室T2那一侧上的压力时，存在可能通过形成在分隔壁中的微小间隙从独立返回路径T4到传送室T2发生轻微的气体泄漏的可能性。在这方面，流过独立返回路径T4的气体也可能含有粒子。即，当传送装置22或校准器23被驱动时，由驱动机构224和233等产生并漂浮在外壳225和235中的粒子与外壳225和235中的氮气一起通过风扇227和237经由连接管226和236进行输送，并且能够流入到与连接管226和236连接的独立返回路径T4中。因此，流过独立返回路径T4的气体可能含有由传送装置22和对准器23的驱动机构224和233等产生的粒子。在含有这些粒子的气体泄漏到传送室T2中的情况下，传送室T2的清洁度可能会降低。
因此，在该EFEM100中，在返回路径T3和独立返回路径T4中的每一个中都设有被构造为捕获粒子的捕获部件5。除了图6和图7外，还将参照图8来描述捕获部件5。图8是示出前拐角支柱212和设置在其中的带电部件51的视图。
捕获部件5以电气方式捕获气体中所包含的粒子，并且包括带电部件51、被构造为对带电部件51施加电压的电压施加部件52以及将带电部件51与电压施加部件52连接的导线53。
带电部件51是薄壁构件，其一个主表面构成带电表面511。当电压施加部件52通过导线53向带电部件51施加预定的电压时，对带电部件51的带电表面511进行充电。当带电表面511被充电时，带电表面511周围的粒子通过静电力被吸引并且随着粒子附着(吸附)到带电表面511上而被带电表面511捕获。
如上所述，前拐角支柱212和中间支柱213中的每一个都是具有矩形横截面的圆柱形，并且形成在其中的中空部分2121和2131构成返回路径T3和独立返回路径T4。带电部件51设置在前拐角支柱212和中间支柱213中的每一个的内壁表面上。
现在，将具体描述附接有带电部件51的各个支柱(目标支柱)212和213的构造。目标支柱212和213中的每一个都包括后侧具有开口的具有U形横截面的主体部201，以及附接到主体部201上的用于气密地封闭主体部201后侧上的开口2011的盖部202。盖部202气密地封闭开口2011以形成气密的中空部分2121和231。当从主体部201上移除盖部202时，主体部201后侧上的开口2011被露出，从而能够接近主体部201的内壁表面(即，前部内壁表面201a以及左侧和右侧内壁表面201b)。
带电部件51设置在当盖部202被移除时可通过开口2011接近的内壁表面上。具体地，带电部件51附接在前部内壁表面201a上，使得带电表面511朝后。带电部件51可以通过任何方式附接到内壁表面201a上。例如，可以在内壁表面201a上竖立多个双头螺栓203，相应的双头螺栓203可以插入到设置在带电部件51中的相应的通孔中，并且可以从上方将螺母204紧固到双头螺栓203上，从而将带电部件51附接到内壁表面201a上。
从带电部件51伸出的导线53与从容纳在开口管道215(或封闭管道216)中的第一风扇43(或第二风扇44)伸出的布线一起通过该管道引出并且连接至电压施加部件52。
带电部件51的形状和尺寸优选设置为基本上覆盖附接有带电部件51的整个内壁表面201a。即，优选的是带电部件51的左-右宽度与内壁表面201a的左-右宽度基本上相同，并且带电部件51的竖直尺寸与内壁表面201a的竖直尺寸基本上相同。替代地，也可以将比内壁表面201a更小的多个带电部件51设置成基本上覆盖整个内壁表面201a。
当电压施加部件52向设置在目标支柱212和213的内壁表面201a上的带电部件51施加预定的电压时，带电表面511被充电。然后，带电表面511周围的粒子、即流过由目标支柱212和213的中空部分2121和2131构成的返回路径T3和独立返回路径T4的氮气中所包含的粒子通过静电力被吸引并且被吸附和捕获在带电表面511上。结果，流过返回路径T3和独立返回路径T4的氮气中所包含的粒子被去除。因此，即使在气体从返回路径T3或独立返回路径T4朝向压力比返回路径T3或独立返回路径T4中的压力更低的传送室T2泄漏的情况下，传送室T2中的粒子数量也不太可能增加。即，传送室T2的清洁度不太可能降低。
所捕获的粒子积聚在带电表面511上。因此，优选的是在诸如EFEM100的维护时间等的适当时刻进行停止向带电部件51施加电压并擦掉和收集附着在带电表面511上的粒子(湿法清洁)的操作。在这个例子中，带电部件51设置在可通过移除盖部202所露出的开口2011接近的位置处。因此，操作者可以通过移除盖部202并用布等擦拭出现在开口2011内的带电表面511来收集附着在带电表面511上的粒子。
<4.效果>
根据上述实施方式的EFEM100设有循环路径，其包括被构造为形成对晶圆9进行传送的传送空间的传送室T2以及被构造为使从传送室T2的一侧流动到另一侧的气体返回的返回路径T3。返回路径T3和传送室T2被设置成使得分隔壁插在它们之间并且被构造为在分隔壁的两侧产生压差，从而在气体在循环路径中循环的状态下使得返回路径T3那一侧上的压力变得高于传送室T2那一侧上的压力。EFEM100包括设置在返回路径T3中并被构造为以电气方式捕获流过其中的气体中所包含的粒子的捕获部件5。
根据这种构造，以电气方式捕获流过返回路径T3的气体中所包含的粒子。因此，即使在气体从返回路径T3朝向压力比返回路径T3内的压力更低的传送室T2泄漏的情况下，传送室T2内的粒子数量也不太可能增加。因此，可以充分防止粒子附着在传送室T2中的晶圆9上。
此外，当通过例如气体渗透型过滤器(物理粒子过滤器)捕获流过返回路径T3的气体中所包含的粒子时，返回路径T3的流路阻力将不可避免地显著增加，并且被构造为将气体输送到返回路径T3的风扇(第一风扇)43的尺寸也将不可避免地增加。由于设置在返回路径T3中的捕获部件5以电气方式捕获粒子，因此可以在不显著增加返回路径T3的流路阻力的情况下捕获粒子。因此，可以避免增加第一风扇43的尺寸。
此外，在上述构造中，由于捕获部件5设置在返回路径T3中，因此流过循环路径的气体中所包含的粒子被风扇过滤器单元41的过滤器412以及捕获部件5分散和捕获。因此，与没有设置捕获部件5的情况相比，在过滤器412中积聚的粒子数量更少。结果，风扇过滤器单元41的寿命延长，并且其更换周期变长。
此外，在根据上述实施方式的EFEM100中，捕获部件5被构造为通过用静电力使粒子附着在带电表面511上来捕获气体中所包含的粒子。
根据这种构造，能够以简单的构造充分地捕获流过返回路径T3的气体中所包含的粒子，并且容易进行维护。例如，当使用过滤器捕获粒子时，需要定期更换过滤器。然而，在通过使粒子附着在带电表面511上来捕获粒子的情况下，可以通过诸如解除带电表面511的电力并擦拭带电表面511的相对简单的操作来收集粒子。
此外，根据上述实施方式的EFEM100包括壳体21，其包括多个面板211以及被构造为支撑多个面板211的支柱212和213，其中支柱212和213包括具有设置有返回路径T3的中空部分2121的前拐角支柱212，并且捕获部件5设置在前拐角支柱212的内壁表面201a上。
根据这种构造，返回路径T3设置在前拐角支柱212的中空部分2121中。因此，可以将设备的占地面积抑制为较小的尺寸。另一方面，由于返回路径T3被限制于前拐角支柱212的中空部分2121的狭窄空间，因此返回路径T3的流路阻力不可避免地变得相对较大。如上所述，由于设置在返回路径T3中的捕获部件5以电气方式捕获粒子，因此由于捕获部件5的设置而导致的流路宽度的阻力增量足够小。因此，可以避免增加第一风扇43的尺寸。
此外，在根据上述实施方式的EFEM100中，前拐角支柱212包括能够接近捕获部件5的开口2011以及能够关闭和打开开口2011的盖部202。
根据这种构造，通过将开口2011保持在打开状态，可以通过开口2011接近捕获部件5。因此，可以容易地进行捕获部件5的维护。
此外，在根据上述实施方式的EFEM100中，循环路径包括独立返回路径T4，其被构造为使设置在传送室T2中的预定的装置22和23内流动的气体返回，独立返回路径T4和传送室T2被设置成使得分隔壁插在它们之间，以使得当气体在循环路径中循环时在分隔壁的两侧产生压差，从而保持独立返回路径T4那一侧上的压力高于传送室T2那一侧上的压力，并且捕获部件5设置在返回路径T3和独立返回路径T4中的每一个中。
根据这种构造，在设置在传送室T2中的装置22和23内流动的气体通过独立返回路径T4返回。因此，能够充分防止发生在装置22、23内产生的粒子被排出到传送室T2并附着在传送室T2中的晶圆9上的情况。此外，通过电气方式捕获流过独立返回路径T4的气体中所包含的粒子。因此，即使在气体从独立返回路径T4朝向压力比独立返回路径T4中的压力更低的传送室T2泄漏的情况下，传送室T2内的粒子数量也不太可能增加。
<5.其他实施方式>
在上述实施方式中，被构造为对传送装置22和校准器23内流动的气体进行引导的连接管226和236与中间支柱213连接。替代地，如图9所示的EFEM100a，连接管226和236可以在捕获部件5上游的位置(具体地，例如设置在前拐角支柱212中的开口管215的开口端部2151与第一风扇43之间的位置)处与返回路径T3的中间部分连接。
根据这种构造，在传送装置22和校准器23内流动的气体从返回路径T3中部的捕获部件5的上游的位置引入到返回路径T3中并通过返回路径T3返回。因此，能够充分防止发生在传送装置22和对准器23内部产生的粒子被排出到传送室T2并附着在传送室T2中的晶圆9上的情况。此外，由于在传送装置22和校准器23内流动的气体在捕获部件5上游的位置处被引入到返回路径T3中，因此包括流过传送室T2的气体以及流过传送装置22和校准器23的气体的混合气体中所包含的粒子被捕获部件5捕获。因此，可以有效地捕获两种气体中所包含的粒子。
在图9的例子中，从传送装置22的外壳225伸出的连接管226和从对准器23的外壳235伸出的连接管236均与同一个前拐角支柱212连接。替代地，传送装置22那一侧上的连接管226例如可以与左前拐角支柱212连接，并且对准器23那一侧上的连接管236例如可以与右前拐角支柱212连接。
在上述实施方式中，返回路径T3由每个前拐角支柱212的中空部分2121构成。然而，返回路径T3的构造不限于此。此外，虽然独立返回路径T4由每个中间支柱213的中空部分2131构成，但是独立返回路径T4的构造不限于此。
例如，设置在后侧的拐角支柱212的中空部分2121或中间支柱213的中空部分2131可以构成返回路径T3。替代地，拐角支柱212的中空部分2121可以构成独立返回路径T4。
此外，例如，在构成壳体21的外周壁(前壁、后壁、左壁或右壁)的面板211附近，可以设置平行于面板211延伸的分隔面板并且同时在面板211和分隔面板之间具有间隙。返回路径T3或(和)独立返回路径T4可以由面板211与分隔面板之间的空间构成。
在上述实施方式中，在气体在循环路径中循环的状态下，在将返回路径T3(或独立返回路径T4)与传送室T2隔开的分隔壁的两侧产生压差，使得返回路径T3(或独立返回路径T4)那一侧上的压力高于传送室T2那一侧上的压力。压差优选为10Pa以上且100Pa以下，更优选30Pa以上且50Pa以下。即，当在返回路径T3(或独立返回路径T4)与传送室T2之间产生这种压差时，本发明特别有效地发挥作用。
在上述实施方式中，独立返回路径T4不是必要的构造并且可以省略。例如，从传送装置22或(和)对准器23的外壳225和235伸出的连接管226和236可以与排气管线连接，使得外壳225和235中的气体被排出而不进行循环。当不设置独立返回路径T4时，中间支柱213的中空部分2131可以构成返回路径T3。
在上述实施方式中，捕获部件5被构造为通过用静电力使粒子附着在带电表面511上来捕获气体中所包含的粒子。然而，捕获部件5的构造不限于此。即，捕获部件5可以具有任何构造，只要其能够以电气方式捕获气体中所包含的粒子。例如，可以通过在气体流路的中部设置电极并利用该电极形成电磁场来以电气方式收集粒子。替代地，可以通过产生等离子体来以电气方式捕获气体中所包含的粒子。
在上述实施方式中，可以使用任何构造为捕获部件5的带电部件51充电。例如，通过使用作电荷供应源的端子与带电部件接触，可以将电荷供应到带电部件并在其中积聚。替代地，带电部件可以通过电晕放电法来充电。
在上述实施方式中，第一风扇43和第二风扇44不是必要的构造，可以省略它们中的一个或全部。
在上述实施方式中，气体供应部件45的供应管451与单元安装室T1连接并且向单元安装室T1供应氮气。然而，氮气的供应位置不限于此。可以从循环路径中的任意位置供应氮气。例如，气体供应部件45的供应管451可以与返回路径T3连接以将氮气供应到返回路径T3。当向返回路径T3供应氮气时，返回路径T3中的压力因氮气的供应而增大。因此，即使在没有设置第一风扇43的情况下，也存在如下可能性，即在氮气在循环路径中循环的状态下，在将返回路径T3与传送室T2(即，前拐角支柱212的内侧和外侧)隔开的分隔壁的两侧产生差压，使得返回路径T3那一侧上的压力变得高于传送室T2那一侧上的压力。此外，存在气体从返回路径T3泄漏到传送室T2的可能性。但是，通过如上所述那样在返回路径T3中设置捕获部件5，即使在发生这种气体泄漏的情况下传送室T2中的粒子数量也不太可能增加。即，传送室T2的清洁度不太可能降低。
在上述实施方式中，气体排出部件46的排出管461与传送室T2连接，并且从传送室T2排出氮气。然而，氮气的排出位置不限于此。氮气可以从循环路径中的任何位置排出。
在上述实施方式中，当手部221通过使驱动机构驱动夹紧构件来保持和释放晶圆9的所谓的机械夹紧法夹持晶圆9时，可以采用将驱动夹紧构件时产生的粒子吸入并引入到连接管226中的构造。
在上述实施方式中，被构造为捕获粒子的过滤器可以设置在传送装置22的外壳225中设置的风扇227附近。类似地，被构造为捕获粒子的过滤器可以设置在对准器23的外壳235中设置的风扇237附近。
在上述实施方式中，在循环路径中循环的气体是氮气。然而，循环气体不限于氮气，也可以是其他气体(例如氩气等的各种惰性气体、干燥空气等)。
在上述实施方式中，被传送的物体不限于晶圆9，也可以是玻璃基板等。
在上述实施方式中，举例说明了将本发明应用于EFEM100的情况。然而，应用本发明的目标不限于EFEM100。例如，本发明可以应用于在内部形成被构造为用于传送需要清洁环境的物体的传送空间的各种装置。具体地，例如，本发明可以应用于被构造为用于替换或重新设置存放在储存容器中的物体(例如，存放在储存容器90中的晶圆9)的分拣设备。此外，例如，本发明可以应用于基板处理设备，其包括多个处理单元，在它们之间形成基板传送空间。此外，本发明可以应用于形成有被构造为用于存放需要清洁环境的物体的储存空间的设备(例如，储料器设备)、形成有被构造为用于处理需要清洁环境的物体的处理空间的设备(例如，各种基板处理设备)等等。
在不脱离本发明的精神的情况下，也可以对其他构造进行各种修改。
根据本发明，在一些实施方式中，可以减少气体循环型EFEM中基板的粒子污染。
虽然已经描述了特定的实施方式，但是这些实施方式仅通过举例的方式给出，并非是意图限制本发明的范围。实际上，本文描述的实施方式可以通过多种其他形式来体现。此外，在不脱离本发明的精神的情况下，可以对本文描述的实施方式的形式做出各种省略、替换和改变。所附权利要求及它们的等同物旨在涵盖落入本发明的范围和精神内的这些形式或变型。

Claims (6)

1.一种包括循环路径的EFEM，所述循环路径包括被构造为形成对基板进行传送的传送空间的传送室以及被构造为使从所述传送室的一侧流动到另一侧的气体返回的返回路径，所述EFEM包括：
捕获部件，其设置在所述返回路径中并被构造为以电气方式捕获流过所述返回路径的所述气体中所包含的粒子，
其中，所述返回路径和所述传送室被设置成使得分隔壁插在它们之间并且在所述分隔壁的两侧产生压差，从而在所述气体在所述循环路径中循环的状态下使得所述返回路径那一侧上的压力变得高于所述传送室那一侧上的压力。
2.根据权利要求1所述的EFEM，其中，所述捕获部件被构造为通过经由静电力使所述粒子附着在带电表面上来捕获所述气体中所包含的所述粒子。
3.根据权利要求1或2所述的EFEM，其还包括：
壳体，其包括多个面板以及被构造为支撑所述多个面板的支柱，
其中，所述支柱包括中空部分，
其中，所述返回路径设置在所述中空部分中，并且
其中，所述捕获部件设置在所述支柱的内壁表面上。
4.根据权利要求3所述的EFEM，其中，所述支柱包括：
开口，能够通过所述开口接近所述捕获部件；以及
盖部，其被构造为能够关闭和打开所述开口。
5.根据权利要求1至4中任一项所述的EFEM，其中，所述循环路径包括独立返回路径，所述独立返回路径被构造为使设置在所述传送室中的预定装置内流动的气体返回，
其中，所述独立返回路径和所述传送室被设置成使得分隔壁插在它们之间，以使得当气体在所述循环路径中循环时在所述分隔壁的两侧产生压差，从而保持所述独立返回路径那一侧上的压力高于所述传送室那一侧上的压力，并且
其中，所述捕获部件设置在所述返回路径和所述独立返回路径中的每一个中。
6.根据权利要求1至4中任一项所述的EFEM，其中，被构造为对设置在所述传送室中的预定装置内流动的气体进行引导的连接管在所述捕获部件的上游侧与所述返回路径的中间部分连接。
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