JPH04195065A - 感光体 - Google Patents
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- 229930195735 unsaturated hydrocarbon Natural products 0.000 description 1
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 1
- 239000011787 zinc oxide Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Photoreceptors In Electrophotography (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は感光体、特に電子写真感光体に関するものであ
る。
る。
カールソン法の電子写真複写方法においては、感光体表
面に帯電させた後、露光によって静電潜像を形成すると
共に、その静電潜像をトナーによって現像し、ついでそ
の可視像を紙等に転写、定着させる。同時に、感光体は
付着トナーの除去や除電、表面の清浄化が施され、長期
にわたって反復使用される。
面に帯電させた後、露光によって静電潜像を形成すると
共に、その静電潜像をトナーによって現像し、ついでそ
の可視像を紙等に転写、定着させる。同時に、感光体は
付着トナーの除去や除電、表面の清浄化が施され、長期
にわたって反復使用される。
従って、電子写真感光体としては、帯電特性及び感度が
良好で暗減衰が小さい等の電子写真特性は勿論であるが
、加えて繰返し使用での耐刷性、耐摩耗性、耐湿性など
の物理的性質や、コロナ放電時に発生するオゾン、露光
時の紫外線等への耐性(耐環境性)においても良好であ
ることが要求される。
良好で暗減衰が小さい等の電子写真特性は勿論であるが
、加えて繰返し使用での耐刷性、耐摩耗性、耐湿性など
の物理的性質や、コロナ放電時に発生するオゾン、露光
時の紫外線等への耐性(耐環境性)においても良好であ
ることが要求される。
従来、電子写真感光体としては、セレン、酸化亜鉛、硫
化カドミウム等の無機光導電性物質を主成分とする感光
体層を有する無機感光体が広く用いられている。
化カドミウム等の無機光導電性物質を主成分とする感光
体層を有する無機感光体が広く用いられている。
一方、種々の有機光導電性物質を電子写真感光体の感光
体層の材料として利用することが近年活発に研究、開発
されている。
体層の材料として利用することが近年活発に研究、開発
されている。
しかしながら、感度及び耐久性において必ずしも満足で
きるものではない。
きるものではない。
このために、感光層において、キャリア発生機能とキャ
リア輸送機能とを異なる物質に個別に分担させることに
より、感度が高くて耐久性の大きい所謂機能分離型更に
夫々の機能層を積層した有機感光体を開発する試みがな
されている。
リア輸送機能とを異なる物質に個別に分担させることに
より、感度が高くて耐久性の大きい所謂機能分離型更に
夫々の機能層を積層した有機感光体を開発する試みがな
されている。
このような機能分離型の電子写真感光体においては、各
機能を発揮する物質を広い範囲のものから選択すること
ができるので、任意の特性を有する電子写真感光体を比
較的容易に作製することが可能である。そのため、感度
が高く、耐久性の大きい有機感光体が得られることが期
待される。
機能を発揮する物質を広い範囲のものから選択すること
ができるので、任意の特性を有する電子写真感光体を比
較的容易に作製することが可能である。そのため、感度
が高く、耐久性の大きい有機感光体が得られることが期
待される。
第2図及び第4図は、こうした有機光導電性物質を用い
る機能分離型の積層電子写真感光体を示すものである。
る機能分離型の積層電子写真感光体を示すものである。
又、第3図は機能分離型単層電子写真感光体である。
この第2図の電子写真感光体は、導電性支持体lの上に
下引層(UCL)7、キャリア発生層(cGL)6、キ
ャリア輸送層(CTL)4を順次積層して構成されてお
り、負帯電用として使用されているものである。即ち、
感光層(PCL)8はCGL6とCTL 4から構成さ
れている。
下引層(UCL)7、キャリア発生層(cGL)6、キ
ャリア輸送層(CTL)4を順次積層して構成されてお
り、負帯電用として使用されているものである。即ち、
感光層(PCL)8はCGL6とCTL 4から構成さ
れている。
このような層構成を有する電子写真感光体においては、
負帯電性の場合に電子よりもホールの移動度か大きいこ
とから、良好な特性を有するホール輸送性の光導電材料
を使用でき、光感度等の点で有利である。
負帯電性の場合に電子よりもホールの移動度か大きいこ
とから、良好な特性を有するホール輸送性の光導電材料
を使用でき、光感度等の点で有利である。
次に第4図に正帯電用の感光体を示す。こうした積層型
感光体、特に有機光導電性物質を用いる感光体において
は、負帯電時に導電性支持体又は下層側からの不均一な
キャリア(ホール)注入が生じ易く、このために表面電
荷が微視的にみて消失し、あるいは減少してしまう。こ
れは特に、反転現像法において黒い斑点状の画像欠陥と
なり(黒斑点)、画像の品質を著しく低下させる。
感光体、特に有機光導電性物質を用いる感光体において
は、負帯電時に導電性支持体又は下層側からの不均一な
キャリア(ホール)注入が生じ易く、このために表面電
荷が微視的にみて消失し、あるいは減少してしまう。こ
れは特に、反転現像法において黒い斑点状の画像欠陥と
なり(黒斑点)、画像の品質を著しく低下させる。
こうした黒斑点の問題は、ホール移動度の大きい有機系
光導電性物質を用いる感光体での特有の現象であり、こ
の原因は、上記したキャリア注入が不均一に生じたこと
が考えられる。
光導電性物質を用いる感光体での特有の現象であり、こ
の原因は、上記したキャリア注入が不均一に生じたこと
が考えられる。
そこで、導電性支持体lとPCLとの間にUCLを設け
、キャリア注入をブロッキングすることが提案されてい
る。
、キャリア注入をブロッキングすることが提案されてい
る。
従来、UCL7を構成する材料としては、ポリエステル
系、ポリウレタン系、ポリアミド系、エポキシ樹脂系、
ポリカーボネート系、ビニルポリマー系例えばポリビニ
ルピリジンアクリル樹脂等、セルロース系、ポリケター
ル系、縮合重合系例えばフェノール樹脂、メラミン樹脂
等が知られている。
系、ポリウレタン系、ポリアミド系、エポキシ樹脂系、
ポリカーボネート系、ビニルポリマー系例えばポリビニ
ルピリジンアクリル樹脂等、セルロース系、ポリケター
ル系、縮合重合系例えばフェノール樹脂、メラミン樹脂
等が知られている。
しかしながら、上記の公知の下引層では、十分に黒斑点
抑制効果がない。しかも、ブロッキング性と感光体とし
ての感度を双方とも良好にすることは寅現されていない
。即ち、従来採用されている樹脂においては、ブロッキ
ング性が有効で黒斑点抑制効果があると思われるものは
感度が悪く、逆に、感度を良好にしようとすると、ブロ
ッキング性が不十分となり黒斑点を十分に抑制すること
ができない。
抑制効果がない。しかも、ブロッキング性と感光体とし
ての感度を双方とも良好にすることは寅現されていない
。即ち、従来採用されている樹脂においては、ブロッキ
ング性が有効で黒斑点抑制効果があると思われるものは
感度が悪く、逆に、感度を良好にしようとすると、ブロ
ッキング性が不十分となり黒斑点を十分に抑制すること
ができない。
さらに、重層塗布過程で問題が生じる。上層、下層のポ
リマーの溶解性が類似していれば、上層塗布時、下層の
一部が溶出し、上層と下層界面が乱れ塗布できなくなっ
たり、ディッピング塗布で塗布した場合、上層塗布槽が
一部下層構成成分で汚染されてしまい高価な上層塗布液
の寿命が短くなる他、感光体の電位特性も悪化させる。
リマーの溶解性が類似していれば、上層塗布時、下層の
一部が溶出し、上層と下層界面が乱れ塗布できなくなっ
たり、ディッピング塗布で塗布した場合、上層塗布槽が
一部下層構成成分で汚染されてしまい高価な上層塗布液
の寿命が短くなる他、感光体の電位特性も悪化させる。
これらのことは、上層、下層のポリマーや溶媒に対して
厳しい処方制限を加えることになる。
厳しい処方制限を加えることになる。
熱硬化性樹脂をUCLに適用した例もあるが、高い硬化
温度(少なくとも110℃以上)と比較的長い時間(3
0分以上)が必要であるので生産性が悪化する。又、硬
化剤が混入した塗布液の安定性は本質的に悪くなる。
温度(少なくとも110℃以上)と比較的長い時間(3
0分以上)が必要であるので生産性が悪化する。又、硬
化剤が混入した塗布液の安定性は本質的に悪くなる。
更に接着性についても未だ充分でなく、支持体とUCL
との接着性以外に、UCL−上層間の接着性が悪いのが
現状である。
との接着性以外に、UCL−上層間の接着性が悪いのが
現状である。
又、近年、電子写真複写方法において、安価、小型で直
接変調できるなどの特徴を有する半導体レーザ光源が用
いられている。現在、半導体レーザとして広範にもちい
られているガリウムルアルミニウム−砒素(Ga−AI
−As)系発光素子は、発振波長が750nm程度以上
である。
接変調できるなどの特徴を有する半導体レーザ光源が用
いられている。現在、半導体レーザとして広範にもちい
られているガリウムルアルミニウム−砒素(Ga−AI
−As)系発光素子は、発振波長が750nm程度以上
である。
こうしたレーザビーム等を用いる技術体系はプリンタへ
の応用が期待されているが、長波長光に高感度を有する
感光体が未だ開発されていないのが現状である。
の応用が期待されているが、長波長光に高感度を有する
感光体が未だ開発されていないのが現状である。
本発明の目的は、黒斑点等の画像欠陥を抑止でき、しか
も半導体レーザ等の比較的長波長の光に十分な感度を有
する感光体を提供することである。
も半導体レーザ等の比較的長波長の光に十分な感度を有
する感光体を提供することである。
本発明の他の目的は、耐剛性、電位安定性、残留電位特
性に優れた感光体を提供することである。
性に優れた感光体を提供することである。
更に本発明の他の目的は導電性支持体上に、少なくとも
UCL、PCLとが設けされている感光体に於て、塗工
性、接着性のよい感光体を提供することである。
UCL、PCLとが設けされている感光体に於て、塗工
性、接着性のよい感光体を提供することである。
本発明の感光体は;
導電性支持体上に少くともUCLとPCLとが設けられ
ている感光体において、前記UCLがポリチオール系放
射線樹脂によって形成されていることを特徴として構成
される。
ている感光体において、前記UCLがポリチオール系放
射線樹脂によって形成されていることを特徴として構成
される。
本発明の構成を採ることによって:
1、塗布重層性が良いこと、
2、他の塗布液の汚染がないこと、
3、他の塗布液により溶解させられないことから、処方
上の選択の幅が広がること、 4、ブロッキング性か良好であり、黒ぼちが出現しない
こと、 5、下層との接着性が良いこと 等の利点が得られる。
上の選択の幅が広がること、 4、ブロッキング性か良好であり、黒ぼちが出現しない
こと、 5、下層との接着性が良いこと 等の利点が得られる。
この重合体は、既述したごこく、ホール移動度の大きい
有機光導電性物質をPCLに用いたときに生じ易い支持
体からの不均一なホールの注入を効果的に防止するブロ
ッキング機能を有している。
有機光導電性物質をPCLに用いたときに生じ易い支持
体からの不均一なホールの注入を効果的に防止するブロ
ッキング機能を有している。
従って、この下引層の存在によって、支持体側からの局
所的なキャリア注入に対する障壁を設けることができ、
局所的なキャリア注入による表面電荷の消失、減少を阻
止できると考えられる。従って、特に反転現像を行った
場合に画像上に黒斑点が生ずることはなく、白斑点や画
面肌荒れ、ピンホールの発生もなく、画像欠陥のない高
品質の画像を得るという顕著な作用効果を奏することが
できる。
所的なキャリア注入に対する障壁を設けることができ、
局所的なキャリア注入による表面電荷の消失、減少を阻
止できると考えられる。従って、特に反転現像を行った
場合に画像上に黒斑点が生ずることはなく、白斑点や画
面肌荒れ、ピンホールの発生もなく、画像欠陥のない高
品質の画像を得るという顕著な作用効果を奏することが
できる。
本発明で用いられるチオールは分子末端にアリル基、ア
クリロイル基を有するオリゴマーと混合し、光開始剤を
用いることにより使用される。
クリロイル基を有するオリゴマーと混合し、光開始剤を
用いることにより使用される。
使用されるオリゴマーとしては、メラミン/TD 1ア
リルアルコール、TDI/アリルアルコール、エポキン
樹脂/ジアリルアミン、TDI/ジアリルアミン、スピ
ラン樹脂などが用いられる。
リルアルコール、TDI/アリルアルコール、エポキン
樹脂/ジアリルアミン、TDI/ジアリルアミン、スピ
ラン樹脂などが用いられる。
又、前記樹脂層には放射線の照射により架橋又は重合す
る樹脂のほかに、PCLとの接着性を改善するために他
の樹脂を相溶性ある限り併用してもよい。このような他
の樹脂としては例えば、ポリカーボネート樹脂、ポリア
クリレート樹脂、ポリビニルアセタール樹脂、ジアリル
フタレート樹脂、シリコーン樹脂、ポリスルホン樹脂、
アクリル樹脂、ポリ酢酸ビニル樹脂、ポリフェニレンオ
キシド樹脂、アルキド樹脂、スチレン−無水マレイン酸
共重合体樹脂フェノール樹脂、パラフィンワックスなど
が挙げられる。これらの他の樹脂は単独で用いてもよい
し、2種以上混合してもよい。
る樹脂のほかに、PCLとの接着性を改善するために他
の樹脂を相溶性ある限り併用してもよい。このような他
の樹脂としては例えば、ポリカーボネート樹脂、ポリア
クリレート樹脂、ポリビニルアセタール樹脂、ジアリル
フタレート樹脂、シリコーン樹脂、ポリスルホン樹脂、
アクリル樹脂、ポリ酢酸ビニル樹脂、ポリフェニレンオ
キシド樹脂、アルキド樹脂、スチレン−無水マレイン酸
共重合体樹脂フェノール樹脂、パラフィンワックスなど
が挙げられる。これらの他の樹脂は単独で用いてもよい
し、2種以上混合してもよい。
本発明の化合物を用いるに当り、UV吸収率、 ゛硬化
速度を速める為、光重合開始剤を添加してもよい。この
例としては、例えばベンゾインエーテル系、ベンジルケ
タール系、a−ヒドロキシアセトフェノン系、クロルア
セトフェノン系、a−アミノアセトフェノン系、アシル
ホスフィンオキサイド系、α−ジカルボニル系、a−ア
ンルオキンムエステル等がある。
速度を速める為、光重合開始剤を添加してもよい。この
例としては、例えばベンゾインエーテル系、ベンジルケ
タール系、a−ヒドロキシアセトフェノン系、クロルア
セトフェノン系、a−アミノアセトフェノン系、アシル
ホスフィンオキサイド系、α−ジカルボニル系、a−ア
ンルオキンムエステル等がある。
用いられる放射線としては紫外線、電子線、X線、γ線
などがあるが紫外線及び電子線が好ましい。
などがあるが紫外線及び電子線が好ましい。
紫外線照射による硬化は、波長約2000〜4000人
の紫外線を照射することによって行なわれる。又、紫外
線発生装置には、約50〜100W/cm出力の水銀灯
が好適である。電子線照射は加速電圧100〜750K
V、好ましくは150〜300KVの電子線加速器を用
いて吸収線量が2〜20Mradになるように行なわれ
る。
の紫外線を照射することによって行なわれる。又、紫外
線発生装置には、約50〜100W/cm出力の水銀灯
が好適である。電子線照射は加速電圧100〜750K
V、好ましくは150〜300KVの電子線加速器を用
いて吸収線量が2〜20Mradになるように行なわれ
る。
紫外線を用いる場合と、電子線を用いる場合との処方上
の差は、紫外線を用いる場合、光重合開始剤が必要なこ
とがある以外大きな差はない。
の差は、紫外線を用いる場合、光重合開始剤が必要なこ
とがある以外大きな差はない。
本発明におけるUCLは、2μm以下の薄い膜厚ヲ有し
ていることが、ブロッキング性能を十分に発揮しつつ、
残留電位の抑制等の感光体性能を良好に保持する点で望
ましい。更に好ましくは0.2〜1.0μmである。
ていることが、ブロッキング性能を十分に発揮しつつ、
残留電位の抑制等の感光体性能を良好に保持する点で望
ましい。更に好ましくは0.2〜1.0μmである。
本発明の感光体は例えば第2図に示す構成からなってい
る。
る。
この感光体においては、導電性支持体(基体)]上に、
上記したUCL7を介してCGL6が設けられ、このC
GL 6上にCTL4が設けられている。8はPCLを
示す。従って、CGL6と支持体lとの間にUCL7が
設けられているので、第8図に示す支持体側からの不均
一なホールの注入を効果的に駆出する一方、光照射時に
は支持体側へ光キャリアである電子を効率良く輸送する
ことができる。
上記したUCL7を介してCGL6が設けられ、このC
GL 6上にCTL4が設けられている。8はPCLを
示す。従って、CGL6と支持体lとの間にUCL7が
設けられているので、第8図に示す支持体側からの不均
一なホールの注入を効果的に駆出する一方、光照射時に
は支持体側へ光キャリアである電子を効率良く輸送する
ことができる。
なお、本発明の感光体は、上記した構成(即ち、CGL
上にCTLを積層)以外にも、第3図のように、キャリ
ア発生物質(CGM)とキャリア輸送物質(CTM:)
を混合した単一層のPCL8からなっていてもよい。又
、第4図のように、CGL6とCTL4とを上下逆にし
た層構成(正帯電用)としてもよい。
上にCTLを積層)以外にも、第3図のように、キャリ
ア発生物質(CGM)とキャリア輸送物質(CTM:)
を混合した単一層のPCL8からなっていてもよい。又
、第4図のように、CGL6とCTL4とを上下逆にし
た層構成(正帯電用)としてもよい。
又、本発明の感光体において、耐刷性向上等のため感光
体表面に保護層(保護層、0CL)を形成しても良く、
例えば合成樹脂被膜をコーティングして良い。
体表面に保護層(保護層、0CL)を形成しても良く、
例えば合成樹脂被膜をコーティングして良い。
次に、本発明の感光体に使用するCGMを一般式で示す
。
。
■、多環キノン顔料
(1)アントアントロン顔料
一般式(Gl):
(2)ジベンズピレンキノン顔料
一般式(G2):
(3)ピラントロン顔料
一般式(G3):
上記において、
X:ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、アンル基、又
はカルボキシル基。
はカルボキシル基。
n=0〜4
m=0〜6
2.7ズレニウム化合物
アズレニウム化合物は例えば下記公報記載の化金物であ
る。
る。
(イ)特開昭61−1547
(ロ) 同 61− 1548
(ハ) 同 6]−15147
(ニ) 同 6l−15150
(ホ) 同 61−15151
アズレニウム化合物の具体例としては、例えば下記−数
式のものが挙げられる。
式のものが挙げられる。
一般式CG4):
但し、上記−数式中、
R目、R12、R13、R目、RIS、RIs、R17
=水素原子、ハロゲン原子、又は有機残基を表す。又、
R11とR1″、R12とR13、R13とR目、8口
と8口、R”とR目、RIMとR17の組合せのうち、
いずれか1つの組合せで置換又は無置換の縮合環を形成
しても良い。
=水素原子、ハロゲン原子、又は有機残基を表す。又、
R11とR1″、R12とR13、R13とR目、8口
と8口、R”とR目、RIMとR17の組合せのうち、
いずれか1つの組合せで置換又は無置換の縮合環を形成
しても良い。
Ar’、Ar”ニアリール基を表す。
R1″、R”:置換若しくは無置換の銃把3種の基;ア
ルキル基、アリール基、アラルキル基を表° す。又、
RIMとR11とで窒素原子と共に環を形成しても良い
。
ルキル基、アリール基、アラルキル基を表° す。又、
RIMとR11とで窒素原子と共に環を形成しても良い
。
Lo、アニオン残基を表す。
かかるアズレニウム塩の代表的具体例としては、次のも
のが挙げられる。
のが挙げられる。
3、シアニン色素
ンアニン色素は公知であり、例えば特開昭58−118
650号、同58−224354号、同59−1460
6号記載の化合物がある。
650号、同58−224354号、同59−1460
6号記載の化合物がある。
4、フタロシアニン化合物
有機系光導電材料の一つであるフタロ/アニン系化合物
は、他のものに比べ感光域が長波長域に拡大しているこ
とか知られている。そしてσ型のフタロシアニン化合物
が結晶形の安定なβ型のフタロンアニン化合物に変わる
過程で各種結晶形の7タロシアニン化合物か見出されて
いる。これらの光導電性を示すフタロンアニン系化合物
としては、例えば特公昭49−4338号記載のX型無
金属フタロシアニン化合物、特開昭58−182639
号、同60−19151号に記載されているτ、τ′、
η、η′型型金金属フタロンアニン化合物特開昭63−
148269号に記載されているフタロンアニン化合物
等の他、各種の金属フタロシアニン化合物が例示される
。
は、他のものに比べ感光域が長波長域に拡大しているこ
とか知られている。そしてσ型のフタロシアニン化合物
が結晶形の安定なβ型のフタロンアニン化合物に変わる
過程で各種結晶形の7タロシアニン化合物か見出されて
いる。これらの光導電性を示すフタロンアニン系化合物
としては、例えば特公昭49−4338号記載のX型無
金属フタロシアニン化合物、特開昭58−182639
号、同60−19151号に記載されているτ、τ′、
η、η′型型金金属フタロンアニン化合物特開昭63−
148269号に記載されているフタロンアニン化合物
等の他、各種の金属フタロシアニン化合物が例示される
。
例えばチタルフタロシアニン化合物について特願昭62
−241938号に記載されているものがある。こノ他
、特に半導体レーザに好適なフタロシアニン化合物を例
示する。 、 5、アゾ化合物 ジスアゾ化合物として、下記−数式に示すものが例示さ
れる。
−241938号に記載されているものがある。こノ他
、特に半導体レーザに好適なフタロシアニン化合物を例
示する。 、 5、アゾ化合物 ジスアゾ化合物として、下記−数式に示すものが例示さ
れる。
一般式(G6):
%式%
等がある。
又、その他のアゾ化合物として、下記各−数式%式%
一般式(G7):
Cp−N=N−Ar3−N−N−Ar’−N−N−Cp
Ar5 」 −N−cp 一般式CG8): Cp−N=N−Ar3−N=N−Ar’−N=N−Cp
−数式[G9): %式% 但し、Ar3、Ar’、Ar’は、それぞれ置換若しく
は無置換の次記2種の基;炭素環式芳香族環基、複素環
式芳香族環基を表す。
Ar5 」 −N−cp 一般式CG8): Cp−N=N−Ar3−N=N−Ar’−N=N−Cp
−数式[G9): %式% 但し、Ar3、Ar’、Ar’は、それぞれ置換若しく
は無置換の次記2種の基;炭素環式芳香族環基、複素環
式芳香族環基を表す。
更に、Ar3、Ar’、Ar’の具体例を例示すると、
又、Cp(カプラー)としては、例えば次のようなもの
がある。
又、Cp(カプラー)としては、例えば次のようなもの
がある。
但し、Aとしては、
CGLにおいて、CGMのバインダ物質に対する含有量
比は5/l−1/10とするのが好ましく、3/1〜1
/3とすると更に好ましい。
比は5/l−1/10とするのが好ましく、3/1〜1
/3とすると更に好ましい。
CGMの含有量比が上記範囲より大きいと黒斑点等が現
れ易くなる。但し、CGMの割合があまり小さいと却っ
て光感度等が低下してしまう。
れ易くなる。但し、CGMの割合があまり小さいと却っ
て光感度等が低下してしまう。
CGLの膜厚は0.1〜10μm以上とすることが好ま
しく、0.2〜5umの範囲内とすることがより好まし
い。CTLの膜厚は10μm以上であることが好ましい
。
しく、0.2〜5umの範囲内とすることがより好まし
い。CTLの膜厚は10μm以上であることが好ましい
。
感光層全体の膜厚は10〜40μmの範囲内とするのが
好ましく、15〜30μmの範囲内とすると更に好まし
い。この膜厚が上記範囲内よりも小さいと、薄いために
帯電電位が小さくなり、耐刷性も低下する傾向がある。
好ましく、15〜30μmの範囲内とすると更に好まし
い。この膜厚が上記範囲内よりも小さいと、薄いために
帯電電位が小さくなり、耐刷性も低下する傾向がある。
又、膜厚が上記範囲よりも大きいと、却って残留電位は
上昇する上に、上記したCGLが厚すぎる場合と同様に
キャリア移動途中でトラップサイトにつかまり、十分な
輸送能が得がたくなる傾向が現れ、このため繰返し使用
時には残留電位の上昇が起こり易くなる。
上昇する上に、上記したCGLが厚すぎる場合と同様に
キャリア移動途中でトラップサイトにつかまり、十分な
輸送能が得がたくなる傾向が現れ、このため繰返し使用
時には残留電位の上昇が起こり易くなる。
CGL中にCTMをも含有せしめることも可能である。
粒状のCGMを分散せしめてPCLを形成する場合にお
いては、該CGMは2μm以下、好ましくは1μm以下
、更に好ましくは0.5μm以下の平均粒径の粉粒体と
されるのが好ましい。
いては、該CGMは2μm以下、好ましくは1μm以下
、更に好ましくは0.5μm以下の平均粒径の粉粒体と
されるのが好ましい。
又、キャリア輸送層ノこおいて、キャリア輸送物質は、
バインダ物質との相溶性に優れたものが好ましい。
バインダ物質との相溶性に優れたものが好ましい。
これにより、バインダ物質に対する量を多くしても濁り
及び不透明化を生ずることかないので、バインダ物質と
の混合割合を非常に広くとることかでき、又、相溶性か
優れていることから電荷発生層が均一、かつ安定であり
、結果的に感度、帯電特性がより良好となり、更に高感
度で鮮明な画像を形成できる感光体をうろことができる
。
及び不透明化を生ずることかないので、バインダ物質と
の混合割合を非常に広くとることかでき、又、相溶性か
優れていることから電荷発生層が均一、かつ安定であり
、結果的に感度、帯電特性がより良好となり、更に高感
度で鮮明な画像を形成できる感光体をうろことができる
。
更に、特に反復転写式電子写真に用いたとき、疲労劣化
を生ずることが少ないという作用効果を奏することがで
きる。
を生ずることが少ないという作用効果を奏することがで
きる。
本発明で使用可能なCTMは、カルバゾール誘導体、オ
キサゾール誘導体、オキサジアゾール誘導体、チアゾー
ル誘導体、チアジアゾール誘導体、トリアゾール誘導体
、イミダゾール誘導体、イミダシロン誘導体、イミダゾ
リジン誘導体、ビスイミダゾリジン誘導体、スチリル化
合物、ヒドラゾン化合物、ピラゾリン誘導体、オキサシ
ロン誘導体、ベンゾチアゾール誘導体、ベンズイミダゾ
−・ル誘導体、キナゾリン誘導体、ベンゾフラン誘導体
、アクリジン誘導体、フェナジン誘導体、アミノスチル
ベン誘導体、トリアリールアミン誘導体、フェニレンジ
アミン銹導体、スチルベン誘導体、ポリーN−ビニルカ
ルバゾール、ポリ−1−ビニルピレン、ポリ−9−ビニ
ルアントラセン等から選ばれた1種又は2種以上であっ
てよい。
キサゾール誘導体、オキサジアゾール誘導体、チアゾー
ル誘導体、チアジアゾール誘導体、トリアゾール誘導体
、イミダゾール誘導体、イミダシロン誘導体、イミダゾ
リジン誘導体、ビスイミダゾリジン誘導体、スチリル化
合物、ヒドラゾン化合物、ピラゾリン誘導体、オキサシ
ロン誘導体、ベンゾチアゾール誘導体、ベンズイミダゾ
−・ル誘導体、キナゾリン誘導体、ベンゾフラン誘導体
、アクリジン誘導体、フェナジン誘導体、アミノスチル
ベン誘導体、トリアリールアミン誘導体、フェニレンジ
アミン銹導体、スチルベン誘導体、ポリーN−ビニルカ
ルバゾール、ポリ−1−ビニルピレン、ポリ−9−ビニ
ルアントラセン等から選ばれた1種又は2種以上であっ
てよい。
かかるキャリア輸送物質の具体的化合物例は特開昭63
−50851号に記載されている。
−50851号に記載されている。
以下にその一般式を掲げる。
キャリア輸送物質として次の一般式〔Tl〕又は〔T2
〕のスチリル化合物が使用可能である。
〕のスチリル化合物が使用可能である。
−数式(Tl):
に−−1f−
但し、この−数式中、
R”、R22:置換若しくは無置換ま2種の基:アルキ
ル基、アリール基を表し、 置換基としてはアルキル基、アル コキン基、置換アミノ基、水酸基、 ハロゲン原子、アリール基を用い る。
ル基、アリール基を表し、 置換基としてはアルキル基、アル コキン基、置換アミノ基、水酸基、 ハロゲン原子、アリール基を用い る。
Ar”、A r” :置換若しくは無置換のアリール基
を表し、置換基としてアルキル 基、アルコキシ基、置換アミノ基、 水酸基、ハロゲン原子、アリール 基を用いる。
を表し、置換基としてアルキル 基、アルコキシ基、置換アミノ基、 水酸基、ハロゲン原子、アリール 基を用いる。
R”、R2′:置換若しくは無置換のアリール基、水素
原子を表し、置換基としては アルキル基、アルコキシ基、置換 アミノ基、水酸基、ハロゲン原子、 アリール基を用いる。
原子を表し、置換基としては アルキル基、アルコキシ基、置換 アミノ基、水酸基、ハロゲン原子、 アリール基を用いる。
一般式CT2):
吉・・
但し、この一般式中、
R25:置換若しくは無置換のアリール基、R26:水
素原子、ハロゲン原子、置換若しくは無置換の3種の基
;アルキ ル基、アルコキシ基、アミノ基及 び水酸基、 R27:置換若しくは無置換の2種の基;アルキル基、
複素環基を表す。
素原子、ハロゲン原子、置換若しくは無置換の3種の基
;アルキ ル基、アルコキシ基、アミノ基及 び水酸基、 R27:置換若しくは無置換の2種の基;アルキル基、
複素環基を表す。
又、CTMとして次の一般式〔T3〕、〔T4〕、(T
4 a)、(T4b)又は〔T5〕のヒドラゾン化合
物も使用可能である。
4 a)、(T4b)又は〔T5〕のヒドラゾン化合
物も使用可能である。
一般式〔T3〕 ・
但し、この一般式中、
R2g及びR29:それぞれ水素原子又はノhロゲン原
子、 RNo及びR31:それぞれ置換若しくは無置換のアリ
ール基、 A r” :置換若しくは無置換のアリール基を表す。
子、 RNo及びR31:それぞれ置換若しくは無置換のアリ
ール基、 A r” :置換若しくは無置換のアリール基を表す。
一般式(T4:] :
但し、この一般式中、
R32:置換若しくは無置換の3種の基、カルバゾリル
基、複素環基を表し、 R33、R”及びR3S:水素原子、アルキル基;アリ
ール基、置換若しくは無置換 の2種の基;アリール基、アラル キル基を表す。
基、複素環基を表し、 R33、R”及びR3S:水素原子、アルキル基;アリ
ール基、置換若しくは無置換 の2種の基;アリール基、アラル キル基を表す。
一般式CT4a):
吉・・
但し、この一般式中、
R36:メチル基、エチル基、2−ヒドロキシエチル基
又は2−クロルエチル 基、 R37:メチル基、エチル基、ベンジル基又はフェニル
基、 R1m=メチル基、エチル基、ベンジル基又はフェニル
基を示す。
又は2−クロルエチル 基、 R37:メチル基、エチル基、ベンジル基又はフェニル
基、 R1m=メチル基、エチル基、ベンジル基又はフェニル
基を示す。
但し、この一般式中、R31は置換若しくは無置換のナ
フチル基:R10は置換若しくは無置換のアルキル基、
アラルキル基、アリール基:R11は水素原子、アルキ
ル基又はアリール基;R′2及びR43は置換若しくは
無置換のアルキル基、アラルキル基又はアリール基から
なる互いに同一の若しくは異なる基を示す。
フチル基:R10は置換若しくは無置換のアルキル基、
アラルキル基、アリール基:R11は水素原子、アルキ
ル基又はアリール基;R′2及びR43は置換若しくは
無置換のアルキル基、アラルキル基又はアリール基から
なる互いに同一の若しくは異なる基を示す。
一般式(T5):
但し、この一般式中、
R14,置換若しくは無置換の2種の基ニアリール基、
複素環基、 R45:水素原子、置換若しくは無置換の2種の基;ア
ルキル基、アリール 基、 Q:水素原子、ハロゲン原子、アルキ ル基、置換アミノ基、アルコキシ 基又はシアン基、 S:0又はlの整数を表す。
複素環基、 R45:水素原子、置換若しくは無置換の2種の基;ア
ルキル基、アリール 基、 Q:水素原子、ハロゲン原子、アルキ ル基、置換アミノ基、アルコキシ 基又はシアン基、 S:0又はlの整数を表す。
又、CTMとして、次の一般式〔T6〕のピアゾリン化
合物も使用可能である。
合物も使用可能である。
一般式(T6):
但し、この−数式中、
l:0又は11
R46及びR47:置換若しくは無置換のアリール基、
R48:置換若しくは無置換のアリール基若しくは複素
環基、 ゛ R49及びR50:水素原子、炭素原子数1〜4のアル
キル基、又は置換若しくは無量 換のアリール基若しくはアラルキ ル基(但し、R19及びRhoは共に 水素原子であることはなく、又部 記1が0のときはR1は水素原子 ではない。) 更に、次の一般式〔T7〕のアミン誘導体もCTMとし
て使用できる。
R48:置換若しくは無置換のアリール基若しくは複素
環基、 ゛ R49及びR50:水素原子、炭素原子数1〜4のアル
キル基、又は置換若しくは無量 換のアリール基若しくはアラルキ ル基(但し、R19及びRhoは共に 水素原子であることはなく、又部 記1が0のときはR1は水素原子 ではない。) 更に、次の一般式〔T7〕のアミン誘導体もCTMとし
て使用できる。
一般式(T7):
但し、この−数式中、
Ar”、Ar口=置換若しくは無置換のフェニル基を表
し、置換基としてはハロゲン 原子、アルキル基、ニトロ基、ア ルコキン基を用いる。
し、置換基としてはハロゲン 原子、アルキル基、ニトロ基、ア ルコキン基を用いる。
A r” :置換若しくは無置換のフェニル基、ナフチ
ル基、アントリル基、フル オレニル基、複素環基を表し、置 換基としてはアルキル基、アルコ キン基、ハロゲン原子、水酸基、 アラルキル基、アリール基、 アミノ基、ニトロ基、ピペリジノ 基、モルホリノ基、ナフチル基、 アンスリル基及び置換アミン基を 用いる。
ル基、アントリル基、フル オレニル基、複素環基を表し、置 換基としてはアルキル基、アルコ キン基、ハロゲン原子、水酸基、 アラルキル基、アリール基、 アミノ基、ニトロ基、ピペリジノ 基、モルホリノ基、ナフチル基、 アンスリル基及び置換アミン基を 用いる。
但し、置換アミノ基の置換基と
してアシル基、アルキル基、アリ
ール基を用いる。
更に、次の一般式(T8)′の化合物もCTMとして使
用できる。
用できる。
一般式CT8〕 ・
■−一 バー゛
但し、この−数式中、
Ar”:置換又は無置換のアリーレン
基を表し、
R5I、Rsz、R”及びR’4
:If換若しくは無置換の3種の基;
アルキル基、アリール基、アラル
キル基を表す。
更に、次に一般式〔T9〕の化合物もCTMとして使用
できる。
できる。
一般式〔T9):
但し、コノ一般式中、RS5、R”、RS7及ヒR58
は、それぞれ水素原子、置換若しくは無置換のアルキル
基、シクロアルキル基、アルケニル基、アリ−ル基、ベ
ンジル基又はアラルキル基、R”及びR”は、それぞれ
水素原子、置換若しくは無置換の炭素原子数l〜40の
アルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、ンクロ
アルケニル基、アリール基又はアラルキル基(但し、R
6sとR”とか共同して炭素原子数3〜10の飽和若し
くは無飽和の炭化水素環を形成してもよい。) R”、R62、R63及びR”は、それぞれ水素原子、
ハロゲン原子、ヒドロキ/ル基、置換若しくは無置換の
アルキル基、ンクロアルキル基、アルケニル基、アリー
ル基、アラルキル基、アルコキノ基、アミノ基、アルキ
ルアミノ基又はアリールアミノ基である。
は、それぞれ水素原子、置換若しくは無置換のアルキル
基、シクロアルキル基、アルケニル基、アリ−ル基、ベ
ンジル基又はアラルキル基、R”及びR”は、それぞれ
水素原子、置換若しくは無置換の炭素原子数l〜40の
アルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、ンクロ
アルケニル基、アリール基又はアラルキル基(但し、R
6sとR”とか共同して炭素原子数3〜10の飽和若し
くは無飽和の炭化水素環を形成してもよい。) R”、R62、R63及びR”は、それぞれ水素原子、
ハロゲン原子、ヒドロキ/ル基、置換若しくは無置換の
アルキル基、ンクロアルキル基、アルケニル基、アリー
ル基、アラルキル基、アルコキノ基、アミノ基、アルキ
ルアミノ基又はアリールアミノ基である。
CTL、CGL中に酸化防止剤を含有せしめることがで
きる。
きる。
これにより放電で発生するオゾンの影響を抑制でき、繰
返し使用時の残留電位上昇や帯電電位の低下を防止でき
る。
返し使用時の残留電位上昇や帯電電位の低下を防止でき
る。
酸化防止剤としては、ヒンダードフェノール、ヒンダー
ドアミン、パラフェニレンジアミン、アリールアルカン
、ハイドロキノン、スピロ7クロマン、スピロインダノ
ン及びそれらの誘導体、有機硫黄化合物、有機燐化合物
等が挙げられる。
ドアミン、パラフェニレンジアミン、アリールアルカン
、ハイドロキノン、スピロ7クロマン、スピロインダノ
ン及びそれらの誘導体、有機硫黄化合物、有機燐化合物
等が挙げられる。
これらの具体的化合物としては、特開昭63−4466
2号、同6314153号、同63−50849号、同
63−18355号、同63−58455号、同63−
71856号、同63−71855号及び同66−14
6046号に記載がある。
2号、同6314153号、同63−50849号、同
63−18355号、同63−58455号、同63−
71856号、同63−71855号及び同66−14
6046号に記載がある。
感光層中に高分子半導体を含をせしめることもできる。
こうした高分子有機半導体のうちポリ−N−ビニルカル
バゾール又はその半導体が効果が犬であり、好ましく用
いられる。かかるポリ−N−ビニルカルバゾール誘導体
とは、その繰返し単位における全部又は一部のカルバゾ
ール環が種々の置換基、例えはアルキル基、ニトロ基、
アミノ基、ヒドロキシ基又はハロゲン原子によって置換
されt;ものである。
バゾール又はその半導体が効果が犬であり、好ましく用
いられる。かかるポリ−N−ビニルカルバゾール誘導体
とは、その繰返し単位における全部又は一部のカルバゾ
ール環が種々の置換基、例えはアルキル基、ニトロ基、
アミノ基、ヒドロキシ基又はハロゲン原子によって置換
されt;ものである。
又、感光層内に感度の向上、残留電位ないし反復使用時
の疲労低減等を目的として、少なくとも1種の電子受容
性物質を含有せしめることができる。
の疲労低減等を目的として、少なくとも1種の電子受容
性物質を含有せしめることができる。
本発明の感光体に使用可能な電子受容性物質としては、
例えば無水琥珀醋酸、無水マレイン酸、ジブロム無水マ
レイン酸、無水フタル酸、テトラクロル無水フタル酸、
テトラブロム無水7タル酸、3−ニトロ無水フタル酸、
4−ニトロ無水フタル酸、無水ピロメリット酸、無水メ
リット酸、テトランアノエチレン、テトランアノキノジ
メタン、0−ジニトロベンゼン、m−ジニトロベンゼン
、1,3.5−)ジニトロベンゼン、バラニトロベンゾ
ニトリル、ピクリルクロライド、キノンクロルイミド、
クロラニル、ブルマニル、2−メチルナフトキノン、ジ
クロルジシアノバラベンゾキノン、アントラキノン、ジ
ニトロアントラキノン、トリニトロフルオレノン、9−
フルオレニリデンー〔ジシアノメチレンマロノジニトリ
ル〕、ポリニトロ−9−フルオレニリデンー〔ジシアノ
メチリンマロノジニトリル〕、ピクリン酸、0−ニトロ
安息香酸、p−ニトロ安息香酸、3,5−ジニトロ安息
香酸、ペンタフルオル安息香酸、5−ニトロサリチル酸
、3.5−ジニトロサリチル酸、フタル酸、メリット酸
、その他の電子親和力の大きい化合物の一種又は二種以
上を挙げることができる。これらのうち、フルオレノン
系、キノン系やC1、CN、 No2等の電子吸引性の
置換基の′あるベンゼン誘導体が特によい。
例えば無水琥珀醋酸、無水マレイン酸、ジブロム無水マ
レイン酸、無水フタル酸、テトラクロル無水フタル酸、
テトラブロム無水7タル酸、3−ニトロ無水フタル酸、
4−ニトロ無水フタル酸、無水ピロメリット酸、無水メ
リット酸、テトランアノエチレン、テトランアノキノジ
メタン、0−ジニトロベンゼン、m−ジニトロベンゼン
、1,3.5−)ジニトロベンゼン、バラニトロベンゾ
ニトリル、ピクリルクロライド、キノンクロルイミド、
クロラニル、ブルマニル、2−メチルナフトキノン、ジ
クロルジシアノバラベンゾキノン、アントラキノン、ジ
ニトロアントラキノン、トリニトロフルオレノン、9−
フルオレニリデンー〔ジシアノメチレンマロノジニトリ
ル〕、ポリニトロ−9−フルオレニリデンー〔ジシアノ
メチリンマロノジニトリル〕、ピクリン酸、0−ニトロ
安息香酸、p−ニトロ安息香酸、3,5−ジニトロ安息
香酸、ペンタフルオル安息香酸、5−ニトロサリチル酸
、3.5−ジニトロサリチル酸、フタル酸、メリット酸
、その他の電子親和力の大きい化合物の一種又は二種以
上を挙げることができる。これらのうち、フルオレノン
系、キノン系やC1、CN、 No2等の電子吸引性の
置換基の′あるベンゼン誘導体が特によい。
又、更に表面改質剤としてシリコーンオイル、弗素系界
面活性剤を存在させてもよい。又、耐久性向上剤として
アンモニウム化合物が含有されていてもよい。
面活性剤を存在させてもよい。又、耐久性向上剤として
アンモニウム化合物が含有されていてもよい。
更に紫外線吸収剤用いてもよい。
好ましい紫外線吸収剤としては、安息香酸、スチルベン
化合物等及びその誘導体、トリアゾール化合物、イミダ
ゾール化合物、トリアジン化合物、クマリン化合物、オ
キサジアゾール化合物、チアゾール化合物及びその誘導
体等の含窒素化合物類が用いられる。
化合物等及びその誘導体、トリアゾール化合物、イミダ
ゾール化合物、トリアジン化合物、クマリン化合物、オ
キサジアゾール化合物、チアゾール化合物及びその誘導
体等の含窒素化合物類が用いられる。
感光体の構成層に使用可能なバインダ樹脂としては、例
えばポリエチレン、ポリプロピレン、アクリル樹脂、メ
タクリル樹脂、塩化ビニル樹脂、酢酸ビニル樹脂、エポ
キシ樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、アル
キッド樹脂、ポリカーボネート樹脂、メラミン樹脂、メ
タクリル樹脂、アクリル樹脂、ポリ塩化ビリニデン、ポ
リスチレン等の付加重合型樹脂、重付加型樹脂、重縮合
型樹脂並びにこれらの繰返し単位のうち2つ以上を含む
共重合体樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体樹脂等
の絶縁性樹脂、スチレン−ブタジェン共重合体樹脂、塩
化ビニリデン−アクリロニトリル共重合体樹脂等、更に
はN−ビニルカンバゾール等の高分子有機半導体、変性
シリコーン樹脂等を挙げることができる。
えばポリエチレン、ポリプロピレン、アクリル樹脂、メ
タクリル樹脂、塩化ビニル樹脂、酢酸ビニル樹脂、エポ
キシ樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、アル
キッド樹脂、ポリカーボネート樹脂、メラミン樹脂、メ
タクリル樹脂、アクリル樹脂、ポリ塩化ビリニデン、ポ
リスチレン等の付加重合型樹脂、重付加型樹脂、重縮合
型樹脂並びにこれらの繰返し単位のうち2つ以上を含む
共重合体樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体樹脂等
の絶縁性樹脂、スチレン−ブタジェン共重合体樹脂、塩
化ビニリデン−アクリロニトリル共重合体樹脂等、更に
はN−ビニルカンバゾール等の高分子有機半導体、変性
シリコーン樹脂等を挙げることができる。
上記のバインダは、単独であるいは2種以上の混合物と
して用いることができる。
して用いることができる。
必要に応じて設けられる保護層のバインダとしては、体
積抵抗10”Ω・cm以上、好ましくは10’。
積抵抗10”Ω・cm以上、好ましくは10’。
Ω・Cm以上、より好ましくは1013Ω・cm以上の
透明樹脂が用いられる。
透明樹脂が用いられる。
又前記のバインダは熱により硬化する樹脂を用いてもよ
く、かかる熱により硬化する樹脂としては、例えば熱硬
化性アクリル樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、尿素
樹脂、ポリエステル樹脂、アルキッド樹脂、メラミン樹
脂、又はこれらの共重合若しくは縮合樹脂があり、その
他電子写真材料Iコ供される熱硬化性樹脂の全てが利用
される。
く、かかる熱により硬化する樹脂としては、例えば熱硬
化性アクリル樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、尿素
樹脂、ポリエステル樹脂、アルキッド樹脂、メラミン樹
脂、又はこれらの共重合若しくは縮合樹脂があり、その
他電子写真材料Iコ供される熱硬化性樹脂の全てが利用
される。
又、前記保護層中には加工性及び物性の改良(亀裂防止
、柔軟性付与等)を目的として必要により熱可塑性樹脂
を5Qwt%未満含有せしめることができる。かかる熱
可塑性樹脂としては、例えばポリプロピレン、アクリル
樹脂、メタクリル樹脂、塩化ビニル樹脂、エポキシ樹脂
、ポリカーポ洋−ト樹脂又はこれらの共重合体樹脂、ポ
リ−N−ビニルカルバゾール等の高分子有機半導体、そ
の他電子写真材料に供される熱可塑性樹脂の全てが利用
される。
、柔軟性付与等)を目的として必要により熱可塑性樹脂
を5Qwt%未満含有せしめることができる。かかる熱
可塑性樹脂としては、例えばポリプロピレン、アクリル
樹脂、メタクリル樹脂、塩化ビニル樹脂、エポキシ樹脂
、ポリカーポ洋−ト樹脂又はこれらの共重合体樹脂、ポ
リ−N−ビニルカルバゾール等の高分子有機半導体、そ
の他電子写真材料に供される熱可塑性樹脂の全てが利用
される。
CGLは、次のような方法によって設けることができる
。
。
(イ)CGM等にバインダ、溶媒を加えて混合溶解した
溶液を塗布する方法。
溶液を塗布する方法。
(ロ)CGM等をボールミル、ホモミキサ、サンドミル
、超音波分散機、アトライタ等によって分散媒中で微細
粒子とし、バインダを加えて混合分散して得られる分散
液を塗布する方法。
、超音波分散機、アトライタ等によって分散媒中で微細
粒子とし、バインダを加えて混合分散して得られる分散
液を塗布する方法。
これらの方法において超音波の作用下に粒子を分散させ
ると、均一分散が可能になる。
ると、均一分散が可能になる。
又、CTLは、既述のCTMを単独であるいは既述した
バインダ樹脂と共に溶解、分散せしめたものを塗布、乾
燥して形成することができる。
バインダ樹脂と共に溶解、分散せしめたものを塗布、乾
燥して形成することができる。
この場合、CGL中にCTMを含有せしめる場合には、
上記(イ)の溶液、(ロ)の分散液中に予めCTMを溶
解又は分散せしめる方法、即ちCGL中にCTMを添加
する方法がある。この場合は、CTMの添加量をバイン
ダ100重量部に対してl−100重量部の範囲内とす
るのか好ましい。
上記(イ)の溶液、(ロ)の分散液中に予めCTMを溶
解又は分散せしめる方法、即ちCGL中にCTMを添加
する方法がある。この場合は、CTMの添加量をバイン
ダ100重量部に対してl−100重量部の範囲内とす
るのか好ましい。
又、CTMを含をする溶液をCGL上に塗布し、CGL
を膨潤あるいは一部溶解せしめてCTMをCGL内に拡
散せしめる方法がある。この方法を採用した場合には、
上述のようにCGL中にCTMを添加しておく必要はな
いが、上述の二方法を同時に行うことも差し支えない。
を膨潤あるいは一部溶解せしめてCTMをCGL内に拡
散せしめる方法がある。この方法を採用した場合には、
上述のようにCGL中にCTMを添加しておく必要はな
いが、上述の二方法を同時に行うことも差し支えない。
層の形成に使用される溶剤あるいは分散媒としては、ブ
チルアミン、ジエチルアミン、エチレンジアミン、イン
プロパツールアミン、トリエタノールアミン、トリエチ
レンジアミン、N、N−ジメチルホルムアミド、アセト
ン、メチルエチルケトン、ンクロヘキサノン、ベンゼン
、トルエン、キシレン、クロロホルム、 X、2−ジク
ロルエタン、ジクロルメタン、テトラヒドロフラン、ジ
オキサン、メタノール、エタノール、インプロパツール
、酢酸エチル、酢酸ブチル、ジメチルスルホキシド等を
挙げることができる。
チルアミン、ジエチルアミン、エチレンジアミン、イン
プロパツールアミン、トリエタノールアミン、トリエチ
レンジアミン、N、N−ジメチルホルムアミド、アセト
ン、メチルエチルケトン、ンクロヘキサノン、ベンゼン
、トルエン、キシレン、クロロホルム、 X、2−ジク
ロルエタン、ジクロルメタン、テトラヒドロフラン、ジ
オキサン、メタノール、エタノール、インプロパツール
、酢酸エチル、酢酸ブチル、ジメチルスルホキシド等を
挙げることができる。
上記PCL、UCL、OCL等は、例えばブレード塗布
、デイツプ塗布、スプレー塗布、ロール塗布、スパイラ
ル塗布等により設けることができる。
、デイツプ塗布、スプレー塗布、ロール塗布、スパイラ
ル塗布等により設けることができる。
なお、導電性支持体は金属板、金属ドラム又は導電性ポ
リマー、酸化インジウム等の導電性化合物若しくはアル
ミニウム、パラジウム、金等の金属より成る導電性薄層
を塗布、蒸着、ラミネート等の手段により、紙、プラス
チックフィルム等の基体に設けて成るものが用いられる
。
リマー、酸化インジウム等の導電性化合物若しくはアル
ミニウム、パラジウム、金等の金属より成る導電性薄層
を塗布、蒸着、ラミネート等の手段により、紙、プラス
チックフィルム等の基体に設けて成るものが用いられる
。
次に、本発明の感光体を用いる記録装置の一例を第5図
に示す。
に示す。
第6図は電子写真法における反転現像法のフローチャー
トである。
トである。
第5図の装置において、23は上述した有機光導電性物
質のPCL8とUCL7を有し、矢印方向に回転するド
ラム状の像担持体、22は像担持体、23の表面を一様
帯電する帯電器、24は像露光、15は現像器である。
質のPCL8とUCL7を有し、矢印方向に回転するド
ラム状の像担持体、22は像担持体、23の表面を一様
帯電する帯電器、24は像露光、15は現像器である。
20は像担持体23上にトナー像が形成された画像を記
録体Pに転写し易くするために必要に応じて設けられる
転写前露光ランプ、21は転写器、19は分離用コロナ
放電器、I2は記録体Pに転写されたトナー像を定着さ
せる定着器である。
録体Pに転写し易くするために必要に応じて設けられる
転写前露光ランプ、21は転写器、19は分離用コロナ
放電器、I2は記録体Pに転写されたトナー像を定着さ
せる定着器である。
13は除電ランプと除電用コロナ放電器の一方又は両者
の組合せからなる除電器、14は像担持体23の画像を
転写した後の表面の残留トナーを除去するためのクリー
ニングブレードやファーブラシを有するクリーニング装
置である。
の組合せからなる除電器、14は像担持体23の画像を
転写した後の表面の残留トナーを除去するためのクリー
ニングブレードやファーブラシを有するクリーニング装
置である。
像露光を半導体レーザで行う場合、第2図の記録装置の
ようにドラム状の像担持体23を用いるものにあっては
、像露光24は、レーザビームスキャナによるものが好
ましい。
ようにドラム状の像担持体23を用いるものにあっては
、像露光24は、レーザビームスキャナによるものが好
ましい。
又、像担持体がベルト状のように平面状態をとり得る記
録装置にあっては、像露光を7ランンユ露光とすること
もできる。
録装置にあっては、像露光を7ランンユ露光とすること
もできる。
以上のような記録装置によって、第6図に示したような
方法を突流することができる。
方法を突流することができる。
第6図は、像露光部が背景部よりも低電位の静電像とな
る静電像形成法によって静電像が形成され、現像が静電
後に背景部電位と同極性に帯電するトナーが付着するこ
とによって行われる、反転現像の例を示している。
る静電像形成法によって静電像が形成され、現像が静電
後に背景部電位と同極性に帯電するトナーが付着するこ
とによって行われる、反転現像の例を示している。
即ち、最初に、除電器13で除電され、クリーニング装
置14でクリーニングされて、電位が0となっている初
期状態の像担持体23の表面に、帯電器22によって一
様に帯電を施し、その帯電面に像露光24を投影して静
電像部の電位が略0となる像露光を行い、得られた静電
像を現像器15(トナーT)によって現像する。
置14でクリーニングされて、電位が0となっている初
期状態の像担持体23の表面に、帯電器22によって一
様に帯電を施し、その帯電面に像露光24を投影して静
電像部の電位が略0となる像露光を行い、得られた静電
像を現像器15(トナーT)によって現像する。
なお、この画像形成方法は、ハロゲンランプ、タングス
テンランプ、LED (発光ダイオード)、ヘリウム−
ネオン、アルゴン、ヘリウム−カドミウム等の気体レー
ザ、半導体レーザ等の各種光源に対し適用できる。
テンランプ、LED (発光ダイオード)、ヘリウム−
ネオン、アルゴン、ヘリウム−カドミウム等の気体レー
ザ、半導体レーザ等の各種光源に対し適用できる。
本発明の画像形成方法は、電子写真複写機、プリンタ等
の多種多様の用途を有するものである。
の多種多様の用途を有するものである。
以下、本発明を実施例について更に詳細に説明するか、
これにより本発明は限定されるものではなく、種々の変
形した他の実施例も勿論含むものである。
これにより本発明は限定されるものではなく、種々の変
形した他の実施例も勿論含むものである。
まず、表1に記したように、UCLNo、UCL−1s
〜5Sの計5個の塗布液を調製し、各々0.6μmのフ
ィルタに濾過し、UCL用塗布液とした。
〜5Sの計5個の塗布液を調製し、各々0.6μmのフ
ィルタに濾過し、UCL用塗布液とした。
これらUCL塗布液にアルミニウムドラム(コニカtp
L3otoレーザプリンタ用)を浸漬し、4mg/dm
’になるように引き上げ速度を調節し、UCLを形成し
た。
L3otoレーザプリンタ用)を浸漬し、4mg/dm
’になるように引き上げ速度を調節し、UCLを形成し
た。
UCL−I Sは通常のポリスルフィド樹脂でありブラ
ンクである。
ンクである。
UCL−25及びUCL−35については、浸漬塗布後
、ドラムをゆっくり回転させなから80W/cm出力の
集光型中圧水銀灯に約50cmの距離から紫外線照射を
60秒間行ない、付量4 mg/dm”になるようUC
Lを形成せしめt;。
、ドラムをゆっくり回転させなから80W/cm出力の
集光型中圧水銀灯に約50cmの距離から紫外線照射を
60秒間行ない、付量4 mg/dm”になるようUC
Lを形成せしめt;。
UCL−45及び])CL−55については、浸漬塗布
後、ドラムを回転させながら、加速電圧300KV、
ビーム電流10−15mA0′)ESI (カーテン
タイプ方式)の電子線加速器を用いて吸収線量が3〜1
0Mradの範囲で電子線照射を行ない、4 mg/d
mfになるようUCLを形成せしめた。
後、ドラムを回転させながら、加速電圧300KV、
ビーム電流10−15mA0′)ESI (カーテン
タイプ方式)の電子線加速器を用いて吸収線量が3〜1
0Mradの範囲で電子線照射を行ない、4 mg/d
mfになるようUCLを形成せしめた。
これらUCL塗布済みドラムは各々2本塗布し、1本は
次のCGL重層塗布を行い、他の1本は、後述する接着
性テスト(基盤目テスト)及び耐溶表1 次!二表2に示す各CGM40gを各バインダ40gと
各溶媒200m lのポリマー溶液に加えて、サンドグ
ラインダにてI2時間分散させ、CGL用分数分散液製
した。
次のCGL重層塗布を行い、他の1本は、後述する接着
性テスト(基盤目テスト)及び耐溶表1 次!二表2に示す各CGM40gを各バインダ40gと
各溶媒200m lのポリマー溶液に加えて、サンドグ
ラインダにてI2時間分散させ、CGL用分数分散液製
した。
この分散液に上記UCLを有するシリンダを浸漬し、C
GL付量5mg/dm”になるよう塗布速度を調節して
塗布した。
GL付量5mg/dm”になるよう塗布速度を調節して
塗布した。
表ゝ2
更に表3に示したC T M 200gと表3にお載の
樹脂450gとを1.2−ジクロルエタン1500ml
に溶解し、得られた溶液に、前記CGLまで塗布した各
々のドラムを浸漬し、200μmの膜厚になるよう塗布
速度を調節して塗布し、100°Cで1時間乾燥してC
TLを形成せしめ、積層型感光体を作成した。
樹脂450gとを1.2−ジクロルエタン1500ml
に溶解し、得られた溶液に、前記CGLまで塗布した各
々のドラムを浸漬し、200μmの膜厚になるよう塗布
速度を調節して塗布し、100°Cで1時間乾燥してC
TLを形成せしめ、積層型感光体を作成した。
表 3
最終的な感光体の積層形態は表4に記載し、併せて、下
記に述べる。
記に述べる。
測定法により、測定した電子写真特性及び、物性も一緒
に示した。
に示した。
’ (、−/′
〔特性評価〕
実施例及び比較例の各感光体のそれぞれをrLP−30
10J (コニカ社製)改造機(半導体レーザ光源搭
載)に搭載し、VMが一600士10[VIになるよう
にグリッド電圧を調節し、0.7mWの照射時の露光面
の電位を■、とし、現像バイアス−500(V )で反
転現像を行い、画像の白地部分の黒ぼちを評価した。
10J (コニカ社製)改造機(半導体レーザ光源搭
載)に搭載し、VMが一600士10[VIになるよう
にグリッド電圧を調節し、0.7mWの照射時の露光面
の電位を■、とし、現像バイアス−500(V )で反
転現像を行い、画像の白地部分の黒ぼちを評価した。
又、5000回のプリントを行い、5000回のプリン
ト後のvMl vLをy MsooO,y Lsooo
とした。
ト後のvMl vLをy MsooO,y Lsooo
とした。
そして、初期からのvMlvLの変位量をそれぞれA
V 、@00G、ΔvL′。00トシタ。
V 、@00G、ΔvL′。00トシタ。
従ッテ、lh V M”” = (V Msoo0+
600)、Δ■Ls001′= (VL””−VL)f
あ6゜ なお、黒ぼち(黒斑点)の評価は、画像解析装置「オム
ニコン3000形J (高滓製作所社製)を用いて黒ぼ
ちの粒径と個数を測定し、I(径) 0.05i+m以
上の黒ぼちがl cm’当たり何個あるかにより判定し
た。黒ぼち評価の判定基準は、下記表に示す通りである
。
600)、Δ■Ls001′= (VL””−VL)f
あ6゜ なお、黒ぼち(黒斑点)の評価は、画像解析装置「オム
ニコン3000形J (高滓製作所社製)を用いて黒ぼ
ちの粒径と個数を測定し、I(径) 0.05i+m以
上の黒ぼちがl cm’当たり何個あるかにより判定し
た。黒ぼち評価の判定基準は、下記表に示す通りである
。
なお、黒斑点判定の結果が◎、Oであれば実用になるが
、Δは実用に適さないことがあり、×である場合は実用
に適さない。
、Δは実用に適さないことがあり、×である場合は実用
に適さない。
又、UCLの耐溶剤性をみるために、UCLの塗布、乾
燥後に、30秒間、メチルエチルケトンに浸漬し、この
後に電子顕微鏡(SEM)観察を行った。浸漬面のUC
Lが均質に残っているものを◎、不均質若しくは溶解や
剥がれのあるものを△又は×で示した。
燥後に、30秒間、メチルエチルケトンに浸漬し、この
後に電子顕微鏡(SEM)観察を行った。浸漬面のUC
Lが均質に残っているものを◎、不均質若しくは溶解や
剥がれのあるものを△又は×で示した。
UCLとPCLの接着性については、基盤目試験により
評価した。すなわち、隣り合う隙間どうしの間隔がl
amのカッタガイドを用い、カッタで導電性支持体まで
縦横に11本平行に傷をっけ、100個のます目(基盤
目)を形成する。その上に輻24mmのセロテープをは
りつけた後、一端から引剥がす。その時に剥離したます
目の数をかぞえて、100個中で残ったまず目の数で表
示した。
評価した。すなわち、隣り合う隙間どうしの間隔がl
amのカッタガイドを用い、カッタで導電性支持体まで
縦横に11本平行に傷をっけ、100個のます目(基盤
目)を形成する。その上に輻24mmのセロテープをは
りつけた後、一端から引剥がす。その時に剥離したます
目の数をかぞえて、100個中で残ったまず目の数で表
示した。
接着性の目安として100/ 100であれば接着性良
好、0/ 100であれば不良とみなす。
好、0/ 100であれば不良とみなす。
表4に示す結果によれば、本発明による樹脂を用いれば
、繰返し使用時に、帯電能、感度を良好に維持でき、か
つ黒斑点のない良好な画像、又、接着性の優れた感光体
を提供できることがわかる。
、繰返し使用時に、帯電能、感度を良好に維持でき、か
つ黒斑点のない良好な画像、又、接着性の優れた感光体
を提供できることがわかる。
逆に比較用のバインダ樹脂を用いた場合、CGL液塗布
後、UCLの一部が溶解するため、重層塗工性が悪く、
又、黒斑点も多く発生した。
後、UCLの一部が溶解するため、重層塗工性が悪く、
又、黒斑点も多く発生した。
次に、D C−8010(コニカ社製)用のドラムサイ
ズで前述しt;実施例と同様の各感光体を作成した。
ズで前述しt;実施例と同様の各感光体を作成した。
そして、これらの各感光体についてDc−8010で下
記に示す各現像条件で画像出しを行ったところ、各現像
条件について、いずれの感光体を用いた場合も、黒斑点
のない良好な画像が得られた。
記に示す各現像条件で画像出しを行ったところ、各現像
条件について、いずれの感光体を用いた場合も、黒斑点
のない良好な画像が得られた。
現像は、いわゆる2成分非接触ジャンピング現像を行っ
た。
た。
現像条件
平均粒径0.lamのマグネタイト粉末70wt%、バ
インダ樹脂としてポリエステル樹脂30wt%を配合、
混練し、破砕造粒して後粒径20〜30μmに分級して
キャリアとした。このキャリアの比重は約3.5以下で
あっt:。このキャリア1こ、U−Bix1800 (
コニカ社製)複写機用トナー(ポリエステル樹脂にカー
ボンを含有させたトナー)をトナー濃度が20wt%に
なるように配合し、次の条件下で複写を行った。
インダ樹脂としてポリエステル樹脂30wt%を配合、
混練し、破砕造粒して後粒径20〜30μmに分級して
キャリアとした。このキャリアの比重は約3.5以下で
あっt:。このキャリア1こ、U−Bix1800 (
コニカ社製)複写機用トナー(ポリエステル樹脂にカー
ボンを含有させたトナー)をトナー濃度が20wt%に
なるように配合し、次の条件下で複写を行った。
像担持体の周速を60mm/sec、像担持体と現像ス
リーブとの間隙を0.3mm、現像剤層厚を0.05m
m。
リーブとの間隙を0.3mm、現像剤層厚を0.05m
m。
現像スリーブの直径を24mm、その回転数を200r
pmとした。
pmとした。
現像バイアス等については以下の3種類の条件
第1図〜第7図は実施例を説明するためのものであって
、第1図(A)、第1図(B)はそれぞれハンドモデル
を用いてキャリアの移動を模式的に示す模式図、 第2図、第3図、第4図は本発明に使用する各感光体の
一部分の断面図、 第5図は像形成装置の概略図、 第6図は像形成の過程を示すフローチャート、第7図は
従来の感光体を示す一部断面図である。 第8図は従来の他の感光体の一部を拡大して示す断面図
である。 なお、図面に示す符号において、 l・・・・・・・・・導電性基体 4・・・・・・・・・キャリア輸送層(CTL)6・・
・・・・・・・キャリア発生層(CGL)7・・・・・
・・・・下引層(UCL)8・・・・・・・・・感光層
(p c L)である。
、第1図(A)、第1図(B)はそれぞれハンドモデル
を用いてキャリアの移動を模式的に示す模式図、 第2図、第3図、第4図は本発明に使用する各感光体の
一部分の断面図、 第5図は像形成装置の概略図、 第6図は像形成の過程を示すフローチャート、第7図は
従来の感光体を示す一部断面図である。 第8図は従来の他の感光体の一部を拡大して示す断面図
である。 なお、図面に示す符号において、 l・・・・・・・・・導電性基体 4・・・・・・・・・キャリア輸送層(CTL)6・・
・・・・・・・キャリア発生層(CGL)7・・・・・
・・・・下引層(UCL)8・・・・・・・・・感光層
(p c L)である。
Claims (1)
- 導電性支持体上に少くとも下引層と感光層とが設けられ
ている感光体において、前記下引層がポリチオール系放
射線樹脂によって形成されていることを特徴とする感光
体。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP32722990A JPH04195065A (ja) | 1990-11-28 | 1990-11-28 | 感光体 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP32722990A JPH04195065A (ja) | 1990-11-28 | 1990-11-28 | 感光体 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH04195065A true JPH04195065A (ja) | 1992-07-15 |
Family
ID=18196763
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP32722990A Pending JPH04195065A (ja) | 1990-11-28 | 1990-11-28 | 感光体 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH04195065A (ja) |
-
1990
- 1990-11-28 JP JP32722990A patent/JPH04195065A/ja active Pending
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