JPH04195063A - 感光体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は感光体、特に電子写真感光体に関するものであ
る。

〔発明の背景〕

カールソン法の電子写真複写方法においては、感光体表
面に帯電させた後、露光によって静電潜像を形成すると
共に、その静電潜像をトナーによって現像し、ついでそ
の可視像を紙等に転写１．定着させる。同時に、感光体
は付着トナーの除去や除電、表面の清浄化が施され、長
期にわたって反復使用される。

従って、電子写真感光体としては、帯電特性及び感度が
良好で暗減衰が小さい等の電子写真特性は勿論であるが
、加えて繰返し使用での耐刷性、耐摩耗性、耐湿性など
の物理的性質や、コロナ放電時に発生するオゾン、露光
時の紫外線等への耐性（耐環境性）においても良好であ
ることが要求される。

従来、電子写真感光体としては、セレン、酸化亜鉛、硫
化カドミウム等の無機光導電性物質を主成分とする感光
体層を有する無機感光体が広く用いられている。

一方、種々の有機光導電性物質を電子写真感光体の感光
体層の材料として利用することが近年活発に研究、開発
されている。

しかしながら、感度及び耐久性において必ずしも満足で
きるものではない。

このために、感光層において、キャリア発生機能とキャ
リア輸送機能とを異なる物質に個別に分担させることに
より、感度が高くて耐久性の大きい所謂機能分離型更に
夫々の機能層を積層した有機感光体を開発する試みがな
されている。

このような機能分離型の電子写真感光体においては、各
機能を発揮する物質を広い範囲のものから選択すること
ができるので、任意の特性を有する電子写真感光体を比
較的容易に作製することが可能である。そのため、感度
が高く、耐久性の大きい有機感光体が得られることが期
待される。

第２図及び第４図は、こうした有機光導電性物質を用い
る機能分離型の積層電子写真感光体を示すものである。

又、第３図は機能分離型単層電子写真感光体である。

この第２図の電子写真感光体は、導電性支持体１の上に
下引層（ＵＣＬ）７、キャリア発生層（ＣＧＬ）６、キ
ャリア輸送層（ＣＴＬ）４を順次積層して構成されてお
り、負帯電用として使用されているものである。即ち、
感光層（ＰＣＬ）８１；１．　ＣＧ　Ｌ　６とＣＴＬ４
から構成されている。

このような層構成を有する電子写真感光体においては、
負帯電性の場合に電子よりもホールの移動度が大きいこ
とから、良好な特性を有するホール輸送性の光導電材料
を使用でき、光感度等の点で有利である。

次に第４図に正帯電用の感光体を示す。こうした積層型
感光体、特に有機光導電性物質を用いる感光体において
は、負帯電時に導電性支持体又は下層側からの不均一な
キャリア（ホール）注入が生じ易く、このために表面電
荷が微視的にみて消失し、あるいは減少してしまう。こ
れは特に、反転現像法Ｉこおいて黒い斑点状の画像欠陥
となり（黒斑点）、画像の品質を著しく低下させる。

こうした黒斑点の問題は、ホール移動度の大きい有機系
光導電性物質を用いる感光体での特有の現象であり、こ
の原因は、上記したキャリア注入が不均一に生じたこと
が考えられる。

そこで、導電性支持体ＩとＰＣＬとの間にＵＣＬを設け
、キャリア注入をブロッキングすることが提案されてい
る。

従来、ＵＣＬ７を構成する材料としては、ポリエステル
系、ポリウレタン系、ポリアミド系、エポキシ樹脂゛系
、ボリカーポ第一ト系、ビニルポリマー系例えばポリビ
ニルピリジンアクリル樹脂等、セルロース糸、ポリケタ
ール系、縮合重合系例えばフェノール樹脂、メラミン樹
脂等が知られている。

しかしながら、上記の公知の下引層では、十分に黒斑点
抑制効果がない。しかも、ブロッキング性と感光体とし
ての感度を双方とも良好にすることは実現されていない
。即ち、従来採用されている樹脂においては、ブロッキ
ング性が有効で黒斑点抑制効果があると思われるものは
感度が悪く、逆に、感度を良好にしようとすると、ブロ
ッキング性が不十分となり黒斑点を十分に抑制すること
ができない。

さらに、重層塗布過程で問題が生じる。上層、下層のポ
リマーの溶解性が類似していれば、上層塗布時、下層の
一部が溶出し、上層と下層界面が乱れ塗布できなくなっ
たり、ディッピング塗布で塗布した場合、上層塗布槽が
一部下層構成成分で汚染されてしまい高価な上層塗布液
の寿命が短くなる他、感光体の電位特性も悪化させる。

これらのことは、上層、下層のポリマーや溶媒に対して
厳しい処方制限を加えることになる。

熱硬化性樹脂をＵＣＬに適用した例もあるが、高い硬化
温度（少なくともｌ　１０　’Ｃ以上）と比較的長い時
間（３０分以上）が必要であるので生産性が悪化する。

又、硬化剤が混入した塗布液の安定性は本質的に悪くな
る。

更に接着性についても未だ充分でなく、支持体とＵＣＬ
との接着性以外に、ＵＣＬ−上層間の接着性が悪いのが
現状である。

又、近年、電子写真複写方法において、安価、小型で直
接変調できるなどの特徴を有する半導体レーザ光源が用
いられている。現在、半導体装置ザとして広範にもちい
られているガリウム−アルミニウムー砒素（Ｇａ−ＡＩ
−Ａｓ）系発光素子は、発振波長が７５０ｎｍ程度以上
である。

こうしたレーザビーム等を用いる技術体系はプリンタへ
の応用が期待されているが、長波長光に高感度を有する
感光体が未だ開発されていないのが現状である。

〔発明の目的〕

本発明の目的は、黒斑点等の画像欠陥を抑止でき、しか
も半導体レーザ等の比較的長波長の光に十分な感度を有
する感光体を提供することである。

本発明の他の目的は、耐刷性、電位安定性、残留電位特
性に優れた感光体を提供することである。

更に本発明の他の目的は導電性支持体上に、少なくとも
ＵＣＬＸＰＣＬとが設けされている感光体に於て、塗工
性、接着性のよい感光体を提供することである。

〔発明の構成及びその作用効果〕

本発明の感光体は； （１）導電性支持体上に少くとも下引層と感光層とが設
けられている感光体において、前記下引層がポリエステ
ル系放射線硬化型樹脂によって形成されていることを特
徴として構成される。

尚、本発明の態様においては： （２）前記ポリエステル系放射線硬化型樹脂が放射線感
応性不飽和二重結合のアクリル系二重結合、アリル系二
重結合、マレイン酸系二重結合の少なくとも一種を構造
中に含有することが好ましい。

本発明の構成を採ることによって、 １、塗布重層性か良いこと、 ２、他の塗布液の汚染がないこと、 ３、他の塗布液により溶解させられないことがら、処方
上の選択の幅が捩ること、 ４、ブロッキング性が良好であり、黒ぼちが出現しない
こと、 ５、下層との接着性が良いこと、 等の利点か得られる。

乙 この重合体は、既述したご芒く、ホール移動度の大きい
有機光導電性物質をＰＣＬに用いたときに生じ易い支持
体からの不均一なホールの注入を効果的に防止するブロ
ッキング機能を有している。

従って、このＵＣＬの存在によって、支持体側からの局
所的なキャリア注入に対する障壁を設けることができ、
局所的なキャリア注入による表面電荷の消失、減少を阻
止できると考えられる。

従って、特に反転現像を行った場合に画像上に黒斑点が
生ずることはなく、白斑点や画面肌荒れ、ピンホールの
発生もなく、画像欠陥のない高品質の画像を得るという
顕著な作用効果を奏することができる。

本発明に用いられるポリエステル系ポリマー、例えばポ
リエステルアクリレートは多塩基酸と多価アルコールの
縮合により得られるポリエステルにヒドロキシル基、グ
リシジル基、カルボキシル基を含むアクリレート、メタ
クリレートを付加させて得られる。

アクリル系二重結合を有するポリエステル茶樹Ｊ　。

ホリエステル系の他の二重結合を含むポリマーとしては
、次のものが挙げられる。

■。

ｍ　：　ｎ＝２　　ｐ＝４０ ２゜ ｍ−４ｎ−５ｐ−１００ ３゜ ＣＨ−ＣＨｚ　　　　　　　ｐ＝２００本発明の化合物
を用いるに当り、ＵＶ吸収率、硬化速度を速める為、光
重合開始剤を添加してもよい。この例としては、例えば
ベンゾインエーテル系、ベンジルケタール系、σ−ヒド
ロキシアセトフェノン系、クロルアセトフェノン系、α
−アミノアセトフェノン系、アノルホスフインオキサイ
ド系、σ−ジカルボニル系、ａ−アンルオキシムエステ
ル等がある。

用Ｇ・もれる放射線としては紫外線、電子線、Ｘ線、γ
線などがあるが紫外線及び電子線が好ましい。

紫外線照射による硬化は、波長約２０００〜４０００人
の紫外線を照射することによって行なわれる。又、紫外
線発生装置には、約５０〜１００Ｗ／ｃｍ出力の水銀灯
が好適である。電子線照射は加速電圧１００〜７５０Ｋ
Ｖ、好ましくは１５０〜３００ＫＶの電子線加速器を用
いて吸収線量が２〜２０Ｍｒａｄになるように行なわれ
る。

紫外線を用いる場合と、電子線を用いる場合との処方上
の差は、紫外線を用いる場合、光重合開始剤が必要なこ
とがある以外大きな差はない。

本発明におけるＵＣＬは、２μｍ以下の薄い膜厚ヲ有し
ていることが、ブロッキング性能を十分に発揮しつつ、
残留電位の抑制等の感光体性能を良好に保持する点で望
ましい。更に好ましくは０．２〜１．０μｍである。

本発明の感光体は例えば第２図に示す構成からなってい
る。

この感光体においては、導電性支持体（基体）ｌ上に、
上記したＵＣＬ７を介してＣＧＬ６が設けられ、このＣ
ＧＬ６上にＣＴＬ　４が設けられている。８はＰＣＬを
示す。従って、ＣＧＬ　６と支持体ｌとの間にＵＣＬ７
が設けられているので、第８図に示す支持体側からの不
均一なホールの注入を効果的に阻止する一方、光照射時
には支持体側へ光キャリアである電子を効率良く輸送す
ることができる。

なお、本発明の感光体は、上記した構成（即ち、ＣＧＬ
上にＣＴＬを積層）以外にも、第３図のように、キャリ
ア発生物質（ＣＧＭ）とキャリア輸送物質（ＣＴＭ）を
混合した単一層のＰＣＬ８からなっていてもよい。又、
笑４図のように、ＣＧＬ６とＣＴＬ　４とを上下逆にし
た層構成（正帯電用）としてもよい。又、本発明の感光
体において、耐刷性向上等のため感光体表面に保護層（
保護層：○ＣＬ）を形成しても良く、例えは合成樹脂被
膜をコーティングして良い。

次に、本発明の感光体に使用するＣＧＭを一般式で示す
。

１、多環キノン顔料 （１）アントアントロン顔料 一般式（ＧＩＥ： （２）ジベンズピレンキノン顔料 一般式ＣＧ２）： （３）ピラントロン顔料 一般式（Ｇ３）： 上記において、 Ｘ：ハロゲン原子、ニトロ基、シアン基、アシル基、又
はカルボキシル基。

ｎ＝ｏ〜４ ｍ＝０〜６ ２．７ズレニウム化合物 アズレニウム化合物は例えば下記公報記載の化合物であ
る。

（イ）特開昭６１−１５４７ （ロ）　　　同　　６１　１５４８ （ハ）　　　同　　６ｌ−１５１４７ （ニ）　　　同　　６ｌ−１５１５０ （ホ）　　　同　　６１−１５１５１ アズレニウム化合物の具体例としては、例えば下記−数
式のものが挙げられる。

一般式（Ｇ４）： 但し、上記−数式中、 Ｒ目、Ｒ１２、Ｒ１コ、Ｒ目、Ｒ口、　　１６、Ｒ１７
：水素原子、ハロゲン原子、又は有機残基を表す。又、
Ｒ１１とＲ１２、Ｒ１２とＲ１３、Ｒ１３とＲ目、Ｒ”
とＲ１５、Ｒ１６とＲ”、Ｒ１６とＲ１７の組合せのう
ち、いずれか１つの組合せで置換又は無置換の縮合環を
形成しても良い。

Ａｒ’、Ａｒ”ニアリール基を表す。

Ｒ”、Ｒ”：置換若しくは無置換の銃把３種の基；アル
キル基、アリール基、アラルキル基を表す。又、Ｒ１８
とＲ１３とで窒素原子と共に環を形成しても良い。

Ｌｏ・アニオン残基を表す。

かかるアズレニウム塩の代表的具体例としては、次のも
のが挙げられる。

３、／アニン色素 シアニン色素は公知であり、例えば特開昭５８−１１８
６５０号、同５８−２２４３５４号、同５９−１４６０
６号記載の化合物がある。

４．７りロシアニン化合物 有機系光導電材料の一つであるフタロシアニン系化合物
は、他のものに比べ感光域が長波長域に拡大しているこ
とが知られている。そしてσ型のフタロシアニン化合物
が結晶形の安定なβ型のフタロシアニン化合物に変わる
過程で各種結晶形の７りロシアニン化合物が見出されて
いる。これらの光導電性を示す７タロンアニン系化合物
としては、例えば特公昭４９−４３３８号記載のＸ型無
金属フタロンアニン化合物、特開昭５８−１８２６３９
号、同６０−１９１５１号に記載されているτ、τ′、
Ｖ、η′型型金金属フタロシアニン化合物特開昭６３−
１４８２６９号に記載されているフタロンアニン化合物
等の他、各種の金属フタロンアニン化合物が例示される
。

例えばチタルフタロシアニン化合物について特願昭６２
−２４１９３８号に記載されているものがある。この他
、特に半導体レーザに好適なフタロシアニン化合物を例
示する。

フタロシアニン例示化合物 ５、アゾ化合物 ジスアゾ化合物として、下記一般式に示すものが例示さ
れる。

一般式〔Ｇ６〕　： Ｃｐ−Ｍ＝Ｎ−Ｄ−Ｎ＝Ｎ−Ｃｐ 但し、Ｄとしては、 等がある。

又、その他のアゾ化合物として、下記各−数式％式％ 一般式（Ｇ７）： Ｎ＝Ｎ−ｃｐ 一般式〔Ｇ８〕　： Ｃｐ−Ｎ＝Ｎ−Ａｒ３−Ｎ＝Ｎ−Ａｒ’−Ｎ−Ｎ−Ｃｐ
一般式［Ｇ９）： ％式％ 但し、Ａｒ’、Ａｒ’、Ａｒ″は、それぞれ置換若しく
け無置換の次記２種の基；炭素環式芳香族環基、複素環
式芳香族環基を表す。

更に、Ａｒ”、Ａｒ’、Ａｒ’の具体例を例示すると、
又、Ｃｐ（カプラー）としては、例えば次のようなもの
がある。

但し、Ａとしては、 ＣＧＬにおいて、ＣＧＭのバインダ物質に対する含着量
比は５／１〜１／ｌＯとするのが好ましく、３／１〜ｌ
／３とすると更に好ましい。

ＣＧＭの含有量比か上記範囲より大きいと黒斑点等が現
れ易くなる。但し、ＣＧＭの割合があまり小さいと却っ
て光感度等が低下してしまう。

ＣＧＬの膜厚は０．１−１０μｍ以上とすることが好ま
しく　、０．２〜５μｍの範囲内とすることかより好ま
しい。ＣＴＬの膜厚は１０μｍ以上であることか好まし
い。

感光層全体の膜厚は１０〜４０μｍの範囲内とするのが
好ましく、１５〜３０ｐｍの範囲内とすると更に好まし
い。この膜厚が上記範囲内よりも小さいと、薄いために
帯電電位が小さくなり、耐刷性も低下する傾向がある。

又、膜厚が上記範囲よりも大きいと、却って残留電位は
上昇する上に、上記したＣＧＬが厚すぎる場合と同様に
キャリア移動途中でトラップサイトにつかまり、十分な
輸送能が得かたくなる傾向が現れ、このため繰返し使用
時には残留電位の上昇が起こり易くなる。

ＣＧＬ中にＣＴＭをも含有せしめることも可能である。

粒状のＣＧＭを分散せしめてＰＣＬを形成する場合にお
いては、該ＣＧＭは２μｍ以下、好ましくはＩｔｔＩＴ
１以下、更Ｊこ好ましくは０．５μｍ以下の平均粒径の
粉粒体とされるのが好ましい。

又、キャリア輸送層において、キャリア輸送物質は、バ
インダ物質との相溶性に優れたものが好ましい。

これにより、バインダ物質に対する量を多くしても濁り
及び不透明化を生ずることがないので、バインダ物質と
の混合割合を非常に広くとることができ、又、相溶性が
優れていることから電荷発生層が均一、かつ安定であり
、結果的に感度、帯電特性がより良好となり、更に高感
度で鮮明な画像を形成できる感光体をうろことができる
。

更に、特に反復転写式電子写真に用いたとき、疲労劣化
を生ずることが少ないという作用効果を奏することがで
きる。

本発明で使用可能なＣＴＭは、カルバゾール誘導体、オ
キサゾール誘導体、オキサジアゾール誘導体、チアゾー
ル誘導体、チアジアゾール誘導体、トリアゾール誘導体
、イミダゾール銹導体、イミダシロン誘導体、イミダゾ
リジン誘導体、ヒスイミダゾリジン誘導体、スチリル化
合物、ヒドラゾン化合物、ピラゾリン誘導体、オキサシ
ロン誘導体、ベンゾチアゾール誘導体、ベンズイミダゾ
ール誘導体、キナゾリン誘導体、ベンゾフラン誘導体、
アクリジン誘導体、フェナジン誘導体、アミノスチルベ
ン誘導体、トリアリールアミン誘導体、フェニレンジア
ミン誘導体、スチルベン誘導体、ポリ−Ｎ−ビニルカル
バゾール、ポリ利−ヒニルピレン、ポリ−９−ヒニルア
ントラセン等から選ばれた１種又は２種以上であってよ
い。

かかるキャリア輸送物質の具体的化合物例は特開昭６３
−５０８５１号に記載されている。

以下にその一般式を掲げる。

キャリア輸送物質として次の一般式（ＴＩ〕又は〔Ｔ２
〕のスチリル化合物が使用可能である。

−数式〔Ｔ１〕　： 但し、この−数式中、 Ｒ２１、Ｒ２２：置換若しくは無置換ま２種の基：アル
キル基、アリール基を表し、 置換基としてはアルキル基、アル コキン基、置換アミン基、水酸基、 ハロゲン原子、アリール基を用い る。

Ａ　ｒ”、Ａｒ”：置換若しくは無置換のアリール基を
表し、置換基としてアルキル 基、アルコキシ基、置換アミン基、 水酸基、ハロゲン原子、アリール 基を用いる。

Ｒ２１、Ｒ２′：置換若しくは無置換のアリール基、水
素原子を表し、置換基としては アルキル基、アルコキン基、置換 アミノ基、水酸基、ハロゲン原子、 アリール基を用いる。

一般式（Ｔ２）： 但し、この−数式中、 Ｒ２５：置換若しくは無置換のアリール基、Ｒ２６：水
素原子、ハロゲン原子、置換若しくは無置換の３種の基
；アルキ ル基、アルコキシ基、アミ７基及 び水酸基、 Ｒ２７：置換若しくは無置換の２種の基；アルキル基、
複素環基を表す。

又、ＣＴＭとして次の一般式〔Ｔ３〕、〔Ｔ４〕、ＥＴ
　４　ａ）、〔Ｔ４ｂ）ｌ又は〔Ｔ５〕のヒドラゾン化
合物も使用可能である。

一般式（Ｔ３）： 但し、この−数式中、 Ｒ２ａ及びＲ２９：それぞれ水素原子又はハロゲン原子
、 Ｒ”及びＲ３１：それぞれ置換若しくは無置換のアリー
ル基、 Ａｒ１７：置換若しくは無置換のアリール基を表す。

一般式（Ｔ４）： 但し、この−数式中、 Ｒ’３２：置換若しくは無置換の３種の基、カルバゾリ
ル基、複素環基を表し、 Ｒ３）、Ｒ３４及びＲ３５：水素原子、アルキル基；ア
リール基、置換若しくは無置換゛ の２種の基；アリール基、アラル キル基を表す。

一般式（Ｔ４ａ）： Ｒ” 但し、この−数式中、 Ｒ１６：メチル基、エチル基、２−ヒドロキノエチル基
又は２−クロルエチル 基、 Ｒ３７：メチル基、エチル基、ベンジル基又はフェニル
基、 Ｒ３８＝メチル基、エチル基、ベンジル基又はフェニル
基を示す。

但し、この−数式中、Ｒ３′は置換若しくは無置換のナ
フチル基、Ｒ２Ｏは置換若しくは無置換のアルキル基、
アラルキル基、アリール基；Ｒ４１は水素原子、アルキ
ル基又はアリール基；Ｒ４２及びＲ′３は置換若しくは
無置換のアルキル基、アラルキル基又はアリール基から
なる互いに同一の若しくは異なる基を示す。

一般式（Ｔ５）： 但し、この−数式中、　　　゛ Ｒ４４：置換若しくは無置換の２種の基；アリール基、
複素環基、 Ｒ″：水素原子、置換若しくは無置換の２種の基；アル
キル基、アリール 基、 Ｑ：水素原子、ハロゲン原子、アルキ ル基、置換アミノ基、アルコキン 基又はシアノ基、 Ｓ：Ｏ又はＪの整数を表す。

又、ＣＴＭとして、次の一般式〔Ｔ６〕のビアゾリン化
合物も使用可能である。

一般式（Ｔ６）： 但し、この−数式中、 １・０又は１、 Ｒｉ６及びＲ４７：置換若しくは無置換のアリール基、
Ｒ′８：置換若しくは無置換のアリール基若しくは複素
環基、 Ｒ１及びＲ５０：水素原子、炭素原子数１〜４のアルキ
ル基、又は置換若しくは無量 換ノアリール基若しくはアラルキ ル基（但し、Ｒ１及びＲ″′は共に 水素原子であることはなく、又前 記１かＯのときはＲ”は水素原子 ではない。） 更に、次の一般式〔Ｔ７〕のアミン誘導体もＣＴＭとし
て使用できる。

一般式（Ｔ７〕　： 但し、この−数式中、 Ａｒ”、Ａｒ＋！・置換若しくは無置換のフェニル基を
表し、置換基としてはハロゲン 原子、アルキル基、ニトロ基、ア ルコキン基を用いる。

Ａ　ｒ２’　：置換若しくは無置換のフェニル基、ナフ
チル基、アントリル基、フル オレニル基、複素環基を表し、置 換基としてはアルキル基、アルコ キシ基、ハロゲン原子、水酸基、 アリールオキシ基、アリール基、 アミノ基、ニトロ基、ピペリジノ 基、モルホリノ基、ナフチル基、 アンスリル基及び置換アミン基を 用いる。

但し、置換アミノ基の置換基と してアシル基、アルキル基、アリ ール基を用いる。

更に、次の一般式〔Ｔ８〕の化合物もＣＴＭ七して使用
できる。

一般式ＣＴ８〕　： 但し、この−数式中、 Ａｒ”：置換又は無置換のアリーレン 基を表し、 Ｒ”、Ｒ５２、Ｒ５３及びＲ５１ ：置換若しくは無置換の３種の基： アルキル基、アリール基、アラル キル基を表す。

更に、次に一般式〔Ｔｅ３の化合物もＣＴＭとして使用
できる。

一般式（Ｔ９）： 但し、この−数式中、Ｒ５５、Ｒ５６、Ｒ５？及びＲ５
ａは、それぞれ水素原子、置換若しくは無置換のアルキ
ル基、／クロアルキル基、アルケニル基、アリール基、
ベンジル基又はアラルキル基、Ｒ”及びＲｂ２は、それ
ぞれ水素原子、置換若しくは無置換の炭素原子数Ｊ〜４
０のアルキル基、ンクロアルキル基、アルケニル基、ン
クロアルケニル基、アリール基又はアラルキル基（但し
、Ｒ”とＲ６０とか共同して炭素原子数３〜ｌＯの飽和
若しくは無飽和の炭化水素環を形成してもよい。） Ｈ６１、Ｒ６２、Ｒ６３及びＲ６′は、それぞれ水素原
子、ハロゲン原子、ヒドロキン基、置換若しくは無置換
のアルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、アリ
ール基、アラルキル基、アルコキシ基、アミノ基、アル
キルアミノ基又はアリールアミノ基である。

ＣＴＬＳＣＧＬ中！：酸化防止剤を含有せしめることか
できる。

これにより放電で発生するオゾンの影響を抑制でき、繰
返し使用時の残留電位上昇や帯電電位の低下を防止でき
る。

酸化防止剤としては、ヒンダードフェノール、ヒンダー
ドアミン、バラフェニレンジアミン、アリールアルカン
、ハイドロキノン、スピロクロマン、スピロインダノン
及びそれらの誘導体、有機硫黄化合物、有機燐化合物等
か挙げられる。

これらの具体的化合物としては、特開昭６３−４４６６
２号、同６３−１４１５３号、同６３−５０８４９号、
同６３−１８３５５号、同６３−５８４５５号、同６３
−７１８５６号、同６３−７１８５５号及び同６６−１
４６０４６号に記載かある。

感光層中に高分子半導体を含有せしめることもできる。

こうした高分子有機半導体のうちポリ−Ｎ−ビニルカル
バゾール又はその半導体が効果か犬であり、好ましく用
いられる。かかるポリ−Ｎ−上ニルカルバゾール誘導体
とは、その繰返し単位における全部又は一部のカルバゾ
ール環か種々の置換基、例えばアルキル基、ニトロ基、
アミ７基、ヒドロキン基又はハロゲン原子によって置換
されたものである。

又、感光層内に感度の向上、残留電位ないし反復使用時
の疲労低減等を目的として、少なくとも１種の電子受容
性物質を含有せしめることができる。

本発明の感光体に使用可能な電子受容性物質としては、
例えは無水琥珀醋酸、無水マレイン酸、ジブロム無水マ
レイン酸、無水フタル酸、テトラクロル無水フタル酸、
テトラブロム無水フタル酸、３−ニトロ無水フタル酸、
４−ニトロ無水フタル酸、無水ヒロメリント酸、無水メ
リット酸、テトランアノエチレン、テトランアノキノジ
メタン、０−ジニトロベンゼン、ｍ−ジニトロベンゼン
、１，３．５−トリニトロベンゼン、バラニトロベンゾ
ニトリル、ビクリルクロライド、キノンクロノリイミド
、クロラニル、ゲルマニル、２−メチルナ７トキ／ン、
ジクロルジンアノバラベンゾキノン、アントラキノン、
ジニトロアントラキノン、トリニトロフルオレノン、９
−フルオレニリデンー〔ジノアノメチレンマロノジニト
リル〕、ポリニトロ−９−フルオレニリデンー〔ジンア
ノメチリンマロノジニトリル〕、ピクリン酸、０−ニト
ロ安息香酸、ｐ−ニトロ安息香酸、３．Ｓ−ジニトロ安
息香酸、ペンタフルオル安息香酸、５−ニトロサリチル
酸、３．５−ジニトロサリチル酸、フタル酸、メリット
酸、その他の電子親和力の大きい化合物の一種又は二種
以上を挙げることができる。これらのうち、フルオレノ
ン系、キノン系やＣＩ、　ＣＮＸＮ０□等の電子吸引性
の置換基のあるベンゼン誘導体が特によい。

又、更に表面改質剤とじてンリコーンオイル、弗素系界
面活性剤を存在させてもよい。又、耐久性向上剤として
アンモニウム化合物が含有されていてもよい。

更に紫外線吸収剤用いてもよい。

好ましい紫外線吸収剤としては、安息香酸、スチルベン
化合物等及びその誘導体、トリアゾール化合物、イミダ
ゾール化合物、トリアジン化合物、クマリン化合物、オ
キサジアゾール化合物、チアゾール化合物及びその誘導
体等の含窒素化合物類が用いられる。

感光体の構成層に使用可能なバインダ樹脂としては、例
えばポリエチレン、ポリプロピレン、アクリル樹脂、メ
タクリル樹脂、塩化ビニル樹脂、酢酸ビニル樹脂、エボ
キ／樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、アル
キッド樹脂、ポリカーボネート樹脂、メラミン樹脂、メ
タクリル樹脂、アクリル樹脂、ポリ塩化ビリニデン、ポ
リスチレン等の付加重合型樹脂、重付加型樹脂、重縮合
型樹脂並びにこれらの繰返し単位のうち２つ以上を含む
共重合体樹脂、塩化ヒニルー酢酸ビニル共重合体樹脂等
の絶縁性樹脂、スチレン−ブタジェン共重合体樹脂、塩
化ビニリデン−アクリロニトリル共重合体樹脂等、更に
はＮ〜ビニルカンバゾール等の高分子有機半導体、変性
シリコーン樹脂等を挙げることができる。

上記のく（インダは、単独であるいは２種以上の混合物
として用いることができる。

必要に応じて設けられる保護層のバインダとしては、体
積抵抗１０８Ω・ｃｍ以上、好ましくは１０１００・ｃ
ｍ以上、より好ましくは１０目Ω・ｃｍ以上の透明樹脂
が用いられる。

又前記のバインダは熱により硬化する樹脂を用いてもよ
く、かかる熱により硬化する樹脂としては、例えば熱硬
化性アクリル樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、尿素
樹脂、ポリエステル樹脂、アクリル樹脂、メラミン樹脂
、又はこれらの共重合若しくは縮合樹脂があり、その他
電子写真材料に供される熱硬化性樹脂の全てか利用され
る。

又、前記保護層中には加工性及び物性の改良（亀裂防止
、柔軟性付与等）を目的として必要により熱可塑性樹脂
を５０ｗｔ％未満含有せしめることかできる。かかる熱
可塑性樹脂としては、例えばポリプロピレン、アクリル
樹脂、メタクリル樹脂、塩化ヒニル樹脂、エポキシ樹脂
、ポリカーボネート樹脂又はこれらの共重合体樹脂、ポ
リ−Ｎ−上ニルカルバゾール等の高分子有機半導体、そ
の他電子写真材料に供される熱可塑性樹脂の全てが利用
される。

ＣＧＬは、次のような方法によって設けることができる
。

（イ）ＣＧＭ等にバインダ、溶媒を加えて混合溶解した
溶液を塗布する方法。

（ロ）ＣＧＭ等をボールミル、ホモミキサ、サンドミル
、超音波分散機、アトライタ等によって分散媒中で微細
粒子とし、バインダを加えて混合分散して得られる分散
液を塗布する方法。

これらの方法において超音波の作用下に粒子を分散させ
ると、均一分散が可能になる。

又、ＣＴＬは、既述のＣＴＭを単独であるいは既述した
バインダ樹脂と共に溶解、分散せしめたものを塗布、乾
燥して形成することができる。

この場合、ＣＧＬ中にＣＴＭを含有せしめる場合には、
上記（イ）の溶液、（ロ）の分散液中に予めＣＴＭを溶
解又は分散せしめる方法、即ちＣＧＬ中にＣＴＭを添加
する方法がある。この場合は、ＣＴＭの添加量をバイン
ダ１００重量部に対して１〜１００重量部の範囲内とす
るのが好ましい。

又、ＣＴＭを含有する溶液をＣＧＬ上に塗布し、ＣＧＬ
を膨潤あるいは一部溶解せしめてＣＴＭをＣＧＬ内に拡
散せしめる方法がある。この方法を採用した場合には、
上述のようにＣＧＬ中にＣＴＭを添加しておく必要はな
いが、上述の二方法を同時に行うことも差し支えない。

層の形成に使用される溶剤あるいは分散媒としては、ブ
チルアミン、ジエチルアミン、エチレンジアミン、イン
プロパツールアミン、トリエタノールアミン、トリエチ
レンジアミン、Ｎ、Ｎ−ジメチルホルムアミド、アセト
〉、メチルエチルケトン、ンクロヘキサノン、ベンゼン
、トルエン、キシレン、クロロホルム、１．２−；クロ
ルエタン、ジクロルメタン、テトラヒドロフラン、ジオ
キサン、メタノール、エタノール、インプロパツール、
酢酸エチル、酢酸ブチル、ジメチルスルホキシド等を挙
げることかできる。

上記ＰＣＬ、ＵＣＬ、ＯＣＬ等は、例えばブレード塗布
、デイツプ塗布、スプレー塗布、ロール塗布、ヌバイラ
ル塗布等により設けることができる。

なお、導電性支持体は金属板、金属ドラム又は導電性ポ
リマー、酸化インジウム等の導電性化合物若しくはアル
ミニウム、パラジウム、金等の金属より成る導電性薄層
を塗布、蒸着、ラミネート等の手段により、紙、プラス
チックフィルム等の基体に設けて成るものが用いられる
。

次に、本発明の感光体を用いる記録装置の一例を第５図
に示す。

第６図は電子写真法における反転現像法のフロ−チャー
トである。

第５図の装置において、２３は上述した有機光導電性物
質のＰＣＬ８とＵＣＬ７を有し、矢印方向に回転するド
ラム状の像担持体、２２は像担持体、２３の表面を一様
帯電する帯電器、２４は像露光、１５は現像器である。

２０は像担持体２３上にトナー像か形成された画像を記
録体Ｐに転写し易くするために必要に応じて設けられる
転写前露光ランプ、２１は転写器、１９は分離用コロナ
放電器、１２は記録体Ｐに転写されたトナー像を定着さ
せる定着器である。

１３は除電ランプと除電用コロナ放電器の一方又は両者
の組合せからなる除電器、１４は像担持体２３の画像を
転写した後の表面の残留トナーを除去するにめのクリー
ニングブレードや７アーフ゛ラシを有するクリーニング
装置である。

像露光を半導体レーザで行う場合、第２図の記録装置の
ようにドラム状の像担持体２３を用いるものにあっては
、像露光２４は、レーザビームスキャナによるものか好
ましい。

又、像担持体かベルト状のように平面状態をとり得る記
録装置にあっては、像露光をフラツンユ露光とすること
もできる。

以上のような記録装置によって、第６図に示したような
方法を実施することかできる。

第６図は、像露光部が背景部よりも低電位の静電像とな
る静電像形成法によって静電像が形成され、現像か静電
後に背景部電位と同極性に帯電するトナーか付着するこ
とによって行われる、反転現像の例を示している。

即ち、最初に、除電器１３で除電され、クリーニング装
置１４でクリーニングされて、電位が０となっている初
期状態の像担持体２３の表面に、帯電器２２によって一
様に帯電を施し、その帯電面に像露光２４を投影して静
電像部の電位か略０となる像露光を行い、得られた静電
像を現像器１５（トナーＴ）によって現像する。

なお、この画像形成方法は、ハロゲンランプ、タングス
テンランプ、ＬＥＤ　（発光ダイオード）、ヘリウム−
ネオン、アルゴン、ヘリウム−カドミウム等の気体レー
ザ、半導体レーザ等の各種光源に対し適用できる。

本発明の画像形成方法は、電子写真複写機、プリンタ等
の多種多様の用途を有するものである。

〔実施例〕

以下、本発明を実施例について更に詳細に説明するが、
これにより本発明は限定されるものではなく、種々の変
形した他の実施例も勿論含むものである。

まず、表１に記したように、ＵＣＬＮｏ、ＵＣＬ−ＩＰ
〜８Ｐの計８個の塗布液を調製し、各々０．６μｍのフ
ィルタに濾過し、ＵＣＬ用塗布液とした。

ＺｉらＵＣＬｍ布液にアルミニウムドラム（コニカＬＰ
−３０１０レーザプリンタ用）を浸漬し、４ｍｇ／ｄｍ
２になるように引き上げ速度を調節し、ＵＣＬを形成し
た。

ＵＣＬ−Ｉ　Ｐ及びＵＣＬ−２Ｐは通常の飽和ポリエス
テル樹脂でありブランクである。

ＵＣＬ−３Ｐ−ＵＣＬ−５Ｆについては、浸漬塗布後、
ドラムをゆっくり回転させなから８０Ｗ／ｃｍ出力の集
光型中圧水銀灯に約５０ｃｍの距離から紫外線照射を６
０秒間行ない、付量４　ｍｇ／ｄｍ２になるようＵＣＬ
を形成せしめた。

ＵＣＬ−６Ｐ−ＤＣＬ−８Ｐについては、浸漬塗布後、
ドラムを回転させながら加速電圧３００ＫＶ。

ヒーム電流ｌＯ〜１５ｍＡのＥＳＩ（カーテンタイプ方
式）の電子線加速器を用いて吸収線量が３〜ＩＯＭｒａ
ｄの範囲で電子線照射を行ない、４　ｍｇ／ｄｍ２にな
るようＵＣＬを形成せしめた。

これらＵＣＬ塗布済みドラムは各々２本塗布し、１本は
次のＣＧＬ重層塗布を行い、他の１本は、後述する接着
性テスト（基盤目テスト）及び耐溶表１ 次に表２に示す各ＣＧＭ４０ｇを各バインダ４０ｇと各
溶媒２００ｍ　ｌのポリマー溶液に加えて、サンドグラ
インダにて１２時間分散させ、ＣＧＬ用分散液を調製し
た。この分散液に上記ＵＣＬを有するシリンダを浸漬し
、ＣＧＬ付量５ｍｇ／ｄｍ２になるよう塗布速度を調節
して塗布した。

表　　２ 更に表３に示したＣ　Ｔ　Ｍ　２００ｇと表３に記載の
樹脂４５０ｇとを１．２−ジクロルエタン１５００ｍｌ
に溶解し、得られた溶液に、前記ＣＧＬまで塗布した各
々のドラムを浸漬し、２００μｍの膜厚になるよう塗布
速度を調節して塗布し、１００°Ｃで１時間乾燥して０
表　　３ 最終的な感光体の積層形態は表４に記載し、併せて、下
記に述べる。

測定法により、測定した電子写真特性及び、物〔特性評
価〕 実施例及び比較例の各感光体のそれぞれをｒＬＰ−３０
１０Ｊ　　（フニカ社製）改造機（半導体レーザ光源搭
載）に搭載し、■ヨが一６００ｔｈ１０　（Ｖ　）にな
るようにグリッド電圧を調節し、０．７ｍＷの照射時の
露光面の電位をＶＬとし、現像バイアス−５００（Ｖ　
）で反転現像を行い、画像の白地部分の黒ぼちを評価し
た。

又、５０００回のプリントを行い、５０００回のプリン
ト後（７）Ｖ、、ｖ　Ｌヲｖ　、””、ｙＬ′０１１１
１とした。

そして、初期からのＶ　ｗ、　Ｖ　Ｌの変位量をそれぞ
れＡ　ｙ　ＭＳｔｉｆｌｅ、Ａ　ｙ　％００Ｇとした。

従ッテ、ΔＶ　＆１１１１６０−（Ｖ　、８１１００　
＋　６００）、Ａ　Ｖ　Ｌ””−（Ｖ　Ｌｌ　０１１　
Ｄ　　ｖ　Ｌ）である。

なお、黒ぼち（黒斑点）の評価は、画像解析装置「オム
ニフン３０００形」　（高滓製作所社製）を用いて黒ぼ
ちの粒径と個数を測定し、−（径）　０．Ｏ５ｌ１ｍ１
以上の黒ぼちがｌ　ｃｍ”当たり何個あるかにより判定
した。黒ぼち評価の判定基準は、下記衣に示す通りであ
る。

なお、黒斑点判定の結果が◎、Ｏであれば実用になるが
、Δは実用に適さないことがあり、Ｘである場合は実用
に適さない。

又、ＵＣＬの耐溶剤性をみるために、ＵＣＬの塗布、乾
燥後に、３０秒間、メチルエチルケトンに浸漬し、この
後に電子顕微鏡（ＳＥＭ）　Ｊ［察を行った。浸漬面の
ＵＣＬが均質に残っているものを◎、不均質若しくは溶
解や剥がれのあるものを△又は×で示した。

ＵＣＬとＰＣＬの接着性については、基盤目試験により
評価した。すなわち、隣り合う隙間どうしの間隔がｌ　
＋ａａ＋のカッタガイドを用い、カッタで導電性支持体
まで縦横に１１本平行に傷をつけ、１００個のます目（
基盤目）を形成する。その上に幅２４ｍｍのセロテープ
をはりつけた後、一端から引剥がす。その時に剥離した
ます目の数をかぞえて、１００個中で残ったまず目の数
で表示した。

接着性の目安として１００／　１００であれば接着性良
好、０／１００であれば不良とみなす。

表４に示す結果によれば、本発明による樹脂を用いれば
、繰返し使用時に、帯電能、感度を良好に維持でき、か
つ黒斑点のない良好な画像、又、接着性の優れた感光体
を提供できることがわかる。

逆に比較用のバインダ樹脂を用いた場合、ＣＧＬ液塗布
後、ＵＣＬの一部が溶解するため、重層塗工性が悪く、
又、黒斑点も多く発生した。

次に、ＤＣ−８０１０（コニカ社製）用のドラムサイズ
で前述した実施例と同様の各感光体を作成した。そして
、これらの各感光体についてＤＣ−８０１０で下記に示
す各現像条件で画像出しを行ったところ、各現像条件に
ついて、いずれの感光体を用いた場合も、黒斑点のない
良好な画像が得られた。

現像は、いわゆる２成分非接触ジャンピング現像を行っ
た。

現像条件 平均粒径０．ｌｕｍのマグネタイト粉末７０ｖｔ％、バ
インダ樹脂としてポリエステル樹脂３０ｗｔ％を配合、
混練し、破砕造粒して後粒径２０〜３０μｍに分級して
キャリアとした。このキャリアの比重は約３．５以下で
あった。このキャリアに、Ｕ−Ｂｉｘ１８００　（コニ
カ社製）複写機用トナー（ポリエステル樹脂にカーボン
を含有させたトナー）をトナー濃度が２０ｖｔ％になる
ように配合し、次の条件下で複写を行った。

像担持体の周速を６０ｍｍ／ｓｅｃ、像担持体と現像ス
リーブとの間隙を０．３ｍｍ１現像剤層厚を０．０５１
１Ｉ１１１現像スリーブの直径を２４ｍａ、その回転数
を２０Ｏｒｐｍとした。

現像バイアス等については以下の３種類の条件とした。

【図面の簡単な説明】

第１図〜第７図は実施例を説明するためのものであって
、嬉１図（Ａ）、第１図（Ｂ）はそれぞれハンドモデル
を用いてキャリアの移動を模式的に示す模式図、 第２図、第３図、第４図は本発明に使用する各感光体の
一部分の断面図、 第５図は像形成装置の概略図、 第６図は像形成の過程を示すフローチャート、第７図は
従来の感光体を示す一部断面図である。 第８図は従来の他の感光体の一部を拡大して示す断面図
である。 なお、図面に示す符号において、 ｌ・・・・・・・・・導電性基体 ４・・・・・・・・・キャリア輸送層（ＣＴＬ）６・・
・・・・・・・キャリア発生層（ＣＧＬ）７・・・・・
・・・・下引層（ＵＣＬ）８・・・・・・・・・感光層
（Ｐ　ＣＬ）である。

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. （１）導電性支持体上に少くとも下引層と感光層とが設
   けられている感光体において、前記下引層がポリエステ
   ル系放射線硬化型樹脂によって形成されていることを特
   徴とする感光体。
2. （２）前記ポリエステル系放射線硬化型樹脂が放射線感
   応性不飽和二重結合のアクリル系二重結合、アリル系二
   重結合、マレイン酸系二重結合の少なくとも一種を構造
   中に含有する請求項１に記載の感光体。